TW201411228A - 加壓脫泡設備及其脫泡艙 - Google Patents

Abstract

一種加壓脫泡設備，包含：一層架、至少一脫泡艙、一輸送模組及一取料模組；該層架具有至少一移行空間；該脫泡艙具有一蓋體及一盤體，該盤體可滑動地設於該移行空間，該蓋體蓋合該盤體以共同形成一容室，一加熱器設於該容室中，一輸氣管連通該容室；該輸送模組鄰設於該層架；該取料模組具有至少一取料端，該取料端能夠相對於該層架位移以與該輸送模組或該盤體相對。藉此，該加壓脫泡設備可耗費少量的能源，並快速地對少量之貼膜基板進行脫泡處理，以適用於〝速效〞需求之加工處理狀況。

Description

加壓脫泡設備及其脫泡艙

本發明係關於一種加壓脫泡設備及其脫泡艙，尤其是一種用以對貼膜基板進行加溫加壓，以去除貼合介面上之氣泡的脫泡艙，及裝載該脫泡艙之加壓脫泡設備。

按，一般彩色液晶顯示器面板的主要結構大致包含有玻璃基板(Mother Glass)、彩色濾光片(Color Filter)、偏光片(Polarizer)、ITO(氧化銦錫)導電玻璃及背光板(Backlight)模組等。其中，當偏光片與玻璃基板黏合時，其貼合介面上難免會有氣泡形成，而造成液晶顯示器面板之平整性不佳，因此偏光片與玻璃基板黏合後，通常都須經過一道加壓脫泡處理之製程，以去除貼合介面上的氣泡；所述「加壓脫泡處理」係將黏合後的偏光片與玻璃基板置入一加壓脫泡設備中，並透過加溫加壓的手段來去除其貼合介面上的氣泡，使該偏光片與玻璃基板之貼合介面能更緊密且平整地黏合。

請參照第1及2圖所示，其係中華民國公告第M297480號「隧道式加壓脫泡壓力艙」專利案，該習知的加壓脫泡設備9包含有一桶槽本體91、二門蓋板92及二行走機構93；該二行走機構93分別設置在該桶槽本體91之兩端艙口處，該二門蓋板92則分別設置在該二行走機構93上。藉此，該二行走機構93可用以驅動該二門蓋板92相對該桶槽本體91之啟、閉動作，並可沿該桶槽本體91 之軸向，帶動該二門蓋板92呈遠離該艙口滑移或朝向該艙口滑移之作動。

另，數個滾輪94呈併排地設置在該桶槽本體91之內部，以形成一可供承置加工物料W之平台，並由一動力組95驅動該數個滾輪94同步轉動，使該平台除了可供承置加工物料W之外，更可將該加工物料W自該桶槽本體91內部送出，或是將該加工物料W送至該桶槽本體91內部之預定位置。

然而，該習知加壓脫泡設備9進行加工物料W之裝卸作業時，須以人工方式將二承接座移動至該桶槽本體91之兩端艙口處，且該二承接座之頂面亦設置有數個併排的滾輪組，以承接自該桶槽本體91內部送出之加工物料W，或是先將該加工物料W放置在該承接座上，再送至該桶槽本體91內部；待加工物料W裝卸完成之後，再以人工方式將該二承接座移開，及關閉該二門蓋板92，造成加工物料W裝卸作業的不順暢且難以自動化作業，且完成脫泡處理之加工物料W，尚須另外被搬運至後一個製程設備處備用，使得各該加工物料W之加工處理效率不佳。

再者，考慮到每次裝卸作業之麻煩，及對該桶槽本體91內部加溫加壓至作業壓力及溫度所耗費之能量，使得該習知的加壓脫泡設備9每次進行脫泡處理，都會盡量地在該桶槽本體91內放置最大數量(約數十片，通常有50~80片左右)的加工物料W，以降低每片加工物料W之脫泡成本。此外，使用該習知加壓脫泡設備9對加工物料W進行脫泡處理時，即便是僅處理少量的加工物料W，仍須等待 該桶槽本體91內部被加溫加壓至預設的壓力及溫度，方可進行脫泡處理之作業，故完成一次脫泡處理作業所需之時間較為冗長。因此，每當遇及〝欲對少量加工物料W進行脫泡處理，並快速取得完成脫泡之加工物料W〞的加工需求時，使用該習知加壓脫泡設備9就相當不符合經濟效益。

基於上述原因，習知加壓脫泡設備確實仍有加以改善之必要。

本發明之主要目的係提供一種加壓脫泡設備，係可耗費少量的能源，並快速地對少量之貼膜基板進行脫泡處理，以適用於〝速效〞需求之加工處理狀況。

本發明之次一目的係提供一種加壓脫泡設備，係可自動化地裝載及卸除脫泡處理前、後之貼膜基板，以提升操作便利性。

本發明之再一目的係提供一種加壓脫泡設備，係可即時地承接前一個製程設備所供應之貼膜基板，以進行脫泡處理，並即時地將已脫泡之貼膜基板運載至後一個製程設備。

為達到前述目的，本發明所運用之技術內容包含有：一種加壓脫泡設備，係包含：一層架，具有至少一移行空間，該移行空間分為一進料區、一脫泡區及一出料區，該脫泡區位於該進料區及出料區之間；至少一脫泡艙，設於該移行空間中，該脫泡艙具有一蓋體及一盤體，該蓋體設於該移行空間之脫泡區，該盤體可滑動地設於該移行空 間並可脫離地由該蓋體蓋合以共同形成一容室，一加熱器設於該容室中，一輸氣管連通該容室；一輸送模組，鄰設於該層架；及一取料模組，具有至少一取料端，該取料端能夠相對於該層架位移以與該輸送模組或該移行空間中之盤體相對。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該盤體可設有一開槽，該盤體在該開槽之周緣可設有一抵接部以載置一載板，該蓋體封閉該盤體之開槽以形成該容室。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該加熱器可設於該盤體之載板與該開槽底部之間，該載板設有至少一通孔以連通該載板相對兩側之空間。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該輸氣管可貫穿該蓋體而與該容室連通。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該通孔可設於鄰近該載板之周緣處。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該蓋體可於鄰近周緣處樞設有數個拑扣件，該盤體可於外周緣處設有數個扣合部，該蓋體之數個拑扣件分別拑持於該盤體之數個扣合部。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該蓋體可設有一用以帶動該蓋體產生位移之第一動力件，該第一動力件之一端連接於該層架；該數個拑扣件可分別受一第二動力件驅動樞轉，或者，其中數個相鄰之拑扣件可由一樞轉軸心串接並連接一第二動力件，以由該第二動力件同時驅動該數個相鄰之拑扣件樞轉。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該盤體可在該開槽之 外周設一環槽並塞置一氣密環，該蓋體蓋合於該盤體並夾壓該氣密環。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該脫泡艙可設有至少一滑軌組，該滑軌組結合於該層架設有該移行空間處，該盤體可滑移地組接該滑軌組。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該輸送模組可分為一輸入區及一輸出區，該輸入區可與該移行空間之進料區相對，該輸出區可與該移行空間之出料區相對。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該取料模組可設有一輸入組件及一輸出組件，該輸入組件及輸出組件分別包含一橫向導軌及至少一縱向導軌，該二橫向導軌均對位於該移行空間之脫泡區，並橫跨該層架及該輸送模組之頂部，該二縱向導軌分別可滑移地連接對應之橫向導軌；該取料端之數量為二個，其中一取料端可滑移地設於該輸入組件之縱向導軌，並朝向該移行空間之進料區，另一取料端可滑移地設於該輸出組件之縱向導軌，並朝向該移行空間之出料區。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該輸入組件之取料端可與該輸送模組之輸入區或該移行空間之進料區相對；該輸出組件之取料端可與該輸送模組之輸出區或該移行空間之出料區相對。

本發明之加壓脫泡設備，其中，該取料模組可設有一橫向導軌、一縱向導軌及一轉向機構，該橫向導軌對位於該移行空間之脫泡區，並橫跨該層架及該輸送模組之頂部，該縱向導軌可滑移地連接該橫向導軌，該取料端之數 量為一個，該取料端可滑移地設於該縱向導軌之一側，該轉向機構連接該橫向導軌，以控制該取料端與該移行空間之進料區或出料區相對。

本發明另提供一種加壓脫泡設備之脫泡艙，係包含：一蓋體；及一盤體，可脫離地由該蓋體蓋合以共同形成一容室，該盤體設有一開槽，該盤體在該開槽之周緣設有一抵接部以載置一載板，該蓋體封閉該盤體之開槽以形成該容室，一加熱器設於該容室中，一輸氣管連通該容室。

為讓本發明之上述及其他目的、特徵及優點能更明顯易懂，下文特舉本發明之較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：本發明以下所述之「貼膜基板」，係指於至少一表面貼有膜層之基板，該基板可以為玻璃基板，該膜層則可以是偏光片或防刮貼片等，本發明均不加以限制，係所屬技術領域人員可以理解。

請參照第3圖，其揭示本發明較佳實施例之加壓脫泡設備，在本實施例中，該加壓脫泡設備可包含一層架1、至少一脫泡艙2、一輸送模組3及一取料模組4，該至少一脫泡艙2可滑動地設置於該層架1，該輸送模組3鄰設於該層架1，該取料模組4則可將待脫泡之貼膜基板B從該輸送模組3上挪移至該脫泡艙2，以及將完成脫泡之貼膜基板B從該脫泡艙2移回該輸送模組3。

請同時參照第3、6圖，該層架1可以是由數個支條 搭接而成的架體，該數個支條可隔設出至少一移行空間11，以供組裝對應數量之脫泡艙2；該移行空間11大致分為一進料區111、一脫泡區112及一出料區113，該進料區111、脫泡區112及出料區113可以呈水平並排，且該脫泡區112位於該進料區111及出料區113之間。其中，該層架1之移行空間11的數量較佳為數個，以分別組設一脫泡艙2，並藉由調配各脫泡艙2相對於各該移行空間11之相對位置，而能夠在同時間交錯進行各項處理程序，達到提升整體作業效率之效果(容後詳述)。

請同時參照第4、6圖，該脫泡艙2具有可相對蓋合之一蓋體21及一盤體22，該蓋體21設於對應之移行空間11的脫泡區112；該盤體22則可滑動地設於對應之移行空間11，以於移動至該進料區111時承接待脫泡之貼膜基板B，並在移動至該脫泡區112時與該蓋體21結合而共同形成一容室23(如第9圖所示)，透過對該容室23加溫加壓，使容裝在該容室23中的貼膜基板B得以進行脫泡處理，最後再由該盤體22載運已完成脫泡之貼膜基板B至該出料區113以供取出。

更詳言之，該蓋體21之上表面可設有一第一動力件211，並透過該第一動力件211之一端鎖接於該層架1之脫泡區112處，以由該第一動力件211帶動該蓋體21相對於該層架1產生垂直向(依第6圖而言)之往復位移。另，該蓋體21可於鄰近周緣處樞設有數個拑扣件212，該數個拑扣件212可分別受一第二動力件213驅動，而相對於該蓋體21之周緣樞轉以扣合該盤體22，或如本實施例之圖 式所示，將數個相鄰之拑扣件212由一樞轉軸心(未標示)串接並連接一第二動力件213，以由該第二動力件213同時驅動該數個相鄰之拑扣件212樞轉。其中，該第一動力件211及第二動力件213可選擇為氣壓缸或電動缸等常見之驅動裝置。

請同時參照第4、9圖，該盤體22設有一開槽221，該盤體22可在該開槽221之周緣設有一抵接部222，以供一載板223抵接置放，該載板223係用以承載該貼膜基板B者；該載板223上設有至少一通孔224，使該載板223相對兩側之空間可相互連通，該通孔224較佳設於鄰近該載板223之周緣處，避免該貼膜基板B置放於該載板223時遮蔽該通孔224。

該盤體22可於外周緣處設有數個扣合部225，以於該盤體22與該蓋體21相對位時，由該蓋體21之數個拑扣件212分別拑持於該盤體22之數個扣合部225，使該蓋體21封閉該盤體22之開槽221以形成該容室23。另，該盤體22之頂面還可以在該開槽221之外周設一環槽226，並塞置一氣密環227，使該蓋體21蓋合於該盤體22時可一併夾壓該氣密環227，以提升該容室23之密閉效果，同時也可作為該蓋體21與該盤體22結合時的緩衝，避免兩者因反覆地直接撞擊而產生裂損。

在本實施例中，用以加熱該容室23之一加熱器24可選擇設於該盤體22之載板223與該開槽221底部之間，以避免與承載於該載板223上方之貼膜基板B接觸，並於通電後快速升高該容室23中的環境溫度。用以改變該容室 23中之氣體壓力的一輸氣管25，則可選擇貫穿該蓋體21而與該容室23連通，以對該容室23注入高壓氣體，或將該容室23中的高壓氣體導出。

此外，該脫泡艙2還設有至少一滑軌組26以供該盤體22組接，該滑軌組26可結合於該層架1設有該移行空間11處(如第3圖所示)，使該盤體22可於該滑軌組26上滑移，以依據不同階段之製程需求，而位於對應之移行空間11的進料區111、脫泡區112或出料區113；在本實施例中，為提升該盤體22滑移時的穩固性，該滑軌組26之數量可選擇為二個，且該二滑軌組26可分別組接於該盤體22底部之相對兩端。其中，該滑軌組26可例如是習知之線性滑軌組，該滑軌組26中包含各種組成習知線性滑軌組且提供不同功能之相關構件(例如：滑軌、滑塊及動力源等)，惟習知線性滑軌組之相關構件的詳細結構組成、驅動方式及原理，係所屬技術領域人員可以理解，於此容不贅述。

請再參照第3圖，該輸送模組3係鄰設於該層架1，該輸送模組3可大致分為一輸入區3a及一輸出區3b，該輸入區3a可承載待脫泡處理之貼膜基板B，且較佳可與該移行空間11之進料區111相對；該輸出區3b則可承載已完成脫泡之貼膜基板B，且較佳可與該移行空間11之出料區113相對。其中，該輸送模組3之輸入區3a可與前一個製程設備之物料出口相接，例如承接剛貼上膜層之基板，以直接將該些待脫泡之貼膜基板B載運至預設位置，及接續進行脫泡處理之製程；同樣地，該輸送模組3之輸出區 3b可與後一個製程設備之物料入口相接，使該貼膜基板B之加工處理作業更加連續且順暢。

該取料模組4係用以將貼膜基板B從該輸送模組3之輸入區3a挪移至位於該進料區111之盤體22，及將貼膜基板B從位於該出料區113之盤體22移回該輸送模組3之輸出區3b。在本實施例中，該取料模組4可設有一輸入組件4a及一輸出組件4b，該輸入組件4a及輸出組件4b均分別包含一橫向導軌41及至少一縱向導軌42，且該輸入組件4a及輸出組件4b大致上呈對稱設置。

請同時參照第3、6圖，更詳言之，就該輸入組件4a而言，該輸入組件4a之橫向導軌41可鄰設於該層架1，或與該層架1相連接，該橫向導軌41可對位於該移行空間11之脫泡區112，並橫跨該層架1及該輸送模組3之頂部。該輸入組件4a之縱向導軌42則由一連接端421連接該橫向導軌41之一側，並朝向該移行空間11之進料區111，使該縱向導軌42可相對於該層架1產生水平向(依第6圖而言)之位移；該縱向導軌42朝向該移行空間11之進料區111之一側另設有一取料端422，該取料端422可例如為真空吸引裝置，以透過該取料端422持取該貼膜基板B，並相對於該層架1產生垂直向(依第6圖而言)之位移。如此，只要控制該橫向導軌41與該縱向導軌42之相對位置，及該取料端422在該縱向導軌42上的位置，即可使該輸入組件4a之取料端422與該輸送模組3之輸入區3a相對，或是與該移行空間11之進料區111相對，以將待脫泡的貼膜基板B從該輸送模組3之輸入區3a挪移至 位於該進料區111之盤體22。

相對地，就該輸出組件4b而言，該輸出組件4b與該輸入組件4a之主要差異在於，該輸出組件4b之縱向導軌42係朝向該移行空間11之出料區113，使該輸出組件4b之取料端422能夠與該輸送模組3之輸出區3b相對，或是與該移行空間11之出料區113相對，以將已脫泡的貼膜基板B從位於該出料區113之盤體22移回該輸送模組3之輸出區3b。

其中，當該輸入組件4a或輸出組件4b之縱向導軌42的數量為數個時，該數個縱向導軌42可相互連接，並產生相對之垂直向位移，以增加該取料端422之縱向位移量；如此，即便該層架1設有較多之移行空間11，使該取料端422需往復地產生較大的縱向位移量時，該取料端422仍可從該層架1之頂部伸入至最底層之移行空間11。

再者，當該層架1之移行空間11數量設置較少時，該取料模組4也可以只設置單一組的橫向導軌41及縱向導軌42，並配合一轉向機構，使該縱向導軌42之取料端422可完成將待脫泡貼膜基板B移至該移行空間11之進料區111後，再轉向將已脫泡貼膜基板B移出該移行空間11之出料區113，係所屬技術領域人員可以理解，而不為本發明所限制者。

據由前述結構，本發明之加壓脫泡設備實施時，可少量且快速地對貼膜基板B進行脫泡處理；另為進一步地提升該加壓脫泡設備之整體作業效率，該加壓脫泡設備可同時對設於不同移行空間11之脫泡艙2進行不同的處理程序 ，以下則以該層架1設有二移行空間11時之實施例進行說明，當該層架1設有更多移行空間11時，則可比照同樣的技術概念以此類推。

請同時參照第3、5圖，當該輸送模組3之輸入區3a將至少一待脫泡之貼膜基板B移至預設位置時，該取料模組4之輸入組件4a可控制該縱向導軌42在該橫向導軌41上移動至第一位置，以與該輸送模組3之輸入區3a相對(如第5圖之假想線處所示)；並控制該輸入組件4a之縱向導軌42的取料端422下降，以持取該至少一待脫泡之貼膜基板B，及向上回復到高於該層架1頂部的高度；再控制該輸入組件4a之縱向導軌42在該橫向導軌41上移動至第二位置，以與該二移行空間11的進料區111相對。

請參照第6圖，分別設於該二移行空間11之二脫泡艙2，其蓋體21之初始位置係位於對應之移行空間11的脫泡區112，盤體22之初始位置則位於對應之移行空間11的進料區111，且該蓋體21之底面係位在高於該盤體22之頂面處，以便該盤體22可順利而不撞擊地滑移至該蓋體21下方。據此，在該輸入組件4a之縱向導軌42與該二移行空間11之進料區111相對後，可控制該縱向導軌42之取料端422下降，使該取料端422伸入該最上層之移行空間11的進料區111，以將該至少一待脫泡之貼膜基板B置放在位於該最上層之移行空間11之盤體22的載板223上。

請參照第7圖，接下來，可控制承載有貼膜基板B之盤體22滑移至該最上層之移行空間11的脫泡區112，使 該盤體22與對應之蓋體21相對；同時，控制該輸入組件4a之縱向導軌42的取料端422可向上回復到高於該層架1頂部的高度。

請同時參照第8、9圖，在最上層之移行空間11中，該蓋體21由該第一動力件211控制而向下抵接相對之盤體22，並將該蓋體21之數個拑扣件212分別拑持於該盤體22之數個扣合部225，使該蓋體21與盤體22相互密合，以將該盤體22中待脫泡之貼膜基板B密封於該容室23中，並控制該加熱器24開始加熱該容室23中的環境溫度，及控制該輸氣管25開始對該容室23注入高壓氣體，以升高該容室23中之氣體壓力；如此，位於該容室23中的貼膜基板B即可透過此加溫加壓之手段，去除其貼合介面上的氣泡。

其中，由於該脫泡艙2之容室23的容積不大，僅需耗費少量的能源，即可快速地升高該容室23中的環境溫度與壓力，使得貼膜基板B僅需數秒的作業時間即可完成脫泡程序，故本發明之加壓脫泡設備可高效率且低成本地滿足「欲快速取得少量已脫泡貼膜基板」之〝速效〞加工處理需求。

請再參照第8圖，在位於該最上層之移行空間11中的脫泡艙2進行脫泡程序的同時，該輸入組件4a之縱向導軌42的取料端422可再次移至該輸送模組3之輸入區3a，以持取下一批待脫泡之貼膜基板B，並使該取料端422伸入該較下層之移行空間11的進料區111，以將該待脫泡之貼膜基板B置放在位於該較下層之移行空間11之盤體22的 載板223上。

請參照第10圖，在最上層之移行空間11中，完成脫泡程序之脫泡艙2可由該輸氣管25排出該容室23中的高壓氣體，並解除該蓋體21與盤體22之密合狀態，由該第一動力件211控制該蓋體21向上回到初始的高度位置，及使該盤體22滑移至該最上層之移行空間11的出料區113。續控制該輸出組件4b之縱向導軌42的取料端422下降，使該取料端422伸入該最上層之移行空間11的出料區113，以持取該盤體22上已脫泡之貼膜基板B，並在該輸出組件4b之縱向導軌42的取料端422向上回復到高於該層架1頂部的高度時，控制該輸出組件4b之縱向導軌42相對於橫向導軌41平移，使該取料端422可與該輸送模組3之輸出區3b相對，及將已脫泡之貼膜基板B置放至該輸出區3b，以供取用或導送至後一製程設備之物料入口。

同樣地，在該最上層之移行空間11中的盤體22進行前敘動作的同時，位於較下層之移行空間11之盤體22則剛好可以進行加溫加壓之脫泡程序。最後，位於該最上層之移行空間11中的盤體22，可在卸除已脫泡之貼膜基板B後，再次滑移回到該最上層之移行空間11的進料區111，以準備進行下一次的循環。因此，本發明之加壓脫泡設備可藉由控制不同移行空間11之脫泡艙2，在同時間交錯進行入料、脫泡及出料等階段程序，使該加壓脫泡設備在單位時間內可完成脫泡處理之貼膜基板B總數量得以提升，從而提升該加壓脫泡設備整體之作業效率。

綜上所述，本發明之加壓脫泡設備，係藉由以脫泡艙 中的小容積容室裝載待脫泡之貼膜基板，僅需耗費少量的能源，即可快速地升高該容室中的環境溫度與壓力，令該貼膜基板僅需數秒的作業時間即可完成脫泡程序，故可在符合經濟效益之前提下，適用於〝速效〞需求之加工處理狀況。

本發明之加壓脫泡設備，係可透過輸送模組與取料模組之相互搭配，自動化地裝載及卸除脫泡處理前、後之貼膜基板，具有提升操作便利性之功效。

本發明之加壓脫泡設備，係可藉由該輸送模組，即時地承接前一個製程設備所供應之貼膜基板，以接續進行脫泡處理，並即時地將已脫泡之貼膜基板運載至後一個製程設備，使貼膜基板之加工處理作業線可更加連續且順暢。

雖然本發明已利用上述較佳實施例揭示，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者在不脫離本發明之精神和範圍之內，相對上述實施例進行各種更動與修改仍屬本發明所保護之技術範疇，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

〔本發明〕

1‧‧‧層架

11‧‧‧移行空間

111‧‧‧進料區

112‧‧‧脫泡區

113‧‧‧出料區

2‧‧‧脫泡艙

21‧‧‧蓋體

211‧‧‧第一動力件

212‧‧‧拑扣件

213‧‧‧第二動力件

22‧‧‧盤體

221‧‧‧開槽

222‧‧‧抵接部

223‧‧‧載板

224‧‧‧通孔

225‧‧‧扣合部

226‧‧‧環槽

227‧‧‧氣密環

23‧‧‧容室

24‧‧‧加熱器

25‧‧‧輸氣管

26‧‧‧滑軌組

3‧‧‧輸送模組

3a‧‧‧輸入區

3b‧‧‧輸出區

4‧‧‧取料模組

4a‧‧‧輸入組件

4b‧‧‧輸出組件

41‧‧‧橫向導軌

42‧‧‧縱向導軌

421‧‧‧連接端

422‧‧‧取料端

B‧‧‧貼膜基板

〔習知〕

9‧‧‧加壓脫泡設備

91‧‧‧桶槽本體

92‧‧‧門蓋板

93‧‧‧行走機構

94‧‧‧滾輪

95‧‧‧動力組

W‧‧‧加工物料

第1圖：習知加壓脫泡設備之俯視圖。

第2圖：習知加壓脫泡設備之側視圖。

第3圖：本發明較佳實施例之立體示意圖。

第4圖：本發明較佳實施例之脫泡艙的立體分解圖。

第5圖：本發明較佳實施例之實施示意圖(一)。

第6圖：本發明較佳實施例之實施示意圖(二)。

第7圖：本發明較佳實施例之實施示意圖(三)。

第8圖：本發明較佳實施例之實施示意圖(四)。

第9圖：第8圖9-9剖線之剖面圖。

第10圖：本發明較佳實施例之實施示意圖(五)。

1‧‧‧層架

11‧‧‧移行空間

2‧‧‧脫泡艙

21‧‧‧蓋體

22‧‧‧盤體

223‧‧‧載板

224‧‧‧通孔

225‧‧‧扣合部

26‧‧‧滑軌組

3‧‧‧輸送模組

3a‧‧‧輸入區

3b‧‧‧輸出區

4‧‧‧取料模組

4a‧‧‧輸入組件

4b‧‧‧輸出組件

41‧‧‧橫向導軌

42‧‧‧縱向導軌

421‧‧‧連接端

422‧‧‧取料端

B‧‧‧貼膜基板

Claims (23)

1. 一種加壓脫泡設備，係包含：一層架，具有至少一移行空間，該移行空間分為一進料區、一脫泡區及一出料區，該脫泡區位於該進料區及出料區之間；至少一脫泡艙，設於該移行空間中，該脫泡艙具有一蓋體及一盤體，該蓋體設於該移行空間之脫泡區，該盤體可滑動地設於該移行空間並可脫離地由該蓋體蓋合以共同形成一容室，一加熱器設於該容室中，一輸氣管連通該容室；一輸送模組，鄰設於該層架；及一取料模組，具有至少一取料端，該取料端能夠相對於該層架位移以與該輸送模組或該移行空間中之盤體相對。
2. 如申請專利範圍第1項所述之加壓脫泡設備，其中，該盤體設有一開槽，該盤體在該開槽之周緣設有一抵接部以載置一載板，該蓋體封閉該盤體之開槽以形成該容室。
3. 如申請專利範圍第2項所述之加壓脫泡設備，其中，該加熱器設於該盤體之載板與該開槽底部之間，該載板設有至少一通孔以連通該載板相對兩側之空間。
4. 如申請專利範圍第3項所述之加壓脫泡設備，其中，該輸氣管貫穿該蓋體而與該容室連通。
5. 如申請專利範圍第3項所述之加壓脫泡設備，其中，該 通孔設於鄰近該載板之周緣處。
6. 如申請專利範圍第1、2、3、4或5項所述之加壓脫泡設備，其中，該蓋體於鄰近周緣處樞設有數個拑扣件，該盤體於外周緣處設有數個扣合部，該蓋體之數個拑扣件分別拑持於該盤體之數個扣合部。
7. 如申請專利範圍第6項所述之加壓脫泡設備，其中，該蓋體設有一用以帶動該蓋體產生位移之第一動力件，該第一動力件之一端連接於該層架，該數個拑扣件分別受一第二動力件驅動樞轉。
8. 如申請專利範圍第6項所述之加壓脫泡設備，其中，該蓋體設有一用以帶動該蓋體產生位移之第一動力件，該第一動力件之一端連接於該層架，其中數個相鄰之拑扣件由一樞轉軸心串接並連接一第二動力件，以由該第二動力件同時驅動該數個相鄰之拑扣件樞轉。
9. 如申請專利範圍第2、3、4或5項所述之加壓脫泡設備，其中，該盤體在該開槽之外周設一環槽並塞置一氣密環，該蓋體蓋合於該盤體並夾壓該氣密環。
10. 如申請專利範圍第1、2、3、4或5項所述之加壓脫泡設備，其中，該脫泡艙設有至少一滑軌組，該滑軌組結合於該層架設有該移行空間處，該盤體可滑移地組接該滑軌組。
11. 如申請專利範圍第1、2、3、4或5項所述之加壓脫泡設備，其中，該輸送模組分為一輸入區及一輸出區，該輸入區與該移行空間之進料區相對，該輸出區與該移行空間之出料區相對。
12. 如申請專利範圍第11項所述之加壓脫泡設備，其中，該取料模組設有一輸入組件及一輸出組件，該輸入組件及輸出組件分別包含一橫向導軌及至少一縱向導軌，該二橫向導軌均對位於該移行空間之脫泡區，並橫跨該層架及該輸送模組之頂部，該二縱向導軌分別可滑移地連接對應之橫向導軌；該取料端之數量為二個，其中一取料端可滑移地設於該輸入組件之縱向導軌，並朝向該移行空間之進料區，另一取料端可滑移地設於該輸出組件之縱向導軌，並朝向該移行空間之出料區。
13. 如申請專利範圍第12項所述之加壓脫泡設備，其中，該輸入組件之取料端與該輸送模組之輸入區或該移行空間之進料區相對；該輸出組件之取料端與該輸送模組之輸出區或該移行空間之出料區相對。
14. 如申請專利範圍第11項所述之加壓脫泡設備，其中，該取料模組設有一橫向導軌、一縱向導軌及一轉向機構，該橫向導軌對位於該移行空間之脫泡區，並橫跨該層架及該輸送模組之頂部，該縱向導軌可滑移地連接該橫向導軌，該取料端之數量為一個，該取料端可滑移地設於該縱向導軌之一側，該轉向機構連接該橫向導軌，以控制該取料端與該移行空間之進料區或出料區相對。
15. 一種加壓脫泡設備之脫泡艙，係包含：一蓋體；及一盤體，可脫離地由該蓋體蓋合以共同形成一容室，該盤體設有一開槽，該盤體在該開槽之周緣設有一抵接部以載置一載板，該蓋體封閉該盤體之開槽以形成該容室 ，一加熱器設於該容室中，一輸氣管連通該容室。
16. 如申請專利範圍第15項所述之加壓脫泡設備之脫泡艙，其中，該加熱器設於該盤體之載板與該開槽底部之間，該載板設有至少一通孔以連通該載板相對兩側之空間。
17. 如申請專利範圍第16項所述之加壓脫泡設備之脫泡艙，其中，該輸氣管貫穿該蓋體而與該容室連通。
18. 如申請專利範圍第16項所述之加壓脫泡設備之脫泡艙，其中，該通孔設於鄰近該載板之周緣處。
19. 如申請專利範圍第15、16、17或18項所述之加壓脫泡設備之脫泡艙，其中，該蓋體於鄰近周緣處樞設有數個拑扣件，該盤體於外周緣處設有數個扣合部，該蓋體之數個拑扣件分別拑持於該盤體之數個扣合部。
20. 如申請專利範圍第19項所述之加壓脫泡設備之脫泡艙，其中，該蓋體設有一用以帶動該蓋體產生位移之第一動力件，該數個拑扣件分別受一第二動力件驅動樞轉。
21. 如申請專利範圍第19項所述之加壓脫泡設備之脫泡艙，其中，該蓋體設有一用以帶動該蓋體產生位移之第一動力件，其中數個相鄰之拑扣件由一樞轉軸心串接並連接一第二動力件，以由該第二動力件同時驅動該數個相鄰之拑扣件樞轉。
22. 如申請專利範圍第15、16、17或18項所述之加壓脫泡設備之脫泡艙，其中，該盤體在該開槽之外周設一環槽並塞置一氣密環，該蓋體蓋合於該盤體並夾壓該氣密環。
23. 如申請專利範圍第15、16、17或18項所述之加壓脫泡設備之脫泡艙，另設有至少一滑軌組，該盤體可滑移地組接該滑軌組。