TW201300339A - 可熱處理的四層抗反射塗層 - Google Patents

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Abstract

一種塗層物品包含一可熱處理(例如可回火)的防反射(AR)塗層具有四層。該AR塗層包含一鄰接該玻璃基材之層具有一實質上匹配該玻璃的折射率，並具有一壓縮殘留應力。在某些實施例中，該塗層由該玻璃基材往外可包含下列諸層：減少應力層/中等折射率層/高折射率層/低折射率層。在某些實施例中，視該高折射率層和該基材的化學及光學性質而定，該AR塗層的減少應力層係被選成會造成一淨壓縮殘留應力，俾當該塗層物品被熱處理時能改良該防反射塗層的整體性能。

Description

可熱處理的四層抗反射塗層 發明領域
本發明的某些實施例有關一種包含一可熱處理(例如可回火)的防反射塗層之塗層物品，及/或一種製造該物品的方法。在某些實施例中，一可熱處理(例如可回火)的防反射(AR)塗層會利用具有一較高壓縮應力值的材料連結高折射率層，其係在熱處理時易於造成拉伸應力者。此等具有一較高壓縮應力值的材料係被用來協助減少整體塗層的淨拉伸應力(例如減少該拉伸應力至一較低的拉伸應力值，及/或減少該拉伸應力至該應力是壓縮的而非拉伸之點)。於某些實施例中，在各層中的厚度和應力的類型可被最佳化而來製成一可熱處理(例如可回火)的四層AR塗層。
 本發明之某些實施例的背景和概要說明
防反射(AR)塗層係習知於該技術領域中。例如，在可見光範圍內的AR塗層係被廣泛地使用於電子、照明、器具、建築、和顯示用途的玻璃上。但是，在許多該等用途中，回火或熱強化的玻璃可能會被需要。該等玻璃的回反或熱強化有時是在該AR塗層沈積之前先進行，以避免因將該塗層曝露於回火和其它形式的熱處理所需要的高溫中，而導致該塗層之光學、機械或美感品質的不良變化。但是，此“回火後塗層”的方法在某些情況下可能是不妥當的。故，應可瞭解在該領域中存有一針對用於塗層物品譬如窗戶和類似物之改良的AR塗層(例如可回火的AR塗層)之需求。
在某些實施例中，塗層可能會受制於欠缺耐久性，特別是在熱處理及/或熱回火之後，因為殘留的淨拉伸應力太高之故。在一疊層中之一夠大的淨拉伸應力可能會使該塗層的美感減損(例如破裂)，尤其是在一熱強化及/或回火製程之後。
故精習於該技術者將會瞭解在防反射塗層中亦有需要改良的耐久性。
 發明概要
在本發明的某些實施例中，係提供一種製造包含一防反射塗層之可熱處理的塗層物品之方法，該方法包含：設置一減少應力層於一玻璃基材上並與之接觸，該減少應力層具有一折射率係實質上匹配該玻璃基材之一折射率；設置一具有一中等折射率的層於該減少應力層上；設置一具有一高折射率的層於該中等折射率層上；設置一具有一低折射率的層於該高折射率層上，其中該高折射率層的折射率係大於該中等和低折射率層的折射率，而該低折射率層的折射率係小於該中等折射率層的折射率；且其中該防反射塗層之一淨殘留應力是壓縮性的(例如在選擇性熱處理之後)。
在本發明的某些實施例中，係提供一種製造包含一防反射塗層之可熱處理的塗層物品之方法，該方法包含：設置一減少應力層於一玻璃基材上並與之接觸，該減少應力層包含一種矽的氧化物及/或氮化物，並具有一折射率係相差該玻璃基材的折射率不大於約0.2；設置一包含矽氮氧化物的層於該減少應力層上；設置一包含鈮之氧化物的層於該包含矽氮氧化物的層上；設置一包含矽之氧化物的層於該包含鈮之氧化物的層上；且其中該高折射率層的折射率係高於該中等和低折射率層的折射率，且該低折射率層的折射率係低於該中等折射率層的折射率，且其中該塗層的淨殘留應力是壓縮性的。
在本發明的某些實施例中，係提供一種可熱處理的塗層物品包含：一防反射塗層被一基材之一主表面支撐，該基材係可與該防反射塗層一起熱處理，其中該防反射塗層依由該基材移離的順序包含：一減少應力層包含一材料在熱處理後會有一壓縮性殘留應力；一中等折射率層包含矽氮氧化物；一高折射率層包含一鈮的氧化物；及一低折射率層包含一矽的氧化物；其中該塗層具有一淨壓縮殘留應力(例如在熱處理之後)。
在本發明的某些實施例中，係提供一種可熱處理的塗層物品包含：一防反射塗層被一基材之一主表面支撐，該基材係可與該防反射塗層一起熱處理，其中該防反射塗層依由該基材移離的順序包含：一減少應力層包含一矽的氧化物及/或氮化物；一中等折射率層包含矽氮氧化物；一高折射率層包含一鈮的氧化物；及一低折射率層包含一矽的氧化物；其中該塗層在熱處理後具有一淨壓縮殘留應力。
在某些實施例中，相同或類似的防反射塗層可被提供於該玻璃基材的一或兩個主表面上。
於此所述的特徵、態樣、優點和實施例可被組合來實現更多另外的實施例。
圖式簡單說明
第1圖為一三層的防反射塗層之一截面圖。
第2圖為依據某些實施例之一四層的防反射塗層之一截面圖。
第3圖為依據其它實施例之一四層的防反射塗層之一截面圖。
第4圖為依據又另外實施例之一四層的防反射塗層之一截面圖。
 本發明之某些實施例的詳細說明
現請更詳細參閱所附圖式，其中全部該數個圖中相似的標號表示相似的部件。
本發明的某些實施例係關於一種含有一防反射塗層的塗層物品，及/或一種製造該物品的方法。在某些實施例中，一可熱處理(例如可回火)的防反射(AR)塗層會被提供。
在可見光範圍中具有防反射性質的AR塗層係被廣泛地使用於電子裝置、照明、器具、建築、顯示器材，和其它用途的玻璃上。雖該玻璃的回火或熱強化有時是在沈積該AR塗層之前先完成，以免因將該塗層曝露於回火和其它形式之熱處理所需的高溫中，而使該塗層的光學、機械或美感品質造成不良的改變，但在某些情況下會有一些缺點與該“先回火後塗層”的方法相關聯。例如，在塗層之前先回火對大面積的塗層機可能是不妥當的。要被塗層之回火/熱處理過的基材之最終尺寸可能是一種並未有效率地利用該大面積塗層能力的尺寸，該能力在當企圖藉高容量玻璃塗層製造技術來增加或盡可能達到高效率時乃是有用的。因此，應可瞭解一防反射塗層(例如一四層AR塗層)若能被回火及/或熱處理，而在曝露於回火及/或熱處理環境中典型會遭遇的溫度之後仍可保持其美感品質及高化學和機械耐久性者，將會是有利的。
既有的AR塗層在某些實施例中可能並非可被充分地熱處理(例如可回火)，例如有見於該等塗層在一可用或所需形式的回火或熱強化製程中可能不會安然留存。如一例子，顯然有些被用於AR塗層的材料曝露於大於例如300℃的溫度之後，會有高拉伸殘留應力。當一層的拉伸殘留應力太高而使其在該多層疊層中造成一淨拉伸應力時，此應力可能足以導致該塗層之一美感的劣化。此及/或類似的問題可能例如造成該塗層的破裂。因此，其乃較好係能減少一AR塗層中之一層的拉伸殘留應力。
當一材料受到拉伸應力時，該材料可能會被伸展或拉長。因此，若有太大的拉伸殘留應力存在於一塗層之一層中，在某些情況下，該層及/或塗層可能會變形或破裂，此可能導致該塗層的前述劣化。另一方面，當有壓縮應力施加時，會朝向一材料的中央作用。故，當一材料受到壓縮應力時，該材料會被壓縮。因此，在某些實施例中，若一塗層具有一淨壓縮殘留應力而非一淨拉伸殘留應力可能是較佳的。
第1圖為一依據本發明之一實施例的舉例塗層物品之一截面圖。第1圖實施例的塗層物品包含基材1，其會支撐可熱處理(例如可回火)的AR塗層3。基材1典型係為一玻璃基材(例如透明、綠色、青銅色、或藍綠色的玻璃基材，由約1.0至10.0mm厚)，但在某些情況下亦可為其它材料，例如，一聚碳酸酯或丙烯酸材料，一矽晶圓等。該AR塗層3包含中等折射率層7，高折射率層9，及低折射率層11。
在某些實施例中，具有高折射率的層會與熱處理時所造成的拉伸殘留應力相關聯。因此，為了改良一包含至少一具有高折射率層之可回火的防反射塗層之耐久性及/或其它性質，在某些實施中減少及/或補償該高折射率層的拉伸應力可能是有利的。
表1和表2示出在某些實施例中，以550℃熱處理大約10分鐘後，一三層的AR塗層之破裂與疊層中的熱處理後淨殘留應力間之相互關連。被列示於表1和表2的比較例中，TiOx係被用作該高折射率材料。但是，本發明的其它實施例並不受限於此。
為了測試破裂的易生性，在各比較例1～5中，各疊層係被沈積在一玻璃基材的Sn側上。在此等例中，各例之矽氮氧化物和矽氧化物基層的厚度係被保持實質上固定的，而該高折射率層(於此是TiOx)的厚度會在一20至100mm的範圍內改變。
根據此等例子，在某些實施例中，若該疊層中的淨應力為零或壓縮性的，則破裂可能不會發生及/或破裂的易生性可被減少。習慣上，該壓縮應力係被標示為負的，而拉伸應力係標示為正的。
如由表1和2中可看出，當熱處理後在該疊層中有非常小的殘留伸張應力及/或有壓縮應力作為淨殘留應力時，在某些實例中該塗層可較不易於破裂。據此，較好係能減少一疊層中的淨拉伸應力，因在某些實施例中其將可減少該塗層破裂的可能性。
又，由比較例5a乃例如可以看出，一包含矽氮氧化物的單層之淨殘留應力是壓縮性的。事實上，一具有如上述比較例5a所示厚度之包含矽氮氧化物的層之應力會有一非常大的壓縮應力。在某些實施例中，當與具有較小壓縮殘留應力及/或拉伸應力的層配對時，該整體塗層仍會呈現一淨壓縮應力，因該矽氮氧化物基層有較大的壓縮應力。
當企圖減少一疊層中的淨拉伸殘留應力時，有數種可能的方法。在某些實施例中，該高折射率層的厚度可被減少，俾減少該疊層中的總拉伸應力。在其它實施例中，一具有較低熱處理後拉伸應力的高折射率層可被用來取代一具有較高熱處理後拉伸應力的高折射率層。在另外實施例中，其它層中的壓縮應力之量值可被增加，而來進一步補償及/或平衡高折射率層中的殘留拉伸應力。上述之用以減少淨拉伸殘留應力的方法可被單獨地使用，或與其它方法結合使用。
在某些實施例中，若該高折射率層的厚度太小，則該塗層的光學性能可能會折損(例如有些喪失色彩中性)。此在某些實例中可能是因當該高折射率材料較薄時會造成一較窄的光譜帶通所致。故，為了光學的理由，其乃較好能提供一種防反射塗層具有一高折射率層且有一實體厚度由約50至250nm，更好係由約75至125nm，又更佳係由約80至120nm，而一非限制例係至少大約100nm。
以一在熱處理後有較低殘留拉伸應力的高折射率層來替代一熱處理後有較高殘留拉伸應力的高折射率層(例如TiOx)，及/或增加該疊層之其它層中的壓縮應力量值可能是有利的，在某些情況下該塗層於熱處理後的耐久性可被改良。又更好是能有某種手段來理論地預知一些被設計的疊層之淨殘留應力，俾能辨別熱處理後會有最小破裂可能性的材料和疊層設計。
在某些實施例中，依據該塗層中之各層及/或薄膜的個別彎矩和曲率，此理論性預測乃是可能的。
更具言之，若順序地沈積薄膜時，於某些情況下，每一薄膜會致生一個別的彎矩，其會造成一個別的曲率。由於該等彎矩是累加的，故在某些實施例中，該等曲率亦會累加。
由史通尼(Stoney’s)公式的重複應用，可得到如下公式：
其中σ n 是第n層的殘留應力，且hn是第n層的厚度，而此等變數會一起造成一曲率的變化，即△(R -1 n )。v s 是帕松模數(Poisson Modulus)，且E s 是楊氏模數(Young’s Modulus)。在進一步簡化上述公式後，一疊層內的應力累加規則係可由如下公式(公式2)來提供，假使一指定厚度之各層的應力係已知時。
於下的表3係藉比較所計算之該疊層中的淨殘留應力與另一舉例疊層的測量值而來示出公式2的有效性。在某些實施例中，該計算值可能相差該測量值小於或等於約20%，更好是小於或等於約15%，而在某些實施例中，會小於或等於約13%。應請瞭解表3中之該計算值與測量值間的此等差異，於某些例子中在測量所得到的應力值之誤差範圍內乃是合理的。
在表3所示出的計算中，殘留應力與層厚度間之一比例關係會被顯現，且計算值與測量值之差係大約13%。但是，在其它實施例中，此相關性可能並非確然地成比例。事實上，在某些實例中，該殘留應力與層厚度間的關係可能較好是近似的，因包含一第一級分量於該關係中。但是，在其它實施例中，此可能不是必要或較佳的。
第4圖示出以650℃熱處理10分鐘之後，在一矽晶圓上所測得之殘留應力的實驗決定值。在某些例子中，該殘留應力與不同的實體厚度間之一比例關係會被顯現。所精選出的值表示正常化的殘留應力值，其將被用於以下的計算中。
表5示出針對上示不同厚度的光學性能和算出的熱處理後應力值。對該等光學量值的計算，一大約1.75的折射率係被用於該矽氮氧基層，一高於1.48的折射率用於矽氧化物基質，及一大約2.3的折射率用於鈮氧化物基層，它們會被使用於該計算中。在某些實施例中，所算出的應力值會預知一熱處理之後破裂的風險，儘管有以一較低拉伸應力材料例如NbOx)來取代TiOx。
據此，除了及/或取代以一包含一較低拉伸應力材料的層來替代該高折射率層之外，一添加層亦可被利用。
在某些實施例中，一第四層可被使用於一AR疊層中，而來減少該疊層的淨殘拉伸應力及/或增加淨殘留壓縮應力。在某些例子中，一四層的AR塗層可包含一折射率匹配層鄰接於該玻璃基材。該折射率匹配層可具有一接近於該玻璃基材的折射率。例如，該層可具有一折射率由約1.35至1.65，更好是由約1.4至1.6，且最好是由約1.45至1.55。又，該減少應力層可包含一折射率與該玻璃基材者相差不大於約0.2，更好是不大於約0.1，且最好是不大於約0.05。在某些非限制例中，該減少應力、折射率匹配層可包含矽氧化物及/或矽氮氧化物。
在某些實施例中，此折射率匹配層可提供一額外的目的即補償該高折射率層的拉伸應力。換言之，在某些情況下，該折射率匹配層亦可為一減少應力層。此折射率匹配及/或減少應力層可包含一種材料具有一折射率係實質上匹配該玻璃基材者，且在某些實施例中亦具有一淨壓縮應力。
第2圖為一依據本發明之一實施例的塗層物品例之一截面圖。該第2圖實施例的塗層物品包含基材1，其會支撐可熱處理(例如可回火)的防反射(AR)塗層4。基材1典型係為一玻璃基材(例如由大約1.0至10.0nm厚之透明、綠色、青銅色、或藍綠色的玻璃基材)，但在某些實例中亦可為其它材料，例如，一聚碳酸酯或丙烯酸材料，一矽晶圓等。該AR塗層4包含一“折射率匹配”及/或“減少應力”層5，中等折射率層9，高折射率層9，及低折射率層11。
在某些實施例中，層5可包含一種材料具有一折射率實質上匹配一玻璃基材者。在某些情況下，即使若該層5的折射率並不完全匹配該玻璃基材者，其仍可具有一充分接近的折射率，足以使任何對光學性能的影響能藉該疊層中之一或更多其它層的厚度之稍微修正而被減少。又，該層5的厚度在某些實例中可依需要來被增加，例如，用以使該疊層在熱處理後能增加一充分的壓縮應力分量。
在某些實施例中，層5可包含矽氧化物及/或矽氮氧化物。但是，本發明並不受限於此，且層5可包含任何材料其具有一折射率係實質上匹配於該玻璃基材者。所謂“實質上匹配”乃意指該層的折射率係相差該玻璃基材的折射率在約0.2以內，更好是在約0.1內，且最好該差異係不大於約0.05或0.04。
又，在某些實施例中，層5可具有一由約50至300nm的厚度，更好是由約60至120nm，且最好是由約60至100nm。但是，一具有任何足以將該塗層的淨應力轉變成壓縮應力之厚度，而不會顯著地劣化該塗層之光學及/或物理特性的層亦可被使用於其它實施例中。
在某些實施例中，層7可為或包含一種具有一“中等”折射率的材料。該層7的折射率可為比層11者更低，但比層9者更高。在某些實施例中，該層7的折射率亦可高於該層5的折射率。
在某些實施例中，層7可具有一厚度係由約30至150nm，更好是由約40至80nm，且最好是由約50至70nm，而一舉例的厚度範圍係由約53至65nm。
在某些實施例中，層7可包含矽氮氧化物；但是，本發明並不受限於此。層7可包含任何的材料具有一折射率由約1.6至2.0，更好是由約1.65至1.95，且最好是由約1.7至1.8或1.9。
層9在某些實施例中可係為或包含一種具有一相對較“高”折射率的材料。該層9的折射率可比組成該AR塗層的其它三層者更大。在某些實施例中，層9可具有一折射率係由約2.0至2.6，更好是由約2.1至2.5；且最好是由約2.2至2.4。
在某些實施例中，層9可具有一厚度係由約50至150nm，更好是由約75至125nm，又更好是由約80至120nm，且最好是由約85至105nm。
但是，在其它實施例中，層9可為薄的俾能減少該AR塗層的淨拉伸應力，例如，使該層9具有一小於約50nm的厚度，或在某些實例中甚至小於約25nm。
在另外實施例中，層9可包含一高折射率材料其在熱處理之前及/或之後會具有一較小的拉伸應力值。層9在某些實例中可包含一種鈮的氧化物。在其它實例中，層9可包含一種鈦的氧化物。在另外實施例中，層9可包含任何適用的高折射率材料。
層11可係為或包含一種具有一“低”折射率的材料，在某些實施例中，層11可具有一折射率係比該層7和9兩者的更低。在某些情況下，層11甚至可具有一比層5更低的折射率。在某些例子中，該層11的折射率可由約1.3至1.6，更好是由約1.35至1.55，且最好是由約1.43至1.52。
在某些實施例中，層11可包含矽。在某些情況下，層11可包含矽氧化物及/或矽氮氧化物。層11可具有一厚度係由約40至200nm，更好是由約50至110nm，且較好是由約60至100nm，而有一例厚度係大約80nm。
在某些實施例中，層5和11可包含相似的厚度，及/或甚至可實質上包含相同的厚度。層5和11的厚度可相差不大於約15nm，較好是不大於約10nm，且最好不大於約5nm，依據某些實施例。
一依據第2圖製成的塗層物品之一實施例係示於表6中。由表6可以看出，若包含一添加的折射率匹配/減少應力層，則一包含一種具有一較高壓縮應力量值之添加層的塗層會具有一較低的整體淨應力。事實上，在1c例中，一三層的AR塗層，其淨應力是拉伸的，但在2c例中，該四層的AR塗層，其淨應力是壓縮的。故，在某些實施例中，一以一具有一較大壓縮應力之添加層所製成的塗層可能會比一三層AR塗層更為耐久。
在某些實施例中該折射率匹配/減少應力層5可為鄰接於該玻璃基材。在其它實施例中，層5可被提供於該疊層的其它處。
第3圖示出一依據本發明之某些實施例的例子。第3圖為一依據本發明之一實施例的塗層物品例之一截面圖。第3圖實施例的塗層物品包含基材1其會支撐可熱處理(例如可回火)的防反射(AR)塗層4。基材1典型係為一玻璃基材(例如由約1.0至10.0nm厚之透明、綠色、青銅色、或藍綠色的玻璃基材)，但在某些實例中可為其它材料，例如一聚碳酸酯或丙烯酸材料，一矽晶圓等。該AR塗層4包含一含有矽氧化物的“折射率匹配”及/或“減少應力”層5，含有矽氮氧化物的中等折射率層9，含有鈮氧化物的高折射率層9，及含有矽氧化物的低折射率層11。
第4圖示出本發明的另一實施例。第4圖為一基材在其各主表面皆支撐著塗層的截面圖。AR塗層4由該基材往外包含“折射率匹配”及/或“減少應力”層5，中等折射率層7，高折射率層9，及低折射率層11。AR塗層4’由該基材往外包含“折射率匹配”及/或“減少應力”層5’，中等折射率層7’，高折射率層7’，高折射率層9’，及低折射率層11’。
已有利地發現藉著找出具有一低熱處理後拉伸應力的高折射率材料，及/或藉增加由該疊層中的添加層(例如一減少應力層)所貢獻的壓縮應力量值，則乃可能減少一塗層中的淨拉伸應力，並因而造成一在熱處理後具有一增加的耐久性之塗層。
於此所述之各層在某些實施例中可為化學計量的及/或實質上完全化學計量的，而在不同的實施例中該各層可為次化學計量的。但是，應請瞭解任何適當的化學計量學皆可與任何於此所述的範例層連結來被使用。
雖某些實施例已被連結三層或四層的AR塗層來描述，但其它包含例如更多或較少層的設計亦有可能，且於此可被考量。例如，某些實施例可合併一減少應力層，一中等折射率層，及其上的多個高/低折射率交替層。
又，在某些實例中，於所示之塗層4底下、內或上方的其它層等亦可被提供。故，雖該層系統或塗層是(直接或間接地)“在該基材1上”或“被基材1所支撐”，但其它的層亦可被提供於其間。即，例如，第2圖及/或第3圖的塗層4和其各層可被視為在該基材1“上”及“被支撐”，即使若有其它層被提供於層5和基材1之間。又，在某些實施例中所示塗層的某些層可能被移除，及有其它層添加於本發明的其它實施例中亦不超出本發明之某些實施例的整體精神。在某些其它實施例中，塗層4可基本上由各層5、7、9、11等所組成，且層11可被曝露於大氣(例如在某些實施例中該層11可為該塗層的最外層)。
於此所述的實施例可與多種的器物連結來被使用。例如，一依據所述實施例製成的單面AR塗層可被用於某些器物，例如，商業或居住區或在運動場或其它大集會場或競技場的燈具，一般照明器具，觸控螢幕等。一依據所述實施例製成的雙面AR塗層可被用於某些器物，例如，電子裝置、顯示器、用具、裝飾面等。當然，對所述實施例而言，其它的用途亦是可能的。
一如所述的塗層物品(例如參見第1～4圖)在某些實施例中可能會或不會被熱處理(例如回火)。此等回火及/或熱處理典型需要使用至少約580℃的溫度，較好為至少600℃，且又更好為至少620℃。於此所用的“熱處理”乙詞意指將該物器加熱至一足以達到該含有玻璃物品之熱回火及/或熱強化的溫度。此定義包括，例如，在一烤爐或煉爐中以一至少約550℃的溫度加熱一塗層物品，較好為至少約580℃，更好為至少約600℃，又更好為約620℃。且最好為約650℃，歷經一充分時間以容許回火及/或熱強化。在某些實施例中，此可能是至少約2分鐘，或高達約10分鐘。
一些或全部的所述之層可藉濺射或其它適當的薄膜形成技術，例如燃燒蒸汽沈積法、燃燒沈積法等，來被直接或間接地設置在該基材1上。
雖本發明已被連結目前認為最實用且較佳的實施例來描述，但請瞭解本發明並不受限於所述實施例，而是相反地，係意圖涵蓋被包含於所附申請專利範圍之精神和範疇內的各種修正及等效設計。
1．．．基材
3．．．防反射塗層
4．．．防反射塗層
5，5’．．．減少拉伸應力層
7，7’．．．中等折射率層
9，9’．．．高折射率層
11，11’．．．低折射率層
第1圖為一三層的防反射塗層之一截面圖。
第2圖為依據某些實施例之一四層的防反射塗層之一截面圖。
第3圖為依據其它實施例之一四層的防反射塗層之一截面圖。
第4圖為依據又另外實施例之一四層的防反射塗層之一截面圖。
1．．．基材
4．．．防反射塗層
5．．．減少拉伸應力層
7．．．中等折射率層
9．．．高折射率層
11．．．低折射率層

Claims (28)

  1. 一種製造一包含一防反射塗層之可熱處理的塗層物品之方法，該方法包含：設置一減少應力層於一玻璃基材上並與之接觸，該減少應力層具有一折射率係實質上匹配該玻璃基材之一折射率；設置一具有一中等折射率的層於該減少應力層上；設置一具有一高折射率的層於該中等折射率層上；及設置一具有一低折射率的層於該高折射率層上；其中該高折射率層的折射率係大於該中等和低折射率層的折射率，且該低折射率層的折射率係小於該中等折射率層的折射率；且其中該防反射塗層之一淨殘留應力是壓縮性的。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，更包含熱處理具有該減少應力層，以及設置其上之該中等、高、和低折射率層的該塗層物品。
  3. 如以上申請專利範圍之任一項的方法，其中該減少應力層包含矽氮氧化物。
  4. 如以上申請專利範圍之任一項的方法，其中該減少應力層包含矽氧化物。
  5. 如以上申請專利範圍之任一項的方法，其中該高折射率層包含一鈮的氧化物。
  6. 如以上申請專利範圍之任一項的方法，其中該高折射率層包含一鈦的氧化物。
  7. 如以上申請專利範圍之任一項的方法，其中該高折射率層包含一由約80至120nm的厚度。
  8. 如以上申請專利範圍之任一項的方法，其中一淨應力值係以下列公式來估計：σ Net =，其中σ n 是第n層的殘留應力，而h n 是第n層的厚度，且其中該防反射塗層之一淨殘留應力σ Net 係依據該塗層中之每一層的殘留應力和厚度來被預估。
  9. 如申請專利範圍第8項之方法，其中該防反射塗層之預估的淨殘留應力σ Net 與一測量的淨殘留應力值相差不大於約15%。
  10. 如申請專利範圍第8項之方法，其中該防反射塗層之預估的淨殘留應力σ Net 與一測量的淨殘留應力值相差不大於約13%。
  11. 如以上申請專利範圍之任一項的方法，其中該減少應力層，中等折射率層，和低折射率層各皆包含一矽的氧化物。
  12. 一種製造一包含一防反射塗之可熱處理的塗層物品之方法，該方法包含：設置一減少應力層於一玻璃基材之一第一主表面上並與其接觸，該減少應力層包含矽，且具有一折射率不同於該玻璃基材之一折射率，相差不大於約0.2；設置一包含矽氮氧化物的層於該減少應力層上；設置一包含一鈮之氧化物的層於該包含矽氮氧化物的層上；及設置一包含一矽之氧化物的層於該包含一鈮之氧化物的層上；其中該高折射率層的折射率係大於該中等和低折射率層的折射率，且該低折射率層的折射率係小於該中等折射率層的折射率；且其中該塗層之一淨殘留應力是壓縮性的。
  13. 如申請專利範圍第12項之方法，更包含在該含有矽之氧化物的層已被設置於該含有一鈮之氧化物的層上之後熱處理該塗層物品。
  14. 如申請專利範圍第12至13項之任一項的方法，其中該減少應力層包含矽氮氧化物。
  15. 如申請專利範圍第12至14項之任一項的方法，其中該減少應力層基本上係由矽氧化物所構成。
  16. 如申請專利範圍第12至15項之任一項的方法，其中該減少應力層和該含有一矽之氧化物的層包含幾近相同的厚度。
  17. 如申請專利範圍第12至16項之任一項的方法，其中該含有一鈮之氧化物的層包含一由約80至120nm的厚度。
  18. 如申請專利範圍第12至17項之任一項的方法，其中一淨應力值係以下列公式來決定：σ Net =，其中σ n 是第n層的殘留應力，而h n 是第n層的厚度，且其中該防反射塗層之一淨殘留應力σ Net 係依據該塗層中之每一層的殘留應力和厚度來被預估。
  19. 如申請專利範圍第18項之方法，其中該防反射塗層之預估的淨殘留應力σ Net 與一測量的淨殘留應力值相差不大於約15%。
  20. 如申請專利範圍第19項之方法，其中該防反射塗層之預估的淨殘留應力σ Net 與一測量的淨殘留應力值相差不大於約13%。
  21. 如申請專利範圍第12至20項之任一項的方法，更包含：設置一第二減少應力層於一玻璃基材之一第二主表面上並與其接觸，該第二減少應力層包含矽，且具有一折射率不同於該玻璃基材之一折射率，相差不大於約0.2；設置一第二包含矽氮氧化物的層於該第二減少應力層上；設置一第二包含一鈮之氧化物的層於該第二包含矽氮氧化物的層上；及設置一第二包含一矽之氧化物的層於該第二包含一鈮之氧化物的層上；其中該第二高折射率層的折射率係大於該第二中等和第二低折射率層的折射率，且該第二低折射率層的折射率係小於該第二中等折射率層的折射率；且其中設置在該玻璃基材之第二主表面上的該塗層之一淨殘留應力是壓縮性的。
  22. 一種可熱處理的塗層物品，包含：一基材；及一第一防反射塗層被該基材之一第一主表面支撐，該基材係可與設置其上的該防反射塗層一起熱處理；其中該第一防反射塗層依由該基材移離的順序包含：一減少應力層包含一材料在熱處理後具有一壓縮性的殘留應力；一中等折射率層包含矽氮氧化物；一高折射率層包含一鈮的氧化物；及一低折射率層包含一矽的氧化物；其中該塗層在熱處理後具有一淨壓縮殘留應力。
  23. 如申請專利範圍第21項之塗層物品，其中該塗層物品會被熱處理，且在熱處理之後該淨壓縮應力值會被測量。
  24. 如申請專利範圍第21至22項之任一項的塗層物品，其中該減少應力層包含一矽的氧化物。
  25. 如申請專利範圍第21至23項之任一項的塗層物品，其中該減少應力層之一折射率與該玻璃基材之一折射率相差不大於約0.2。
  26. 如申請專利範圍第21至24項之任一項的塗層物品，更包含一第二防反射塗層提供在該基材之一第二主表面上，該第二防反射塗層含有與該第一防反射塗層相同的各層。
  27. 一種熱處理的塗層物品，包含：一玻璃基板；及一防反射塗層被該基材之一主表面支撐，該基材係與該防反射塗層一起被熱處理；其中該防反射塗層依由該基材移離的順序包含：一減少應力層包含一矽的氧化物及/或氮化物；一中等折射率層包含矽氮氧化物；一高折射率層包含一鈮的氧化物及/或一鈦的氧化物；及一低折射率層包含一矽的氧化物；其中該塗層在熱處理之後具有一淨壓縮殘留應力。
  28. 如申請專利範圍第26項之塗層物品，其中在熱處理後測得的淨壓縮殘留應力與該σ Net 之值相差不大於約15%，而該σ Net 係依下列公式來決定：
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