TW201300520A - 洗淨液組成物 - Google Patents

洗淨液組成物 Download PDF

Info

Publication number
TW201300520A
TW201300520A TW100121511A TW100121511A TW201300520A TW 201300520 A TW201300520 A TW 201300520A TW 100121511 A TW100121511 A TW 100121511A TW 100121511 A TW100121511 A TW 100121511A TW 201300520 A TW201300520 A TW 201300520A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
parts
integer
amount
composition according
Prior art date
Application number
TW100121511A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI434928B (zh
Inventor
Yu-Jie Tsai
Original Assignee
Chi Mei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chi Mei Corp filed Critical Chi Mei Corp
Priority to TW100121511A priority Critical patent/TWI434928B/zh
Priority to CN201210190704.0A priority patent/CN102839064B/zh
Publication of TW201300520A publication Critical patent/TW201300520A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI434928B publication Critical patent/TWI434928B/zh

Links

Landscapes

  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

本發明係有關一種洗淨液組成物,該洗淨液組成物包含鹼性化合物(A)、含氟化合物(B)、直鏈型界面活性劑(C)及水(D)。根據本發明之洗淨液組成物具有消泡性佳及凝膠物生成量低之優點。本發明亦提供一種清洗基板之方法。

Description

洗淨液組成物
本發明係有關一種洗淨液組成物,詳言之,係有關一種消泡性佳及凝膠物生成量低之洗淨液組成物。
於各式洗淨液之應用範圍中,清洗如玻璃之基板一直是重要之課題。附著於玻璃表面的污垢,經過長年之累積而使清洗更加困難,例如玻璃上之油漬經時間之推移,可能產生氧化而使油改質,或是經紫外線、酸雨、加熱等因子,而使其更難清除。
習知用以清洗基板之洗淨液通常包含鹼劑、界面活性劑及溶劑,其中鹼劑通常包含碳酸鈉或氫氧化鈉等強鹼或有機胺,溶劑則可選用水溶性溶劑。如日本特開平11-269486中所揭露之洗劑,其包含鹼劑、陽離子界面活性劑、非離子界面活性劑及水溶性溶劑,雖有可效清洗玻璃上之油污,但卻有消泡性不佳及凝膠物生成量高,造成後續洗淨液清除不易之問題。
玻璃基板之應用十分廣泛,自一般生活、建材到精密電子產品皆可應用,而如何有效清除基板上之油污,且可達到良好消泡性及降低凝膠物生成,俾利後續洗淨液清除,已成為本技術領域中之一重要課題。
發明概述
本發明提供一種包含優異配方之洗淨液組成物,其具有消泡性佳及凝膠物生成量低之優點。
因此,本發明係有關一種洗淨液組成物,其包含:鹼性化合物(A);含氟化合物(B),其具有如式(1)所示之結構,
R-A 式(1);
直鏈型界面活性劑(C),其具有如式(2)所示之結構,
R10-O-(EO)a(PO)b-H 式(2);及
水(D)。
本發明亦提供一種清洗基板之方法,其係使用前述之洗淨液組成物。
發明詳細說明
本發明係有關一種洗淨液組成物,其包含:鹼性化合物(A);含氟化合物(B),其具有如式(1)所示之結構,
R-A 式(1);
直鏈型界面活性劑(C),其具有如式(2)所示之結構,
R10-O-(EO)a(PO)b-H 式(2);及
水(D)。
根據本發明之鹼性化合物(A)包含無機鹼性化合物(A-1)及/或有機鹼性化合物(A-2)。前述各該無機鹼性化合物(A-1)或有機鹼性化合物(A-2)可單獨使用或彼此混合使用。
本發明所言之無機鹼性化合物(A-1)係指pH值大於7之無機物質;於本發明之較佳具體例中,該無機鹼性化合物(A-1)係為碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、矽酸鈉、矽酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、磷酸鈉、磷酸鉀、磷酸二鈉、磷酸二鉀、磷酸三鈉或磷酸三鉀。上述之無機鹼性化合物(A-1)可單獨一種使用或混合複數種使用。
本發明所言之有機鹼性化合物(A-2)係指pH值大於7之有機物質;於本發明之較佳具體例中,該有機鹼係為單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、甲胺、二甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、嗎啉、環己胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨或二羥乙基三甲基氯化銨(通用名:膽鹼)。上述之有機鹼性化合物(A-2)可單獨一種使用或混合複數種使用。
根據本發明之含氟化合物(B)具有如式(1)所示之結構,
R-A 式(1);
其中:R具有如式(3)所示之結構,
其中,R1至R9係分別獨立選自由H、CH3、F、CH2F、CHF2、CF3、CF2CF3及CF2CF2CF3所組成之群。式(3)之碳原子總數較佳為6至12;更佳為6至9。於本發明之一較佳具體例中,R1至R9中至少兩者為相同;於本發明之另一較佳具體例中,R1至R9係各為不同。
於本發明之一較佳具體例中,R1、R3、R4及R5為CF3;R2、R6、R7、R8及R9為F。
於本發明之另一較佳具體例中,R1至R7及R9為F;及R8為CF3
於本發明之再一較佳具體例中,R1至R5及R7為F;R6為CF2CF3;及R8及R9為CF3
於本發明之又一較佳具體例中,R1及R2及R4至R7為F;R3為CF2CF3;及R8及R9為CF3
根據本發明,A係選自由H、CH3、F、CH2F、CHF2、CF3、CF2CF3、CF2CF2CF3、-O(CH2CH2O)m-CH3、-O(CH2)nOH、-O(CH2)nOR及-OAr所組成之群;其中:m代表1至50之整數;n代表4至20之整數;Ar代表包含p個-CH2X取代基或包含單一Rb取代基之單環或多環之芳香基;X代表鹵素;p代表2至5之整數;Rb係選自由CH2CH2OH、NH2、SO3Na、
所組成之群;Y代表H或甲基;Mx係選自由H、Na、K、Li、銨基、四甲銨基、四乙銨基及四丁銨基所組成之群;T代表U表示氫原子或芳香基;Z代表H或烷基;Rc代表W代表示H或甲基;s代表1至140之整數;及q代表1或2。
於本發明之一較佳具體例中,A係為H、CH3、F、CH2F、CHF2、CF3、CF2CF3或CF2CF2CF3所表示者。
於本發明之另一較佳具體例中,A係為一親水極性基團,例如結合O原子至芳香基或脂肪鏈,如-O(CH2CH2O)m-CH3、-O(CH2)nOH、-O(CH2)nOR及-OAr所表示者。
較佳地,該脂肪鏈較佳包含6至22個碳原子;更佳為8至18個碳原子。
於本發明之另一較佳具體例中,該Ar芳香基之Rb取代基係為硫酸鹽、羧基、磷酸鹽、有機及無機銨、醇基、鹵素取代之烷基、胺、磺醯胺或環氧化物。
於本發明之再一較佳具體例中,R係以二聚體形式存在,並以醚基或酯基連結。
於本發明之具體例中,該含氟化合物(B)係為商品化之FTX-208G(NEOS製)或具有式(B-2)至(B-20)所示之結構:
於本發明之一較佳具體例中,該洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,其中含氟化合物(B)之使用量為自0.2至140重量份,較佳為1至120重量份,更佳為5至100重量份。由於含氟化合物(B)具有良好的疏水性,且不與洗淨液組成物中其他界面活性劑互溶,故可有效地提高消泡性並維持洗淨力,若完全無使用含氟化合物(B),則易有消泡性低下之問題。
根據本發明之直鏈型界面活性劑(C)具有式(2)所示之結構:
R10-O-(EO)a(PO)b-H 式(2)
其中:R10係選自由C8至C18之直鏈烷基、C8至C18之直鏈烯基、C8至C18之直鏈醯基及具C8至C12之直鏈烷基取代之苯基所組成之群;EO代表乙氧基;PO代表丙氧基;a代表1至20之整數;及b代表0至20之整數。
a和b分別為EO和PO之平均加成莫耳數。
根據本發明之直鏈型界面活性劑(C)可單獨一種使用或混合複數種使用。
(EO)a(PO)b可由乙氧基單獨構成,亦可由乙氧基和丙氧基構成。當(EO)a(PO)b為由乙氧基和丙氧基構成時,EO和PO之排列可以是嵌段型亦可為隨機型。當EO和PO之排列為嵌段型時,只要各平均加成莫耳數在上述範圍內,則EO之嵌段數及PO之嵌段數分別可以是1個,亦可是2個以上。另外,當由EO構成的嵌段數為2個以上時,各嵌段中EO之重複數可彼此相同,亦可以不同。當PO之嵌段數為2個以上時,各嵌段中的PO之重複數可彼此相同,亦可以不同。
當EO和PO之排列為嵌段型或隨機型時,若EO與PO的莫耳比(MEO/MPO)為9.5/0.5至5/5,可達到高水溶性。另一方面,a較佳為1至15;更佳為1至10。再一方面,b較佳為1至15;更佳為1至10。a+b較佳為1至30;更佳為1至20。
於本發明之較佳具體例中,根據本發明之直鏈型界面活性劑(C)為於下述化合物上加成乙氧基及/或丙氧基而得:辛醇、癸醇、十三烷醇、十二烷醇、十八烷醇、硬脂醇、油醇等醇類或辛基酚、壬基酚、十二烷基酚等酚類。
於本發明之較佳具體例中,根據本發明之直鏈型界面活性劑(C)係為:CjH2j+1-O-(EO)e-H;CjH2j+1-O-(EO)f(PO)g-H(其為EO與PO嵌段加成而得);CjH2j+1-O-(PO)f(EO)g-H(其為EO與PO嵌段加成而得);CjH2j+1-O-(EO)h(PO)i(EO)k-H(其為EO與PO嵌段加成而得);CjH2j+1-O-(EO)f(PO)g-H(其為EO與PO隨機加成而得)。
其中,j為8至18之整數;e、f、g、h、i和k分別為EO或PO之平均加成莫耳數;e為1至20之整數;f為1至20之整數;g為1至20之整數;h為1至10之整數;i為1至10之整數;k為1至10之整數。
於本發明之較佳具體例中,根據本發明之直鏈型界面活性劑(C)係為商品名SINOPOL 1308FG(中日合成化學製)、NONION K-204、NONION K-220、NONION K-230、NONION P-208、NONION P-210、NONION E-202、NONION E-205、NONION S-207、NONION S-220(日本油脂製)、EMULGEN 103、EMULGEN 220、EMULGEN 350、EMULGEN LS-106、EMULGEN LS-110(花王化學製)等。
於本發明之一較佳體實施例中,該洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,其中直鏈型界面活性劑(C)之使用量為自1至500重量份,較佳為10至450重量份,更佳為20至400重量份,若完全無使用直鏈型界面活性劑(C),則易有凝膠物生成之問題。
根據本發明之水(D)並無特殊限制,惟其於根據本發明之洗淨液組成物中能夠發揮作為溶劑的作用即可,其具體例如超純水(除無機離子外,不含有機物、生菌、微粒子及溶解氣體)、純水(經離子交換樹脂等行脫鹽處理而得之水)、蒸餾水及近年來被提案之各種機能水;較佳為超純水或純水;更佳為超純水。其中,純水和超純水可由下述處理而得:將自來水通入活性碳中,並進行離子交換處理,然後進行蒸餾後,必要時以紫外線殺菌燈照射或使其通過過濾器而得到。根據25℃之電阻值來區分,電阻值在1MΩ‧cm以上即可稱為純水,電阻值為10MΩ‧Cm以上即可稱為超純水。
於本發明之一較佳體實施例中,該洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,其中水(D)之使用量通常為300至25,000重量份;較佳為400至20,000重量份;更佳為500至15,000重量份。
根據本發明之洗淨液組合物較佳可進一步包含支鏈型界面活性劑(E),其具有式(4)所示之結構:
R11-O-(EO)c(PO)d-H 式(4);
其中:R11係選自由C6至C20含支鏈之烷基、C6至C20含支鏈之烯基、C6至C20含支鏈之醯基及具C6至C14含支鏈烷基取代之苯基所組成之群;c代表1至20之整數;及d代表0至20之整數。
c和d分別為EO和PO之平均加成莫耳數;當n表示1至20之整數時,(EO)與(PO)之排列可以是嵌段型亦可為隨機型。
根據本發明之支鏈型界面活性劑(E)可單獨一種使用或混合複數種使用。
(EO)c(PO)d可由乙氧基單獨構成,亦可由乙氧基和丙氧基構成。當(EO)c(PO)d為由乙氧基和丙氧基構成時,EO和PO之排列可以是嵌段型亦可為隨機型。當EO和PO之排列為嵌段型時,只要各平均加成莫耳數在上述範圍內,則EO之嵌段數及PO之嵌段數分別可以是1個,亦可是2個以上。另外,當由EO構成的嵌段數為2個以上時,各嵌段中EO之重複數可彼此相同,亦可以不同。當PO之嵌段數為2個以上時,各嵌段中的PO之重複數可彼此相同,亦可以不同。
當EO和PO之排列為嵌段型或隨機型時,若EO與PO的莫耳比(MEO/MPO)為9.5/0.5至5/5,可達到高水溶性。另一方面,c較佳為1至15;更佳為1至10。再一方面,d較佳為1至15;更佳為1至10。c+d較佳為2至30;更佳為2至20。
於本發明之較佳具體例中,根據本發明之支鏈型界面活性劑(E)係為商品名SINOPOL E8002、SINOPOL E8003、SINOPOL E8008或SINOPOL E8015(中日合成化學製)Lutensol TO3、Lutensol TO5、Lutensol TO7、Lutensol TO10(BASF製)、Newcol 1004、Newcol 1006、Newcol 1008、Newcol 1020(日本乳化劑製)、NONION EH-204、NONION EH-208(日本油脂製)等。
於本發明之一較佳體實施例中,該洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,其中支鏈型界面活性劑(E)之使用量為自5至500重量份,較佳為15至450重量份,更佳為25至400重量份。若支鏈型界面活性劑(E)之使用量介於5至500重量份時,則可得到消泡性佳之洗淨液組成物。
根據本發明之洗淨液組合物較佳可進一步包含添加劑(F),該添加劑(F)之選擇及比例為本發明所屬技術領域中具通常知識者可決定者,例如:消泡劑、螯合劑、抗氧化劑、pH調整劑、緩衝溶劑、防腐劑、水溶性有機溶劑、分散劑等。
根據本發明之消泡劑,其具體例如:聚矽氧系、高級醇系、聚醚系、脂肪酸酯系、聚乙二醇系、鑛物油系及包含如式(5)所代表之化合物:
其中r表示1或2之整數;Ra表示式(6)所代表之官能基:
其中t表示3至7之整數。
上述式(5)所代表之化合物之具體例為:商品名Surfynol MD-20、Surfynol MD-30(Air Products and Chemicals公司製)。
根據本發明之消泡劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
根據本發明之螫合劑,其具體例為:乙二胺四乙酸(鹽)(EDTA)、二乙三胺五乙酸(鹽)(DTPA)、三乙四胺六乙酸(鹽)(TTHA)、羥乙基乙二胺三乙酸(鹽)(HEDTA)、二羥乙基乙二胺四乙酸(鹽)(DHEDDA)、次氮基三乙酸(鹽)(NTA)、羥乙基亞胺基二乙酸(鹽)(HIDA)、β-丙胺酸二乙酸(鹽)、天冬醯胺酸二乙酸(鹽)、甲基甘胺酸二乙酸(鹽)、亞胺基二琥珀酸(鹽)、絲胺酸二乙酸(鹽)、羥基亞胺基二琥珀酸(鹽)、二羥基乙基甘胺酸(鹽)、天冬醯胺酸(鹽)、麩胺酸(鹽)等之胺基多羧酸(鹽);羥基乙酸(鹽)、酒石酸(鹽)、檸檬酸(鹽)、葡萄糖酸(鹽)等之羥基羧酸(鹽);甲基二膦酸(鹽)、胺基三(亞甲基膦酸)(鹽)、1-羥基亞乙基-1,1-二膦酸(鹽)、乙二胺四(亞甲基膦酸)(鹽)、己二胺四(亞甲基膦酸)(鹽)、丙二胺四(亞甲基膦酸)(鹽)、二乙三胺五(亞甲基膦酸)(鹽)、三乙四胺六(亞甲基膦酸)(鹽)、三胺基三乙基胺六(亞甲基膦酸)(鹽)、反-1,2-環己二胺四(亞甲基膦酸)(鹽)、二醇醚二胺四(亞甲基膦酸)(鹽)、四乙五胺七(亞甲基膦酸)(鹽)等之膦酸(鹽);偏磷酸(鹽)、三聚磷酸(鹽)、六偏磷酸(鹽)等之縮合磷酸(鹽)等。上述之螫合劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
根據本發明之抗氧化劑,其具體例為:2,6-二-第三丁基苯酚、2-第三丁基-4-甲氧基苯酚、2,4-二甲基-6-第三丁基苯酚等之苯酚系;單辛基二苯胺、單壬基二苯胺、4,4'-二丁基二苯胺、4,4'-二戊基二苯胺、四丁基二苯胺、四己基二苯胺、α-萘胺、苯基-α-萘胺等之胺系;吩噻嗪(phenothiazine)、季戊四醇四(3-月桂基硫代丙酸酯)、雙(3,5-第三丁基-4-羥基芐基)硫醚(bis(3,5-t-butyl-4-hydroxybenzyl)sulfide)等之硫系;二亞磷酸雙(2,4-二-第三丁基苯基)季戊四醇酯、亞磷酸一苯二異葵酯、亞磷酸二苯二異辛酯、亞磷酸三苯酯等之磷系等。上述之抗氧化劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
根據本發明之pH調整劑,其具體例為:鹽酸、硫酸、硝酸、磺胺酸、磷酸等之無機酸;氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等之無機鹼等。上述之pH調整劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
根據本發明之緩衝溶劑,其具體例為:蟻酸、醋酸、琥珀酸、乳酸、蘋果酸、酪酸、順丁烯二酸、丙酮酸、丙二酸、沒食子酸等之有機酸及鹽類;磷酸、硼酸等之無機酸及其鹽類等。上述之緩衝溶劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
根據本發明之防腐劑,其具體例為:六氫-1,3,5-三(羥乙基)-s-三嗪等之三嗪(triazine)衍生物;1,2-苯並異噻唑啉-3-酮、2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮、5-氯-2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮等之異噻唑啉(isothiazolin)衍生物;4-(2-硝基丁基)嗎啉、4,4-(2-乙基-2-硝基三亞甲基)二嗎啉等之嗎啉衍生物;2-(4-噻唑基)苯並咪唑等之苯並咪唑(benzimidazole)衍生物等。上述之防腐劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
根據本發明之水溶性有機溶劑於20℃時對水之溶解度以3(g/100g)以上為佳,更佳為10以上,其具體例為:二甲基亞碸、環丁碸、3-甲基環丁碸、2,4-二甲基環丁碸等之亞碸類;二甲碸、二乙碸、雙(2-羥乙基)碸等之碸類;N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基丙酼胺等之醯胺類;N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、N-羥甲基-2-吡咯烷酮等之內醯胺類;β-丙內酯、β-丁內酯、γ-丁內酯、γ-戊內酯、δ-戊內酯等之內酯類;甲醇、乙醇、異丙醇等之醇類;乙二醇、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單丁基醚、二乙二醇單己基醚、二乙二醇單苯基醚、三乙二醇單甲基醚、丙二醇、丙二醇單甲基醚、二丙二醇單甲基醚、1,3-丁二醇、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、三乙二醇二甲基醚、三乙二醇三乙基醚等之乙二醇及乙二醇醚類;N-甲基-2-噁唑烷酮、3,5-二甲基-2-噁唑烷酮等之噁唑烷酮(oxazolidinone)類;乙腈、丙腈、丁腈、丙烯腈、甲基丙烯腈、苯甲腈等之腈(nitrile)類;碳酸鹽類;碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯等之碳酸酯類;丙酮、二乙酮、苯乙酮、甲乙酮、環己酮、環戊酮、二丙酮醇等之酮類;四氫呋喃、四氫吡喃等之環醚類等。上述之水溶性有機溶劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
根據本發明之分散劑,其具體例為:羥乙基纖維素、陽離子化纖維素、羥甲基纖維素、羥丙基纖維素、瓜爾膠(guar gum)、陽離子化瓜爾膠、三仙膠(xanthan gum)、海藻酸鹽、陽離子化澱粉等之多糖類及其衍生物;植酸(phytic acid)、二(聚氧乙烯)烷基醚磷酸、三(聚氧乙烯)烷基醚磷酸等之聚乙烯醇(poval)及其磷酸酯類。上述之分散劑可單獨一種或混合複數種以上使用。
於本發明之一較佳體實施例中,該洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,消泡劑之使用量為0.1至10重量份,較佳為0.3至9重量份,更佳為0.5至8重量份;螫合劑之使用量通常為30重量份以下,較佳為1至20重量份,更佳為3至20重量份;抗氧化劑、緩衝溶劑、防腐劑及分散劑之使用量通常為10重量份以下,較佳為8重量份以下,更佳為5重量份以下;pH調整劑之使用量通常為90重量份以下,較佳為85重量份以下,更佳為80重量份以下;水溶性有機溶劑之使用量通常為500重量份以下,較佳為400重量份以下,更佳為300重量份以下。
本發明所屬技術領域中具通常知識者可依所需,而調配各組分而得該洗淨液組成物。於本發明之一較佳具體例中,該組成物在25℃之表面張力為自15至45 dyne/cm,較佳為20至40 dyne/cm,更佳為25至35 dyne/cm。當洗淨液組成物在25℃時之表面張力為15至45 dyne/cm時,對基板之洗淨力佳。
本發明亦提供一種清洗基板之方法,其係使用前述之洗淨液組成物。
使用根據本發明之洗淨液組成物以清洗基板之詳細操作步驟可為本發明所屬技術領域中具通常知識者所熟知,例如使用浸泡法,將該基板浸入盛有該洗淨液組成物之容器。亦可使用刷子或海棉進行擦洗、澆淋、噴霧或噴射方式清洗;較佳亦可使用超音波清洗以提高效率,或使用泡沫清洗。
適用於本發明之基板較佳為鈉鈣玻璃、硼矽玻璃、二氧化矽玻璃、無鹼玻璃等玻璃基板。
茲以下列實例予以詳細說明本發明,唯並不意謂本發明僅侷限於此等實例所揭示之內容。
依下表1及表2之比例配製洗淨液組成物。
價方式:
評價結果示於上表1。可知本發明之洗淨液組成物具有消泡性佳及凝膠物生成量低之優點。
表面張力:
以恆溫水槽控制洗淨液組成物在25℃,並使用表面張力儀(Tensiometer Model CBVP-A2,協和界面科學製)量測表面張力。(單位:dyne/cm)
消泡性:
取50ml洗淨液組成物,倒入100ml量筒,上下震盪20回後,量測泡沫高度(T1),靜置30秒後,再次量測泡沫高度(T2),並根據以下基準評價:
消泡率(%)=(T1-T2)/T1×100%
○:消泡率>80%
△:50%<消泡率≦80%
╳:消泡率≦50%
凝膠物生成量:
將洗淨液組成物以水稀釋至5%後,清洗尺寸為1.5m x 1.85m之玻璃基板,並以恆溫水槽控制在40℃。接著於清洗3000片玻璃基板後,量測濾網內由洗淨液與髒汙所生成之凝膠物的重量,並根據以下基準評價:
○:凝膠物生成量<10g
△:10g≦凝膠物生成量<100g
╳:凝膠物生成量≧100g
上述實施例僅為說明本發明之原理及其功效,而非限制本發明。習於此技術之人士對上述實施例所做之修改及變化仍不違背本發明之精神。本發明之權利範圍應如後述之申請專利範圍所列。

Claims (10)

  1. 一種洗淨液組成物,其包含:鹼性化合物(A);含氟化合物(B),其具有如式(1)所示之結構,R-A 式(1);直鏈型界面活性劑(C),其具有如式(2)所示之結構,R10-O-(EO)a(PO)b-H 式(2);及水(D);其中:R具有如式(3)所示之結構, R1至R9係分別獨立選自由H、CH3、F、CH2F、CHF2、CF3、CF2CF3及CF2CF2CF3所組成之群;A係選自由表示H、CH3、F、CH2F、CHF2、CF3、CF2CF3、CF2CF2CF3、-O(CH2CH2O)m-CH3、-O(CH2)nOH、-O(CH2)nOR及-OAr所組成之群,m代表1至50之整數;n代表4至20之整數;Ar代表包含p個-CH2X取代基或包含單一Rb取代基之單環或多環之芳香基;X代表鹵素;p代表2至5之整數;Rb係選自由CH2CH2OH、NH2、SO3Na、 所組成之群;Y代表H或甲基;Mx係選自由H、Na、K、Li、銨基、四甲銨基、四乙銨基及四丁銨基所組成之群;T代表U表示氫原子或芳香基;Z代表H或烷基;Rc代表W代表示H或甲基;s代表1至140之整數;q代表1或2;R10係選自由C8至C18之直鏈烷基、C8至C18之直鏈烯基、C8至C18之直鏈醯基及具C8至C12之直鏈烷基取代之苯基所組成之群;EO代表乙氧基;PO代表丙氧基;a代表1至20之整數;及b代表0至20之整數。
  2. 根據請求項1之洗淨液組成物,其中R1至R9係各為不同。
  3. 根據請求項1之洗淨液組成物,其中R1至R9中至少兩者為相同。
  4. 根據請求項1之洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,其中含氟化合物(B)之使用量為自0.2至140重量份。
  5. 根據請求項1之洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,其中直鏈型界面活性劑(C)之使用量為自1至500重量份。
  6. 根據請求項1之洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,其中水(D)之使用量為自300至25,000重量份。
  7. 根據請求項1之洗淨液組成物,其另包含支鏈型界面活性劑(E),該支鏈型界面活性劑(E)具有如式(4)所示之結構,R11-O-(EO)c(PO)d-H 式(4);R11係選自由C6至C20含支鏈之烷基、C6至C20含支鏈之烯基、C6至C20含支鏈之醯基及具C6至C14含支鏈烷基取代之苯基所組成之群;c代表1至20之整數;及d代表0至20之整數。
  8. 根據請求項7之洗淨液組成物,基於鹼性化合物(A)之使用量為100重量份,其中支鏈型界面活性劑(E)之使用量為自5至500重量份。
  9. 根據請求項1之洗淨液組成物,其中該組成物在25℃之表面張力為自15至45 dyne/cm。
  10. 一種清洗基板之方法,其係使用根據請求項1至9任何一項之洗淨液組成物。
TW100121511A 2011-06-20 2011-06-20 Wash the liquid composition TWI434928B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW100121511A TWI434928B (zh) 2011-06-20 2011-06-20 Wash the liquid composition
CN201210190704.0A CN102839064B (zh) 2011-06-20 2012-06-11 洗净液组成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW100121511A TWI434928B (zh) 2011-06-20 2011-06-20 Wash the liquid composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201300520A true TW201300520A (zh) 2013-01-01
TWI434928B TWI434928B (zh) 2014-04-21

Family

ID=47366785

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100121511A TWI434928B (zh) 2011-06-20 2011-06-20 Wash the liquid composition

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN102839064B (zh)
TW (1) TWI434928B (zh)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6455234B1 (en) * 1999-05-04 2002-09-24 Air Products And Chemicals, Inc. Acetylenic diol ethylene oxide/propylene oxide adducts and their use in photoresist developers
US6641986B1 (en) * 2002-08-12 2003-11-04 Air Products And Chemicals, Inc. Acetylenic diol surfactant solutions and methods of using same
JP5379441B2 (ja) * 2008-10-09 2013-12-25 関東化学株式会社 基板処理用アルカリ性水溶液組成物

Also Published As

Publication number Publication date
CN102839064A (zh) 2012-12-26
TWI434928B (zh) 2014-04-21
CN102839064B (zh) 2014-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI398514B (zh) 用於清潔磁光碟基板的清潔劑
JP5192953B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤
JP2010163608A (ja) 電子材料用洗浄剤
TWI398515B (zh) 電子材料用洗淨劑及洗淨方法
ES2310677T3 (es) Composiciones acuosas a base de acido fosforico para la limpieza de dispositivos semiconductores.
JP5192952B2 (ja) 磁気ディスク基板用洗浄剤
US7485612B2 (en) Electronic parts cleaning solution
JP5553985B2 (ja) 電子材料用洗浄剤
JP5000991B2 (ja) エレクトロニクス材料用洗浄剤
KR20040041019A (ko) 반도체 기판용 세정액
JP2008182221A (ja) 半導体基板用洗浄剤
JP2007335856A (ja) エレクトロニクス材料用洗浄剤
BR112013006533A2 (pt) processo para limpeza e remoção de rótulos para garrafas
JP2012072267A (ja) 電子材料用洗浄剤
WO2010057976A1 (en) Liquid surface treatment composition with phosphonic acid derivatives neutralized with a binary amine system
JP2009280802A (ja) 磁気ディスク基板用洗浄剤
JP5371356B2 (ja) 水溶性洗浄剤組成物
TWI434928B (zh) Wash the liquid composition
TWI434927B (zh) Washing liquid composition and substrate cleaning method
TWI449783B (zh) 洗淨液組成物及基板之洗淨方法
JP5324242B2 (ja) 電子材料用洗浄剤及び洗浄方法
JP2018035209A (ja) 光学ガラス用洗浄剤および光学ガラスの洗浄方法
KR20110028239A (ko) 평판표시장치 제조용 기판의 세정액 조성물
JP2005101479A (ja) 半導体基板用洗浄液
TWI532835B (zh) A glass substrate cleaning solution composition

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees