TW201436872A - 間歇式塗覆裝置及塗膜形成系統 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種可降低自切換器件向噴嘴傳遞之振動之間歇式塗覆裝置。塗覆噴嘴11將塗覆液噴出至基材5。供給配管30連接於塗覆噴嘴11，且塗覆液朝向塗覆噴嘴11流動。切換器件32藉由重複切換供給配管30之開啟及關閉，而使塗覆液自塗覆噴嘴11間歇地噴出。噴嘴基座50載置塗覆噴嘴11。切換器件基座60與噴嘴基座50為獨立個體，且載置切換器件32。

Description

間歇式塗覆裝置及塗膜形成系統

本發明係關於一種將塗覆液自噴嘴朝向基材間歇地塗覆之間歇式塗覆裝置及包含該間歇式塗覆裝置之塗膜形成系統。

先前，於鋰離子電池等化學電池之製造中，使用有自噴嘴向作為基材之金屬箔上噴出相對高黏度之電極材料之塗覆液而形成塗覆膜之塗覆裝置。此種塗覆裝置有進行斷續地塗覆電極材料而交替形成塗覆區域及非塗覆區域之間歇式塗覆者(例如專利文獻1)。

於專利文獻1所揭示之進行間歇式塗覆之裝置中，自具有微小之狹縫狀噴出口之狹縫式模具斷續地噴出塗覆液。於該裝置中，從自塗液儲存器件連接至狹縫式模具之送液路徑分支而設置有洩放路徑，藉由利用三向閥重複切換路徑而進行間歇式塗覆。於非塗覆時流入至洩放路徑之塗覆液係回流至塗液儲存器件。

又，作為與本發明相關之技術揭示有專利文獻2。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2012-30193號公報

[專利文獻2]日本專利特開2011-83719號公報

於進行間歇式塗覆時，精度良好地維持狹縫式模具之噴出口與基材之間隔較為重要。原因在於：若噴出口相對於基材變動，則無法以所需之形狀精度良好地形成塗覆區域。

且說，例如藉由利用三向閥重複切換路徑而進行間歇式塗覆時，由於路徑之切換伴隨著機械性動作(配管之開啟及關閉)，故而三向閥會根據該切換而產生振動。而且，若該振動傳遞至噴出口，則噴出口與基材之間隔可能產生變動。如上所述不宜出現該情況。

本發明係鑒於上述問題而完成者，其目的在於提供一種可降低自切換器件向噴嘴傳遞之振動之間歇式塗覆裝置。

為解決上述問題，技術方案1之發明之特徵在於：其係將塗覆液自噴嘴朝向基材間歇地塗覆者，且包括：噴嘴；供給配管，其連接於上述噴嘴，且塗覆液朝向上述噴嘴流動；切換器件，其藉由重複切換上述供給配管之開啟及關閉，而使上述塗覆液自上述噴嘴朝向上述基材間歇地噴出；噴嘴基座，其載置上述噴嘴；及切換器件基座，其與上述噴嘴基座為獨立個體，且載置上述切換器件。

又，技術方案2之發明之特徵在於：於技術方案1之發明之塗覆裝置中進而包括：噴嘴移動器件，其使上述噴嘴基座移動而調整上述噴嘴相對於上述基材之位置；及切換移動器件，其使上述切換器件向與上述噴嘴基座藉由上述噴嘴移動器件而移動之方向相同之方向移動。

又，技術方案3之發明之特徵在於：於技術方案2之間歇式塗覆裝置中，上述噴嘴移動器件使上述噴嘴基座於水平方向移動，上述切換移動器件可使上述切換器件向任意之水平方向自由地移動，藉由經由上述供給配管而傳遞上述噴嘴之移動，而使上述切換器件向與上述 移動方向相同之方向移動。

又，技術方案4之發明之特徵在於：於技術方案1至技術方案4中任一項之間歇式塗覆裝置中進而包括振動抑制器件，該振動抑制器件設置於上述切換器件基座，抑制自上述切換器件向上述噴嘴傳遞振動。

又，技術方案5之發明包括：如技術方案1至技術方案5中任一項之間歇式塗覆裝置；乾燥器件，其對藉由上述間歇式塗覆裝置而塗佈有上述塗覆液之上述基材進行加熱處理而使上述塗覆液乾燥；及搬送器件，其將上述基材依序搬送至上述間歇式塗覆裝置及上述乾燥器件。

於間歇式塗覆裝置中，較短地設定噴嘴與切換器件之間之供給配管。其目的在於使利用切換器件進行之供給配管之開啟及關閉的切換迅速地反映至噴嘴處之間歇性噴出(即，噴出/停止)。而且，相互近距離地配置之構件通常載置於同一個體之基座上。

另一方面，根據技術方案1、5之發明，如此近距離地配置之噴嘴及切換器件係分別載置於獨立個體之噴嘴基座及切換器件基座。由於利用切換器件進行之供給配管之開啟及關閉的切換伴隨著機械性變化，故而會產生振動，而本發明中該振動不易經由基座而傳遞至噴嘴。噴嘴之振動會使間歇式塗覆之精度變差，而本發明可抑制此種間歇式塗覆之精度變差。

於技術方案2之發明中，由於噴嘴與切換器件之位置關係不易變化，故而可減小產生於供給配管之應力。尤其於間歇式塗覆裝置中，噴嘴與切換器件之間之距離較短。由此，假設切換器件之位置被固定，則伴隨噴嘴之移動會於供給配管產生相對較大之應力。因此，可減小應力之技術方案2之發明對於間歇式塗覆裝置尤其適合。

另一方面，於技術方案2之發明中，切換器件會移動。由此，切換器件之上游側(與噴嘴為相反側)之構件，例如貯存塗覆液之貯存器件與切換器件之間之相對位置可變化。然而，就提高間歇式塗覆之精度之觀點而言，較短地設定切換器件之上游側之配管長度之必要性較低。由此，可較長地設定該配管長度。若如此較長地設定配管長度，則伴隨切換器件之移動而產生之配管之應力較小，不易成為問題。

根據技術方案3之發明，切換移動器件可使切換器件向任意之水平方向自由地移動，因此可無需進行切換移動器件相對於噴嘴移動器件之位置對準。

又，於噴嘴之位置被固定而進行間歇式塗覆時，切換器件可因自身之切換動作而於水平方向移動，故而振動不易經由切換器件基座而傳遞至噴嘴。

根據技術方案4之發明，可進一步抑制振動之傳遞。

1‧‧‧塗膜形成系統

5‧‧‧基材

10‧‧‧間歇式塗覆裝置

11‧‧‧塗覆噴嘴

11a‧‧‧噴出口

12‧‧‧支承輥

20‧‧‧貯存槽

30‧‧‧供給配管

31‧‧‧泵

32‧‧‧切換器件(供給閥)

33‧‧‧過濾器

35‧‧‧壓力計

36‧‧‧注射器

37‧‧‧供給配管

40‧‧‧循環配管

41‧‧‧循環閥

43‧‧‧過濾器

50‧‧‧噴嘴基座

51‧‧‧噴嘴移動器件(噴嘴用移動機構)

60‧‧‧切換器件基座(閥基座)

61‧‧‧切換移動器件(閥用移動機構)

63‧‧‧基台

64‧‧‧振動抑制構件

70‧‧‧乾燥部

80‧‧‧搬送機構

81‧‧‧捲出輥

82‧‧‧捲取輥

83‧‧‧輔助輥

90‧‧‧控制部

圖1係表示組入有本發明之間歇式塗覆裝置之塗膜形成系統之整體構成之圖。

圖2係表示本發明之間歇式塗覆裝置之概略構成之圖。

圖3係表示本發明之間歇式塗覆裝置之一部分之概略構成之立體圖。

圖4係表示本發明之間歇式塗覆裝置之一部分之概略構成之立體圖。

圖5係表示本發明之間歇式塗覆裝置之一部分之概略構成之圖。

以下，一面參照圖式一面對本發明之實施形態進行詳細說明。

<塗膜形成系統之整體構成>

圖1係表示組入有本發明之間歇式塗覆裝置之塗膜形成系統1之 整體構成之圖。再者，於圖1及以下各圖中，為易於理解，視需要將各部分之尺寸或數誇張或簡化地描繪。

該塗膜形成系統1係於作為基材之金屬箔上塗覆作為電極材料之活性物質之塗覆液，並進行該塗覆液之乾燥處理而進行鋰離子二次電池之電極製造的裝置。塗膜形成系統1包括間歇式塗覆裝置10、乾燥部70及搬送機構80。又，塗膜形成系統1包括管理系統整體之控制部90。

基材5係作為鋰離子二次電池之集電體而發揮功能之金屬箔。於藉由塗膜形成系統1製造鋰離子二次電池之正極之情形時，可使用例如鋁箔(Al)作為基材5。又，於藉由塗膜形成系統1製造負極之情形時，可使用例如銅箔(Cu)作為基材5。基材5為長條之片狀金屬箔，其寬度及厚度並無特別限定，例如可設為寬度600mm~700mm、厚度10μm~20μm。

長條之基材5藉由自捲出輥81送出並由捲取輥82捲取，而依序搬送至間歇式塗覆裝置10、乾燥部70。搬送機構80係包括該等捲出輥81、捲取輥82及複數之輔助輥83而構成。再者，輔助輥83之個數及配置位置並不限定於圖1之例，可視需要適當增減。

乾燥部70進行藉由間歇式塗覆裝置10而形成於基材5上之塗覆液之塗膜之乾燥處理。乾燥部70對由搬送機構80搬送之基材5進行加熱，藉此使溶劑自塗覆液蒸發而進行乾燥處理。乾燥部70亦可包括例如使塗覆液之塗膜緩緩升溫之預熱部、使塗膜升溫至特定溫度而進行主要之加熱之主乾燥部、將塗膜加熱至更高溫而去除膜中之應變或殘留應力之退火部、使加熱後之塗膜冷卻之冷卻部等。

<塗覆裝置>

圖2係表示本發明之間歇式塗覆裝置10之概略構成之圖。間歇式塗覆裝置10包括塗覆噴嘴11、貯存槽20、供給配管30、37及循環配管 40作為主要之元件。貯存槽20貯存作為鋰離子二次電池之電極材料之活性物質之溶液作為塗覆液。於藉由塗膜形成系統1製造正極之情形時，作為正極材料之塗覆液，例如貯存作為正極活性物質之鈷酸鋰(LiCoO₂)、作為導電助劑之碳(C)、作為黏合劑之聚偏二氟乙烯(PVDF)、作為溶劑之N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)之混合液。亦可代替鈷酸鋰而使用鎳酸鋰(LiNiO₂)、錳酸鋰(LiMn₂O₄)、磷酸鐵鋰(LiFePO₄)等作為正極活性物質。

另一方面，於藉由塗膜形成系統1製造負極之情形時，作為負極材料之塗覆液，例如將作為負極活性物質之石墨(graphite)、作為黏合劑之PVDF、作為溶劑之NMP之混合液貯存於貯存槽20。亦可代替石墨而使用硬碳、鈦酸鋰(Li₄Ti₅O₁₂)、矽合金、錫合金等作為負極活性物質。又，於正極材料及負極材料兩者中，可代替PVDF而使用苯乙烯-丁二烯橡膠(SBR)等作為黏合劑，可代替NMP而使用水(H₂O)等作為溶劑。進而，於使用SBR作為黏合劑、使用水作為溶劑之情形時，亦可併用羧甲基纖維素(CMC)作為增黏劑。該等正極材料及負極材料之塗覆液為分散有固體(微粒子)之漿料，其黏度均為1Pa．s(帕斯卡秒)以上，通常具有搖變性。

亦可於貯存槽20附設攪拌機及空氣加壓單元等。攪拌機攪拌貯存於貯存槽20之塗覆液而將濃度分佈均勻化。空氣加壓單元將高壓之空氣送入至貯存槽20內之氣相部分而將所貯存之塗覆液之液面加壓。

貯存槽20與塗覆噴嘴11係藉由供給配管30、37而連通連接。供給配管37朝向供給閥32供給貯存於貯存槽20之塗覆液。供給配管30朝向塗覆噴嘴11供給來自供給閥32之塗覆液。作為供給配管30、37，可使用不鏽鋼管或樹脂管(包含軟性配管，下同)。於供給配管37之路徑中途介插有泵31，於供給配管30之路徑中途介插有過濾器33及注射器36。又，自供給配管37之路徑中途分支而設置有循環配管40。循環配 管40之基端側係於較泵31更下游側(靠近塗覆噴嘴11之側)之位置連接於供給配管37，前端側係連接於貯存槽20。

泵31係設置於較循環配管40之連接部位更上游側(靠近貯存槽20之側)，且藉由控制部90予以控制，將貯存於貯存槽20之電極材料之塗覆液壓送至供給配管37。供給閥32藉由控制部90予以控制，重複開啟及關閉供給配管30之流路。藉此，重複切換塗覆液向塗覆噴嘴11之供給/停止。過濾器33係介插於供給閥32和供給配管30之路徑上之與循環配管40之連接部位之間，自於供給配管30中朝向塗覆噴嘴11流動之塗覆液中去除異物。注射器36係設置於供給閥32與塗覆噴嘴11之間。注射器36藉由控制部90而控制，於關閉供給閥32時自供給配管30抽入塗覆液。藉此，可迅速停止自塗覆噴嘴11噴出塗覆液。

塗覆噴嘴11係沿著基材5之寬度方向設置有狹縫狀之噴出口11a之狹縫噴嘴。塗覆噴嘴11係經由供給配管37、30而將所傳送之塗覆液自噴出口11a塗覆至於由支承輥12推壓支持之狀態下移行之基材5之表面。於塗覆噴嘴11設置有調整支承輥12與噴出口11a之間隔之噴嘴用移動機構51及規定姿勢之姿勢調整機構(省略圖示)。

自供給配管37之路徑中途分支而設置之循環配管40之前端側係連接於貯存槽20。與供給配管30、37同樣地，作為循環配管40，亦可使用不鏽鋼管或樹脂管。循環配管40使自貯存槽20送出並自供給配管30流入之塗覆液回流至貯存槽20。於循環配管40介插有循環閥41及過濾器43。循環閥41藉由控制部90而控制，開啟及關閉循環配管40之流路。過濾器43係設置於循環閥41與貯存槽20之間，自循環配管40中朝向貯存槽20流動之塗覆液中去除異物。

若關閉循環閥41並且打開供給閥32，則自貯存槽20送出之塗覆液遍及供給配管37、30之整體而流動，且供給至塗覆噴嘴11。

另一方面，若關閉供給閥32並且打開循環閥41，則自貯存槽20 送出之塗覆液流動至供給配管37之中途並流入至循環配管40，再次回流至貯存槽20。即，供給閥32係藉由重複切換自貯存器件送入之塗覆液經由供給配管30向塗覆噴嘴11之送出/停止，而作為使塗覆液自塗覆噴嘴11間歇地噴出之切換器件發揮功能。

又，伴隨供給閥32之關閉，注射器36自供給配管30抽吸塗覆液。藉此，噴出口11a之塗覆液被抽吸至供給閥32側，而抑制塗覆液之滴落。

供給閥32及循環閥41之開啟及關閉之時序係由控制部90適當地控制，藉由重複切換該開啟及關閉而於基材5之特定位置以特定寬度間歇地塗佈塗覆液。

又，於圖2之例示中，附設有壓力計35。壓力計35例如於與循環配管40之連接部位和泵31之間之位置設置於供給配管37。壓力計35所計測之測定值係輸出至控制部90。控制部90例如能以該壓力成為所需之值之方式控制泵31之驅動速度(旋轉速度)。

且說，於間歇式塗覆裝置中，如上所述，藉由對設置於供給配管30之基端之供給閥32進行開關控制而控制自設置於供給配管30之前端之塗覆噴嘴11之間歇式塗覆。又，於關閉供給閥32時，注射器36自供給配管30抽入塗覆液，藉此迅速停止自塗覆噴嘴11之噴出。

由此，供給配管30之配管長度會對間歇式塗覆之回應性造成影響。此處所謂之回應性係指供給閥32之開啟/關閉至塗覆液自塗覆噴嘴11之噴出/停止之時間上之回應性。配管長度越長，該回應性越低。更詳細地說明其原因，則為於供給配管30中流動之塗覆液包含微小氣泡，該微小氣泡發揮緩衝之作用，導致不易抽入會自塗覆噴嘴11滴落之塗覆液。而且，配管長度越長，包含越多微小氣泡，故而更不易抽入塗覆液。因此，於關閉供給閥32時，即便注射器36已抽入塗覆液，於配管長度較長之情形時塗覆液亦可能自塗覆噴嘴11滴落。因 此，回應性劣化。

又，伴隨設置於供給配管30之基端之供給閥32之開啟及關閉而產生的塗覆液之壓力變化傳遞至設置於供給配管30之前端之塗覆噴嘴11需耗費時間，該情況亦可作為回應性劣化之因素加以探討。就該觀點而言，亦為供給配管30越長則回應性越劣化。

而且，於間歇式塗覆裝置中，塗覆液自塗覆噴嘴11之噴出/停止之時序會對塗膜之形成位置及形狀造成影響，故而較理想為回應性較高。因此，於間歇式塗覆裝置中，供給閥32與塗覆噴嘴11之間之距離設定為較短。

如上所述，於間歇式塗覆裝置中供給閥32與塗覆噴嘴11之間之距離設定為較短，故而通常供給閥32與塗覆噴嘴11載置於同一基座。

圖3係表示間歇式塗覆裝置之一部分之一例之模式性立體圖。於圖3中，為便於看圖，而省略貯存槽20、泵31、過濾器33、43、壓力計35、注射器36及移動機構51、61。

雖有上述情況，但於本實施形態中，如圖3所示，供給閥32及塗覆噴嘴11分別載置於獨立個體之閥基座60及噴嘴基座50。噴嘴基座50與閥基座60相互隔開。

且說，由於供給閥32之開啟及關閉會伴隨機械性動作，故而供給閥32因重複之開啟及關閉動作而產生振動。該開啟及關閉之切換例如於1秒鐘進行數次以上，故而會產生數Hz以上之振動。

然而，於本實施形態中，載置供給閥32之閥基座60與載置塗覆噴嘴11之噴嘴基座50為獨立個體。因此，與將供給閥32及塗覆噴嘴11載置於同一基座之構造相比，可抑制自供給閥32經由基座向塗覆噴嘴11傳遞之振動。

假設塗覆噴嘴11振動，則會使關於塗覆膜(亦稱為塗膜)之形狀之精度降低，而於本實施形態中可抑制塗覆噴嘴11之振動，因此可抑制 該精度之降低。換言之，可降低為提高塗覆膜之形狀之精度而採用不易振動之閥作為供給閥32之必要性，而可採用更廉價之閥。

再者，如上所述，循環閥41於打開供給閥32時關閉，於關閉供給閥32時打開，故而循環閥41亦產生與供給閥32同樣之振動。因此，較理想為如圖3所示，循環閥41亦載置於與噴嘴基座50為獨立個體之基座。藉此，可抑制來自供給閥32及循環閥41之振動傳遞至塗覆噴嘴11。於圖3之例示中，供給閥32及循環閥41載置於同一閥基座60。

又，噴嘴基座50及閥基座60既可安裝於共用之基台，亦可分別安裝於獨立個體之基台。即便為前者，亦由於噴嘴基座50與基台為獨立個體，且閥基座60與基台為獨立個體，故而與其等為一體之情形相比，可抑制自供給閥32、或進而自循環閥41向塗覆噴嘴11傳遞之振動。

又，注射器36可設置於噴嘴基座50及閥基座60之任一者。就回應性之觀點而言，注射器36較理想為設置於塗覆噴嘴11附近，故而較理想為設置於噴嘴基座50。另一方面，由於利用注射器36進行之塗覆液之抽入亦伴隨著機械性動作，故而就抑制振動之觀點而言，注射器36亦可設置於閥基座60。

<移動機構>

如上所述，於塗覆噴嘴11設置有用以進行相對於支承輥12之位置調整之噴嘴用移動機構51(參照圖2)。作為噴嘴用移動機構51，例如可採用可雙軸移動且主動地受到控制之公知之移動機構。噴嘴用移動機構51係安裝於噴嘴基座50並使噴嘴基座50移動。藉此，相對於噴嘴基座50位置固定之塗覆噴嘴11亦會移動。例如藉由使塗覆噴嘴11遠離支承輥12而擴大其等之間之空間，進行塗覆噴嘴11之維護。

於間歇式塗覆裝置中，為提高回應性，必須較短地設定供給閥32與塗覆噴嘴之間之距離。即，較短地設定供給配管30之配管長度。 然而，為使得於供給閥32之位置被固定之狀態下可靈活地移動塗覆噴嘴11，而考慮將軟性配管作為供給配管30，但配管長度較短之軟性配管通常可撓性較低。因此，會縮小可用作供給配管30之配管之種類，導致成本增加。

圖4係表示間歇式塗覆裝置之一部分之一例之立體圖。於圖4中，與圖3同樣地為便於看圖而適當省略各構成。於本實施形態中，較理想為如圖1、4所例示般，設置有用以移動供給閥32之閥用移動機構61。閥用移動機構61例如安裝於閥基座60，且可移動閥基座60。藉此，相對於閥基座60位置固定之供給閥32亦可移動。

又，閥用移動機構61使供給閥32向與噴嘴用移動機構51之移動方向相同之方向移動。換言之，閥用移動機構61使供給閥32追隨塗覆噴嘴11之移動而移動。藉此，可一面抑制塗覆噴嘴11與供給閥32之相對位置之變動，一面使塗覆噴嘴11移動。因此，可抑制伴隨塗覆噴嘴11之移動而產生之供給配管30之彎曲應力。

由此，可採用例如形狀固定之配管(例如不鏽鋼之配管)作為供給配管30。又，即便為軟性配管，亦可採用配管長度較短而相對不易彎曲者。即，能增大可採用之配管之種類。

再者，例如於圖4之例示中，供給配管30彎曲成大致直角。於本間歇式塗覆裝置中，由於塗覆噴嘴11與供給閥32之間之距離較短，故而供給配管30必須以非常小之曲率半徑彎曲。如此要以較小之曲率半徑將軟性配管彎曲，對通常流通之軟性配管而言較難。由此，於此情形時，較理想為採用例如不鏽鋼等形狀固定之配管，且為預先製造成彎曲之形狀之配管。換言之，藉由使用閥用移動機構61，可採用形狀固定之配管作為供給配管30，藉此，與採用軟性配管之情形相比，可提高供給閥32及塗覆噴嘴11之設置自由度。

又，於本實施形態中供給閥32會移動，故而供給配管30之上游 側之元件(例如貯存槽20或泵31等)與供給閥32之位置關係會變動。由此，該元件與供給閥32之間之配管較理想為採用軟性配管。然而，於較供給閥32更上游側，就提高間歇式塗覆之回應性之觀點而言，限制配管之長度之必要性較小。因此，可將於較供給閥32更上游側所採用之軟性配管之長度設定為足夠長。由於可如此較長地設定初始狀態之配管長度，故而即便供給閥32移動，於該軟性配管產生之彎曲應力亦較小。因此，即便固定該元件之位置亦不會產生問題。

<閥用移動機構之具體例>

閥用移動機構61只要採用發揮追隨噴嘴用移動機構51之移動之追隨功能之任意移動機構即可。例如於噴嘴用移動機構51及閥用移動機構61為藉由控制部90而控制之公知之移動機構之情形時，閥用移動機構61之追隨功能亦可由控制部90實現。或者，亦可藉由使噴嘴用移動機構51與閥用移動機構61機械性地連動而實現閥用移動機構61。

然而，較理想為噴嘴用移動機構51使噴嘴基座50於水平方向移動，且閥用移動機構61可使供給閥32向任意之水平方向自由地移動。根據此種閥用移動機構51，塗覆噴嘴11之移動經由供給配管30而傳遞至供給閥32，藉此供給閥32向與塗覆噴嘴11之移動方向相同之方向移動。

作為閥用移動機構61，可採用輥構造。該輥構造具有特定之轉動體(例如球體等)，且該轉動體設置於閥基座60與基台63之間。又，該轉動體可旋轉地固定於閥基座60，藉由該轉動體轉動，閥基座60可相對於基台63向任意之水平方向自由地移動。再者，轉動體亦能夠可旋轉地固定於基台63。

若採用此種閥用移動機構61，則於進行間歇式塗覆時，供給閥32伴隨自身之開啟及關閉動作而於水平方向自由地移動。由此，伴隨供給閥32之開啟及關閉之振動能量作為供給閥32之水平運動而被消 耗，因此向供給配管30側傳遞之振動亦被抑制。且說，就抑制經由供給配管30傳遞振動之觀點而言亦可採用軟性配管，而此處由於如上所述般向供給配管30傳遞之振動被抑制，因此亦可採用剛性更高之例如由不鏽鋼等所形成之配管。

又，由於供給閥32於水平方向自由地移動，故而與供給閥32被固定之情形相比，亦可抑制自供給閥32向閥基座60側(以及基台63側)傳遞之振動。因此，可進一步減少振動經由基台63傳遞至塗覆噴嘴11。又，亦可添加將噴嘴基座50與閥基座60之間利用具有可撓性之支撐構件連結連接之構成。

又，可無需進行噴嘴用移動機構51與閥用移動機構61之位置對準。為更詳細地進行說明，例如考慮採用可單向地移動之移動機構作為噴嘴用移動機構51及閥用移動機構61。此時，為不使塗覆噴嘴11與供給閥32之相對位置變動地使塗覆噴嘴11移動，必須將噴嘴用移動機構51與閥用移動機構61精度良好地平行配置。然而，於圖4之例示中，閥用移動機構61可向任意之水平方向自由地移動。由此，即便不進行位置對準，只要使塗覆噴嘴11移動，該移動力便經由供給配管30傳遞至供給閥32，從而供給閥32向與塗覆噴嘴11相同之方向移動。由此，可提高安裝閥用移動機構61時之作業性。

再者，於圖4之例示中，設置有3個閥用移動機構61，且該3個閥用移動機構61分別於3個部位支持閥基座60。假設於4個以上之部位支持閥基座60，則閥基座60會因閥用移動機構61之高度之偏差而晃動，而此處係於3個部位予以支持，因此可避免該晃動。

又，閥用移動機構61並不限於輥構造，亦可具有可於水平方向橫向滑動之一對板構件。例如藉由使一對板構件之接合面以較低之摩擦係數接觸，而使一對板構件可相對地橫向滑動。該板構件之一者固定於閥基座60之下表面，另一者固定於基台63之上表面。藉此，閥基 座60可相對於基台63向任意之水平方向自由地移動。

然而，若採用輥構造，則轉動體與閥基座60或基台63之接觸面積較小，因此其等不易磨耗。由此，壽命相對較長。

<振動抑制構件>

亦可設置抑制自供給閥32向塗覆噴嘴11傳遞振動之振動抑制構件。例如作為振動抑制構件64，可使用由橡膠、凝膠狀素材、或發泡苯乙烯等形成並吸收振動之構件。圖5係簡略地表示支持供給閥32之部分之概略構成之圖。於圖5之例示中，振動抑制構件64具有板狀之形狀，介插於供給閥32與閥基座60之間。藉此，可抑制振動自供給閥32傳遞至閥基座60，而可進一步抑制自供給閥32向塗覆噴嘴11傳遞振動。或者，振動抑制構件亦可設置於閥基座60與基台63之間(閥基座60與閥用移動機構61之間、或閥用移動機構61與基台63之間)。藉此，亦可抑制振動。

再者，圖4、5所示之可向任意之水平方向自由地移動之閥用移動機構61由於抑制振動傳遞，故而亦可理解成振動抑制構件之1種。

又，於圖4之例示中，供給配管30由複數之配管構成。於該等配管之接頭亦可介插有例如由橡膠、凝膠狀素材、或發泡苯乙烯等形成並吸收振動之振動抑制構件。藉此，可抑制供給閥32之振動經由供給配管30傳遞至塗覆噴嘴11。

又，配管中之過濾器之設置位置並不限定於上述實施形態之例，亦可為供給配管30之路徑上之循環配管40之連接部位與泵31之間、或供給閥32與塗覆噴嘴11之間。進而，過濾器並非必需元件，亦可不設置。

又，塗覆噴嘴11並不限定於具有1條狹縫狀之噴出口11a之狹縫噴嘴，可為具有複數條狹縫者，亦可為自大致圓形之噴出口噴出塗佈液之噴嘴。

又，成為使用本發明之技術進行塗覆處理之對象之塗覆液並不限定於鋰離子二次電池之電極材料，例如亦可為太陽電池材料(電極材料、密封材料)之塗覆液或電子材料之絕緣膜或保護膜之塗覆液、包含燃料電池用之觸媒之塗覆液。於將黏度相對較高之塗覆液塗覆於基材時，可較佳地應用本發明之技術。由此，於塗佈顏料或接著劑之塗覆液時，亦可使用本發明之技術。

11‧‧‧塗覆噴嘴

12‧‧‧支承輥

30‧‧‧供給配管

32‧‧‧切換器件(供給閥)

37‧‧‧供給配管

40‧‧‧循環配管

41‧‧‧循環閥

50‧‧‧噴嘴基座

60‧‧‧切換器件基座(閥基座)

Claims (5)

1. 一種間歇式塗覆裝置，其特徵在於：其係將塗覆液自噴嘴朝向基材間歇地塗覆者，且包括：噴嘴；供給配管，其連接於上述噴嘴，且塗覆液朝向上述噴嘴流動；切換器件，其藉由重複切換上述供給配管之開啟及關閉，而使上述塗覆液自上述噴嘴朝向上述基材間歇地噴出；噴嘴基座，其載置上述噴嘴；及切換器件基座，其與上述噴嘴基座為獨立個體，且載置上述切換器件。
2. 如請求項1之間歇式塗覆裝置，其進而包括：噴嘴移動器件，其使上述噴嘴基座移動而調整上述噴嘴相對於上述基材之位置；及切換移動器件，其使上述切換器件向與上述噴嘴基座藉由上述噴嘴移動器件而移動之方向相同之方向移動。
3. 如請求項2之間歇式塗覆裝置，其中上述噴嘴移動器件使上述噴嘴基座於水平方向移動，上述切換移動器件可使上述切換器件向任意之水平方向自由地移動，藉由經由上述供給配管而傳遞上述噴嘴之移動，而使上述切換器件向與上述移動方向相同之方向移動。
4. 如請求項1至3中任一項之間歇式塗覆裝置，其進而包括振動抑制器件，該振動抑制器件設置於上述切換器件基座，抑制自上述切換器件向上述噴嘴傳遞振動。
5. 一種塗膜形成系統，其特徵在於包括： 如請求項1至3中任一項之間歇式塗覆裝置；乾燥器件，其對藉由上述間歇式塗覆裝置而塗佈有上述塗覆液之上述基材進行加熱處理而使上述塗覆液乾燥；及搬送器件，其將上述基材依序搬送至上述間歇式塗覆裝置及上述乾燥器件。