TW201314524A - 用於觸控螢幕人機介面裝置之污跡控制的系統及方法 - Google Patents

Abstract

本發明揭示一種用於觸控螢幕人機介面裝置之污跡控制的系統及方法。在一實施例中，一觸控螢幕人機介面裝置包括：一觸敏顯示表面，該觸敏顯示表面包含具有相對於一污染物材料之一第一表面能之一第一區；及複數個成核位點之一圖案，其分佈在該第一區內，其中該複數個成核位點之各者擁有比相對於該污染物材料之該第一表面能高之一第二表面能。

Description

用於觸控螢幕人機介面裝置之污跡控制的系統及方法

觸控螢幕顯示器為容許個人藉由用其等手指實體觸控顯示器之特定區而將輸入提供至一電腦系統之人機介面裝置。該等選定區將與該等個人希望提供之該輸入相關聯且將藉由特定文字或圖形而在顯示器上經視覺識別。因為人類之手及手指分泌油脂且攜帶其他污染物，所以此等材料係在個人正常操作期間沈積在觸控螢幕顯示器上。此等污染物在顯示器上之沈積增大反射率，此可在使用者不再讀取顯示資訊或判定應選擇螢幕之哪些區來提供一所需輸入時使顯示器最終不可用。

對於一些應用(諸如可攜式個人電子裝置)，此降級並不重要，因為裝置之用途係個人方便之一關鍵問題且與機械或安全之操作無直接關係。另外，(諸如)藉由使用一件可用衣物來擦拭螢幕而容易地清潔可攜式個人電子裝置上之觸控螢幕顯示器。在其他應用(諸如機載航空電子系統或工廠控制室)，清潔顯示器之機會更為受限。例如，當飛機在飛行時，機組人員應能夠專注於比定期清潔飛機儀表更優先之關注。此外，因為存在非有意啟動或停用系統功能或變更組態之風險，所以不期望在控制服務設備時清潔觸控螢幕顯示器。已引入部分解決觸控螢幕顯示器上之污染物引發之反射率問題之低表面能疏油膜。然而，雖然此等膜在多數情況下緩解鏡面反射率之增大，但其等趨向於增大漫反射率，此亦負面影響顯示器之光學效能。

因為上述原因及熟悉此項技術者在閱讀及理解本說明書之後將瞭解之下述其他原因，所以在此項技術中需要用於觸控螢幕人機介面裝置之污跡控制的改良系統及方法。

本發明之實施例提供用於觸控螢幕人機介面裝置之污跡控制的方法及系統且將藉由閱讀及研習以下說明書而理解本發明之實施例。

在一實施例中，一觸控螢幕人機介面裝置包括：一觸敏顯示表面，該觸敏顯示表面包含具有相對於一污染物材料之一第一表面能之一第一區；及複數個成核位點之一圖案，其分佈在該第一區內，其中該複數個成核位點之各者擁有比相對於該污染物材料之該第一表面能高之一第二表面能。

當鑒於較佳實施例及以下圖式之描述而考量時，可更容易理解本發明之實施例且更易於瞭解該等實施例之另外優點及用途。

根據慣例，各種描述特徵並非按比例繪製，且經繪製以強調與本發明有關之特徵。元件符號標示全部圖式及正文中之相同元件。

在以下詳細描述中，參考形成本發明之一部分之附圖，且可在實踐本發明時藉由特定繪示性實施例而展示附圖。足夠詳細地描述此等實施例以使熟悉此項技術者能夠實踐本發明，且應瞭解可使用其他實施例及可在脫離本發明之 範疇之情況下作出邏輯、機械及電改變。因此，以下詳細描述並非意在限制。

如一般技術者在閱讀本發明之後所瞭解，當一指印係施加至一低表面能疏油表面時，形成印跡之油脂將趨向於集聚成液滴。若此印跡係代以施加至一高表面能親油表面時，則油脂不太可能集聚且可代以擴散以產生一高反射區，該區在反射率通常較低之一表面上尤為顯眼。通常，量測與一特定污染物與一表面之間之一接觸角相關之表面能。該污染物與該表面之間之該接觸角隨表面能減小而增大。即，油脂不偏好於接觸疏油表面且因此集聚(由於曲率半徑減小)以減小油脂與該表面之接觸面積。相比而言，油脂更樂於接觸親油表面且因此因擴散而增大油脂與此等表面之接觸面積。

本發明之實施例藉由提供一觸控螢幕顯示器而利用此等兩種現象，該觸控螢幕顯示器擁有呈該顯示器之表面上之成核位點(其等將吸引及累積污染物材料)形式之不同表面能區之一圖案。如術語在本說明書中所使用，一成核位點係一區，其具有不同於一周圍區之一表面能使得相關污染物將趨向於停留在該成核位點中，而非擴散至該周圍區。在一實施例中，就一成核位點之高表面能區與一周圍低表面能區之間之污染物之接觸角差而言，污染物之接觸角差較佳為大於10度，且更佳地大於20度。污染物可包含自使用者轉移至觸控螢幕表面之水分、手指油脂及其他材料。就此等成核位點而言，相對較高表面能井係形成於具有另 一低表面能表面之一區內。使用術語「井」之原因在於其在能量上更有利於此等區中之污染物。在污染物自低表面能區遷移至高表面能井之後，污染物將希望保留在該等井中且不再進入低表面能區。此等污染物將累積在高表面能井中且趨向於保留在該等井中，直至便於清潔顯示器之一時間到來。因而，本發明之實施例容許控制污染物累積且可明顯增加觸控螢幕顯示器在清潔間隔期之可用時間及提高螢幕在清潔間隔期之光學品質。

圖1係大體上以100標示之一簡圖，其繪示本發明之一實施例之一觸控螢幕人機介面裝置110(本文中亦簡稱為觸控螢幕110)。觸控螢幕110為經由一觸敏顯示表面120而將圖形影像及文字顯示給一使用者之一電裝置。如其名稱所暗指，觸敏顯示表面120進一步充當一輸入介面，一使用者通過該輸入介面而實體地觸控顯示器之特定區以提供輸入。

觸敏顯示表面120包含成核位點140之一圖案，成核位點140具有比其上分佈成核位點140之表面120之區130高之一表面能(對於一或多個污染物)。在操作中，觸控螢幕110之正常使用期間施加至觸敏顯示表面120之污染物將被吸引至此等成核位點140且聚集於此等成核位點140處，而非以一任意方式橫跨表面120而擴撒或集聚。

在操作中，兩個不同機制之一或兩者將污染物帶至成核位點140。關於第一機制，當一使用者之手指橫跨觸控螢幕顯示器而移動時，手指將橫跨成核位點140而拖動污染 物，此將使大量污染物保留在成核位點140處。另外，成核位點140可經組態以通過由圖案及/或表面能梯度產生之凈引力而主動吸引污染物，如下所解釋。

在觸控螢幕110之一實施例中，橫跨表面120而形成之較高及較低表面能區係共面的或至少非常接近於共面。因為微纖維或其他清潔/擦拭結構將易於到達兩個區之部分，所以具有共面區係有益於結構強度及可清潔性。實質上共面可特徵化為比區之間之相對高度差大很多(例如，一或兩個數量級)的區之(若干)側向尺寸。一較佳方案為使表面能區因一薄層(例如亞微米級)之存在或不存而區別，在此情況中，區之間之相對高度差為該薄層之厚度。

在觸控螢幕110之其他實施例中，表面120經紋理化或否則具有拓撲變動。當污染程度較低時，此類型之紋理化圖案可使污染物橫跨諸多成核位點140而分佈。取決於所使用之表面能及特定圖案，對於一些實施例，表面120可包括經略微點刻或起皺之一圖案，藉此具有某種程度類似於一適度受控防眩光表面之一表面拓撲。再者，經精心選擇之圖案、尺寸及自由能可實現污染物成核位點之光散射分佈之一定程度控制。

在圖1中，成核位點140之各者係繪示為經均勻分佈之圓形表面能井。然而，其他圖案及分佈可為有益的且預期在本發明之實施例之範疇內。例如，替代實施例包含呈圓形、菱形、星形圖案、螺旋形或其他幾何形狀之成核位點140，其等包含各種尺寸、定向及錐度之條紋。圖案本身 可具隨機性及/或包括互連成核位點140。例如，對於一些實施例，將使用熟悉此項技術者已知之圖案以減小雲紋干擾之可能性。其他實施例採用一策略：將成核位點140優先放置在未用以顯示所顯示影像中之關鍵資訊之表面120之區上(例如，使用於關鍵資料或符號之顯示區之間、關鍵資訊區之周邊處、滑動軸上、文字行之間等等之成核位點密度增大)。此外，如下所論述，在替代實施例中，成核位點140包含基於空間圖案化梯度或連續類比表面能梯度之梯度特徵或功能性。本文中所論述之圖案選項之任何者不應被解譯為具互斥性。而是，應瞭解該等圖案可一起組合用在一單一表面120上。

圖2A及圖2B繪示大體上以200標示之一替代圖案，其中星形成核位點240係橫跨表面120而分佈。如上所提及，此等星形成核位點240可與上述圖案選項之任何者組合使用。此外，參考圖2A及圖2B而描述之特徵可應用於參考圖1而描述之成核位點140之任一或多者。如前所述，成核位點240各具有比其上分佈成核位點240之表面120之區130高之一表面能。

參考圖2B，成核位點240之各者包括一中心集線器250，複數個錐形射線260自中心集線器250出射。當污染物形成或聚集於各射線260之尖端270附近時，污染物將因凈引力而遷移至吸引力最強之位置處(能量「井」之中心)，該位置將在集線器250之中心處。即，相對較低表面能區130將排斥污染物且使污染物吸引至集線器250之較高表面能 區。例如，就手指油脂而言且在具疏油性之區130及具親油性之集線器250與射線260之所在位置處，油脂液滴將期望沿更具親油性之方向移動。雖然圖中展示四個錐形射線，但射線之數量、定向、長度及可行曲率可經選擇以最佳化經分佈高表面能區之所得覆蓋率及有效性。

在一實施例中，成核位點240具有橫跨其等集線器250及射線260之區之均勻表面能。在該情況中，一成核位點240本身之錐形幾何形狀產生將一污染物液滴自射線260牽引至集線器250之凈引力，尤其在液滴尺寸增大至其橫跨一射線260之局部寬度時。在其他實施例中，射線260經形成以具有自射線之尖端270或區開始之一連續的階梯狀或半色調調變表面能梯度(或由該表面能梯度替換)，該表面能梯度之表面能朝向集線器250增大。換言之，當一污染物液滴自尖端270遷移至集線器250時，其遭遇之有效表面能增大。在此等情況之各者中，存在污染物至成核位點之中心之一遷移。就一半色調(部分區)調變表面能梯度而言，高表面能子區264之一填充因數將自尖端270增大至集線器250，如圖2C中所展示。在此情況中，小子區264之各者將充當一局部成核位點，直至液滴變大至足以橫跨多個子區且因此遭遇梯度效應。本發明之實施例藉由使成核位點之一集合橫跨顯示器分佈而延遲降級光學效能之發生。

如上所提及，替代實施例包含呈圓形、菱形、星形圖案、螺旋形或其他幾何形狀之成核位點，其等包含各種尺寸、定向及錐度之條紋。圖2D至圖2H繪示成核位點之該 等潛在替代形狀之若干者。圖2D展示菱形成核位點之一圖案280。圖2E繪示由十二角星形圖案之一互連陣列形成之菱形成核位點圖案282。在兩個實例中，錐度經施加以吸入污染物。圖2F繪示由高表面能子區之交叉線形成之柵格狀成核位點圖案284。圖2G展示經平行定向之長錐形成核位點之一圖案286。圖2H繪示錐形成核位點之一圖案288，錐形成核位點具有與圖2G中之形狀相同之形狀，但沿相對於彼此之隨機方向旋轉。表面能梯度可施加至此等替代形狀成核位點之任何者以增大朝向成核位點之中心或成核位點之任何其他選定部分之表面能。

如上所提及，其他實施例採用一策略：將成核位點優先放置在未用以顯示所顯示影像中之關鍵資訊之表面120之區上。參考圖2I而描述此一實施例。在圖2I中，表面120包含具有諸如上文描述般分佈之複數個成核位點140之一區。另外，存在尤其用於顯示關鍵資料或符號之表面120之一區290。此處，一增大密度之成核位點292係設置在關鍵資訊區290之周邊處以有助於阻止該區因污染物而光學降級。另外，滑動軸296給使用者提供觸控螢幕表面120之一構件以滾動顯示資訊。因為該區將定期暴露於污染物，所以成核位點298係直接設置在滑動軸296上以阻止污染物自該區擴散。因而，污染物材料前面之顯示資訊之可見度將橫跨顯示表面120而變動。

如圖3中之曲線圖300所繪示，本發明之實施例進一步提供管理鏡面反射率與漫反射率兩者之益處。在曲線圖300 上，鏡面反射率按垂直軸繪製，而漫反射率橫跨水平軸而繪製。如310處大體上所展示，對於其中未使用低表面能抗污跡技術之顯示螢幕，該螢幕將開始變清潔。若照此使用，則油脂將自觸控螢幕之手指擴散，此將增加鏡面反射，尤其是具有一抗反射塗層之一表面上之鏡面反射。如320處大體上所展示，對於其中橫跨螢幕之整個表面而應用一低表面能抗污跡技術之螢幕，污染物將集聚，此增加漫反射。本發明之實施例之優點在於：其等延遲及限制鏡面反射與漫反射兩者之發生(由330處所展示之區繪示)。使一低表面能區橫跨顯示螢幕之大部分區以大幅減少鏡面反射之形成。引入成核位點之一圖案以將污染物吸引及保持在表面能井中且可藉由控制液滴之尺寸及分佈而減少漫反射之形成。

具有一顯示表面(其中面積之10%包括成核位點且面積之90%係一低表面能區)之實施例給大量應用提供一合理比率。具有多於或少於10%可適合於不同應用。特定言之，已閱讀過本說明書之一般技術者易於基於顯示器之意欲用途、可執行清潔之頻次及任何螢幕之既有紋理考量而判定一特定應用之高表面能區與低表面能區之比率。如上所提及，所使用之特定比率將可能影響藉由一受污染表面展現之鏡面反射與漫反射之混合。

此外，用以形成相對較高及較低表面能區之特定材料亦將變動。在一實施例中，施加碳氟化合物材料薄膜(例如，具有類似於諸如鐵氟龍之材料之表面能)以實現污染 物(諸如手指油脂或水分)之低表面能區。其中不存在該膜且使基板暴露之區將為相對較高表面能區。在其他實施例中，施加特定材料(諸如玻璃或SiO₂)以產生高表面能區。在另外實施例中，實施具有一奈米結構化表面輪廓之一表面材料以降低有效表面能且增大低表面能區之接觸角。使用材料之選擇將基於特定應用所預期之主要污染物。例如，一現代飛機之駕駛艙係一相對清潔環境使得主要相關污染物為存在於人類皮膚上之油脂。相比而言，對於一工廠中之一控制面板，觸控螢幕使用者之手可定期暴露於將為主要污染物或至少為一額外潛在污染物之其他材料。因而，選定之特定材料可相應地變動。

各種製造方法可用於製造本發明之實施例。圖4係一流程圖，其繪示用於給本發明之一實施例之一觸控螢幕人機介面裝置提供污跡控制之一方法。圖4中所述之方法適用於以上參考圖1及圖2A至圖2I而描述之實施例。

方法開始於製造一觸敏顯示表面之一透明基板之410且前進至形成該透明基板之一第一區以具有相對於一污染物材料之一第一表面能之420。在一實施例中，該透明基板包括該觸敏顯示器之表面。在其他實施例中，該透明基板為施加至該觸敏顯示器之表面之一膜或其他材料。在一實施例中，該第一區包括施加至該顯示表面之一基板之一低表面能材料(諸如膜、塗層或噴霧)。方法前進至430，其中在該第一區內形成橫跨該第一區而分佈之複數個成核位點之一圖案，其中該複數個成核位點之各者擁有比相對於該 污染物材料之該第一表面能高之一第二表面能。在一實施例中，該複數個成核位點之各者包括一相對較高表面能區，其中已移除420中所形成之低表面能材料以重新暴露下伏基板(例如玻璃)或其他下伏膜或塗層(例如抗反射塗層)。

在另一實施例中，製造複數個成核位點之圖案包括移除420中所施加之一低表面能材料之部分及在已移除低表面能材料之該等部分處施加一高表面能材料。在替代實施例中，使用諸如(但不限於)微影術、網版印刷、遮罩沈積、噴塗技術及類似者之技術來實現方塊420至430處之程序。此外，在一些替代實施例中，執行方塊之順序可經變動。

如上所論述，在一實施例中，由圖4中之方法所致之一觸控螢幕人機介面裝置導致一觸控螢幕顯示器，其擁有產生該顯示器之表面上之成核位點之不同表面能區之一圖案，該等成核位點將吸引及累積自使用者轉移至觸控螢幕表面之污染物材料，諸如水分、手指油脂及其他材料。形成於另外低表面能表面之一區上或該區內之相對較高表面能成核位點充當吸引及含有污染物之表面能井。在污染物自低表面能區遷移至高表面能井之後，污染物將趨向於保留在該等區中且不會再回遷至低表面能區中。此等污染物將趨向於累積在成核位點中且保留在該等成核位點中，直至便於清潔顯示器之一時間到來。

在一實施例中，在方塊430中，複數個成核位點係橫跨第一區而隨機分佈。在一實施例中，為利用一矩陣顯示器 來減小雲紋干擾之可能性，熟悉此項技術者已知之一圖案係用以分佈成核位點。在另一實施例中，為利用一矩陣顯示器來減小雲紋干擾之可能性，熟悉此項技術者已知之一形狀係用作為經分佈之成核位點之形狀。在又一實施例中，複數個成核位點係優先分佈在最不可能干擾某些顯示符號或影像之可見度之區中。

在一實施例中，複數個成核位點之各者在具有第一區之顯示表面上共面。在其他實施例中，觸敏顯示表面經紋理化。成核位點可為具有(諸如，但不限於)圓形、菱形、星形圖案或其他幾何形狀之幾何形表面能井，其等包含各種尺寸及定向之條紋。在一實施例中，由高表面能區互連成核位點之一或多者。此外，在一些實施例中，成核位點包括橫跨其等之區之一均勻表面能，而在其他實施例中，成核位點之一或多者包括一表面能梯度。例如，一成核位點之區可包括越接近該成核位點之中心表面能越大之一平穩變動梯度或一空間調變(例如，半色調或部分區)梯度。此將導致污染物向內遷移向成核位點之中心。在其他實施例中，具有一均勻表面能之一成核位點之幾何形狀產生將導致污染物向內遷移向該成核位點之中心(或其他指定點)之凈引力。以上圖2A及圖2B中所述之錐形射線星形圖案係此一幾何形狀。

實例實施例

實例1包含一種觸控螢幕人機介面裝置，該裝置包括：一觸敏顯示表面，該觸敏顯示表面包含具有相對於一污染 物材料之一第一表面能之一第一區；及複數個成核位點之一圖案，其分佈在該第一區內，其中該複數個成核位點之各者擁有比相對於該污染物材料之該第一表面能高之一第二表面能。

實例2包含實例1之裝置，其中該複數個成核位點之各者具有不同於該第一區之一表面能使得該污染物材料將趨向於停留在該複數個成核位點之各者內。

實例3包含實例1至實例2中任一者之裝置，其中該第一區具疏水性或疏油性之一或兩者；且其中該複數個成核位點之各者具有具親油性或親水性之一或兩者之一表面能。

實例4包含實例1至實例3中任一者之裝置，其中該複數個成核位點在具有該第一區之顯示表面上共面。

實例5包含實例1至實例4中任一者之裝置，其中該觸敏顯示表面經紋理化。

實例6包含實例1至實例5中任一者之裝置，其中該複數個成核位點包括幾何形表面能井之一圖案。

實例7包含實例6之裝置，其中該複數個成核位點包括多邊形、圓形、菱形、星形圖案或線或其等之一組合之一圖案。

實例8包含實例1至實例7中任一者之裝置，其中成核位點之一分佈橫跨該觸敏顯示表面而變動使得該污染物材料前面之顯示資訊之可見度橫跨該顯示表面而變動。

實例9包含實例1至實例8中任一者之裝置，其中該複數個成核位點之至少一者包括一表面能梯度。

實例10包含實例9之裝置，其中該表面能梯度之表面能沿朝向該複數個成核位點之該至少一者之一中心之方向增大。

實例11包含實例1至實例10中任一者之裝置，其中複數個成核位點之該圖案包括該觸敏顯示表面之少於百分之十面積。

實例12包含實例1至實例11中任一者之裝置，其中該第一區包括施加至該觸敏顯示表面之一低表面能材料。

實例13包含實例12之裝置，其中該圖案之複數個成核位點各包括其中已移除該低表面能材料之一區。

實例14包含一種用於給一觸控螢幕人機介面裝置提供污跡控制之方法，該方法包括：製造一觸敏顯示表面之一透明基板；形成該透明基板之一第一區以具有相對於一污染物材料之一第一表面能；及在該第一區內形成橫跨該第一區而分佈之複數個成核位點之一圖案，其中該複數個成核位點之各者擁有比相對於該污染物材料之該第一表面能高之一第二表面能。

實例15包含實例14之方法，其中該透明基板包括至少部分施加至該觸敏顯示表面之一基板之一低表面能材料。

實例16包含實例15之方法，其中該圖案之該複數個成核位點各包括其中已自該透明基板移除該低表面能材料之一區。

實例17包含實例14至實例16中任一者之方法，其中該複數個成核位點在具有該第一區之該顯示表面上實質上共 面。

實例18包含實例14至實例17中任一者之方法，其中該複數個成核位點之該圖案包括該觸敏顯示表面之少於百分之十面積。

實例19包含一種用於一觸控螢幕人機介面裝置之透明基板，該透明基板包括具有相對於一污染物材料之一第一表面能之一第一區；及複數個成核位點之一圖案，其分佈在該第一區內，其中該複數個成核位點之各者擁有比相對於該污染物材料之該第一表面能高之一第二表面能；其中該第一表面能與該第二表面能之一差異使得該污染物材料將趨向於停留在該複數個成核位點之各者內。

實例20包含實例19之透明基板，其中該複數個成核位點之至少一者包括一表面能梯度。

上述實施例不應被視為具互斥性，而是可經組合以提供預期在本發明之實施例之範疇內之另外實施例。雖然本文中已繪示及描述特定實施例，但一般技術者應瞭解適合於實現相同用途之任何配置可取代所展示之該等特定實施例。本申請案意欲涵蓋本發明之任何調適或變動。因此，明顯意欲本發明僅受限於申請專利範圍及其等效例。

100‧‧‧簡圖

110‧‧‧觸控螢幕人機介面裝置/觸控螢幕

120‧‧‧觸敏顯示表面

130‧‧‧第一區/低表面能區

140‧‧‧成核位點

200‧‧‧替代圖案

240‧‧‧星形成核位點

250‧‧‧集線器

260‧‧‧錐形射線

264‧‧‧高表面能子區

270‧‧‧尖端

280‧‧‧菱形成核位點圖案

282‧‧‧菱形成核位點圖案

284‧‧‧柵格狀成核位點圖案

286‧‧‧長錐形成核位點圖案

288‧‧‧錐形成核位點圖案

290‧‧‧關鍵資訊區

292‧‧‧成核位點

296‧‧‧滑動軸

298‧‧‧成核位點

300‧‧‧曲線圖

圖1係繪示本發明之一實施例之一人機介面裝置之一簡圖，其具有分佈在整個觸敏顯示表面中之成核位點之一圖案；圖2A至圖2C繪示星形成核位點之一替代圖案之實施 例；圖2D至圖2I繪示成核位點之替代形狀及組態之實施例；圖3係繪示鏡面反射率及漫反射率之一圖表；及圖4係繪示本發明之一實施例之一方法之一流程圖。

100‧‧‧簡圖

110‧‧‧觸控螢幕人機介面裝置/觸控螢幕

120‧‧‧觸敏顯示表面

130‧‧‧第一區/低表面能區

140‧‧‧成核位點

Claims (3)

1. 一種用於給一觸控螢幕人機介面裝置提供污跡控制之方法，該方法包括：製造一觸敏顯示表面120之一透明基板；形成該透明基板之一第一區130以具有相對於一污染物材料之一第一表面能；及在該第一區130內形成橫跨該第一區130而分佈之複數個成核位點140之一圖案，其中該複數個成核位點140之各者擁有比相對於該污染物材料之該第一表面能高之一第二表面能。
2. 一種觸控螢幕人機介面裝置，該裝置包括：一觸敏顯示表面120，該觸敏顯示表面120包含具有相對於一污染物材料之一第一表面能之一第一區130；及複數個成核位點140之一圖案，其分佈在該第一區130內，其中該複數個成核位點140之各者擁有比相對於該污染物材料之該第一表面能高之一第二表面能。
3. 如請求項1之方法或如請求項2之裝置，其中該複數個成核位點140之各者具有不同於該第一區130之一表面能使得該污染物材料將趨向於停留在該複數個成核位點140之各者內。