TW201323458A - 光學相位差元件及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種將相位差圖案化且可適合利用於3D圖像顯示裝置中之光學相位差元件及其製造方法。前述光學相位差元件中，由於偏光照射而平行於該偏光照射的電場振動面配向的第1光配向區域、和由於該偏光照射而垂直於該偏光照射的電場振動面配向的第2光配向區域係分別配置於相鄰的區域，且前述第1光配向區域與前述第2光配向區域的慢軸互為不同。

Description

光學相位差元件及其製造方法
本申請案主張2011年9月12日在日本提申之日本特願2011-198302及同日提申請之日本特願2011-198303之優先權，其等全體在此引用作為本申請案之一部份供參考。
本發明係關於光學相位差元件及其製造方法，尤其是關於將相位差圖案化且可適合利用於3D圖像顯示裝置等中之光學相位差元件。
將相位差圖案化而成之光學相位差元件被利用於3D圖像顯示裝置等中。3D圖像係讓左眼只看到左眼用的影像、讓右眼只看到右眼用的影像而辨識出立體圖像。例如，在如液晶圖像顯示裝置般之在前面配置偏光板的顯示裝置中安裝將對應於各像素的相位差圖案化而成之光學相位差元件，將由顯示裝置射出的光轉換為左眼用圖像、右眼用圖像的2種圓偏光，藉由左右眼掛戴不同的圓偏光眼鏡而觀看圖像，讓左眼只看到左眼用的影像，讓右眼只看到右眼用的影像而辨識出立體影像。在此種將相位差圖案化而成的光學相位差元件中，有圖1所示般的符合於顯示裝置的像素而使相鄰成為棋盤格狀的像素之相位差的慢軸(或快軸)方向改變90°之棋盤格(checker board)方式，與圖2所示般的在水平方向逐一像素地交替地將相位差的慢軸(或快軸)方向改變90°之逐線(line by line)方式等。
作為此種將相位差圖案化而成之光學相位差元件之製作方法，有將由於偏光可發揮液晶配向能力的高分子層(光配向膜)隔著遮罩以偏光進行圖案曝光，在該高分子層上塗布聚合性液晶使其配向，以熱或光使此配向聚合並固定，藉此使對應於高分子層的配向之圖案的配向固定的方法。
例如，作為將相位差圖案化而成之光學相位差元件的製造方法，於專利文獻1(日本特開2005-49865號公報)中揭示出用下述方法：在第一支撐材設置藉由照射偏光使分子成為特定配向之高分子層構成的配向層；接著，對此配向層照射偏光，使該配向層的配向圖案於相鄰區域中為慢軸方向不同的配向圖案或快軸方向不同的配向圖案，接著，在此配向層上設置光聚合性的液晶單體層；接著，將該液晶單體層加熱至預定的溫度使該液晶單體層的液晶成為對應於前述配向層的分子配向之配向；接著，對此液晶單體層照光使該液晶單體層聚合並使液晶配向固定，作成液晶聚合物層；接著，在此液晶聚合物層隔著接合層或黏合層設置膜狀或片狀的第二支撐材；接著，自前述配向層將前述第一支撐材剝離。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2005-49865號公報
然而，於專利文獻1的方法中，必須以遮罩被覆由高分子層構成的配向層再照射(直線偏光)紫外線，會降低曝光時之能量利用效率。再者，因曝光精確度與曝光強度之故而有無法得到所期望的配向層之顧慮。
尤其，於以輥對輥(roller to roller)方式製造時，有著不僅在曝光精確度與曝光強度方面有技術上的困難，照射設備也規模變大等的課題。
因而，本發明之目的在於提供一種不設置遮罩而以全面照射偏光將相位差圖案化而成的光學相位差元件及其製造方法。
本案發明人等為解決上述問題而努力研究之結果，發現：藉由將配向特性不同的2種光配向性材料圖案化並予以塗布，且不使用遮罩，將全面一次進行偏光曝光，可製作將相位差圖案化而成之光學相位差元件，於是完成了本發明之一實施態樣。
再者，作為另一實施態樣，本案發明人發現：藉由將配向特性不同的2種光配向性材料圖案化並塗布於各區域，且不使用遮罩，將全面一次進行偏光曝光，可得到在各區域的配向方向不同的配向膜，在此配向膜上使液晶性化合物配向，並使該配向固定，可製作將相位差圖案化而成之光學相位差元件。
本發明之第1構成係一種光學相位差元件，其係在相鄰的區域分別配置於由於偏光照射而平行於該偏光照射的電場振動面配向的第1光配向區域、和由於前述偏光照射而垂直於該偏光照射的電場振動面配向的第2光配向區域，且前述第1光配向區域與前述第2光配向區域的慢軸互為不同。
前述光學相位差元件中，第1光配向區域及第2光配向區域亦可由從(i)及(ii)構成的群組中選出之互為不同的聚合物分別形成： (i)側鏈液晶呈現型感光性聚合物(或側鏈型液晶呈現性感光性聚合物)，具有含有感光性基與液晶元(mesogen)單元隔著或不隔著間基而鍵結而得之構造之側鏈； (ii)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有於側鏈末端具有羧基的感光性側鏈。
前述光學相位差元件亦可更進一步具備液晶性化合物層，可為前述液 晶性化合物層係利用第1及第2光配向區域作為配向膜並在此配向膜上分別沿著前述第1及第2光配向區域的配向方向而配向的光學相位差元件。
亦即，作為本發明之第2構成，光學相位差元件亦可為由配向膜及液晶性化合物層構成者：配向膜，係於相鄰的區域分別配置由於偏光照射而平行於該偏光照射的電場振動面配向的第1光配向區域、和由於前述偏光照射而垂直於該偏光照射的電場振動面配向的第2光配向區域，且前述第1光配向區域與前述第2光配向區域的慢軸互為不同；液晶性化合物層，係在該配向膜上沿著前述第1及第2光配向區域的各配向方向配向。
前述光學相位差元件中，第1及第2光配向區域亦可分別由從(i)、(ii)、(iii)及(v)構成的群組選出之互為不同的聚合物形成，(i)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有含有感光性基與液晶元單元隔著或不隔著間基而鍵結而得之構造之側鏈；(ii)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有感光性的側鏈並且於側鏈末端具有羧基；(iii)於側鏈具有肉桂醯基之肉桂酸乙烯酯系感光性聚合物；(iv)順式-反式異構化感光性聚合物。
又，於前述第1構成及第2構成中，第1光配向區域及第2光配向區域亦可分別由從具有下式(1)~(3)之任一者表示的側鏈之單體單元形成之感光性聚合物構成的群組選出之互為不同的聚合物形成。
(前式(1)及(2)中，n表示1~12的整數，m表示1~12的整數；X或Y分別表示：空無、-COO、-OCO-、-N=N-、-C=C-或-C6H4-；W1及W2為相同或不同，表示肉桂醯基、查酮基、亞肉桂基(cinnamylidene)、 聯苯丙烯醯基、呋喃基丙烯醯基、萘丙烯醯基或該等之衍生物)；
(前述(3)中，s表示0或1，t表示1~3之整數，R表示H、烷基、烷氧基或鹵素)。
更佳亦可為，第1光配向區域係由具有前式(1)表示之側鏈之單體構成之聚合物形成，第2光配向區域係由具有前式(2)或(3)表示之側鏈之單體構成之聚合物形成。
此種光學相位差元件可適用於3D圖像顯示裝置等。
因此，本發明也包含將前述光學相位差元件與偏光元件疊層而得之疊層體，並包含安裝有前述光學相位差元件或前述疊層體之圖像顯示裝置。
本發明之第3構成係一種光學相位差元件之製造方法，其具備下述步驟：前處理片形成步驟，係使第1光配向性材料與第2光配向性材料分別形成於相鄰的區域；照射步驟，其係對前述前處理片於不隔著遮罩之下以偏光進行全面照射，使第1光配向性材料由於此偏光照射而平行於該偏光照射之電場振動面配向以形成第1光配向區域，並使第2光配向性材料由於此偏光照射而垂直於該偏光照射之電場振動面配向以形成第2光配向區域。
於前述製造方法中，亦可使用包含第1光配向性材料之第1塗布液及包含第2光配向性材料之第2塗布液，藉由選自由凹版印刷、柔版印刷、噴墨印刷及網版印刷構成的群組中之至少一種印刷方法形成前處理片。
又，亦可繼偏光照射步驟後接著進行加熱步驟，再進行冷卻步驟。
本發明之第4構成係一種光學相位差元件之製造方法，其具備下述步驟：前處理膜形成步驟，係使第1光配向性材料與第2光配向性材料分別形成於相鄰的區域；照射步驟，係對前述前處理膜於不隔著遮罩之下以偏光進行全面照射，使第1光配向性材料由於此偏光照射而平行於該偏光照射之電場振動面配向以形成第1光配向區域，並使第2光配向性材料由於此偏光照射而垂直於該偏光照射之電場振動面配向以形成第2光配向區域，形成前述第1及第2光配向區域的慢軸互為不同之配向膜；液晶性化合物層形成步驟，係在前述配向膜上塗布液晶性化合物以形成沿著前述第1及第2光配向區域的各配向方向而配向之液晶性化合物層。
於前述製造方法中，亦可用包含第1光配向性材料之第1塗布液及包含第2光配向性材料之第2塗布液，藉由選自由凹版印刷、柔版印刷、噴墨印刷及網版印刷構成的群組中之至少一種印刷方法形成前處理膜。
又，亦可將第1塗布液及第2塗布液中之一者進行全面塗布，在該塗布面上用另一者進行局部塗布。
又，專利申請範圍及/或說明書及/或圖式所揭示之至少2個構成要素之任意組合，亦皆為本發明所涵蓋。尤其是專利申請範圍中記載之2項以上之任意組合亦為本發明所涵蓋。
依據本發明之光學性相位差元件，可用對於偏光具有特定的異向性之2種類的光配向性材料，以此等光配向性材料對於前述偏光的電場振動面分別作成各自的配向方向之方式配設於各區域，因而，可不用遮罩而全面一次進行偏光曝光而有效率地製造相位差元件。
尤其，於使用特定的光配向性材料的情形，此種相位差元件不僅圖案化的精確度優異，也可展現所期望形狀之清晰的圖案。
又，本發明之光學性相位差元件，由於可不隔著遮罩以全面曝光而賦予光配向性，故不須用到調節曝光精確度與曝光強度等之繁雜的製造步驟，並可藉由輥對輥等來製造將相位差圖案化之相位差元件。
又，於可將光配向性材料構成的片直接作為相位差元件使用的情形，即使不使用在配向層塗布光聚合性的液晶單體之步驟，即可將清晰的相位差圖案化。
本發明可藉由參考附圖之下述較佳實施形態的說明而更加清楚地理解。然而，實施形態及圖式係僅作為圖示及說明之用者，並非用來界定本發明的範圍。本發明之範圍係藉由專利申請範圍而規定。附圖中，於多數圖式中之相同的元件符號係表示相同的部份。
1a‧‧‧第1光配向區域
1b‧‧‧第1液晶化合物層
2a‧‧‧第2光配向區域
2b‧‧‧第2液晶化合物層
11、21‧‧‧第1光配向區域
12、22‧‧‧第2光配向區域
40‧‧‧PET膜
41‧‧‧第1塗布區域
42‧‧‧第2塗布區域
50‧‧‧將實施例1之光學相位差元件轉印而成的TAC膜
51‧‧‧具有與a區域相同的相位差值的相位差膜
52‧‧‧具有與b區域相同的相位差值的相位差膜
60、80‧‧‧玻璃板
61、81‧‧‧第1塗布區域
62、82‧‧‧第2塗布區域
63、83‧‧‧液晶性化合物層
70‧‧‧實施例1之液晶性化合物經配向而成的基板
71、72‧‧‧相位差膜
A‧‧‧偏光顯微鏡的偏振光鏡
B‧‧‧偏光顯微鏡的檢偏鏡
a、b‧‧‧材料
c‧‧‧相位差膜51的慢軸方向
c’‧‧‧相位差膜52的慢軸方向
d‧‧‧相位差膜71的慢軸方向
d’‧‧‧相位差膜72的慢軸方向
L‧‧‧直線偏光性的光
m‧‧‧第1塗布區域的慢軸方向
m’‧‧‧第2塗布區域的慢軸方向
n、n’‧‧‧第1光學異向性層的慢軸方向
圖1係表示作為將相位差圖案化而成之光學相位差元件的一例之棋盤格方式之示意圖。
圖2係表示作為將相位差圖案化而成之光學相位差元件的一例之逐線方式之示意圖。
圖3係表示本發明之將相位差圖案化而成之光學相位差元件的一例之示意圖。
圖4係表示實施例1之將相位差圖案化而成之光學相位差元件的製作方法之示意圖。
圖5(A)~(C)係表示實施例1之將相位差圖案化而成之光學相位差元件的偏光顯微鏡觀察圖及光學系統之示意圖。
圖6係表示將相位差圖案化而成之光學相位差元件的一例之示意圖。
圖7係表示實施例3之將配向方向不同的配向層圖案化而製作基材的方法之示意圖。
圖8(A)~(C)係表示實施例3之將配向方向不同的配向層圖案化，在其配向層上使液晶性化合物配向時的偏光顯微鏡觀察圖及光學系統之示意圖。
圖9係表示實施例4之將相位差圖案化而成之光學相位差元件的製作方法之示意圖。
圖10(A)~(C)係表示實施例4之將相位差圖案化而成之光學相位差元件的偏光顯微鏡觀察圖及光學系統之示意圖。
(實施發明之形態)
(將相位差圖案化而成之光學相位差元件之基本構成)
於本發明之將相位差圖案化而成之光學相位差元件中，係使由於偏光照射而平行於該偏光照射的電場振動面配向的第1光配向區域、和由於前述偏光照射而垂直於該偏光照射的電場振動面配向的第2光配向區域，分別配置於相鄰的區域，前述第1光配向區域與前述第2光配向區域的慢軸互為不同。
光學相位差元件亦可由第1光配向區域及第2光配向區域構成，此等區域直接作用為具有光配向性的液晶性材料，可為未設置配向膜亦可直接發揮相位差的圖案化之第1實施態樣。又，作為另外的態樣，可為係第1光配向區域與第2光配向區域作用為配向膜，並在此配向膜上配置液晶性化合物層，使該液晶性化合物層的配向固定之第2實施態樣。
(第1實施形態)
例如，第1實施態樣之將相位差圖案化而成之光學相位差元件，係使由於偏光照射而平行於該偏光照射的電場振動面配向的第1光配向區域、和由於前述偏光照射而垂直於該偏光照射的電場振動面配向的第2光配向區域，分別配置於相鄰的區域，前述第1光配向區域與前述第2光配向區 域的慢軸互為不同，此等區域為作為具有光配向性的液晶性材料而作用之光學相位差元件亦可。
於前述光學相位差元件中，區域間彼此的相位差之慢軸(或快軸)方向為不同的相位差之圖案化，可依光學元件的用途而做適當的設定。
圖1表示作為圖案化之一例之第1光配向區域與第2光配向區域為棋盤格狀的相鄰之棋盤格方式的示意圖。圖1中，第1光配向區域11與第2光配向區域12係相鄰配置成為格子狀。
又，圖2係表示圖案化之另一例，第1光配向區域與第2光配向區域於水平方向為條紋狀相鄰之逐線方式的示意圖。圖2中，第1光配向區域21與第2光配向區域22係相鄰交替配置為條紋狀。再者，圖3例示將逐線方式的相位差圖案化而成之光學相位差元件之示意圖。圖3中，具有相對於水平方向為+45°(第1光配向區域21)、-45°(第2光配向區域22)的慢軸之區域係配置成條紋狀。
當材料a為對照射的偏光之電場振動面平行(或垂直)，向著慢軸產生異向性，材料b對照射的偏光之電場振動面垂直(或平行)，向著慢軸產生異向性之情形，可得到將吻合於顯示裝置的像素相鄰配置成棋盤格狀的像素之相位差的慢軸(或快軸)方向改變90°的棋盤格方式、或於水平方向逐一像素交替地使相位差的慢軸(或快軸)方向改變90°之逐線方式的將相位差圖案化而成之光學相位差元件。
(第2實施形態)
本發明之第2實施態樣之將相位差圖案化而成之光學相位差元件，亦可由配向膜與在此配向膜上沿著前述第1及第2光配向區域的各配向方向而配向而成之液晶性化合物層構成；所述配向膜中，使由於偏光照射而平行於該偏光照射的電場振動面配向的第1光配向區域、和由於前述偏光照射而垂直於該偏光照射的電場振動面配向的第2光配向區域，分別配置於相鄰的區域，且前述第1光配向區域與前述第2光配向區域的慢軸互為不同。
於本發明之光學相位差元件中，區域間彼此的相位差之慢軸(或快軸)方向為不同之相位差的圖案化，可依光學元件用途做適當的設定。
圖1表示作為圖案化的一例之第1光配向區域與第2光配向區域為棋盤格狀的相鄰之棋盤格方式的示意圖。圖1中，第1光配向區域11與第2光配向區域12係互相鄰接配置成格子狀。
又，圖2表示作為圖案化的另一例之第1光配向區域與第2光配向區域於水平方向相鄰且為條紋狀之逐線方式的示意圖。圖2中，第1光配向區域21與第2光配向區域22係互相鄰接配置成交替的條紋狀。
再者，圖6例示在第1光配向區域1a、和第2光配向區域2a上使液晶化合物配向並使配向固定而成之逐線方式的將相位差圖案化而成之光學相位差元件。圖6中，具有相對於水平方向為+45°(第1液晶化合物層1b)、-45°(第2液晶化合物層2b)的慢軸之區域係配置成條紋狀。
(光配向性材料)
本發明中，第1光配向性材料和第2光配向性材料係由互為不同的光配向性材料所形成，第1光配向區域係由由於偏光照射而平行於該偏光照射的電場振動面配向之第1光配向性材料形成，第2光配向區域係由由於偏光照射而垂直於該偏光照射的電場振動面配向之第2光配向性材料形成。
此種光配向性材料只要可發揮預定的配向性皆可並無特別限定，但第1及第2光配向區域，通常至少含有具有光配向的液晶性材料、或具有光配向性或可引起光配向性的感光性聚合物材料，依需要亦可含有後述之低分子化合物。
(具有光配向性之液晶性材料或感光性聚合物材料)
作為第1及第2光配向性材料中所含有的具有光配向性之液晶性材料，可例示：(i)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有含有由感光性基與液晶元單元隔著或不隔著間基而鍵結之構造之側鏈；及(ii)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有感光性的側鏈並且於側鏈末端具有羧基。此等可單獨使用 或組合2種以上使用。
又，於光學相位差元件更具有液晶性化合物層的情形，作為第1及第2光配向性材料，不僅可利用液晶性材料，亦可利用具有光配向性之感光性聚合物材料。作為感光性聚合物材料，係至少具有感光性基者，可列舉具有由於偏光照射會進行異向交聯、異構化的感光性基之材料、或具有由於偏光照射會進行異向分解反應的感光性基之材料等。
作為感光性聚合物材料，可例示例如：(i)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有含有感光性基與液晶元單元為隔著或不隔著間基而鍵結之構造之側鏈、及(ii)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有側鏈並且於側鏈末端具有羧基、(iii)於側鏈具有肉桂醯基之肉桂酸乙烯酯系感光性聚合物(例如，聚肉桂酸乙烯酯、聚甲氧基肉桂酸乙烯酯等)、及(iv)於主鏈或側鏈具有偶氮苯基、二苯乙烯基等之順式-反式異構化感光性聚合物等，此等可單獨使用或組合2種以上使用。
於具有此種光配向性的感光性聚合物中，由於偏光照射所產生的異向性之慢軸(或快軸)的方向，可藉由感光性基、成為液晶元成分的取代基(液晶元單元)、間基等之種類、分子構造等而適當調節，作為第1光配向性材料及第2光配向性材料，可適當選擇呈現出所期望的配向性之材料即可。
又，本發明中所謂之「感光性基」，係指由於光照射會與其他分子鍵結之官能基。又，本發明中，所謂之「液晶性材料」，係指單獨對材料施予外部刺激(施予加熱、冷卻、電場、磁場、剪切力等)時會呈現液晶性，或由於與溶劑或非液晶成分之混合可呈現液晶性之材料。
更詳細言之，作為前述感光性基，可例示：肉桂醯基、查酮基、香豆素基、亞肉桂基、聯苯丙烯醯基、呋喃基丙烯醯基、萘丙烯醯基(或其等之衍生物)等，作為液晶元單元，可例示：聯苯、三聯苯、苯甲酸苯酯、偶氮苯等之取代基，作為間基，可例示：亞烷基、氧亞烷基等。
又，作為具有感光性側鏈並且於側鏈末端具有羧基之側鏈液晶呈現型感光性聚合物，較佳可使用：具有於側鏈末端有羧基的感光性側鏈，藉由該側鏈末端的羧基之氫鍵結之2量化而形成剛直的構造，即使於側鏈本身不含有液晶元基構造亦可呈現液晶性的聚合物。
又，作為構成上述側鏈液晶呈現型感光性聚合物的主鏈，可舉出：隔著間基與上述側鏈鍵結之烴、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、矽氧烷、馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等。此等聚合物可為由相同的重複單元構成的均聚物或由具有不同構造的側鏈之多數單元構成的共聚物、或在具有含有感光性基的側鏈之單元上以不致損及液晶性的程度摻合具有不含感光性基之側鏈的單元所得到之共聚物。
再者，為提高耐熱性，亦可為在上述聚合物中導入反應性基，並藉由異氰酸酯材料、環氧材料等之交聯劑，在無損於液晶性的程度下導入交聯構造而得之聚合物；亦可加入作為後述的低分子材料之2官能性低分子材料，使其聚合，而使感光性聚合物含有交聯性聚合物。
又，為調整感光性亦可添加光增感劑。作為此光增感劑，較佳可使用：安息香甲醚、安息香異丙醚、及α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮之類的安息香衍生物；二苯基酮、2,4-二氯二苯基酮、鄰苯醯苯甲酸甲酯、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯基酮、及4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮之類的二苯基酮衍生物等之光增感劑。
作為用以形成此種光學異向性層之聚合物，較佳者可用日本特開平11-189665號公報、日本特開2002-202409號公報、日本特開2004-170595號公報、日本特開2005-232345號等中本專利申請人所揭示之液晶性聚合物。
更佳者亦可為：例如，第1光配向區域及第2光配向區域係分別由從具有下式(1)~(3)表示的側鏈之單體單元形成之側鏈液晶呈現型感光性聚合物 構成的群組中選出之互為不同的光配向性材料形成。
前式(1)及(2)中，n表示1~12的整數，m表示1~12的整數；X或Y分別表示：空無、-COO、-OCO-、-N=N-、-C=C-或-C6H4-；W1及W2為相同或不同，表示肉桂醯基、查酮基、亞肉桂基、聯苯丙烯醯基、呋喃基丙烯醯基、萘丙烯醯基或該等之衍生物；
前述(3)中，s表示0或1，t表示1~3之整數，R表示H、烷基(例如，C1-10烷基)、烷氧基(例如，C1-10烷氧基)或鹵素。
此等側鏈液晶呈現型感光性聚合物之中，例如，作為由於偏光照射所產生的異向性的慢軸平行於電場振動方向之第1光配向性材料，亦可使用由具有前述式(1)表示之側鏈的單體單元形成的側鏈液晶呈現型感光性聚合物。
更佳者可舉出：作為此種聚合物，係用具有以前述式(1)中之n為6、m為2、X為空無、W1為肉桂醯基表示的側鏈之單體形成的聚合物等。
又，作為由於偏光照射所產生的異向性的慢軸垂直於電場振動方向之第2光配向性材料，亦可使用由具有前述式(2)或(3)表示之側鏈的單體單元形成的側鏈液晶呈現型感光性聚合物。
更佳者可舉出：作為此種聚合物，係用具有以前述式(2)中之n為6、Y為空無、W2為4-甲氧基肉桂醯基表示的側鏈之單體形成的聚合物，或用具 有以前述式(3)中之s為1、t為1、R為H表示的側鏈之單體形成的聚合物等。
(低分子化合物)
本發明中，為增強在光配向區域之配向性，亦可於前述具有感光性基的感光性聚合物之外再混合低分子化合物。作為此低分子化合物，較佳可使用：具有已知作為液晶元成分的聯苯基、三聯苯基、苯甲酸苯酯、偶氮苯等之取代基，且此等取代基與烯丙基、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、肉桂酸基(或其衍生物基)等的官能基隔著如前述間基而鍵結成的具有液晶性者。此等低分子材料，不僅可作為單一材料的形式使用，亦可混合多數材料使用。較佳為，此等低分子材料，宜在相對於感光性聚合物為5~50重量%的範圍內，更佳為10~30重量%的範圍內添加。
(液晶性化合物)
於光學相位差元件具有液晶性化合物層的情形，在光配向膜上配向之液晶性化合物層，係藉由將液晶性化合物塗布於光配向膜後，使液晶性化合物沿著光配向膜的配向方向配向而形成。液晶性化合物可為液晶性聚合物，亦可為液晶性單體，只要是單獨對材料施予外部刺激(施予加熱、冷卻、電場、磁場、剪切力等)時會呈現液晶性，或藉由與溶劑或非液晶成分之混合可呈現液晶性之材料皆可，可使用公知的液晶性化合物。
例如，液晶性化合物可為在主鏈或側鏈具有可藉由光或熱進行聚合的官能基之液晶性單體或液晶性聚合物，亦可為藉由異氰酸酯、環氧材料等之交聯劑，在無損於液晶性的程度內導入交聯構造而成的液晶性聚合物或液晶性單體。
又，作為液晶性化合物亦可塗布作為低分子材料之2官能性低分子液晶材料。此情形下，係使低分子液晶材料於配向後進行聚合而形成交聯性之液晶性聚合物層。
又，於液晶性化合物中，視需要亦可添加光聚合起始劑或增感劑。如此之液晶性化合物，係於第1及第2光配向區域上因應於配向膜之各配向方向而配向之後，使該配向固定。藉此，可在配向層上形成由液晶性化合物構成的既定的相位差經圖案化而成的光學異向性層(液晶性化合物層)。
(第1實施態樣之光學相位差元件之製造方法)
第1實施態樣之光學相位差元件之製造方法至少具備下述步驟： 前處理片形成步驟，係使第1光配向性材料與第2光配向性材料分別形成於相鄰的區域；照射步驟，其係對前述前處理片於不隔著遮罩之下以偏光進行全面照射，使第1光配向性材料由於此偏光照射而平行於該偏光照射之電場振動面配向，並使第2光配向性材料由於此偏光照射而垂直於該偏光照射之電場振動面配向。
(前處理片形成步驟)
在前處理片形成步驟中，首先使第1光配向性材料與第2光配向性材料分別形成於相鄰的區域。此情形下，針對第1光配向性材料與第2光配向性材料，分別製備含有第1光配向性材料的第1塗布液及含有第2光配向性材料的第2塗布液。
此等塗布液中，係使前述具有光配向性的側鏈液晶呈現型感光性聚合物與視需要而添加的低分子化合物、光增感劑、及其他成分(聚合觸媒等)溶解於適當的溶劑中。又，為提高塗布性、提高對基材的密接性，亦可在無損於配向性的程度內添加各種添加劑。
作為溶劑，可列舉：二氧陸圜、二氯乙烷、環己酮、甲苯、四氫呋喃、鄰二氯苯、甲乙酮、甲異丁酮等，此等溶劑可單獨使用或混合使用。
作為塗布方式，可利用因應於圖案化之印刷方法，作為印刷方法，可列舉：凹版印刷、柔版印刷、噴墨印刷及網版印刷等。用此等印刷方法將得到之塗布液因應於所望之圖案塗布於支撐體上。
又，第1塗布液及第2塗布液可同時塗布，亦可分別塗布，任一者皆 可。
又，可視需要使其乾燥，在支撐體上形成前處理片(亦即液晶性聚合物層)。
此時之乾燥可於常溫進行，依材料而異，可於例如60℃以下的低溫度加熱而乾燥。又，溫度若上升過高則形成的膜會有白濁的情形。
(偏光線照射步驟)
對如上述般製備之前處理片，於不隔著遮罩下照射偏光(例如，直線偏光性紫外線)。由於此偏光照射使第1光配向材料平行於該偏光照射的電場振動面配向，使第2光配向材料垂直於該偏光照射的電場振動面配向。
照射之偏光，只要是可和感光性基的部份反應之波長的光皆可，並無特別限定，偏光的波長依液晶性聚合物的側鏈之種類而異，通常為200~500nm，其中尤以250~400nm的有效性較高的情形居多。由於偏光照射，使液晶性聚合物進行光學上之單軸或雙軸配向。
又，偏光照射，視需要亦可在加熱下進行。
(偏光照射後之加熱步驟)
偏光照射後，視需要亦可進一步對膜進行加熱。藉由加熱，於膜內會進行分子運動，未發生光反應的聚合物之側鏈(及低分子材料)會再配向成和經光反應的側鏈為同方向。其結果，使側鏈液晶呈現型感光性聚合物的側鏈(及低分子材料)的分子配向成平行或垂直於照射的直線偏光的電場振動方向，在膜全體形成引發雙折射性之光配向區域。偏光性紫外線照射後的加熱可促進此再配向。
又，繼此加熱步驟之後，亦可進一步進行冷卻步驟。若使於曝光後加熱使未反應側鏈配向而成的膜、或在加熱下使其曝光並配向而成的膜冷卻到該高分子的軟化點以下，則膜內部的分子會成為凍結狀態而得到良好的光配向性。冷卻，通常較佳為放置冷卻，若進行急速冷卻，會有配向不足的情形。
(非偏光性之紫外線照射)
較佳為接著對前述經光配向而成的層照射非偏光性紫外線。若照射非偏光性紫外線，在膜中殘存未反應的具有感光性基之側鏈液晶呈現型感光性聚合物(及低分子材料)會進行反應使配向固定，而可形成安定的光配向層。又，非偏光性紫外線之照射，通常可於不加熱下進行，但於必須調整(降低)相位差值的情形，亦可加熱下進行。
如上述之做法，藉由不使用遮罩對全面一次進行偏光曝光，可製作得將相位差圖案化而成之光學相位差元件，其係形成有在棋盤格狀或於水平方向交替條紋狀之相鄰的區域彼此的相位差之慢軸(或快軸)方向為不同的光學異向性層。如此的光學相位差元件，即使不進一步於配向層上塗布光聚合性的液晶單體，亦可發揮良好的相位差性。
(第2實施態樣之光學相位差元件之製造方法)
第2實施態樣之光學相位差元件之製造方法至少具備：前處理膜形成步驟，係使第1光配向性材料與第2光配向性材料分別形成於相鄰的區域而成；照射步驟，係對前述前處理膜於不隔著遮罩之下以偏光進行全面照射，使第1光配向性材料由於此偏光照射而平行於該偏光照射之電場振動面配向以形成第1光配向區域，並使第2光配向性材料由於此偏光照射而垂直於該偏光照射之電場振動面配向以形成第2光配向區域，形成前述第1及第2光配向區域的慢軸互為不同之配向膜；液晶性化合物層形成步驟，係在前述配向膜上塗布液晶性化合物以形成分別沿著前述第1及第2光配向區域的配向方向而配向之液晶性化合物層。
(前處理膜形成步驟)
在前處理膜形成步驟中，首先使第1光配向性材料與第2光配向性材料分別形成於相鄰的區域。此情形下，針對第1光配向性材料與第2光配 向性材料，係分別製備含有第1光配向性材料的第1塗布液及含有第2光配向性材料的第2塗布液。
此等塗布液中，係使前述具有光配向性的感光性聚合物材料(例如，側鏈液晶呈現型感光性聚合物、肉桂酸乙烯酯系感光性聚合物、順式-反式異構化感光性聚合物等)、視需要而添加的低分子化合物、光增感劑、及其他成分(聚合觸媒等)溶解於適當的溶劑中。又，為提高塗布性、提高對基材的密接性，亦可在無損於配向性的程度內添加各種添加劑。
作為溶劑，可列舉：二氧陸圜、二氯乙烷、環己酮、甲苯、四氫呋喃、鄰二氯苯、甲乙酮、甲異丁酮等，此等溶劑可單獨使用或混合使用。
作為塗布方式，可利用因應於圖案化之印刷方法，作為印刷方法，可列舉：凹版印刷、柔版印刷、噴墨印刷及網版印刷等。用此等印刷方法將得到之塗布液因應於所望圖案塗布於支撐體上。
又，第1塗布液及第2塗布液可同時塗布，亦可分別塗布，任一者皆可。於分別塗布的情形，第1塗布液及第2塗布液可分開塗布於支撐面上，亦可在經塗布塗布液之一的面上重疊塗布另一塗布液。塗布面視需要可適當使其乾燥而在支撐體上形成前處理膜(亦即感光性聚合物層)。
任一者之塗布面皆可視需要而適當使其乾燥。此情形下之乾燥可在常溫進行，依材料而異，亦可加熱至例如60℃以下的低溫度下進行。又，溫度若上升過高則形成的膜會有白濁的情形。
例如，亦可在將塗布液之一塗布於全部支撐面上形成塗布面之後，將另一塗布液局部地塗布於前述塗布面而形成另外的塗布面。此等塗布面呈現因應存在於最上層的感光性聚合物材料之性質之光配向性。
此情形下，具有不僅無須就彼此的材料之塗布位置進行定位，並且於全面塗布時也不須印刷版的優點。
又，於在以經塗布液之一塗布的面上重疊塗布另一塗布液的情形，較佳宜為在初次的塗布面經乾燥後再塗布另一塗布液。
(偏光線照射步驟)
對如上述般製備之前處理膜，於不隔著遮罩下照射偏光(例如，直線偏光性紫外線)。利用此偏光照射使第1光配向材料平行於該偏光照射的電場振動面配向，使第2光配向材料垂直於該偏光照射的電場振動面配向。
照射之偏光，只要是可和感光性基的部份反應之波長的光皆可，並無特別限定，偏光的波長依液晶性聚合物的側鏈之種類而異，通常為200~500nm，其中尤以250~400nm的有效性較高的情形居多。由於偏光照射，使液晶性聚合物進行光學上之單軸或雙軸配向。
又，偏光照射，視需要亦可在加熱下進行。
(偏光照射後之加熱步驟)
偏光照射後，視需要亦可進一步對配向膜進行加熱。藉由加熱，於配向膜內會進行分子運動，未發生光反應的聚合物之側鏈(及低分子材料)會再配向成和經光反應的側鏈為同方向。其結果，使感光性聚合物的側鏈(及低分子材料)的分子配向於平行或垂直於所照射之直線偏光的電場振動方向，並在配向膜全體形成引發雙折射性之光配向區域。偏光性紫外線照射後的加熱可促進此再配向。
(液晶性化合物層之形成步驟)
接著，將前述的液晶性化合物以既定的厚度塗布於配向膜上。經塗布的液晶性化合物，通常一經加熱而轉移為等向相後，藉由降溫至室溫，分子軸會沿著形成於各配向膜的第1及第2光配向區域之各自的配向方向而配向，而形成液晶性化合物層(相位差值為例如，80~180nm，較佳為100~160nm左右)。
又，於液晶性化合物為光聚合性的液晶性化合物的情形，較佳為進一步以非偏光性紫外線照射。藉由以非偏光性紫外線照射，可使液晶性化合物層中的液晶性化合物之配向固定。
再者，形成於配向膜上之光學相位差元件亦可自支撐體剝離後利用， 此情形下，得到之光學相位差元件可藉由適當的剝離方式來剝離。
[實施例]
以下，基於實施例更詳細地說明本發明，但本發明並不因實施例而受到限定。有關本發明之實施例中使用的材料的合成方法如下述。
(單體1)
藉由使4,4’-聯苯二醇與2-氯乙醇在鹼性條件下加熱，合成4-羥基-4’-羥基乙氧基聯苯。在鹼性條件下使1,6-二溴己烷與此生成物反應，合成4-(6-溴己氧基)-4’-羥基乙氧基聯苯。接著，與甲基丙烯酸鋰反應，合成4-(6-甲基丙烯醯氧基己氧基)-4’-羥基乙氧基聯苯。再於鹼性條件下加入肉桂醯基氯，合成由下式(4)表示之單體1。
(單體2)
藉由使對香豆酸與6-氯-1-己醇在鹼性條件下加熱，合成4-(6-羥基己氧基)肉桂酸酯。對此生成物在對甲苯磺酸存在下加入大量過剩甲基丙烯酸使其進行酯化反應，合成由下式(5)表示之單體2。
(低分子化合物1)
藉由使4,4’-聯苯二醇與2-氯乙醇在鹼性條件下加熱，合成4-羥基-4’-羥基乙氧基聯苯。在鹼性條件下使1,6-二溴己烷與此生成物反應，合成4-(6-溴己氧基)-4’-羥基乙氧基聯苯。接著，與甲基丙烯酸鋰反應，合成4-(6-甲基丙烯醯氧基己氧基)-4’-羥基乙氧基聯苯。再於鹼性條件下加入甲基丙烯醯 氯，合成由下式(6)表示之低分子化合物1。
(聚合物1)
藉由使單體1溶解於四氫呋喃中，添加作為反應起始劑之AIBN(偶氮雙異丁腈)，在56℃聚合24小時，得到感光性的聚合物1。此聚合物1呈現液晶性。
(聚合物2)
藉由使單體2溶解於二氧陸圜中，添加作為反應起始劑之AIBN(偶氮雙異丁腈)，在70℃聚合24小時，得到感光性的聚合物2。此聚合物2呈現液晶性。
[實施例1]
將聚合物1與低分子材料1以重量比85：15混合以甲苯溶解，再添加0.05重量份之市售(東京化成)的4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮，製備成溶液1。又，將聚合物2溶解於1,4-二氧陸圜中，製備成溶液2。如圖4之示意圖所例示般，將此溶液1用凹版印刷試驗機塗布於對苯二甲酸乙二酯膜(PET膜)40上，使塗布區域成為約150μm寬。使此基板於室溫下(約25℃)乾燥，形成第1塗布區域41。再將溶液2用凹版印刷試驗機塗布於形成有第1塗布區域的PET膜上，使塗布區域成為約250μm寬。使此基板於室溫下(約25℃)乾燥，在PET膜上形成第1塗布區域41與第2塗布區域42。
接著，對此塗膜，以發自高壓水銀燈的光用葛蘭泰勒稜鏡(Glan-Taylor prism)轉換成直線偏光性的光L進行照射300秒，接著，於130℃加熱後放置於室溫下，費時30分鐘緩緩冷卻至室溫，引起其配向。進一步，為了使配向固定，以發自高壓水銀燈的光不轉換為直線偏光下進行照射1500秒， 在PET膜上製作得使相鄰區域彼此的相位差之慢軸(或快軸)方向m、m’互為不同的相位差圖案化而成之形成有第1光配向區域及第2光配向區域的光學相位差元件。
為了確認製作成的光學相位差元件之光學特性，用黏合劑將光學相位差元件自PET膜轉印到TAC膜上。對轉印的TAC膜50以偏光顯微鏡(crossed Nichol prism)觀察，得到圖5-(A)、圖5-(B)、圖5-(C)。圖中，A為偏光顯微鏡之偏振光鏡，B為檢偏鏡。
圖5-(A)係設定為對偏光顯微鏡的偏光方向而言，a區域為+45°的慢軸方向，b區域為-45°的慢軸方向而觀察者。於a區域、b區域皆由於相位差而產生穿透光。
圖5-(B)係插入相位差膜51者，該相位差膜51具有相對於a區域的慢軸方向之相位差值為相同之90°的慢軸方向C。a區域的相位差被抵消而被遮光，另一方面，b區域的相位差未被抵消而未被遮光(相反地相位差被增強而使穿透光增強)。
圖5-(C)係插入相位差膜52者，該相位差膜52具有相對於b區域的慢軸方向之相位差值為相同之90°的慢軸方向C’。b區域的相位差被抵消而被遮光，另一方面，a區域的相位差未被抵消而未被遮光(相反地相位差被增強而使穿透光增強)。
藉由插入軸角度相差90°的相位差膜，在a區域、b區域「抵消相位差而遮光」與「增強相位差而增加透光」會逆轉，故可確認得知形成了在a區域、b區域之相位差的慢軸(或快軸)方向相差90°的光學異向性層。
亦即，確認製作成之光學相位差元件為將相位差圖案化而成之光學相位差元件，其係形成有在水平方向交替條紋狀相鄰區域之彼此相位差的慢軸(或快軸)方向為相差90°的光學異向性層者。
[實施例3]
將聚合物1溶解於甲苯中，添加0.05重量份之4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮(東京化成製)，製備成溶液1。又，將聚合物2溶解於1,4-二氧陸圜中，製備成溶液2。如圖7之示意圖所例示般，將此溶液1塗布於玻璃板60的第1區域，使此基板於室溫下(約25℃)乾燥，形成第1塗布區域61。接著，將溶液2塗布於形成有第1塗布區域的玻璃基板上的第2區域，使此基板於室溫下(約25℃)乾燥，在玻璃基板上形成第1塗布區域61與第2塗布區域62。
接著，對此塗膜以發自高壓水銀燈的光用葛蘭泰勒稜鏡轉換成直線偏光性的光L進行照射300秒。接著，在此基材上塗布液晶性化合物(「ZLI-4792」日本默克(股)公司製)，將基板加熱至100℃使液晶性化合物轉移為等向相後，降溫至室溫。於此，對塗布有此液晶性化合物的基板以偏光顯微鏡觀察，經確認得知由液晶性化合物所形成的液晶性化合物層63係沿著光配向膜中之配向方向而配向著。
於塗布有液晶性化合物層的基板中，以偏光顯微鏡(crossed Nichol prism)針對2個區域交界附近的光學特性予以觀察所得係如圖8-(A)、圖8-(B)、圖8-(C)。圖中，A表示偏光顯位鏡的偏振光鏡，B表示檢偏鏡。
圖8-(A)，係以直線偏光性的光照射時之電場振動方向相對於偏光顯微鏡的偏光方向為45°之配置下觀察者。於a區域、b區域皆因液晶配向而產生相位差，觀察到穿透光。
圖8-(B)，係以照射直線偏光性的光時，慢軸方向C成為垂直於(90°)電場振動方向的配置插入相位差膜71。a區域的相位差被抵消成為暗狀態。另一方面，b區域則相位差未被抵消而維持原本的亮狀態(反而相位差被增強而穿透光增強)。
圖8-(C)，係以照射直線偏光性的光時，慢軸方向C成為平行於(0°)電 場振動方向的配置插入相位差膜71。此情形下，b區域的相位差被抵消成為暗狀態。另一方面，a區域則相位差未被抵消而維持原本的亮狀態(反而相位差被增強而穿透光增強)。
藉由插入軸角度相差90°的相位差膜，在a區域、b區域「抵消相位差而為暗狀態」與「增強相位差而增加穿透光」會逆轉，故可確認得知形成了在a區域、b區域配向方向相差90°的配向方向m、m’之配向層。如上述，確認得知：藉由本發明之製造方法，可製作液晶性化合物的配向方向依區域而異的配向層。
亦即，經確認得知：於製作之光學相位差元件中，形成了在水平方向交替為條紋狀相鄰的區域中，液晶性化合物的慢軸(或快軸)方向相差90°的光學異向性層。
[實施例4]
將聚合物1溶解於甲苯中，添加0.05重量份之4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮(東京化成製)，製備成溶液1。又，將聚合物2溶解於1,4-二氧陸圜中，製備成溶液2。如圖9之示意圖所例示般，將此溶液1塗布於玻璃板80全面，使此基板於室溫下(約25℃)乾燥，形成聚合物1的第1塗布層81。接著，將溶液2塗布於形成有塗布層81的玻璃基板上的特定區域82，使此基板於室溫下(約25℃)乾燥，在玻璃基板上形成第1塗布區域81與第2塗布區域82。
接著，對此塗膜以發自高壓水銀燈的光用葛蘭泰勒稜鏡轉換成直線偏光性的光L進行照射300秒。接著，於120℃加熱後，費時30分鐘緩緩冷卻至室溫，用作為配向膜。接著，在此基材上，將液晶性化合物(「ZLI-4792」日本默克(股)公司製)80重量%與低分子化合物混合，對其混合入光聚合起始劑(「Irgacure907」，汽巴特用化學品公司製)0.05重量份，並使其溶解。將此混合物塗布於製作成的配向膜上，將基板加熱至70℃使混合物轉移為等向相後，降溫至室溫。於此，以偏光顯微鏡觀察，確認得知混合物層為 配向之狀態。
再以非偏光性紫外線照射300秒，使混合物層進行交聯反應。混合物層在保持著配向的狀態下漸失去流動性。如此製作成在配向層上具有光學異向性層(液晶性化合物層)83的光學相位差元件。
與實施例3同樣地用偏光顯微鏡(crossed Nichol prism)觀察製作成的相位差光學元件之2個區域的交界附近之光學特性，得到圖10-(A)、圖10-(B)、圖10-(C)。
藉由插入軸角度相差90°的相位差膜，在a區域、b區域「抵消相位差而為暗狀態」與「增強相位差而增加穿透光」會逆轉，故可確認得知形成了在a區域、b區域的相位差的慢軸(或快軸)方向n、n’相差90°的光學異向性層。
如上述可確認得知：藉由本發明之製造方法，可製作液晶性化合物的配向方向因區域而異之配向層。
亦即，製作成之光學相位差元件，係形成有在水平方向為交替條紋狀相鄰的區域中，液晶性化合物的慢軸(或快軸)方向相差90°的光學異向性層。
[產業上之可利用性]
如上述，以本發明能以簡單製造方法獲得形成有相鄰的區域彼此之相位差的慢軸(或快軸)方向不同的光學異向性層之光學相位差元件，如此之將相位差圖案化而成之光學相位差元件可適用於3D圖像顯示裝置等之圖像顯示裝置等。
如上述，已邊參照圖式邊說明了本發明之較佳實施形態，但於不脫離本發明的目的之範圍內，做各種追加、變更或刪減皆為可能，此等亦皆包含於本發明之範圍中。
21‧‧‧第1光配向區域
22‧‧‧第2光配向區域

Claims (15)

  1. 一種光學相位差元件，其係於相鄰的區域分別配置由於偏光照射而平行於該偏光照射的電場振動面配向的第1光配向區域、和由於該偏光照射而垂直於該偏光照射的電場振動面配向的第2光配向區域，且該第1光配向區域與該第2光配向區域的慢軸互為不同。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學相位差元件，其中，第1光配向區域及第2光配向區域係分別由從(i)及(ii)構成的群組中選出之互為不同的聚合物形成；(i)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有含有感光性基與液晶元單元隔著或未隔著間基而鍵結成之構造之側鏈；(ii)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有側鏈並且於側鏈末端具有羧基。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學相位差元件，其係更進一步具備液晶性化合物層，該液晶性化合物層，係利用第1及第2光配向區域作為配向膜並在此配向膜上沿著該第1及第2光配向區域的各配向方向而配向。
  4. 如申請專利範圍第3項之光學相位差元件，其中，第1光配向區域及第2光配向區域係分別由從(i)、(ii)、(iii)及(iv)構成的群組中選出之互為不同的聚合物形成；(i)側鏈液晶呈現型感光性聚合物，具有含有感光性基與液晶元單元隔著或不隔著間基而鍵結成之構造之側鏈；(ii)具有側鏈並且於側鏈末端具有羧基之側鏈液晶呈現型感光性聚合物；(iii)於側鏈具有肉桂醯基之肉桂酸乙烯酯系感光性聚合物；(iv)順式-反式異構化感光性聚合物。
  5. 如申請專利範圍第1項之光學相位差元件，其中，第1光配向區域及第2光配向區域係分別由從具有下式(1)~(3)之任一者表示的側鏈之單體單元形成之感光性聚合物構成的群組中選出之互為不同的聚合物形成； (前式(1)及(2)中，n表示1~12的整數，m表示1~12的整數；X或Y分別表示：空無、-COO、-OCO-、-N=N-、-C=C-或-C6H4-；W1及W2為相同或不同，表示肉桂醯基、查酮(chalcone)基、亞肉桂基(cinnamylidene)、聯苯丙烯醯基、呋喃基丙烯醯基、萘丙烯醯基或該等之衍生物)； (前式(3)中，s表示0或1，t表示1~3之整數，R表示H、烷基、烷氧基或鹵素)。
  6. 如申請專利範圍第5項之光學相位差元件，其中，第1光配向區域係由具有前式(1)表示之側鏈的單體構成之聚合物形成，第2光配向區域係由具有前式(2)或(3)表示之側鏈之單體構成之聚合物形成。
  7. 如申請專利範圍第1項之光學相位差元件，其係使用於3D圖像顯示裝置。
  8. 一種疊層體，其係疊層有如申請專利範圍第1項之光學相位差元件、與偏光元件。
  9. 一種圖像顯示裝置，其係安裝有如申請專利範圍第1項之光學相位差元件。
  10. 一種光學相位差元件之製造方法，其係具備下述步驟：前處理片形成步驟，係使第1光配向性材料與第2光配向性材料分別形成於相鄰的區域；照射步驟，其係對該前處理片於不隔著遮罩之下以偏光進行全面照射，使第1光配向性材料由於此偏光照射而平行於該偏光照射之電場振動面配向以形成第1光配向區域，並使第2光配向性材料由於此偏光照射而垂直於該偏光照射之電場振動面配向以形成第2光配向區域。
  11. 如申請專利範圍第10項之光學相位差元件之製造方法，其係使用包含第1光配向性材料之第1塗布液及包含第2光配向性材料之第2塗布液，利用從由凹版印刷、柔版印刷、噴墨印刷及網版印刷構成的群組中選出之至少一種印刷方法形成前處理片。
  12. 如申請專利範圍第10項之光學相位差元件之製造方法，其係於偏光照射步驟後接著進行加熱步驟，再進行冷卻步驟。
  13. 一種光學相位差元件之製造方法，其係具備下述步驟：前處理膜形成步驟，係使第1光配向性材料與第2光配向性材料分別形成於相鄰的區域；照射步驟，係對該前處理膜於不隔著遮罩之下以偏光進行全面照射，使第1光配向性材料由於此偏光照射而平行於該偏光照射之電場振動面配向以形成第1光配向區域，並使第2光配向性材料由於此偏光照射而垂直於該偏光照射之電場振動面配向以形成第2光配向區域，形成該第1及第2光配向區域的慢軸互為不同之配向膜；液晶性化合物層形成步驟，係在該配向膜上塗布液晶性化合物以形成沿著該第1及第2光配向區域的各配向方向而配向之液晶性化合物層。
  14. 如申請專利範圍第13項之光學相位差元件之製造方法，其係使用包含第1光配向性材料之第1塗布液及包含第2光配向性材料之第2塗布液，利用從由凹版印刷、柔版印刷、噴墨印刷及網版印刷構成的群組中選出之至少一種印刷方法形成前處理膜。
  15. 如申請專利範圍第13項之光學相位差元件之製造方法，其係於前處理膜形成步驟中，以包含第1光配向性材料之第1塗布液及包含第2光配向性材料之第2塗布液中之一者進行全面塗布，並在該塗布面上以另一者進行局部塗布。
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