TW201413930A - 有機發光顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明關於一種有機發光顯示裝置，其能夠有效地防止在具有一內嵌式觸控電極陣列的結構中濕氣的滲透，與靠近觸控焊墊部分的死區與觸控焊墊之間的密封劑相接觸的第二緩衝層之最頂層係為一無機膜。

Description

有機發光顯示裝置
本發明係關於一種有機發光顯示裝置，並且特別地，本發明關於一種有機發光顯示裝置，其能夠有效地防止濕氣滲透入具有一內嵌式觸控電極陣列之一結構中。
平板顯示裝置之實例包含液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display,LCD)、有機發光顯示裝置(Organic Light Emitting Display,OLED)、電漿顯示面板(Plasma Display Panel,PDP)、量子點面板(Quantum Dot Panel,PDP)、場發射顯示裝置(Field Emission Display,FED)、電泳顯示裝置(EPD)等。這些顯示裝置包含實現一影像中共同為必要元件的一平面顯示面板。如此之一平面顯示面板具有彼此相接合的一對透明絕緣基板，以藉由這兩個基板之間容納有一固有發光或極化材料或其他光學材料的層使得這兩個基板彼此面對。
根據朝向大尺寸顯示裝置發展的近期趨勢，對佔據更小空間的平板顯示裝置之需求逐漸增加。在這些平板顯示裝置中，有機發光顯示技術正在迅速地發展。
有機發光顯示裝置不需要任何單獨的光源且包含在每一畫素中自發光的一有機發光二極體，用以實現顯示。這些有機發光顯示裝置由於具有不需要光源以及將光源與一顯示面板組裝的結構之優點，由此具有減少厚度及重量的優點，因此作為下一代顯示裝置引起大量的關注。
當電荷注入至一電子注入電極(陰極)與一電洞注入電極(陽極)之間形成的一有機膜中時，電子與電洞成對且然後這些對分解。此時，一有機發光二極體發光。
同時，除一有機發光顯示裝置之外具有對一觸控式螢幕的不斷增加之需求，此觸控式螢幕之中感測透過手或單獨輸入元件觸控的一位置且響應於此傳送資訊。如此之一觸控式螢幕透過貼附於此顯示裝置之外表面應用。
根據觸控感測方法，一觸控式螢幕劃分為電阻、電容以及紅外感測型。考慮到便於製造、感測力等，電容型觸控式螢幕在小模式中受到大量的關注。
以下，將結合所附之圖式描述習知技術之一觸控式螢幕整合的有機發光顯示裝置。
「第1圖」係為習知技術之一觸控式螢幕有機發光顯示裝置之剖視圖。
如「第1圖」所示，習知技術之觸控式螢幕整合的有機發光顯示裝置包含：自底部按照以下順序層疊的一有機發光顯示面板1，一觸控式螢幕2以及一覆蓋窗3，並且包含位於各層之間的第一及第二黏合層15及25。
這裡，有機發光顯示面板1包含一基板，具有位於基板上的一矩陣形式的一薄膜電晶體陣列，以及連接至此薄膜電晶體陣列的每一薄膜電晶體的一有機發光二極體，並且包含覆蓋此有機發光二極體的一保護層以及一極化層。此種情況下，第一黏合層15對應於有機發光顯示面板1的此極化層。而且，第二黏合層25形 成於觸控式螢幕2與覆蓋窗3之間以將觸控式螢幕2黏附至覆蓋窗3。
習知技術之觸控式螢幕整合的有機發光顯示裝置具有以下缺點。
第一，在一有機發光顯示面板與一觸控式螢幕獨立形成且然後觸控式螢幕附加至有機發光顯示面板之情況下，有機發光顯示面板與觸控式螢幕需要單獨的玻璃，由此導致硬度及厚度的增加，這樣使得不可能實現薄型及可撓性有機發光顯示裝置。
第二，有機發光顯示面板與觸控式螢幕具有不同的面板形狀，由此使得用於形成這些元件的過程複雜且因此降低產量及價格的競爭性。
第三，提供一極化板用以防止此有機發光顯示面板的外部光線之識別。此極化板具有大約150微米或更多之一厚度，昂貴且產生透射率的一劣降。因此，由於極化板當用於顯示裝置時劣降可撓性且昂貴，因此需要能夠防止可見性劣降的其他替代物。
因此，鑒於上述問題，本發明關於一種有機發光顯示裝置。藉以克服由於習知技術之限制及缺點所帶來的一個或多個問題。
本發明之一目的在於提供一種有機發光顯示裝置，能夠有效地防止在具有一內嵌式觸控電極陣列的結構中濕氣的滲透。
本發明其他的優點、目的和特徵將在如下的說明書中部分地加以闡述，並且本發明其他的優點、目的和特徵對於本領域的普通技術人員來說，可以透過本發明如下的說明得以部分地理解或 者可以從本發明的實踐中得出。本發明的目的和其他優點可以透過本發明所記載的說明書和申請專利範圍中特別指明的結構並結合圖式部份，得以實現和獲得。
為了獲得本發明的這些目的和其他特徵，現對本發明作具體化和概括性的描述，本發明的一種有機發光顯示裝置，分別在一第一緩衝層與一第二緩衝層上包含一電晶體-有機發光二極體陣列以及一觸控電極陣列，第一緩衝層與第二緩衝層具有一活性區以及一死區且彼此面對，此種有機發光顯示裝置包含：一觸控焊墊部分，形成於第二緩衝層之死區的一部分中；複數個觸控焊墊，在觸控焊墊部分中彼此相間隔；一空焊墊部分，形成於第一緩衝層的死區中，空焊墊部分包含分別對應於這些觸控焊墊的複數個空焊墊；以及一密封劑，包含觸控焊墊部分與空焊墊部分之間的複數個導電球，其中與靠近觸控焊墊部分的死區與觸控焊墊之間的密封劑相接觸的第二緩衝層之最頂層係為一無機膜。
其中每一觸控焊墊可包含形成於第二緩衝層上的一金屬層，一透明導電圖案以及位於金屬層與透明導電圖案之間的一層間絕緣膜，此層間絕緣膜用於將金屬層與透明導電圖案相接觸。
其中與密封劑的此邊緣相接觸的第二緩衝層的最頂層可為氮化矽(SiNx)或氧化矽(SiOx)。
其中與密封劑的邊緣相接觸的第二緩衝層的最頂層可為一透明導電膜。
透明導電膜可直接形成於第二緩衝層上。
其中與密封劑的邊緣相接觸的第二緩衝層的最頂層可為第二 緩衝層。
此層間絕緣膜可包含氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiOx)以及聚亞醯胺的至少一個。
觸控焊墊的層間絕緣膜之一側壁可覆蓋有氮化矽(SiNx)或氧化矽(SiOx)。
觸控焊墊的層間絕緣膜可為一有機絕緣膜。
觸控焊墊的透明導電圖案可為與透明導電膜相同之層。
此透明導電圖案在觸控焊墊之間可相間隔且相分離。
此透明導電圖案可包含一雙層透明導電膜材料。
雙層透明導電膜材料之一第一層可為與組成觸控電極陣列且彼此交叉的第一及第二電極相同，並且雙層透明導電膜材料之一第二層與覆蓋第一及第二電極的共同電極圖案相同。
可以理解的是，如上所述的本發明之概括說明和隨後所述的本發明之詳細說明均是具有代表性和解釋性的說明，並且是為了進一步揭示本發明之申請專利範圍。
以下，將結合圖式部份對本發明的較佳實施例作詳細說明。其中在這些圖式部份中所使用的相同的參考標號代表相同或同類部件。
下文中，降結合附圖詳細描述一有機發光顯示裝置及其製造方法。
近年來，具有對有機發光顯示裝置的觸控感測以及薄型及可撓性的不斷增加的需要。響應於此，提出一種方法：一薄膜電晶 體與一有機發光陣列形成於一第一基板上，一觸控電極陣列形成於一第二基板上，這些基板相接合在一起，以及透過雷射照射或蝕刻去除該硬且厚的第一及第二基板以實現薄膜及可撓性。此種情況下，該觸控電極陣列的一焊墊部分與該有機發光陣列的一焊墊部分面對，並且這些焊墊部分藉由一導電球彼此相連接，由此使得訊號傳送至該觸控電極陣列且自該觸控電極陣列偵測訊號。
以下，將描述其中一觸控電極陣列提供於一覆蓋玻璃內部的一內嵌式有機發光顯示裝置。
「第2圖」係為根據本發明之一有機發光顯示裝置之平面圖。「第3圖」係為沿「第2圖」之I-I’線之剖視圖。
如「第2圖」及「第3圖」所示，根據本發明之有機發光顯示裝置具有一結構：其中分別形成於一薄膜基板1000之內部及一覆蓋玻璃3000之內部，並且具有不同尺寸的一有機發光陣列150與一觸控電極陣列230藉由一黏合層400彼此相接合。
而且，根據本發明之有機發光顯示裝置，這些陣列不直接形成於薄膜基板1000或覆蓋玻璃3000上，並且透過獨立地準備分別由玻璃製造的第一及第二基板(兩者，圖未示)，藉由位於有機發光陣列150與觸控電極陣列230之間的一黏合層接合這兩個基板(也就是說，執行該接合過程的同時保持第一及第二基板)，以及透過雷射照射或蝕刻去除該第一及第二基板以實現薄膜及可撓性獲得。此種情況下，如「第2圖」所示，去除由玻璃材料形成的該第一及第二基板且薄膜基板1000與覆蓋玻璃3000分別黏附至暴露的陣列之底部，用以保護這些陣列。
這裡，一薄膜黏合層1100、一第一抗蝕刻層120、一第一緩衝層130以及一薄膜電晶體陣列140與一有機發光陣列150按照該順序形成於薄膜基板1000上且一保護層160形成為覆蓋有機發光陣列150。一第二抗蝕刻層210、一第二緩衝層220以及一觸控電極陣列230位於覆蓋玻璃3000上。這裡，觸控電極陣列230與有機發光陣列150面對。此種情況下，保護層160直接與黏合層400之底部相接觸且觸控電極陣列230直接與黏合層400之頂部相接觸。
一活性區A/A與一死區分別定義於第一緩衝層130及第二緩衝層220中，並且觸控電極陣列230、有機發光陣列150以及薄膜電晶體陣列140中存在的除一焊墊部分之外的薄膜電晶體形成於該活性區中。而且，觸控焊墊部分2350與該薄膜電晶體陣列的焊墊部分定義於該死區的部分區域中。
這裡，第一抗蝕刻層120與第二抗蝕刻層210功能上用以防止在雷射照射或蝕刻期間對除第一及第二基板的玻璃材料之外，對一內部陣列的損傷。如果按照期望，位於其下的第一及第二緩衝層130及220在第一及第二基板的去除期間不受到損傷，則可省去第一與/或第二抗蝕刻層120及210。
而且，第一緩衝層130與第二緩衝層220可透過順次層疊該相同類型的無機膜例如一氧化膜(SiO2)或氮化膜(SiNx)，或者可選擇地層疊不同類型的無機膜形成。第一及第二緩衝層130及220用作防止在第二基板接合至第一基板之後，濕氣或外部空氣滲入至有機發光陣列150中的屏障。
而且，觸控焊墊部分2350與觸控電極陣列230之兩者形成於第二緩衝層220之相同表面上。
當該頂基板與該底基板藉由黏合層400彼此相接合時，觸控電極焊墊部分2350藉由包含一導電球455的一密封劑450連接至薄膜電晶體陣列140之該焊墊部分。黏合層400功能上用以防止濕氣之滲透且與覆蓋有機發光陣列150的保護層160直接相接觸，由此，除了保護層160的功能之外，防止外部空氣且更確定地防止濕氣滲透至有機發光陣列150中。
這裡，包含該焊墊部分的薄膜電晶體陣列140具有自觸控電極陣列230突出的一側面。該結構目的在於在該突出部分提供一積體電路(IC)500，積體電路(IC)500傳送一訊號用以同時驅動觸控電極陣列及薄膜電晶體陣列，以及有機發光陣列。雖然圖未示，積體電路(IC)500通過在積體電路(IC)500與第一緩衝層130上形成的線(圖未示)連接至該薄膜電晶體陣列的驅動焊墊及空焊墊(dummy pad)。而且，積體電路(IC)500結合且連接至一可撓性印刷電路板(FPCB，圖未示)且可透過在該可撓性印刷電路板(FPCB)中提供的一控制器(圖未示)控制。該空焊墊(dummy pad)在與除該活性區之外該死區中的觸控焊墊部分相對應的一區域中，形成於與組成一閘極或資料線的一金屬相同之層中。
觸控電極焊墊部分2350形成於第二緩衝層220上且形成於相鄰第一緩衝層130多於第二緩衝層220突出的部分的該側面的兩個邊緣。而且，形成於一個邊緣的觸控電極焊墊部分2350劃分為 複數個墊電極以能夠實現該觸控電極陣列中的一X軸方向上排列的第一電極的電壓應用及檢測，並且形成於另一個邊緣的觸控電極焊墊部分2350劃分為複數個墊電極以能夠實現在一Y軸方向上排列的第二電極的電壓應用及檢測。
連接至觸控電極焊墊部分2350的導電球455與由薄膜電晶體陣列140形成的一空電極(dummy electrode)(圖未示)電連接。
這裡，在一實際過程期間，黏合層400與密封劑450透過應用於不同的區域分別形成。
同時，與密封劑450的該邊緣相接觸的第二緩衝層220的該最頂層由一無機膜形成。該最頂層作為一屏障，用以防止透過外部濕氣或空氣藉由密封劑450的擴散引起的觸控電極與空電極之間的接觸特性的劣化。
同時，如「第2圖」所示，根據本發明之有機發光顯示裝置包含：一薄膜基板1000；一第一抗蝕刻層120及一第一緩衝層130，按照該順序形成於薄膜基板1000上；一薄膜電晶體陣列140，在每一畫素中具有一薄膜電晶體且在第一緩衝層130上定義為一矩陣形式；與每一畫素的薄膜電晶體相連接的一有機發光陣列150；一保護層160，覆蓋除該焊墊部分之外的薄膜電晶體陣列140及有機發光陣列150；一觸控電極陣列230，藉由保護層160與觸控電極陣列230之間的一黏合層400黏附至該保護層上；以及一第二緩衝層220及一第二抗蝕刻層210，按照該順序形成於觸控電極陣列230上，並且包含位於第二抗蝕刻層210上的一覆蓋玻璃3000。
這裡，覆蓋玻璃3000可藉由第二抗蝕刻層210與覆蓋玻璃3000之間的一黏合層黏附至第二抗蝕刻層210，或者可透過一機械方法或另一方法配置於第二抗蝕刻層210上。覆蓋玻璃3000防止來自一使用者的直接觸控對內部陣列的損傷且由此保護該內部陣列。
根據本發明之有機發光顯示裝置透過省去具有該顯示裝置中最大元件厚度的大約0.7 mm厚度的一玻璃基板能夠減少厚度，並且將薄膜基板1000用作功能上支撐薄膜電晶體陣列140、有機發光陣列150以及觸控電極陣列230的一塑料絕緣膜，能夠實現可彎曲或可撓性顯示裝置。
此外，在形成陣列，例如在該薄膜基板上的薄膜電晶體陣列140、有機發光陣列150以及觸控電極陣列230的過程中，該薄膜基板透過作用於用於沉積及圖案化這些陣列的設備的熱而熱膨脹，因此不可能形成正常的處理。為了防止該現象，大致上，在形成薄膜電晶體陣列140及觸控電極陣列230之前，透過在該玻璃基板上分別在薄膜電晶體陣列140及觸控電極陣列230之下形成第一及第二抗蝕刻層120及210與第一及第二緩衝層130及220，並且然後將該玻璃基板裝載於用於沉積及圖案化的設備中，執行這些陣列的形成。
同時，薄膜電晶體陣列140包含彼此相交叉的複數個閘極線與複數個資料線以定義畫素，並且薄膜電晶體形成於閘極線與資料線之間的各交叉部分。薄膜電晶體陣列140的一焊墊部分透過在形成閘極線及資料線的過程中獲得。
而且，有機發光陣列150包含至少在畫素中形成的一第一電極、形成於一頂層中與第一電極相間隔的一第二電極、以及形成於第一電極與第二電極之間的一有機發光層。這裡，第一電極可與該薄膜電晶體的一汲極相連接。
此外，第一抗蝕刻層120與第二抗蝕刻層210可例如由聚亞醯胺或光丙烯(photo-acryl)形成。
第一及第二抗蝕刻層120及210具有大約1 μm至大約20 μm之一厚度。
而且，第一緩衝層130與第二緩衝層220功能上以防止氧氣或濕氣滲透至該有機發光陣列中提供的有機膜中，並且用作防止外部空氣或濕氣自一底部滲透的屏障。
第一緩衝層130與第二緩衝層220包含複數個無機膜。舉例而言，這些無機膜可透過連續或相交替地層疊SiNx或SiO2形成。能夠從實驗中了解，當兩個或更多的層層疊至大約5000 Å至6500 Å的一厚度作為第一及第二緩衝層130及220時，能夠防止外部空氣或濕氣的滲透。第一及第二緩衝層130及220的一總厚度係為1 μm或更少，這不增加觸控式螢幕整合的顯示裝置之該厚度。
同時，「第4圖」係為一參考實施例中濕氣滲透至一有機發光顯示裝置之焊墊部分中之剖視圖。
也就是說，能夠自「第4圖」中所示的該參考實施例看出，當與密封劑450直接相接觸的第二層間絕緣膜64由一有機絕緣材料例如光丙烯(PA)形成時，濕氣或外部空氣自暴露的第二層間絕緣膜64之側面擴散且可直接影響導電球4550，或者第一層間絕 緣膜62在該觸控焊墊的側面位於金屬層61與透明導電層63及65之間。因此，外部濕氣產生該觸控焊墊與接觸球之間的接觸特性的劣化且可產生在具有連接至活性區的第一層間絕緣膜62或第二層間絕緣膜64的一結構中之該處理電極陣列的內部特性之劣化。
根據本發明之有機發光顯示裝置考慮這些問題設計，並且特別地，使用在一高溫或一高濕下的可靠材料，透過形成一無機膜作為與該密封劑之該邊緣直接接觸的該第二緩衝層的該最頂層之元件，防止濕氣滲透至該密封劑之該邊緣中。
下文中，將詳細描述該觸控電極陣列之一結構。
「第5圖」係為本發明之第一實施例之平面圖。「第6圖」係為沿「第5圖」之II-II’線之剖視圖。「第7圖」係為沿「第5圖」之III-III’線之剖視圖。
下文中，平面圖係為「第2圖」之區域「A」之擴展圖。
如「第5圖」至「第7圖」所示，將描述根據本發明第一實施例之第二緩衝層220之一結構。
如「第5圖」所示，第二緩衝層220包含一活性區，以及該活性區之外的一死區，其中在活性區，一第一電極2331與一第二電極2332彼此相交叉感測觸控。
這裡，具有複數個彼此相間隔的觸控焊墊2351b的一觸控焊墊部分定義於第二緩衝層220的該死區的一部分中。如「第2圖」所示，觸控焊墊部分2350位於第二緩衝層220之兩個邊緣。
而且，在該死區中，第一電極2331與第二電極2332的端部通過路徑線231b及231c連接至觸控焊墊2351b。
當自「第5圖」至「第7圖」觀察該觸控焊墊及其一周圍區域時，該觸控焊墊包含：位於第二緩衝層220上的一金屬層231m(與一金屬橋為相同之層)、包含一接觸孔的一第一層間絕緣膜232、藉由第一層間絕緣膜232上的該接觸孔與金屬層231m相接觸的一第一透明導電膜233、位於第一透明導電膜233上的一第二層間絕緣膜234、以及位於第二層間絕緣膜234上的一共同電極圖案2335。
此外，一第三層間絕緣膜236形成為包圍該暴露的第二緩衝層220之頂部及該觸控焊墊之側壁。
這裡，第三層間絕緣膜236係由一無機材料例如SiO2或SiNx形成且與密封劑450的該邊緣直接相接觸以防止外部空氣或濕氣滲透至該觸控焊墊中。
這裡，金屬層231m係為與該活性區的金屬橋231相同之層，並且第一透明導電膜233係為與在該活性區中的彼此交叉的第一及第二電極2331及2332相同之層。同時，未描述的參考標號「2332c」存在於在一水平方向上間隔的第一電極2331之間，作為與在一縱向上的第二電極2332相結合的一連接圖案。金屬橋231跨過第二電極連接圖案2332c連接空間上相鄰的第一電極2331。
同時，第一層間絕緣膜232不僅形成於該觸控焊墊的金屬層231m與第一透明導電膜233的該層之間，而且形成於金屬橋231與第一電極2331與第二電極2332以及第二電極連接圖案2332c之間除連接部分之外的層之間。這裡，第一層間絕緣膜232具有 位於相鄰的第一電極2331之間的接觸孔232a以與金屬橋231相接觸。
此外，第二層間絕緣膜234位於第一電極2331及第二電極2332與共同電極2335之間。這裡，共同電極2335係為不與該焊墊相連接的一浮置圖案，其中該浮置圖案功能上遮蔽該薄膜電晶體陣列或朝向相同的該有機發光二極體的驅動。
此外，第三層間絕緣膜236可形成於該活性區的全部表面上，並且可形成於位於觸控焊墊與剩餘的死區之間的區域之全部表面上。
而且，密封劑450中存在的導電球455連接至第二透明導電膜235，第二透明導電膜235位於彼此連續地連接且彼此相接觸的第一及第二透明導電膜233及235之頂部。
在此，共同電極2335與第二透明導電膜235可省去。此種情況下，第二層間絕緣膜234用作存在於觸控焊墊之間且執行防止濕氣在密封劑450的該邊緣滲透的一功能的一無機絕緣膜。
「第8圖」係為本發明之第二實施例之平面圖。「第9圖」係為沿「第8圖」之IV-IV’線之剖視圖。
如「第8圖」及「第9圖」所示，本發明第二實施例的有機發光顯示裝置之該第二緩衝層具有的與第一實施例相同之結構為，第三層間絕緣膜形成於觸控焊墊及其周圍之中(第三層間絕緣膜不形成於該活性區中)。
此種情況下，由於密封劑450的該邊緣與由一無機膜材料形成的第三層間絕緣膜236直接相接觸，因此能夠用作抵抗外來物 例如濕氣的該無機膜存在於密封劑450的該邊緣，並且由此甚至在高溫及高濕，或者高溫的條件下透過將該觸控焊墊暴露一長時間執行環境可靠性測試之後該觸控焊墊的接觸特性能夠穩定地維持。
本發明以下的實施例建議出抵抗濕氣或外部空氣而不添加一單獨遮罩的結構。
「第10圖」係為本發明之第三實施例之平面圖。「第11圖」係為沿「第10圖」之V-V’線之剖視圖。
如「第10圖」及「第11圖」所示，在本發明之第三實施例中，該觸控焊墊的頂層對應於第一及第二透明導電膜233及235且與密封劑450的該邊緣相接觸的第二緩衝層220的最頂層對應於第一及第二透明導電膜233及235。此種情況下，觸控焊墊部分2350中的複數個觸控焊墊2351b通過相間隔的第一及第二透明導電膜233及235相隔離，透明導電膜233A及235A形成於觸控焊墊部分2350外部的該死區中，並且與密封劑450相接觸的表面與該暴露的死區之表面對應於在除這些觸控焊墊之外的區域中的透明導電膜，由此防止濕氣或外部空氣在該觸控焊墊的該層間絕緣膜上的影響。
這裡，路徑線231b覆蓋有第一及第二透明導電膜233及235。路徑線231b與第一及第二透明導電膜233及235如「第10圖」之區域「B」所示。結果，第一及第二透明導電膜233及235防止路徑線231b的氧化。這裡，第一及第二透明導電膜233及235的寬度大於路徑線231b的寬度，並且第一及第二透明導電膜233及 235形成於各路徑線231b及231c中以防止短路。
在如此之一結構中，第二緩衝層220的最頂層對應於第二透明導電膜235，由此使得不添加任何遮罩能夠形成該結構。
而且，在此種情況下，由於這些觸控焊墊之間的層間絕緣膜的該側壁覆蓋有第一及第二透明導電膜233及235，因此密封劑450不與由一有機絕緣材料製成的該層間絕緣膜直接相接觸且因此對第一及第二層間絕緣膜232及234的材料沒有限制。也就是說，層間絕緣膜的材料不限制於具有一低介電常數的一無機絕緣材料，雖然使用易受到濕氣影響的光丙烯或具有低透明度的一材料，但是第一及第二透明導電膜233及235能夠防止外部空氣或濕氣的滲透。
觸控焊墊的其他結構與本發明之第一實施例相同且因此省去對其的一詳細描述。
「第12圖」係為本發明之第四實施例之平面圖。「第13圖」係為沿「第12圖」之VI-VI’線之剖視圖。
如「第12圖」及「第13圖」所示，在本發明之第四實施例中，該透明導電膜僅保留於該觸控焊墊部分及路徑線部分中，並且第二緩衝層220暴露於其餘的死區中。
此種情況下，路徑線部分與觸控焊墊的結構與本發明之第三實施例中描述的相同且因此省去對其的一詳細描述。
「第14圖」係為本發明之第五實施例之平面圖。「第15圖」係為沿「第14圖」之VII-VII’線之剖視圖。
如「第14圖」及「第15圖」所示，在本發明之第五實施例 中，聚亞醯胺(PI)或具有低透明度，但是防濕氣的一無機絕緣膜材料例如SiNx或SiOx用作位於金屬層231m與第一透明導電層233之間的第一層間絕緣膜232之一材料。而且，該絕緣膜或透明導電膜在觸控焊墊部分2350的觸控焊墊2351b之間去除。此種情況下，雖然該無機絕緣膜或聚亞醯胺成分保留，但是由防濕氣或外部空氣的一材料製成的第一層間絕緣膜232僅保留於該密封劑的該側壁，由此能夠實現一可靠性結構。
此種情況下，第一及第二層間絕緣膜232及234保留於除該觸控焊墊部分及該路徑線部分之外的兩者的死區中且第一層間絕緣膜232之材料與該觸控焊墊部分的材料相同，並且第二層間絕緣膜234可任意確定。
如果需要，第一及第二層間絕緣膜232及234可保留於除該觸控焊墊之外的該死區中。
對第一至第五實施例以及「第4圖」中所示的比較實施例的結構進行以下的環境可靠性測試。
首先，在高溫及高濕環境下，「第4圖」之參考實施例具有的透過在測試前正常通道數目對測試後異常通道數目之一比例定義的一缺陷百分率為大約53%至大約96%，並且一平均缺陷百分率為大約75%。
此外，在高溫的條件下，「第4圖」之參考實施例具有的透過在測試前正常通道數目對測試後異常通道數目之一比例定義的一缺陷百分率為大約16%至大約62%，並且一平均缺陷百分率為大約33.8%。
在其他測試中，當暴露於熱衝擊時，「第4圖」之參考實施例具有的透過在測試前正常通道數目對測試後異常通道數目之一比例定義的一缺陷百分率為大約42%至大約81%，並且一平均缺陷百分率為大約57.4%。
另一方面，在根據本發明第一實施例的高溫測試條件下，「第4圖」之參考實施例具有的透過在測試前正常通道數目對測試後異常通道數目之一比例定義的一缺陷百分率為大約0%至大約5%，並且一平均缺陷百分率為大約3%。
此外，在高溫及高濕度的條件下，第一至第三實施例具有的透過在測試前正常通道數目對測試後異常通道數目之一比例定義的一缺陷百分率為大約5%或更低，並且一平均缺陷百分率為大約3%或更低。
也就是說，根據本發明之有機發光顯示裝置使用一無機膜作為該密封劑之該邊緣的一材料，由此雖然該顯示裝置長時間地驅動，可防止在高溫及高濕度條件下外部濕氣的滲透且維持該觸控焊墊的接觸特性。
也就是說，根據本發明之有機發光顯示裝置能夠提高第二緩衝層的觸控焊墊與第一緩衝層的空焊墊部分之間的接觸特性且甚至在例如環境可靠測試的壓力條件下能夠維持良好的接觸特性。
為此目的，第二緩衝層上形成的該層間絕緣膜之一材料不限制於具有2微米(um)或更大的一預定厚度的一有機絕緣膜，一無機絕緣膜或一無機膜例如一透明導電膜保留於該死區中及觸控焊墊部分之間，用以防止濕氣及外部空氣之影響。也就是說，雖 然一有機絕緣膜保持為該觸控焊墊的該底絕緣膜，但是能夠透過使用一無機膜作為在該密封劑的該邊緣與外部空氣直接接觸的一材料，設計防止外部濕氣滲透的一結構。由於該等層間絕緣膜的一個可用作該無機膜，因此該一個層間絕緣膜可應用於本發明具有提高的環境可靠性而不增加遮罩的數目之結構中。
由上述明顯可知，根據本發明之有機發光顯示裝置具有以下優點。
首先，包含一內嵌式觸控電極陣列的該有機發光顯示裝置具有一結構，該結構中一觸控電極圖案及驅動該觸控電極圖案的一觸控焊墊形成於一覆蓋玻璃之內部。因此，執行將該觸控焊墊連接至薄膜電晶體陣列的可撓性印刷電路板(FPCB)，以及面對該觸控焊墊的有機發光陣列的該焊墊部分。此種情況下，使用包含一導電球的一密封劑，執行該觸控焊墊，以及該薄膜電晶體陣列與和該觸控焊墊面對的該有機發光陣列之焊墊之間的接觸。根據本發明，與該密封劑的該邊緣相接觸的具有觸控電極陣列的第二緩衝層的最頂層保持為一無機膜，並且在執行抵抗高溫及高濕之特定條件的環境可靠性測試之後，接觸特性能夠有效地維持。
其次，如此一無機膜使用一層間絕緣膜以及用作形成該觸控電極的一透明導電膜形成而不增加任何過程，由此使得不需要添加一遮罩能夠形成具有一提高可靠性的結構。
第三，在該密封劑的該邊緣的最頂層，以及觸控焊墊之間的該側壁覆蓋有一無機膜，由此防止暴露易受到高溫影響的一保護膜且最優化可靠性的提高。
本領域之技術人員應當意識到在不脫離本發明所附之申請專利範圍所揭示之本發明之精神和範圍的情況下，所作之更動與潤飾，均屬本發明之專利保護範圍之內。因此，本發明覆蓋在所附之申請專利範圍及其等價範圍內的變化及修改。
1‧‧‧有機發光顯示面板
2‧‧‧觸控式螢幕
3‧‧‧覆蓋窗
15‧‧‧第一黏合層
25‧‧‧第二黏合層
61‧‧‧金屬層
62‧‧‧第一層間絕緣膜
63、65‧‧‧透明導電層
64‧‧‧第二層間絕緣膜
120‧‧‧第一抗蝕刻層
130‧‧‧第一緩衝層
140‧‧‧薄膜電晶體陣列
150‧‧‧有機發光陣列
160‧‧‧保護層
210‧‧‧第二抗蝕刻層
220‧‧‧第二緩衝層
230‧‧‧觸控電極陣列
231m‧‧‧金屬層
231‧‧‧金屬橋
231b、231c‧‧‧路徑線
232‧‧‧第一層間絕緣膜
232a‧‧‧接觸孔
233‧‧‧第一透明導電膜
233A‧‧‧透明導電膜
234‧‧‧第二層間絕緣膜
235‧‧‧第二透明導電膜
2335‧‧‧共同電極圖案
235A‧‧‧透明導電膜
236‧‧‧第三層間絕緣膜
400‧‧‧黏合層
450‧‧‧密封劑
455、4550‧‧‧導電球
500‧‧‧積體電路
1000‧‧‧薄膜基板
1100‧‧‧薄膜黏合層
2331‧‧‧第一電極
2332‧‧‧第二電極
2332c‧‧‧第二電極連接圖案
2335‧‧‧共同電極
2350‧‧‧觸控墊部分
2351b‧‧‧觸控焊墊
3000‧‧‧覆蓋玻璃
A/A‧‧‧活性區
A‧‧‧區域
B‧‧‧區域
第1圖係為習知技術之一觸控式螢幕有機發光顯示裝置之剖視圖；第2圖係為根據本發明之一有機發光顯示裝置之平面圖；第3圖係為沿第2圖之I-I’線之剖視圖；第4圖係為一參考實施例中濕氣滲透至一有機發光顯示裝置之焊墊部分中之剖視圖；第5圖係為本發明之第一實施例之平面圖；第6圖係為沿第5圖之II-II’線之剖視圖；第7圖係為沿第5圖之III-III’線之剖視圖；第8圖係為本發明之第二實施例之平面圖；第9圖係為沿第8圖之IV-IV’線之剖視圖；第10圖係為本發明之第三實施例之平面圖；第11圖係為沿第10圖之V-V’線之剖視圖；第12圖係為本發明之第四實施例之平面圖；第13圖係為沿第12圖之VI-VI’線之剖視圖；第14圖係為本發明之第五實施例之平面圖；以及第15圖係為沿第14圖之VII-VII’線之剖視圖。
120‧‧‧第一抗蝕刻層
130‧‧‧第一緩衝層
140‧‧‧薄膜電晶體陣列
150‧‧‧有機發光陣列
160‧‧‧保護層
210‧‧‧第二抗蝕刻層
220‧‧‧第二緩衝層
230‧‧‧觸控電極陣列
400‧‧‧黏合層
450‧‧‧密封劑
455‧‧‧導電球
1000‧‧‧薄膜基板
1100‧‧‧薄膜黏合層
2350‧‧‧觸控電極焊墊部分
3000‧‧‧覆蓋玻璃

Claims (13)

  1. 一種有機發光顯示裝置，分別在一第一緩衝層與一第二緩衝層上包含一電晶體-有機發光二極體陣列以及一觸控電極陣列，該第一緩衝層與該第二緩衝層具有一活性區以及一死區且彼此面對，該有機發光顯示裝置係包含：一觸控焊墊部分，係形成於該第二緩衝層之該死區的一部分中；複數個觸控焊墊，係在該觸控焊墊部分中彼此相間隔；一空焊墊部分，係形成於該第一緩衝層的該死區中，該空焊墊部分包含分別對應於該等觸控焊墊的複數個空焊墊；以及一密封劑，係包含該觸控焊墊部分與該空焊墊部分之間的複數個導電球，其中與靠近該觸控焊墊部分的該死區與該等觸控焊墊之間的該密封劑相接觸的該第二緩衝層之該最頂層係為一無機膜。
  2. 如請求項第1項所述之有機發光顯示裝置，其中每一觸控焊墊包含形成於該第二緩衝層上的一金屬層，一透明導電圖案以及位於該金屬層與該透明導電圖案之間的一層間絕緣膜，該層間絕緣膜用於將該金屬層與該透明導電圖案相接觸。
  3. 如請求項第2項所述之有機發光顯示裝置，其中與該密封劑的該邊緣相接觸的該第二緩衝層的該最頂層係為氮化矽(SiNx) 或氧化矽(SiOx)。
  4. 如請求項第2項所述之有機發光顯示裝置，其中與該密封劑的一邊緣相接觸的該第二緩衝層的該最頂層係為一透明導電膜。
  5. 如請求項第4項所述之有機發光顯示裝置，其中該透明導電膜直接形成於該第二緩衝層上。
  6. 如請求項第2項所述之有機發光顯示裝置，其中與該密封劑的該邊緣相接觸的該第二緩衝層的該最頂層係為該第二緩衝層。
  7. 如請求項第6項所述之有機發光顯示裝置，其中該層間絕緣膜包含氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiOx)以及聚亞醯胺的至少一個。
  8. 如請求項第3項所述之有機發光顯示裝置，其中該觸控焊墊的該層間絕緣膜之一側壁覆蓋有氮化矽(SiNx)或氧化矽(SiOx)。
  9. 如請求項第2項所述之有機發光顯示裝置，其中該觸控焊墊的該層間絕緣膜係為一有機絕緣膜。
  10. 如請求項第4項所述之有機發光顯示裝置，其中該觸控焊墊的該透明導電圖案係為與該透明導電膜相同之層。
  11. 如請求項第10項所述之有機發光顯示裝置，其中該透明導電圖案在該等觸控焊墊之間相間隔且相隔離。
  12. 如請求項第10項所述之有機發光顯示裝置，其中該透明導電圖案包含一雙層透明導電膜材料。
  13. 如請求項第12項所述之有機發光顯示裝置，其中該雙層透明導電膜材料之一第一層係為與組成該觸控電極陣列且彼此交叉的該第一電極及該第二電極相同，並且該雙層透明導電膜材料之一第二層與覆蓋該第一電極及該第二電極的該共同電極圖案相同。
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