JP3186802U

JP3186802U - 表示装置

Info

Publication number: JP3186802U
Application number: JP2013004724U
Authority: JP
Inventors: 陳俊榮
Original assignee: 恆▲コウ▼科技股▲分▼有限公司
Priority date: 2013-08-05
Filing date: 2013-08-14
Publication date: 2013-10-24
Anticipated expiration: 2023-08-14
Also published as: TW201506717A; US20150036061A1; CN203386180U; CN104345953A; KR200475165Y1

Abstract

【課題】装飾層を含む表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置２００は装飾層２５で構成され、少なくとも可視領域の一部に形成される。表示モジュール２１が作動する際、発射された光線が装飾層２５を貫通すると、装飾層２５は透明状態となる。また、表示モジュール２１が作動しない時、装飾層２５は外部周辺の光線に照射されて、装飾層２５の装飾パターンが現れる。
【選択図】図２Ａ

Description

本考案は、装飾層を含む表示装置に関する。

タッチスクリーンはセンサ技術と表示技術とを組合せて形成された入力／出力装置であり、電子機器に広く使用され、特にポータブルやハンドヘルドの電子機器に使用されている。
図１は公知のタッチスクリーン１００の側面断面図であり、液晶モジュール（ＬＣＭ）１１とタッチパネル（ＴＰ）１２からなり、光学用透明粘着シリコンフィルム（ＯＣＡ）１３により被覆ガラス（ＣＧ）１４をタッチパネル１２上に貼着している。

従来から、タッチスクリーン１００が提供する機能の数は絶え間なく増加しており、その効果も絶えず強化されている。タッチスクリーン１００は部材から組立てまで全て大量生産（ｍａｓｓｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ）方式が採用されているため、タッチスクリーン１００の外観は一般に至極単調で、殆ど装飾パターンが施されていない。
一般のユーザはタッチスクリーン１００の装飾効果を高めるために、外部に装飾パターンのあるカバー（図示せず）を被せるが、費用や重量／体積が嵩んで、タッチスクリーン１００の価格、重量／体積を抑制する傾向に反している。

一部のタッチスクリーン１００は表示／タッチ領域外のエッジ領域を利用して、エッジ領域に塗付されたブラックマトリクス（ＢＭ）インクの様に、タッチスクリーン１００内部（例えば、タッチパネル１２）に装飾パターンを若干設けているが、効果は限定される。特に現行のタッチスクリーン１００は技術の進歩により、エッジ領域を縮小する傾向にあるため、エッジ領域は利用可能なスペースが極めて限られる。

そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的かつ効果的に課題を改善する本考案の提案に到った。

本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、装飾層を含む表示装置を提供することを主目的とする。即ち、表示モジュールが作動しない時、装飾層は外部周辺の光線に照射されて、装飾パターンを現し、表示モジュールが作動すると、装飾層は透明状態となることから、表示装置に現れた映像を干渉することがない。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係る表示装置は、表示モジュールと、少なくとも可視領域の一部に形成された装飾層とからなり、前記表示モジュールが作動する際、発射された光線が前記装飾層を貫通すると、前記装飾層は透明状態となる。また、前記表示モジュールが作動しない時、前記装飾層は外部周辺の光線に照射されて、前記装飾層の装飾パターンが現れることを特徴とする。

本考案によれば、コストや重量／体積を増やさない前提で、公知のタッチスクリーン１００より多くの装飾パターンが提供され、しかも表示装置の機能に影響しない表示装置が得られる。

従来のタッチスクリーンを説明する側面断面図である。本考案の第１実施形態による表示装置を説明する側面断面図である。本考案の第１実施形態の変化例による表示装置を説明する側面断面図である。本考案の表示装置を説明する上面図である。本考案の第２実施形態による表示装置を説明する側面断面図である。本考案の第２実施形態の変化例による表示装置を説明する側面断面図である。図４によるタッチモジュールの電極層を示す上面図である。本考案の第３実施形態による表示装置を説明する側面断面図である。本考案の第３実施形態の変化例による表示装置を説明する側面断面図である。本考案の第３実施形態による表示装置を説明する側面断面図である。

以下、本考案の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。

図２Ａは本考案の第１実施形態による表示装置２００を説明する側面断面図である。以下、実施形態ではタッチスクリーン（ｔｏｕｃｈｓｃｒｅｅｎ）を例にとるが、本考案はタッチ機能を備えない表示装置にも適用可能である。

また、本考案の実施形態をより理解するため、図は表示装置２００の基本構造を表示するに留め、示された階層の間又はその上、下は、さらに実際の機能的なニーズに応じて他の階層を増設することができる。本明細書及び図において、方向の「上」はタッチ面に臨み、方向の「下」はタッチ面を背にする。

（第１実施形態）
この好適な実施の形態において、表示装置２００は下から上に順次表示モジュール（例：液晶モジュール（ＬＣＭ））２１、タッチモジュール（例：静電容量式タッチパネル（ＴＰ））２２、光学用透明粘着シリコンフィルム（ＯＣＡ）２３、及び被覆層（例：被覆ガラス（ＣＧ））２４を積層する。上述の表示モジュール２１とタッチモジュール２２の内部は公知又は現時点で考案されている各種構造で実施可能であるので、詳細は省略することとする。

この実施形態の特徴によれば、表示装置２００はさらに被覆層に設置される装飾層２５を含む。図２Ｂは本考案における第１実施形態が変化した型の表示装置２００の側面断面図であり、この装飾層２５は被覆層２４の下に設けられる。
本実施形態では、装飾層２５はその全面が被覆層２４の上表面又は下表面に形成され、図３に例示された表示装置２００の上面図のように、エッジ領域（ｂｏｒｄｅｒａｒｅａ，ＢＡ）３１と可視領域（ｖｉｅｗａｒｅａ，ＶＡ）３２からなる。
しかしながら、装飾層２５は可視領域３２又は可視領域３２の一部のみにも形成することができる。一般的に、本実施形態の装飾層２５は少なくとも表示装置２００の可視領域３２の一部に形成される。

この実施形態の装飾層２５はナノオーダー金属基ワイヤ（ｍｅｔａｌ−ｂａｓｅｄｗｉｒｅｓ）、ミクロンオーダー金属基ワイヤ、ナノオーダー金属基粒子（ｍｅｔａｌ−ｂａｓｅｄｐａｒｔｉｃｌｅｓ）、ミクロンオーダー金属基粒子、又はミクロンオーダー金属基メッシュ（ｍｅｔａｌ−ｂａｓｅｄｎｅｔｓ）からなる。
この明細書に記載される金属基は金属（例：銀）又は金属酸化物（例：酸化銀）をいう。本実施形態の装飾層２５はフォトリソグラフィ技術で形成可能な装飾パターン（ｐａｔｔｅｒｎ）を備える。

装飾層２５に含まれる金属基ワイヤ／粒子／メッシュの内径はナノオーダー（例：数ナノから数百ナノ）又はミクロンオーダー（例：数ミクロンから数百ミクロン）であるため、肉眼では識別不可能であることから、表示モジュール２１が作動する際に発射された光線が装飾層２５を貫通すると、前記装飾層２５は透明状態となり、装飾層２５の装飾パターンが現れず、表示モジュール２１に表示される映像は干渉されない。

表示モジュール２１が作動しないと、即ち、光線発射されない場合、装飾層２５は外部周辺の光線が照射されて、装飾層２５の装飾パターンが現れる。詳述すると、装飾層２５にはナノオーダー又はミクロンオーダーのワイヤ、粒子又はメッシュが含まれるため、前記ワイヤ／粒子／メッシュには被り濃度（ｈａｚｅ）の差異があり、外部光線が前記ワイヤ／粒子／メッシュの各方向で屈折、分散されると、装飾層２５の装飾パターンが現れる。

（第２実施形態）
図４Ａは本考案の第２実施形態による表示装置４００を説明する側面断面図で、第１実施形態の各構成階層の部材符号をそのまま使用する。
第１実施形態との相違点は、本実施形態での装飾層２５はタッチモジュール２２上に形成され、即ち、光学用透明粘着シリコンフィルム２３とタッチモジュール２２の間にある点である。本実施形態の装飾層２５の形成、構造、及び原理については第１実施形態と同様であるので、これ以上詳細に説明しないこととする。

図４Ｂは本考案の第２実施形態の変化例による表示装置４００を説明する側面断面図である。その装飾層２５は例えば表示モジュール２２にある電極層に設置される。
図５はタッチモジュール２２の電極層２２１を例示しており（例：発射電極層（Ｔｘ）又は受信電極層（Ｒｘ））、本実施形態において同時に装飾層２５ともなる。電極層２２１はナノ／ミクロンオーダー金属基ワイヤ、ナノ／ミクロンオーダー金属基粒子、又はミクロンオーダー金属基メッシュからなる。電極層２２１は複数の平行に排列された電極列２２１１からなり、前記電極列２２１１の外の領域２２１２（図示された斜線領域）は装飾パターンを形成することができる。

（第３実施形態）
図６Ａは本考案の第３実施形態による表示装置６００を説明する側面断面図で、第１実施形態の各構成階層の部材符号をそのまま使用する。
第１実施形態との相違点は、本実施形態での装飾層２５は表示モジュール２１上に形成され、即ちタッチモジュール２２と表示モジュール２１の間にある点である。本実施形態の装飾層２５の形成、構造及び原理については第１実施形態と同様であるので、これ以上詳細に説明しないこととする。
図６Ｂは本考案の第３実施形態の変化例による表示装置６００を説明する側面断面図である。その装飾層２５は表示モジュール２１に設置される。

図６Ｃは本考案の第３実施形態による表示装置を説明する側面断面図である。その装飾層２５は表示モジュール２１に設置される。表示モジュール２１が透明構造である場合、表示モジュール２１が作動しない時、装飾層２５は外部周辺の光線に照射されて装飾層２５の装飾パターンを表示する。又は、表示装置６００が二方向に光線を発射した場合、即ち表示モジュール２１が上方向と下方向に光線を発射した場合、表示モジュール２１が作動しない時、装飾層２５は外部周辺の光線に照射されて、表示装置６００の下表面に装飾層２５の装飾パターンを表示する。

上述の実施形態は本考案の技術思想及び特徴を説明するためのものにすぎず、当該技術分野を熟知する者に本考案の内容を理解させると共にこれをもって実施させることを目的とし、本考案の特許請求の範囲を限定するものではない。従って、本考案の精神を逸脱せずに行う各種の同様の効果をもつ改良又は変更は、後述の請求項に含まれるものとする。

１００タッチスクリーン
１１液晶モジュール
１２タッチパネル
１３光学用透明粘着シリコンフィルム
１４被覆ガラス
２００表示装置
４００表示装置
６００表示装置
２１表示モジュール
２２タッチモジュール
２２１電極層
２２１１電極列
２２１２電極列の外にある領域
２３光学用透明粘着シリコンフィルム
２４被覆層
２５装飾層
３１エッジ領域
３２可視領域

Claims

表示モジュールと、
少なくとも可視領域の一部に形成された装飾層とを含み、
前記表示モジュールが作動する際、発射された光線が前記装飾層を貫通すると、前記装飾層は透明状態となり、前記表示モジュールが作動しない時、前記装飾層は外部周辺の光線に照射されて、前記装飾層の装飾パターンが現れることを特徴とする、
表示装置。
さらに前記表示モジュールに設けられたタッチモジュールと、前記タッチモジュールに設けられた被覆層とを備えることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
前記装飾層は前記被覆層の上又は下に設けられることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
前記装飾層はナノオーダーの金属基ワイヤ（ｍｅｔａｌ−ｂａｓｅｄｗｉｒｅｓ）、ミクロンオーダーの金属基ワイヤ、ナノオーダーの金属基粒子（ｍｅｔａｌ−ｂａｓｅｄｐａｒｔｉｃｌｅｓ）、ミクロンオーダーの金属基粒子、又はミクロンオーダーの金属基メッシュ（ｍｅｔａｌ−ｂａｓｅｄｎｅｔｓ）からなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
前記装飾層は前記タッチモジュールの上又は前記タッチモジュール内に設けられることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
前記装飾層は前記表示モジュールの上、下又は前記表示モジュール内に設けられることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。