TW201500102A - 二氧化氯氣體處理結構、二氧化氯氣體處理裝置、殺菌裝置及環境淨化裝置 - Google Patents

二氧化氯氣體處理結構、二氧化氯氣體處理裝置、殺菌裝置及環境淨化裝置 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種降低包含二氧化氯氣體之被處理空氣中的二氧化氯氣體之二氧化氯氣體處理結構20，其係具備讓被處理空氣循環之空間、風扇23、接觸層、及紫外線照射元件，其中接觸層係將由鐵製細絲固定成綿狀而成之鋼絲絨21被水潤濕而成，風扇23讓被處理空氣於空間內循環，在該循環路徑中以紫外線照射元件24將紫外線照射至接觸層之狀態下，讓被處理空氣與接觸層接觸。

Description

二氧化氯氣體處理結構、二氧化氯氣體處理裝置、殺菌裝置及環境淨化裝置 【0001】
本發明係關於將作用於淨化周圍環境之二氧化氯氣體，以短時間降低至對人體安全之濃度的二氧化氯氣體處理結構、二氧化氯氣體處理裝置、殺菌裝置及環境淨化裝置。
 【0002】
在人生活的空間內，包含著例如塵埃、香煙的煙等極小微粒、各種大氣汙染物質、浮游菌類、源自塗料等化學物質之有機揮發氣體、及源自人體與各種製品等之含有異味等的各種微粒、氣體、黴菌、有害細菌等。
【0003】
為了減少這些對人體有害的細菌等，會進行殺菌/除臭等淨化處理。二氧化氯氣體從過去以來便已知在殺菌/除臭等淨化作用上極為優異。但是二氧化氯氣體在常溫、常壓下具有如氯或臭氧般的刺激性氣味，且對光與熱不穩定。因此，為了能在沒有危險性的穩定狀態下使用二氧化氯氣體，開發了讓二氧化氯氣體在純水中以鹼加以穩定化之穩定性二氧化氯。於是提出了將凝膠狀態、液體狀態或固體狀態之穩定性二氧化氯加以活性化來把二氧化氯氣體取出，使其接觸空間內的淨化對象物，來廣範圍地淨化空間內部之技術。
【0004】
依據過去的以二氧化氯氣體進行之淨化處理，處理後的氣體中所包含的殘餘二氧化氯氣體係以水或活性碳等過濾/吸附而降為低濃度。此外，雖然對於二氧化氯氣體的光分解作用還有許多不明白之處，但已知二氧化氯氣體會被紫外線分解 (專利文獻1；段落0004)。因此，作用於淨化處理之二氧化氯氣體，在如前述般降為低濃度後，可排放、擴散至大氣中。
【0005】
只要是為了能直接將二氧化氯氣體排出至屋外而附設有排氣管道之空氣調和裝置，就能將從排氣管道排出的二氧化氯氣體排出至屋外的大量空氣中並加以稀釋。但是，用於淨化於醫院內使用的醫療儀器之殺菌裝置，係讓殺菌後的二氧化氯氣體達到對人體安全的既定濃度以下再擴散至儀器的周圍。在此，對於人體安全之濃度，係依照美國職業安全衛生局（OSHA）的基準的二氧化氯氣體之濃度，在1日8小時或一週40小時的期間內之時間負荷平均値（TWA）被設定在0.1ppm以下。此外，在美國政府工業衛生師協會（ACGIH）的基準中，除了上述以外，並將15分鐘的短時間暴露界限値（STEL）設定為0.3ppm，因而必須要將二氧化氯氣體持續地維持在此種低濃度的範圍內。但是，依據過去的吸附至活性碳等來降低二氧化氯氣體之處理方法，由於在到達比既定濃度還低的濃度後吸附作用會變緩慢，故在二氧化氯氣體到達可排放之低濃度前需要長時間。
【0006】
另一方面，還提出了將高濃度的二氧化氯氣體排放於空間內，來淨化空間內的環境之技術。例如，專利文獻2中，藉由純二氧化氯氣體液劑，能以高濃度包含溶存之二氧化氯，並能從高濃度至低濃度作濃度調整(專利文獻2；段落0072)。此外，專利文獻3中揭示一種以比過去還高的濃度使用二氧化氯來燻蒸被汙染的空間或物品之技術。根據專利文獻3，至少要花5至6小時來除去二氧化氯(專利文獻；段落0024)。
【0007】
在如專利文獻2與專利文獻3之技術般，使用高濃度的二氧化氯之情形，會有需要長時間除去二氧化氯之課題，而妨礙了利用高濃度二氧化氯氣體來做環境淨化之普及。另外，由於即便是低濃度，依據二氧化氯氣體的排放量還是會對外部環境帶來影響，因此需要以短時間有效率的減少二氧化氯氣體之處理結構及裝置。
【0008】
本發明人們在對二氧化氯氣體照射紫外線的同時進行各種實驗，為了在短時間減少二氧化氯氣體，發現將以活性碳過濾器等到達所需的低濃度之二氧化氯氣體，在以紫外線照射被水濕潤之鋼絲絨的狀態下重複與其接觸，能在短時間內將二氧化氯氣體減少或消除至對人體安全之低濃度，而達成本發明。
《先前技術文獻》
〈專利文獻〉
【0009】

專利文獻1：特開平4-300201號公報
專利文獻2：特開平11-278808號公報
專利文獻3：特表2005-528930號公報
《發明所欲解決之課題》
【0010】
解決為了將作用於淨化周圍環境之二氧化氯氣體降低至對人體安全之濃度需要長時間的問題。
《解決課題之方式》
【0011】
本發明之第1發明係用於減少包含二氧化氯氣體之被處理空氣中的二氧化氯氣體之二氧化氯氣體處理結構，其具備：讓該被處理空氣循環之空間、氣流產生元件、接觸層、及紫外線照射元件，其中該接觸層係將由鐵製細絲固定成綿狀而成之鋼絲絨以水濕潤之接觸層，該氣流產生元件係讓被處理空氣在該空間內循環，而在該紫外線照射元件將紫外線照射至該被處理空氣的循環路徑上之該接觸層的狀態下，該被處理空氣反復地接觸該接觸層。
【0012】
此處的被處理空氣係指在存在各種微粒、氣體、黴菌、有害細菌等之空間內，經過殺菌、除臭、除黴等作用的包含二氧化氯氣體之空氣，且不限定於人生活的空間，也包含例如殺菌裝置中的空氣。而循環之空間只要是讓被處理空氣循環並重複接觸接觸層之空間即可。此外，也未限定二氧化氯氣體的濃度。
【0013】
紫外線之波長，由紫外-可見光吸收光譜分析，較佳係設定為對於二氧化氯氣體吸光度高之波長254nm至270nm的紫外線，但不限定於此(參照第8圖)。其中，第8圖之圖表係以純水做為稀釋溶液將500ppm的穩定性二氧化氯稀釋100倍，再以其作紫外-可見光吸收光譜分析實驗，而得到的測定結果之圖表，縱軸表示吸光度，橫軸表示紫外線之波長。
【0014】
藉由以紫外線照射二氧化氯氣體，使得二氧化氯氣體更容易起反應。藉此，將容易起反應之二氧化氯氣體，經由氣流產生元件循環，而與在由鐵製細絲固定成綿狀而成之鋼絲絨以水濕潤之接觸層相接觸使鐵氧化，即使是在過去的處理方法中減低緩慢之低濃度中，也具有可以短時間減少被處理空氣中的二氧化氯氣體之有利效果。此處紫外線的強度不限定，可依據紫外線的強度對應之二氧化氯氣體的減低效果(參照第9圖)。第9圖之圖表，係對各邊設為1m的由遮蔽外光之壓克力板所構成之立方體形狀的容器內之二氧化氯氣體，改變紫外線強度加以照射，確認二氧化氯氣體的濃度降低趨勢之圖表。大致在所有的時間帶中可確認紫外線之強度為2倍者(附加△標誌之折線)相對於另一方(附加□標誌之折線)，二氧化氯氣體的濃度之降低效果較高。
【0015】
氣流產生元件只要是使產生空氣流動之習知的風扇即可。可依據被處理空氣的量、被處理空氣與接觸層之接觸次數來選擇適當的送風能力之風扇。此外，鋼絲絨由於其表面被二氧化氯氣體氧化而會使二氧化氯氣體的減低效果降低，較佳為收納於讓被處理空氣通過之袋中並能交換者。
【0016】
本發明之第2發明係如第1發明之二氧化氯氣體處理結構，其中該細絲的直徑係0.02mm至0.04mm。即使鋼絲絨的重量相同，細絲的直徑越小，其表面積會變越大，使二氧化氯氣體的接觸面積變大。另一方面，若細絲的直徑變得過小則細絲會折斷而容易散亂。即使是使用相同重量的鋼絲絨，較佳者為細絲直徑0.02mm至0.04mm之鋼絲絨，因為其表面積可增加而且細絲具有不會折斷散亂之寬度。
【0017】
本發明之第3發明係如第1或第2發明之二氧化氯氣體處理結構，其中在照射來自該紫外線照射元件之紫外線的該空間的內面係具備紫外線反射面。在該空間的內面適合裝載紫外線反射率高的鋁材質之薄膜或板材。依據第3發明，即使使用相同的紫外線燈也能有較強的紫外線照射。
【0018】
本發明之第4發明係如第1至第3發明之二氧化氯氣體處理結構，其中係具備讓水濕潤鋼絲絨之濕潤元件。濕潤元件可以是讓鋼絲絨於蓄水之水槽中進出，使鋼絲絨成為濕潤狀態，也可以是以噴霧器將水噴霧讓鋼絲絨成為濕潤狀態。藉由配備濕潤元件，讓最初濕潤並設置於該空間內的鋼絲絨不乾燥，而持續接觸層的效果。
【0019】
本發明之第5發明係用於減少藉由二氧化氯氣體作空氣淨化後的被處理空氣中所包含之二氧化氯氣體之二氧化氯氣體處理裝置，其包含：使該二氧化氯氣體降低至所需濃度之第1次處理元件，及如第1至第4發明中任一項之該二氧化氯氣體處理結構，其中第1次處理元件係具備第1氣流產生元件及活性碳過濾器；而在進行以該第1氣流產生元件讓該被處理空氣中的二氧化氯氣體被該活性碳過濾器吸附之第1次處理後，以該二氧化氯氣體處理結構來減少第1次處理後的被處理空氣中所包含之二氧化氯氣體。
【0020】
依據第5發明，係用過去的活性碳過濾器吸附處理之技術作為第1次處理元件讓濃度為所需的濃度，例如2.5ppm至5.0ppm之範圍後，以第1至第4發明之二氧化氯氣體處理結構將二氧化氯氣體的濃度降低至對人體安全之濃度。依據以過去技術的活性碳過濾器所做之吸附處理，二氧化氯氣體在到達既定濃度後，吸附作用即會變緩慢。因此，為了讓二氧化氯氣體達到所需濃度，例如低於0.1ppm，將需要長時間。但是依據本發明，係在直到過去的活性碳過濾器能維持高減低效率之濃度為止，以活性碳過濾器來減低二氧化氯氣體後，再藉由以第1至第4發明之二氧化氯氣體處理結構來降低二氧化氯氣體的濃度，而縮短了到對人體安全之所需的低濃度之時間。
【0021】
此外，由於變成低濃度以後，再使二氧化氯氣體與鋼絲絨反應的緣故，所以可以減少鋼絲絨的使用量。此外，鋼絲絨的交換頻率也會變少。
【0022】
本發明之第6發明係用於減少藉由二氧化氯氣體作空氣淨化後的被處理空氣中所包含之二氧化氯氣體之二氧化氯氣體處理裝置，其包含：使該二氧化氯氣體降低至所需濃度之第1次處理元件，及第1至第4發明中任一項之該二氧化氯氣體處理結構，其中第1次處理元件係具備第1氣流產生元件、紫外線照射元件、及做為接觸層之由鐵製細絲固定成綿狀而成之鋼絲絨；而在以該紫外線照射元件對該接觸層照射紫外線之狀態下，進行以該第1氣流產生元件讓該被處理空氣中的二氧化氯氣體循環至該接觸層並與其接觸之第1次處理後，以該二氧化氯氣體處理結構來減少第1次處理後的被處理空氣中所包含之二氧化氯氣體。
【0023】
本發明之第6發明中，取代第5發明之以第1次處理元件的活性碳過濾器進行之吸附作用，將以鋼絲絨層為接觸層，一邊照射紫外線，一邊讓被處理空氣循環使其接觸接觸層之元件，做為二氧化氯氣體之第1次處理元件。即使一邊對鋼絲絨照射紫外線一邊接觸被處理空氣，如後述(評價結果2‐1)及(評價結果2‐2)所示，可確認會發揮與活性碳過濾器大致相同之效果。此處鋼絲絨的鐵絲的細絲之直徑適合在0.02mm至0.04mm。
【0024】
本發明之第7發明係用於讓醫療用儀器接觸二氧化氯氣體來做殺菌處理之殺菌裝置，其係具備第1至4發明中任一項發明所述之該二氧化氯氣體處理結構。藉由具備本發明之第1至第4發明之二氧化氯氣體處理結構，讓作用於殺菌之高濃度的二氧化氯氣體的濃度達到所需的濃度，例如低於0.1ppm的時間變短，藉由殺菌裝置能讓醫療儀器以短時間的循環來殺菌，而可有效地活用殺菌裝置。
【0025】
本發明之第8發明係將二氧化氯氣體導入至設置有空氣淨化裝置之封閉環境內，讓該環境內的物品與該二氧化氯氣體接觸並加以淨化處理之環境淨化裝置，其係具備第1至4發明中任一項所述之該二氧化氯氣體處理結構。藉由具備本發明之第1至第4發明中任一項發明之二氧化氯氣體處理結構，讓作用於除黴等環境淨化之大量且高濃度的二氧化氯氣體的濃度到達所需濃度，例如0.1ppm，之時間變短，讓以二氧化氯氣體所做之淨化對象擴大。例如即使在住宅建築物多的地區，也能以片材將住宅建物全體覆蓋，以二氧化氯氣體對住宅內所具備之所有物品做除黴及殺菌，並以短時間減少該二氧化氯氣體，做為針對居住者之防過敏手段。
《發明之效果》
【0026】
・依據本發明之第1發明，以氣流產生元件使得變容易起反應之二氧化氯氣體產生循環，而與由鐵製細絲固定成綿狀而成之鋼絲絨被水濕潤之接觸層相接觸，進而使鐵氧化，即便是變成在過去的處理方法中低減緩慢之低濃度，也具有可以短時間減少被處理空氣中的二氧化氯氣體之有利效果。
・依據本發明之第2發明，較適合者為在相同重量下增加與二氧化氯氣體反應之鐵的表面積，細絲不會折斷散亂者。
・依據本發明之第3發明，即使使用相同紫外線燈也能照射較強的紫外線。
・依據本發明之第4發明，藉由具備濕潤元件，可使得最初濕潤並設置於該空間內之鋼絲絨不會變乾，且持續接觸層之效果。
【0027】
・依據本發明之第5發明，於活性碳過濾器能維持在高減低效率之濃度以活性碳過濾器降低二氧化氯氣體濃度，而在活性碳過濾器產生的降低趨勢到達變緩慢之濃度時，再藉由以第1至第4發明中任一項所述之二氧化氯氣體處理結構降低二氧化氯氣體之濃度，能縮短到對人體安全之所需的低濃度之時間。
・依據本發明之第6發明，與第5發明同樣地，在對鋼絲絨的接觸層照射紫外線使二氧化氯氣體減低的趨勢到達變緩慢之濃度後，藉由以第1至第4發明中任一項所述之二氧化氯氣體處理結構來降低二氧化氯氣體之濃度，來縮短達到對人體安全之所需的低濃度之時間。
・依據本發明之第7發明，能縮短讓二氧化氯氣體的濃度到達所需濃度，例如0.1ppm之時間，藉由殺菌裝置能讓醫療儀器以短時間的循環殺菌，而可有效利用殺菌裝置。
・依據本發明之第8發明，讓作用於除黴等環境淨化之大量且高濃度的二氧化氯氣體的濃度到達所需濃度，例如0.1ppm之時間變短，讓二氧化氯氣體所做之淨化對象擴大。
 【0061】
100、200、300‧‧‧二氧化氯氣體處理裝置
400‧‧‧殺菌裝置
10‧‧‧第1次處理元件
20‧‧‧二氧化氯氣體處理結構
30‧‧‧導入空氣
40‧‧‧中間處理空氣
50‧‧‧排放空氣
11‧‧‧活性碳過濾器
12‧‧‧容器
13‧‧‧風扇
14‧‧‧箭頭
15‧‧‧偵測吸引口
16‧‧‧二氧化氯氣體用偵測管
21‧‧‧鋼絲絨
22‧‧‧容器
23‧‧‧風扇
24‧‧‧紫外線照射元件
25‧‧‧箭頭
26‧‧‧貯水盤
27‧‧‧濃度偵測位置
28‧‧‧鋁箔
60‧‧‧第1次處理元件
61‧‧‧鋼絲絨
62‧‧‧容器
63‧‧‧風扇
64‧‧‧紫外線照射元件
70‧‧‧容器
71‧‧‧第1次處理元件
72‧‧‧二氧化氯氣體處理結構
80‧‧‧醫療器具收納部
81‧‧‧二氧化氯氣體產生元件
82‧‧‧第1次處理元件
83‧‧‧二氧化氯氣體處理結構
84‧‧‧通風口
85‧‧‧穩定性二氧化氯水
86‧‧‧紫外線照射元件
87‧‧‧風扇
88‧‧‧通風口
89‧‧‧風扇
90‧‧‧活性碳過濾器
91‧‧‧通風口
92‧‧‧鋼絲絨
【0028】
第1圖為二氧化氯氣體處理裝置之結構的示意圖(實施例1)
第2圖為顯示二氧化氯氣體處理結構的評價結果之圖表(實施例1)
第3圖為顯示小型二氧化氯氣體處理結構的評價圖表(實施例1)
第4圖為二氧化氯氣體處理裝置的結構之示意圖(實施例2)
第5圖為顯示第1次處理元件的評價結果之圖表(實施例2)
第6圖為二氧化氯氣體處理裝置之結構的示意圖(實施例3)
第7圖為殺菌裝置的處理步驟圖(實施例4)
第8圖為顯示紫外-可見光吸收光譜分析實驗之圖表
第9圖為顯示紫外線強度與二氧化氯氣體之減低趨勢之圖表
 【0029】
藉由以第1次處理元件將二氧化氯氣體的濃度降低至所需的低濃度後，再以二氧化氯處理結構進一步降低至對人體安全之低濃度，實現了將二氧化氯氣體以短時間降低至對人體安全的濃度之目的。
《實施例1》
【0030】
參照第1圖，說明實施例1之二氧化氯氣體處理裝置100。第1圖係顯示實施例1的二氧化氯氣體處理裝置100之結構的示意圖。概略地顯示出由使用活性碳過濾器11吸附二氧化氯氣體，將高濃度二氧化氯氣體之處理前的導入空氣30之二氧化氯氣體的濃度處理為2.0ppm至5.0ppm的低濃度中間處理空氣40之第1次處理元件10，及將中間處理空氣40處理為比對人體安全的二氧化氯氣體濃度0.1ppm還低之低濃度，並做為排放空氣50排放之二氧化氯氣體處理結構20所構成之二氧化氯氣體處理裝置100的主要組成要素。
【0031】
實施例1的第1次處理元件10係收納於由各邊設為1m之壓克力板所構成之立方體形狀的容器12中，但容器12的形狀、大小當然不限定於此。於容器12之中，設置有讓導入空氣30循環之風扇13。藉由風扇13所產生之氣流，如示於第1次處理元件10之箭頭14所示，讓導入空氣30通過設置於風扇13前方的活性碳過濾器11，使導入空氣30中所包含的二氧化氯氣體被活性碳過濾器11吸附。
【0032】
風扇13的風量及活性碳過濾器11的大小、厚度、活性碳的容量，可依據導入容器12中之導入空氣30所包含的二氧化氯氣體之濃度、量來適當選擇即可。此處活性碳過濾器11只要是能吸附酸性氣體之活性碳過濾器11即能適用，也可為粉末碳、粒狀碳。另外，當然也可併用中性氣體用活性碳層與鹼性氣體用活性碳層。
【0033】
在第1次處理元件10，於中間處理空氣40的排出口附近設置能開關之偵測吸引口15，讓偵測吸引口15成為能開關之狀態，由該處將容器12中的被處理空氣吸引至二氧化氯氣體用偵測管16以測定二氧化氯氣體濃度，簡化第1次處理元件10的結構。二氧化氯氣體用偵測管16可使用股份有限公司GASTEC(註冊商標)之氣體濃度偵測管。另一方面，雖然未圖示，但也可設置習知的偵測元件(參照特開2007-68612號公報)做為二氧化氯氣體濃度偵測元件，來測定二氧化氯氣體之濃度。
【0034】
作用於空氣淨化，二氧化氯氣體濃度尚高的導入空氣30之二氧化氯氣體濃度，被偵測到在第1次處理元件10被處理為所需的低濃度後，做為中間處理空氣40由第1次處理元件10引導排至二氧化氯氣體處理結構20。
【0035】
二氧化氯氣體處理結構20也是收納於由各邊為1m之壓克力板所構成之立方體形狀的容器22，但容器22的形狀、大小當然不限定於此。容器22中係包含風扇23、紫外線照射元件24、及成為濕潤狀態之鋼絲絨21。此外，於容器22的內面裝載有鋁箔28。為了使由紫外線照射元件24照射出的紫外線不會漏出至外部，讓紫外線於容器內反射，提高紫外線強度，以鋁材料為合適，但不限定於鋁材料，也可為薄膜的箔體或板體。
【0036】
以設置於二氧化氯氣體處理結構20內之風扇23所產生的氣流，如第1圖的二氧化氯氣體處理結構20中之箭頭25所示，循環使之與鋪設之鋼絲絨21的接觸層接觸。於二氧化氯氣體處理結構20中所鋪設的鋼絲絨21，係被水濕潤，以紫外線照射元件照射紫外線。中間處理空氣40接觸鋼絲絨21，使中間處理空氣40中所包含之二氧化氯氣體被處理為對人體安全的低濃度之排放空氣50。
【0037】
此處，形成接觸層之鋼絲絨21，係使用325g的直徑為0.02mm至0.04mm之細絲的鋼絲絨。鋼絲絨21在舖設於二氧化氯氣體處理結構20內時，預先以噴霧噴灑約50mL的水，成為被水濕潤之狀態。鋼絲絨21也可於下方設置貯放水之貯水盤26，以未圖示之出沒元件使其適當出沒來保持濕潤狀態。
【0038】
做為紫外線照射元件24，係使用三共電氣股份有限公司製的6支波長254nm之紫外線燈GPL9，及6支GPL27，成為合計輸出216W之紫外線燈。紫外線照度依據股份有限公司CUSTOM的紫外線強度計所做之測定，在設置該接觸層之位置被測量為0.345mW/cm2 。此外，係在室溫為20℃且安定的室溫環境下進行計測實驗。
【0039】
中間處理空氣係藉由設置在排放口附近的位置之濃度偵測位置27的二氧化氯氣體濃度偵測元件來偵測、確認該二氧化氯氣體之濃度為對人體安全之濃度，例如0.1ppm以下之後，做為排放空氣50排放至外界大氣。實施例1中，二氧化氯濃度為50ppm之導入空氣30，係在以第1次處理元件開始處理後經過8分鐘之時間點被處理為3.6ppm之中間處理空氣40，進一步以二氧化氯處理結構20開始處理中間處理空氣20後經過6分鐘後，二氧化氯濃度被處理為安全濃度之0.1ppm以下，在第1次處理開始後14分鐘成為檢測不到二氧化氯氣體之狀態，成為適合作為排放空氣50之狀態。
【0040】
(評價實驗1)
此處，為了評價實施例1的二氧化氯氣體處理結構20之主要組成要素的效果，將實施例1的以二氧化氯氣體處理結構20降低處理二氧化氯氣體的濃度之情形，與從二氧化氯氣體處理結構20排除主要組成要素之情形做比較，進行確認主要組成要素之效果的實驗(評價實驗1)。參照第2圖說明其結果。第2圖係顯示二氧化氯氣體處理結構的評價結果及比較結果之圖表。(評價結果1-1)係顯示驅動二氧化氯氣體處理結構20之情形的中間處理空氣40之二氧化氯氣體濃度降低趨勢，(比較結果1-1)係顯示不濕潤接觸層之鋼絲絨就照射紫外線之情形的中間處理空氣40之二氧化氯氣體濃度降低趨勢，(比較結果1-2)係顯示取出鋼絲絨僅照射紫外線之情形的中間處理空氣40之二氧化氯氣體濃度降低趨勢。二氧化氯氣體之濃度係以股份有限公司GASTEC社(註冊商標)之氣體偵測管來偵測。
【0041】
(評價結果1-1)
二氧化氯氣體處理結構之評價結果(□標誌的折線圖)：在室溫20℃下，將中間處理空氣40導入至以壓克力板構成之容積1m3 之容器的二氧化氯氣體處理結構20，從二氧化氯氣體的濃度為3.6ppm之狀態起，以實施例1之二氧化氯氣體處理結構20的結構處理二氧化氯氣體。以附加□標誌之折線圖顯示此二氧化氯氣體的濃度之降低。二氧化氯氣體之濃度從3.6ppm起在處理開始後經過4分鐘之時間點成為約0.12ppm，在經過6分鐘之時間點成為0.00ppm，與後文中顯示的(比較結果1-1)、(比較結果1-2)相比，能以短時間將二氧化氯氣體的濃度降低至安全濃度。
【0042】
(比較結果1-1)
不以水潤濕鋼絲絨21，僅照射紫外線之情形的比較結果(附加△標誌之折線圖)：以不讓水潤濕實施例1的二氧化氯氣體處理結構20之接觸層的鋼絲絨21之狀態的原樣導入中間處理空氣40，從二氧化氯氣體的濃度為2.76ppm之狀態起處理二氧化氯氣體。以附加△標誌之折線圖顯示此二氧化氯氣體的濃度之降低。二氧化氯氣體的濃度係從2.76ppm起在處理開始後經過6分鐘之時間點為0.24ppm，於經過10分鐘之時間點成為約0.01ppm。
【0043】
(比較結果1-2)
取出鋼絲絨21，僅照射紫外線之情形的比較結果(附加○標誌之折線圖)：取出實施例1的二氧化氯氣體處理結構20之鋼絲絨的接觸層，導入中間處理空氣40，從二氧化氯氣體的濃度為2.52ppm之狀態起處理二氧化氯氣體。以附加○標誌之折線圖顯示此二氧化氯氣體之濃度之降低。二氧化氯氣體的濃度從2.52ppm起在處理開始後經過6分鐘的時間點成為0.45ppm，但即使經過10分鐘後還是0.36ppm，還是大幅超過0.1ppm之濃度，未達到對人體安全之濃度。
【0044】
(評價實驗2)
接下來，假設每邊為65cm之立方體的殺菌裝置，將實施例1的二氧化氯氣體處理結構之容量設為0.25m3 ，進行確認不管容量大小，即使是小型的二氧化氯氣體處理結構，也會發揮其效果之評價實驗2。參照第3圖說明其結果。第3圖係顯示評價實驗2的小型二氧化氯氣體處理結構的評價結果之圖表。(評價結果2‐1) 係顯示驅動二氧化氯氣體處理結構20之情形的中間處理空氣之二氧化氯氣體濃度降低趨勢，(比較結果2-1)係顯示不濕潤接觸層之鋼絲絨就照射紫外線之情形的中間處理空氣之二氧化氯氣體濃度降低趨勢，(比較結果2-2)係顯示取出鋼絲絨僅照射紫外線之情形的中間處理空氣之二氧化氯氣體濃度降低趨勢。做為紫外線照射元件24，係使用三共電氣股份有限公司製的6支波長254nm之紫外線燈GPL9，使用合計54W之紫外線。形成接觸層之鋼絲絨係與評價實驗1相同。在容器內面裝載鋁箔的點、室溫條件等也相同。
【0045】
(評價結果2-1)
小型二氧化氯氣體處理結構之評價結果(□標誌折線圖)：於室溫20℃下，將中間處理空氣40導入小型容器的二氧化氯氣體處理結構20，從二氧化氯氣體的濃度為2.52ppm之狀態起，以上述結構處理二氧化氯氣體。第3圖中以附加□標誌之折線圖顯示此二氧化氯氣體之濃度之降低。在二氧化氯氣體的濃度從2.52ppm起在處理開始後經過2分鐘之時間點變成0.30ppm，在經過4分鐘之時間點變成0.00ppm。確認不管二氧化氯氣體處理結構之容量，只要適當決定紫外線之強度，即能得到與容量大的實施例1同樣地二氧化氯氣體之降低趨勢。與後文顯示之(比較結果2‐1)、(比較結果2‐2)相比，能以短時間將二氧化氯氣體的濃度降低至安全濃度。
【0046】
(比較結果2‐1)
不濕潤鋼絲絨，僅照射紫外線之情形的比較結果(附加△標誌之折線圖)：在小型的二氧化氯氣體處理結構中，以不讓水濕潤接觸層的鋼絲絨之狀態的原樣導入中間處理空氣40，從二氧化氯氣體的濃度為2.16ppm之狀態起，處理二氧化氯氣體。第3圖中以附加△標誌之圖表顯示此二氧化氯氣體的濃度之降低。二氧化氯氣體的濃度從2.16ppm起在處理開始後經過2分鐘之時間點成為0.78ppm，在經過4分鐘之時間點成為0.30ppm，未達到安全濃度。
【0047】
(比較結果2‐2)
取出鋼絲絨，僅照射紫外線之情形的比較結果(附加○標誌之折線圖)：取出小型的二氧化氯氣體處理結構中之鋼絲絨的接觸層，導入中間處理空氣40，從二氧化氯氣體的濃度為2.10ppm之狀態起處理二氧化氯氣體。以附加○標誌之折線圖顯示此二氧化氯氣體之濃度降低。二氧化氯氣體的濃度從2.10ppm起在處理開始後經過2分鐘之時間點為1.08ppm，在經過4分鐘之時間點為超過0.48ppm之濃度，未達到安全濃度。
《實施例2》
【0048】
參照第4圖說明實施例2之二氧化氯氣體處理裝置200。第4圖係二氧化氯氣體處理裝置200之結構的示意圖。取代實施例1之第1次處理元件10，以讓高濃度的二氧化氯氣體之導入空氣30之二氧化氯氣體接觸狀態為照射紫外線之鋼絲絨，做為使二氧化氯氣體成為所需的低濃度之中間處理空氣40的第1次處理元件60。至於將中間處理空氣40處理為比對人體安全之二氧化氯氣體濃度的0.1ppm還要低濃度，成為排放空氣50之二氧化氯氣體處理結構20，因與實施例1相同，於圖式中賦予相同符號並省略其說明。
【0049】
實施例2之第1次處理元件60係收納於由各邊設為1m之壓克力板所構成之立方體形狀的容器62內，但與實施例1相同，容器62的形狀、大小當然不限定於此。容器62中設置有讓導入空氣30循環之風扇63。藉由風扇63，如在第1次處理元件60顯示之箭頭所示般產生氣流。在風扇63前方，設置狀態為被紫外線照射元件64照射紫外線之鋼絲絨61。讓導入空氣30通過鋼絲絨61，讓導入空氣30中所包含之二氧化氯氣體接觸狀態為被來自紫外線照射元件之紫外線照射之鋼絲絨61，將該二氧化氯濃度處理為所需濃度之中間處理空氣40。
【0050】
(評價實驗3)
此處參照第5圖，顯示評價減低二氧化氯濃度高之導入空氣30的二氧化氯濃度，處理為中間處理空氣40之第1次處理元件之評價實驗3的結果。(評價結果3-1)係讓二氧化氯氣體吸附於活性碳過濾器之實施例1的第1次處理元件，(評價結果3-2)係在對鋼絲絨過濾器照射紫外線之狀態下接觸二氧化氯氣體之實施例2的第1次處理元件，(比較結果3-1)係顯示僅照射紫外線讓二氧化氯氣體濃度降低之情形的實驗結果。做為紫外線照射元件，係使用三共電氣股份有限公司製的6支波長254nm之紫外線燈GPL9，使用合計54W之紫外線。形成接觸層之鋼絲絨係與評價實驗1相同。在容器內面裝載鋁箔的點、室溫條件等亦相同。
【0051】
(評價結果3-1)
讓導入空氣的二氧化氯氣體吸附於活性碳過濾器之實施例1的第1次處理元件之評價結果(附加○標誌之折線圖)：實施例1的第1次處理元件中，讓包含高濃度的二氧化氯氣體之導入空氣接觸活性碳過濾器，使二氧化氯氣體被活性碳過濾器吸附，降低二氧化氯氣體之濃度。第5圖中以附加○標誌之折線圖顯示此二氧化氯氣體之濃度降低。在處理開始後經過5分鐘之時間點從50ppm降低至6.24ppm，在經過10分鐘之時間點成為1.20ppm。自此之後濃度下降變緩慢，在經過20分鐘之時間點成為0.12ppm，在處理開始後到達0.1ppm為止需要25分鐘的時間。
【0052】
(評價結果3-2)
一邊照射紫外線，讓導入空氣的二氧化氯氣體接觸鋼絲絨之實施例2的第1次處理元件之評價結果(附加△標誌之折線圖)：實施例2的第1次處理元件中，在對鋼絲絨照射紫外線之狀態下，讓包含高濃度二氧化氯氣體之導入空氣30與其接觸，使二氧化氯氣體濃度降低。第5圖中以附加△標誌之折線圖顯示此二氧化氯氣體之濃度降低。雖在處理開始後經過10分鐘之時間點濃度從40ppm降低至2.40ppm，但此後二氧化氯氣體濃度緩慢降低，處理開始後到達0.1ppm為止，需要20分鐘的時間。但是，在處理開始後20分鐘之時間變得檢測不到二氧化氯氣體。若將其與實施例1的第1次處理元件相比之結果：實施例1之活性碳過濾器的方面雖然在到經過10分鐘的時間點為止發現些許優良的減低效果，但在到安全濃度之0.1ppm之前需要較長時間。另一方面，在二氧化氯濃度到達2.5ppm之低濃度為止，實施例2的第1次處理元件與實施例1的第1次處理元件都只要經過約10分鐘即可，兩者均被評價為適合做為第1次處理元件。
【0053】
(比較結果3-1)
僅對導入空氣之二氧化氯氣體照射紫外線來降低二氧化氯氣體之比較結果(附加□標誌之折線圖)：在與實施例1相同溫度條件下於相同大小的容器中，以紫外線照射元件對包含高濃度二氧化氯氣體之導入空氣30照射紫外線，降低二氧化氯氣體之濃度。第5圖中以附加□標誌之折線圖顯示此二氧化氯氣體之濃度降低。在處理開始後經過20分鐘後從50ppm降低至47.5ppm，但降低趨勢緩慢。另一方面，無論在哪一個照射時間帶，都能以相同比例看到二氧化氯氣體之降減趨勢。
《實施例3》
【0054】
於實施例3，參照第6圖說明在相同容器70中具備第1次處理元件與二氧化氯氣體處理結構之實施例。第6圖係二氧化氯氣體處理裝置300的結構之示意圖，對於與實施例1相同結構的部分，於圖式中賦予相同符號並省略說明。被導入容器70中之二氧化氯氣體濃度高的導入空氣30，先在二氧化氯氣體處理結構72停止之狀態下，循環於第1次處理元件71之活性碳過濾器11，使二氧化氯氣體濃度降低。然後，在以偵測元件偵測到容器中的被處理空氣之二氧化氯氣體濃度變得比所需濃度小後，接下來停止第1次處理元件71，以二氧化氯氣體處理結構72一邊藉由紫外線照射元件24照射紫外線，讓被處理空氣接觸濕潤狀態之鋼絲絨21並使之循環。藉此，能在一個容器內以短時間降低二氧化氯氣體之濃度。
《實施例4》
【0055】
於實施例4，參照第7圖說明醫療用器具之殺菌裝置的實施例。第7圖係殺菌裝置之處理步驟圖，第7圖(A)圖係顯示產生高濃度二氧化氯氣體之步驟，第7圖(B)圖係在醫療器具殺菌後，將高濃度二氧化氯氣體降低至所需濃度，例如從2.0ppm降低至5.0ppm之濃度之步驟，第7圖(C)圖係顯示將降低至預先所需的濃度之二氧化氯氣體再降低至對人體安全之濃度之步驟的說明圖。
【0056】
殺菌裝置400中，係包含與醫療器具收納部80相接的二氧化氯氣體產生元件81、第1次處理元件82、二氧化氯氣體處理結構83。於二氧化氯氣體產生元件81，在開放與醫療器具收納部80的通風口84之狀態下，以紫外線照射元件86對凝膠或液體狀的穩定性二氧化氯水85照射紫外線，藉由風扇87將高濃度二氧化氯氣體如第7圖(A)圖所示之箭頭般送出至醫療器具收納部80，予以循環。醫療器具收納部80的二氧化氯氣體之濃度在到達既定濃度後，也可關閉通風口84，停止風扇87 (參照第7圖(A)圖)。
【0057】
在醫療器具被殺菌後，於二氧化氯氣體產生元件81的通風口84關閉之狀態下，開放第1次處理元件82的通風口88，以風扇89讓醫療器具收納部80的氣體如第7圖(B)圖所示之箭頭般循環至活性碳過濾器90使二氧化氯氣體被吸附，而降低至所需的濃度。此處所需的濃度係為2.0ppm至5.0ppm之濃度即可，但並非限定於此範圍之濃度(參照第7圖(B)圖)。
【0058】
醫療器具收納部80的二氧化氯氣體濃度在藉由第1次處理元件到達所需的濃度後，關閉第1次處理元件之通風口88，開放二氧化氯氣體處理元件與醫療器具收納部之通風口91，在以紫外線照射元件93對成為濕潤狀態之鋼絲絨92照射紫外線之狀態下，讓降為低濃度之二氧化氯氣體如第7圖(C)圖所的箭頭般循環並與其接觸，來降低二氧化氯氣體之濃度(參照第7圖(C)圖)。
【0059】
依照醫療器具收納部80的大小，來決定二氧化氯氣體產生元件81之處理時間、第1次處理元件82之處理時間、二氧化氯氣體處理結構83等各別的處理時間，也可藉由計時器控制來分別加以驅動，也可於殺菌裝置的醫療器具收納部80設置圖中省略之二氧化氯氣體濃度偵測元件，依據其偵測結果，來依序驅動二氧化氯氣體產生元件81、第1次處理元件82、二氧化氯氣體處理結構83。其中，紫外線照射元件之輸出、活性碳過濾器之容量、鋼絲絨之質量適當地選擇即可。
【0060】
(其他)
・上述實施例中，雖然展示並說明具體的尺寸、輸出及位置，但並非限定於此，在不脫離本發明之宗旨的範圍內，當然能夠加以變化。
・該實施例中雖係以穩定性二氧化氯來產生二氧化氯氣體，但並非限定於此。
・本次所揭示的實施形態的全部要點皆為舉例，不應視為限制。本發明的技術範圍是不受限於上述的說明，且旨在包含與專利申請的範圍均等之意義及範圍內所有的變更。
 
100‧‧‧二氧化氯氣體處理裝置
10‧‧‧第1次處理元件
20‧‧‧二氧化氯氣體處理結構
30‧‧‧導入空氣
40‧‧‧中間處理空氣
50‧‧‧排放空氣
11‧‧‧活性碳過濾器
12‧‧‧容器
13‧‧‧風扇
14‧‧‧箭頭
15‧‧‧偵測吸引口
16‧‧‧二氧化氯氣體用偵測管
21‧‧‧鋼絲絨
22‧‧‧容器
23‧‧‧風扇
24‧‧‧紫外線照射元件
25‧‧‧箭頭
26‧‧‧貯水盤
27‧‧‧濃度偵測位置
28‧‧‧鋁箔

Claims (8)

  1. 【第1項】
    一種二氧化氯氣體處理結構，其係用於減少包含二氧化氯氣體之被處理空氣中的二氧化氯氣體之二氧化氯氣體處理結構，其係包含：讓該被處理空氣循環之空間、氣流產生元件、接觸層、及紫外線照射元件，
    該接觸層係將由鐵製細絲固定成綿狀而成之鋼絲絨以水濕潤之接觸層，
    該氣流產生元件係讓被處理空氣在該空間內循環，而且
    在該紫外線照射元件將紫外線照射至該被處理空氣的循環路徑上之該接觸層的狀態下，使該被處理空氣反復地接觸該接觸層。
  2. 【第2項】
    如申請專利範圍第1項所述之二氧化氯氣體處理結構，其中該細絲的直徑為0.02mm至0.04mm。
  3. 【第3項】
    如申請專利範圍第1或2項所述之二氧化氯氣體處理結構，其中在該紫外線照射元件之紫外線所照射的該空間的內面上係具備紫外線反射面。
  4. 【第4項】
    如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之二氧化氯氣體處理結構，其係具備讓該鋼絲絨被水濕潤之濕潤元件。
  5. 【第5項】
    一種二氧化氯氣體處理裝置，其係用於減少經以二氧化氯氣體進行空氣淨化後的被處理空氣中所包含之二氧化氯氣體之二氧化氯氣體處理裝置，其係包含：
    使該二氧化氯氣體降低至所需濃度之第1次處理元件；以及
    如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之該二氧化氯氣體處理結構，
    其中該第1次處理元件係具備第1氣流產生元件及活性碳過濾器，
    在以該第1氣流產生元件進行使該被處理空氣中的二氧化氯氣體吸附於該活性碳過濾器之第1次處理後，以該二氧化氯氣體處理結構來減少該第1次處理後的被處理空氣中所包含之二氧化氯氣體。
  6. 【第6項】
    一種二氧化氯氣體處理裝置，其係用於減少經以二氧化氯氣體進行空氣淨化後的被處理空氣中所包含之二氧化氯氣體之二氧化氯氣體處理裝置，其係包含：
    使該二氧化氯氣體降低至所需濃度之第1次處理元件；以及
    如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之該二氧化氯氣體處理結構，
    其中該第1次處理元件係具備第1氣流產生元件、紫外線照射元件、及做為接觸層之由鐵製細絲固定成綿狀而成之鋼絲絨，
    而在以該紫外線照射元件對該接觸層照射紫外線之狀態下，
    藉由以該第1氣流產生元件，進行使該被處理空氣中的二氧化氯氣體產生循環而與該接觸層相接觸之第1次處理後，以該二氧化氯氣體處理結構來減少第1次處理後的被處理空氣中所包含之二氧化氯氣體。
  7. 【第7項】
    一種殺菌裝置，其係使醫療用儀器接觸二氧化氯氣體以進行殺菌處理之殺菌裝置，其係具備：如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之該二氧化氯氣體處理結構。
  8. 【第8項】
    一種環境淨化裝置，其係將二氧化氯氣體導入設置有空氣淨化裝置之封閉環境內，讓該環境內的物品與該二氧化氯氣體相接觸以進行淨化處理之環境淨化裝置，其係具備：如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之該二氧化氯氣體處理結構。
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