TW201241691A - Resistor film-type multi-touch panel and electrode sheet used therein - Google Patents

Description

201241691 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於種觸控面板（觸控營幕），特別是有 關於-種形脑利用細線圖案的電極Μ可實現多點觸控 的電阻膜式觸控面板。 、 【先前技術】 觸控面板已開發有如下方式：隔著點隔片（d〇tspacer) 相向配置的2層導電膜（魏層）_彻娜的導通來 測知觸摸位置的類比餘财式、或者抑電測 =，位置的電容方式。近年來’觸控面板的大型化 或者同日守檢測2點以上接觸的多點觸控的 古，立 正進行利用靜電容方式的技術開發。但是，電^ 面板存在無法應對筆輸入、不適合在& 工二 環境下使_題。另, 故具有作為減本的輸人打_力，ϋ此正進 行多點觸控難的電_式觸控面板。 ^ 為能以電阻膜式進行多點觸控操作 觸控面板如專利文獻i的圖K3所 :== 透明導電膜上具有賦予了匯流排的上部電極；=的 相對於2，已有將透料€财#域 觸控的嘗試。專利文獻、7匕碼以只現多點 域分割的矩陣方式下的電極進行上述區 的方式，更記載有雜入巴_^的任一方作區域分割 電厂堅值來提昇測知電極分別施加不同的 3 201241691,u 先前皆將氧化銦錫（ΓΓΟ)等透明導電膜用於該些先 前電阻膜式觸控面板的電極材料，但ΙΤΟ等透明導電膜因 電阻值高，故有大晝面化時應答變慢的問題，若為降低電 阻而提高膜厚，則會有晝面辨認性因著色而變差的問題。 另外，類比電阻膜方式中必須使檢測電壓與輸入位置成比 例，但於大畫面化時ΙΤ0膜的線性未必高亦成為問題。 因此，專利文獻3記載有如下的矩陣式的電阻膜式觸 控面板，該觸控面板是印刷使導電粒子分散於樹脂中而成 的各向異性導電樹脂而製成導電細線來代替ΙΤΟ等透明導 電膜’但細線的線寬為10〜500 γιη左右，於實例中記載為 50 ’細線被辨視出來的問題並未解決。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :日本專利第3825487號公報 專利文獻2:日本專利特開2〇1〇_〇〇9142號 專利文獻3:日本專利特開2003-256136號 對於近年來對多點觸控化及大畫面化的升高的要求， 現正進行著可望降低成本的電阻膜式觸控面板的開發，但 如上所述，若使用先前的透明導電膜，則會有由電阻值高 所引起的應答性問題、伴隨著色的辨認性關題。 若將正以靜電谷方式開發的使用不透明金屬細線來形 成電極的技術應用於電賴式觸控面板的電極，則有利於 =成低電阻電極’但相反地有如下等問題：自觸摸面透視 下電極時會辨視出金屬細線，或者積層觸控面板的影像 4 201241691 顯不裝置與金屬細線發生干涉而產生疊紋。 【發明内容】 本明的目的在提供一種使用於低成本且可 造的電阻膜式纽觸控面板的電極片。另外，本^另二 =在，種低成本且可實現多點觸控的電阻膜式觸控 ，發明另—目的在提供一種可實現多點觸γ、 觀視性佳且應答性佳的電阻膜式觸控面板。觸控 本發明藉由以下者來達成。 [!]種矩陣電阻膜式觸控面板，其將上部 部電極群(亦稱Υ電極群)以隔= 且上部電極群形成於上部透明基板上 板上且=====下部形成於下部透明基 攸上且人级於γ方向上導通，該χ方向盥 致直行狀態’該轉電阻膜式觸控面板的特徵在ς心 該上部電極群及下部電極群各自的電極包含感測 導==感測器部包含在電極的導通方向或自電:： 導通方向傾斜的方向上延伸❹料電細線， 導電細線的方向正交的方向或傾斜的方向上延伸^多ϋ 電連接線’且該導·線或導電連接線* 道導 細線或連接_導通由斷線雜斷。 t極的導電 [2] 如第1項所述之矩陣電_柄控面板，1 >，，田線相對於電極的導通方向傾斜3〇。〜6〇。， 電 對於電極的導通方向傾斜_3〇。〜_6()。。 «連接線相 [3] 如第1或2項所述之矩陣電阻膜式觸控面板，其中 5 201241691u 當將該上部電極與下部電極重疊並自觸摸面側透視時，形 成有大致均一的格子圖案。 W如第1〜3射任—項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中當將該感測器部的電阻值設為R 部的電阻值設為η⑼時，其_/d為切)J二線 [5] 如第1〜3項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板’其中當將該感測器部的電阻值設為⑷⑼ 部的電阻值設為η⑼時，其減腿為5^=^；線 [6] 如第1〜5項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中該上部電極群及該下部電極群各自的電極的間隔 為1 mm以上8 mm以下。 [7] 如第1〜5項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中該上部電極群及該下部電極群各自的電極的間隔 為3 mm以上6 mm以下。 [8] 如第1〜7項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中構成該電極的感測器部的導電細線的間隔或導電 連接線的間隔為1〇〇 以上6〇〇 以下。 [9] 如第1〜8項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中該電極形成於上部透明基板或下部透明基板上所 形成的易接著層上。 [10] 如第1、3〜9項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控 面板，其中該電極的導電細線的於每一根電極中的妗人 線條數為3〜80條。 σ [11] 如第1〜10項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 6 201241691 板’其中感測器部的導電細線與導電連接線的線寬為lym 以上10/mi以下。 [12] 如第1〜11項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板’其中感測器部的導電細線與導電連接線的線寬為lyWm 以上5 ym以下。 [13] 如申請專利範園第1〜12項中任一項戶斤述之矩陣電 阻膜式觸控面板’其中感測器部的導電細線與導電連接線 的厚度為〇·5 yni以上5 以下。 [14] 如第1〜12項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中感測器部的導電細線與導電連接線的厚度為1.0 μπι以上1.5 μιη以下。 [15] 如第1〜14項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中感測器部的電阻值為10〜500 Ω/口。 [16] 如第1〜14項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中感測器部的電阻值為30〜1〇〇 Ω/g。 [17] 如第1〜16項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中配線部的導線的線寬為50〜1 mm。 [18] 如第1〜16項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板，其中配線部的導線的線寬為60〜750yrn。 [19] 如第1〜10項中任一項所述之矩陣電阻膣々鏑批而 板’其中上部電極及下部電極的分別設置於相鄰^電^間 的導電細線或導電連接線的斷線部的平均長度為1〇川^以 上200 /mi以下。 [20] 如第1〜10項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 7 201241691 板，其中上部電極及下部電極的分別設置於相鄰的電極間 的導電細線或導電連接線的斷線部的平均長度為以 上120/mi以下。 [21] 如第20項所述矩陣電阻膜式觸控面板，其中導電 細線或導電連接線的斷線部的設置位置是無規地形成。 [22] 如第1〜21項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板’其中上部電極與下部電極以電極表面相對的方式，藉 由作為間隔片的貼合材隔著空間而積層，該貼合材的厚度 為 100〜300 "m。 [23] 如第1〜22項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板’於藉貼合劑形成的下部電極上的空間内配置點隔片， 其間隔L為2 mm以上8 mm以下，高度HD滿足以下式（1)。 0.7HD<2Hd+V<1.3HD (1) 此處，Hd表示上下電極群的細線的自透明基材的最表 面的突出南度，V表示上部透明基板的彎曲量。 彎曲量V藉V=WxL3/ (48χΕχ〇求出，其中W為觸 摸的按壓壓力（將以200 g的力按壓作為基準），L為點隔 片的配置間隔（m)，E為透明基板的材料的楊式模數 (GPa)，I為透明基板的剖面二次矩。 [24] 如第23項所述之矩陣電阻膜式觸控面板，其中於 藉由該貼合劑而形成的下部電極上的空間内配置點隔片， 其間隔L為2mm以上8mm以下，點隔片的高度為 以上15 yum以下。 [25]如第1〜24項中任一項所述之矩陣電阻膜式觸控面 8 201241691 板’其中該上部電極群及該下邱带托被八 膜或齒化賴械光材料卿成。、刀別由導電金屬薄 [26]如第1〜25項中任—項所述之矩 板’其t上部電極群及下部電極群的感測觸控面 圖案同時形成。 〜、βσΙ^、配線部的 [27卜種類比電阻膜式觸控面板 二物-項所述之構成上部電極的電極君 接於電極的配線部而成為！條電極線的方式，邱^ 端子内得到切換，下部電極與上部電_樣，# 條電極線的方式於外部連翻子崎到城。成為 [發明的效果] ' 由本發明可得即，大面積化回應性亦佳，作為晝面觀 二Ϊ覺2異物或豐致等的觀視性佳，且可實現多點觸 控的電阻赋雌面板，進而可縣穩定製造且品質穩定 的觸控面板。 【實施方式】 以下參照圖1〜13來說明用以說明本發明實施形態的 電阻膜方式觸控面板的例子。再者，以下說明中與已說明 之構成相同的構成是以同一符號標註，复 本說明書中，「〜」的含義是包含記載於其前後的數值 作為下限值及上限值。 圖1緣示本發明的觸控面板1的剖面圖的一部分，其 例示自圖1上_觸摸者側起包含具有硬塗層的觸摸面用 的透明基板20、上部透明基板11、上部易接著層41、上 201241691t 部電極群21 42、下部透明基板雷下部電極群22、下部易接著層 於電阻膜式觸控面拓阻膜式觸控面板。 而令透明基板彎曲，使’因輸入者的手指或筆的觸摸 按壓部接觸而短路。因。卩電極群21與下部電極群22的 極’另-方的電極設為固㊁:將方的電極設為可動電 上部定基電板極。構成，極的 部透明基板1卜不僅夏呆護、強化作為觸摸面的上 的硬塗層功能，亦具有、予;^部透明基板11耐損傷性 需要設置的易接著層41二几靜電、抗反射等功能。視 摸產生的應力而自i日1二避極群21、22因觸 貼合劑3!是用以使上4= 剝離並斷線等故障。 握狀能下尤垃臨ΛΛ電群與下部電極群22於益觸 面外側)且具空間保持功能及上 22 _合功能的材料稱為貼合劑31，具有於觸摸面内防= 上部電極，21與下部電極群22接觸的功能的材料稱為點 周緣部，是指觸控面板的除了構成觸摸部 (圖3、5、7中虛線60標示的矩形部分）的感測器部以外 的包含配線部、外部連接端子、外框等的部分。 雖然圖1未綠示，但可為了增強下部透明基板12的強 度而於其下側更具有透縣板。硬塗層與上部翻美板！】 201241691 等各層可以接著劑積層，但圖i未繪示，以免圖變得繁雜。 圖2是構成先前的觸控面板的上部電極群與下部带° 群的排列圖。電阻膜式觸控面板的最簡單常用的形 2片稱作4線或5線式的IT0膜等透明導電膜用於=雷 極及下部電極，但無法測知多點觸控。因此，於圖2 前例構成中，分別以多個電極群構成上下的電極，且由^ 約5m的多條金屬細線構成各電極，以成為低電阻且= 於大晝面的矩陣型電極群。目2八、2輯示先前例的上^ 下部電極群。圖中上部電極僅例示21-1〜21_4的4根電^、 各電極包含多條導電細線5卜圖2A中是以3條導電細° A、51b、51c構成1根電極。各電極藉由作為引政 的配線55連結外部連接端子57。圖2B繪示下部電極 圖中的記號、編號與圖2A相同。 ’ 下是自觀視者侧透視使上述先前例的上部電極群邀 的i 交而成的觸控面板的圖。圖中虛、線60所包圍 成職的範圍（觸摸面）。虛線的外側形 子57 m 此處配置有配線55、外部連接端 或使上下電極積層的貼合材31。 分因線寬而可看到格子，或因有導電細線部 生光二不么 分（亦稱開口部）的折射率差異而產 3予不均勻’或因與液轉顯示裝置干涉㈣生疊紋。 定的構成是將多條導電細線並聯，因此 電各易因使用過程中的劣化等而不穩定的問題。 201241691 . —_ - - A-丨夏 以下依圖4、6朗本發明的轉電 本發明的矩陣電阻膜式觸控面板將 =:口 Ϊ?群(亦稱¥電極群;以隔:= 部電極群形成於上部透明基板且大i = 電:群形成於下部透明基板且大致 於Y方向上導通’该又與丫方向處於大 矩陣電阻膜式觸控面板特徵在於 丁狀該 群各自的電極包含感測器部與配線^ =多:;=:電細線的方向正交或二= 夕保導電連接線’且該導電細線 鄰近電細線或連接線的導 :圖4巾’形成感測器部的圖案包含在電 =ίΓ電細線，及在與該些導電細線的方向正Ξ =月：：的圖案成為菱型的格子構造。以下詳 兄月圖4、6的本發明的觸控面板。 托被从从疋構成本發明的觸控面板的上部電極群盘下邱雷 相對於圖2的先前例，本發二= 二連細線並聯’相對於此'本發明是導人 数=連、，。導電細線51的連結線52來使各電極 一特徵）。藉由電極的格子化，即可於導綾小 化或斷線的缺損時仍獲得敎的電位。連結線的數ί為= 12 201241691 意:所形成的格子可為如圖4A、 為使電位均勻，較佳為正= 線52不僅位Y電極m ^電極群的第二特徵是上述連結 伸。圖4A的連姓绩或内部，而朝鄰近的電極方向延 將電極叫的3條導電細線化、 ’亚朝鄰接的電極叫方向 達21-2之前斷線。蕻由钟 τ ^ 立。斷線部私，各電極各自獨 立私表不斷線部的長度。制 亦可與上部電極群相同 7卜^^群的况明 的上部電極群與圖4b的下邻&自群親正視如貝f視使圖4a ^ ,坏匕圍的邛刀表不晝面中可觸摸的範圍 :ίΛ :線外側形成觸响

配線連接端子57或使上下電極積層的貼合材J 規則透視圖與圖3的先前例相同，看上去是 規則的格子排列，但因以不使各個格 ==:而積層，故成為圖3的格子的 如此P使格子的線寬小於圖3的格子 =身^被看出。又，因圖3的格子空間内^具== 、’、田線，且具有崎部，故可使 部分的折射率麵料狀導電體 骨年列示說明了將格子形狀作為電極的感測器部的 。於如該些電極般導電方向與電極細線平行的 ^置的形狀的—個方向會與配置有難面板的顯示 表置的旦素電極的邊平行，容易因干涉而產生4紋。 13 201241691it •轟故▽γΐ丄 另一方面，圖6中例示了使上述導電細線及導電連接 線自電極導通方向上傾斜，而使電極的感測器部的圖案成 為菱型格子構造的電極。圖4與圖6的差異在於：圖4的 發明的感測器部的構造為矩形格子的圖案，相對於此，圖 6是菱型格子的圖案。菱型格子的圖案因不具有與上述畫 素電極的邊平行的導線的配置，故不易產生疊纹。 圖7是不同於圖4的將本發明的圖6的上部電極群與 下部電極群正交配置時，自觸摸者側看到的透視圖，其表 示電極細線相對於觸摸面的縱橫傾斜了 45。的配置。 為有效防止疊紋，可以不使觸控面板的觸摸面内電極 細線的方向與影像顯示裝置内電極或晝素的線平行的方式 配置。圖6是以細線方向相對於觸控面板的大致矩形觸摸 面的邊傾斜約45。而配置。傾斜角較佳1〇。以上，3〇。以上 更佳。為防疊紋與提高測知觸摸的準確度，最佳約為45。。 再者，以上雖說明上部電極群與下部電極群正交配置 的況，但不一定需要正交；只要能消除疊紋則交叉角 亦可為30〜15〇。。圖7繪示將點隔片％配置於上下電極 群的斷線部的交點的例子。 #相對於先前例，本發明的電極群的第三特徵是使虛線 60標不的觸摸面外側的配線部的配線55(連至外部連接端 子的引出電路）的電阻值於每個電極中可變，而控制位於 觸摸面的電極的電诚圍。具體情㈣依® 8作說明。 立圖8是包含觸控面板外的運算裝置MCU在内來繪示 上邛電極群圖4Α的圖。與運算裝置MCU連接的2個外部 201241691 ί ί It rfl與57bi之間的電阻值rti可記為··作為感測 Li!!格子狀電極的電阻值Ri以及感測器部與外部連接 ^間的2個配線部的電阻值rfi與rM和，即RTi=rfi+Ri+ r i。此處：表示電極的編號，rfi表示一個配線部電阻值， rbl表不另一個配線部電阻值。 枚4電極群圖4八的電極為例作說b月。位於電 的兩端的外部連接端子训與57Μ間的端子間阻 h_本發明中，端子間電阻值Rti可依i而不同，亦 °相同可根據所测知的電壓範圍的控制的容易度來選擇。 1本發明的特佳形態中，感測ϋ部的阻抗Ri與配線部 担^几rfi+rbi的比R (=Ri/(rfi+rbi》被設成特定範圍以 =回應精確度。R值可藉由以某種方法較制器部與 心：、、' 周緣部的配線部的導線的電阻值來變更。例如，可改 變配線部的導線線寬來變更。此處’感測器部的電阻值Ri 不僅表不圖中虛線6 〇所包圍的觸摸部的電阻值，亦表示形 成電極的格子的部分的電阻值。比值R較佳為4以上50 以下，5以上30以下更佳。將比值R設為4以上50以下 即可提高對於難的回應精確度（提高測知的準確性）。 接著說明上述本發明的上部與下部電極的詳細情況。 上下部電極群各自的電極的間隔d較佳1mm以上8 mm 1下，2 mm以上7 mm以下更佳，3 mm以上6瓜瓜以 下尤仏如„又為上述範圍，則即便晝面變大，亦可迅速處 理。構成電極的感測器部的細線間距dl較佳1〇〇 m以上 15 201241691 . _____'11 600_以下]50㈣以上350哗以下更佳。設為⑽㈣ 以上6〇〇辦以下即可兼顧光的透過性與電阻值的降低。 電極中的結合細線的數目以每—根電_，較 3〜80條，更佳為4〜50條，特佳為5〜2〇條。使此種範圍的 導電性細線結合，即可進行穩定的測定。 感測器部的導電連接線的間隔d 3較佳為動辦以上 600輝以下，150㈣以上35〇㈣以下更佳。如設為勘^ 以上600 /πη以下，則即便於產生斷線等缺損時，亦可 行穩定的測定。 為了避免圖案被看出’較佳將感測器部的導電細線與 導電連接線的線寬盡罝设得狹小，1 以上1 〇 以下更 佳，1/rni以上5 以下又更佳。設為該範圍即可使圖案 加工的容易度與觸摸所致上下電極的接觸導通變得可靠。 為得低電阻值，感測器部的導電細線與連接線的厚度 需須大’但為了電極對觸摸彎曲的耐性，宜設為適度範圍， 0.5ym以上5γιη以下更佳，10/mi以上J以下尤佳。 感測器部的電阻值（通常以表面電阻率表示，單位以 Ω/□或Ω/sq.表示）較佳為1〇〜5〇〇 Ω/口，3〇〜1〇〇以口更佳。 若為10〜500 Ω/口的範圍，則可得到良好的導通性。 配線部的導線可以任意的厚度形成，但就與感測器部 的導電細線一併製造的觀點來看，較佳是以與感測器部相 同的厚度形成。 配線部的導線線寬較佳5〇/an〜丨mm，6〇〜75〇 更佳。 如本發明般在具有上下部電極的觸控面板中將不透明 16 201241691 材料用於電極知_4 故本發明4時，自觸摸者側必須看不出電極圖案， 線設為無法看:將配置於觸控晝面的感測器部的細 視時亦為均勻格子#度’ ^即便於使上下部電極重疊來透 但是，粗格子丄ί，不形成折射率不同的可辨認區域。 於透顏Β=Γ線部與開口部的折射率差難以均勻化， ΓίΓ折射率差所5丨起的光學不均勻。 設為均ί=^圖4Α、4Β般將上部電極、下部電極分別 部53。此斷了避免與鄰近電極導通而設有斷線 «下，d4的平均值較佳為10仰以上100 尺Ί主馬20 以上5〇 以下。 =線。p如圖4A、4B例示般，於鄰近的電極外側 規長度設置斷線部，但較佳於導電細線間無 電細:間以！止上述光學不均的產生。為了於導 ''叹置.、、、規的斷線部，宜將斷線部的長度及位置設 ^，、規而_定。具體而言，較佳將導線部的長度d4的平 的ΐίί i?10 以上100㈣以下’並使斷線部長度 2準偏差與平均值的比（斷線部長度的標準偏差/斷線部 ，度的平均值）成為〇·2(Μ)·65。若未滿G2，則斷線部區 域接近矩形且村能看&不均自；超過G.65齡產生與鄰 近電極的導電細線導通的風險。崎料常設在相鄰電極 間的中央部（圖4A中箭頭d的中央部），但較佳是以不使 斷線部的中點與相鄰電極間的中點一致的方式設置。 以下依序說明上述電極所用材料及電極的製造方法。 [透明基板] 17 201241691 ----Γ 構成上述觸摸面的可撓性上部透明基板U、下部透明 基板12所用的透明材料可為相同材料，亦可分別使用不同 的材料，可使用塑膠膜、塑膠板、玻璃板等。層的厚度宜 依照各個用途而適宜選擇。該些材料較佳是具有可撓性。 上述塑膠膜及塑膠板的原料例如可使用聚對苯二曱酸 乙-S旨（PET)、聚萘二曱酸乙二g旨（pEN)等聚賴；聚 乙稀（PE )、聚丙烯（PP )、聚苯乙烯、乙稀-乙酸乙烯酯 “聚物（EVA)等聚稀烴類；乙稀系樹脂；除此之外，亦 :使用聚碳酸酯（pC)、聚醯胺、聚醯亞胺、丙烯酸樹脂、 三乙酸纖維素（TAC)等。 較佳材料為PET(熔點：258t )、PEN(熔點：269〇C )、 PE(。熔點：135t)、pp(熔點：163。〇、聚苯乙烯（熔點： 23'C )、I氣乙烯（熔點：18〇。〇)、聚偏二氣乙烯（熔點： 212°C)或TAC (熔點：29〇。〇等熔點約29(rC以下的塑 膠膜或塑膠板，尤其從紐過性或加性稍點來看，較 佳為PET。膜或板的厚度較佳為50〜300 。 為防止觸摸面損傷或提高強度，構成上述觸摸面的上 部透明基板11亦可設置硬塗層5卜或者為了防止由觸摸 所產生的污垢、灰塵的附著，亦可設置防污層。另外，亦 可叹置用以改善由外部光線的反射所引起的晝面觀看困難 的抗反射層。關於該些賦予層，可利用抗反射膜或防眩膜 的領域中周知的技術（日本專利特表2〇〇5 535934號、曰 本專利特開2007-301970號等）。 本發明的上部電極群及該下部電極群分別可直接形成 18 201241691. 於透明基板上’但為了減少由按鍵動作所產生的破壞缺 損，較佳是在透明基板與電極之間設置易接著層。 [易接著層所用的材料與層的形成方法] 本發明的易接著屬41、42是於透明基板上具有一層或 兩層者’該層中含有黏合樹脂、交聯劑及添加劑。 X本發明所用的黏合樹脂無特別限制，可較佳地使 、（b)聚胺基甲酸g旨樹脂、⑷㈣樹脂、⑷橡膠 ;、ί月曰等聚合物’其具體的化合物可以使用日本專利特開 2007_2〇3635號_聲陶3]中所記載的化合物。 本發明所用的交聯劑可例舉環氧化合物、射琳化合 2三聚氰胺化合物及異氰_旨化合物，其具體的化合物 吏用日本專利特開細·49135號[麵7卜[麵]記載者。 可添入易接著層的交聯劑的添加量相對於黏合劑，較 為丄:100:量％ (wt%)的範圍’更佳為5〜5〇w伙的範 。：添加量少於i wt%，則接著性不足；另一方面，若 超過100 wt%，則有面狀惡化的可能性。 劑，的易接著層中，可依各種目的使用各種添加 日本專利特開篇侧635號段落27〜29 W、斤射率调整用微粒，日本專利特開2〇〇7_203635號 ^ ’各n 2 载的捲成輥狀時的防接著㈣消光劑或潤滑 ❹田^專利特開2〇07-203635號段落32所記載的塗布性 良用的各種界面活性劑等。 七人ί接著層為了顯現對軟性透明基板的易接著性，亦可 匕3又層結構，即包含第-易接著層與第二易接著層。 19 201241691

(A 於雙層結構時，若設為與軟性透明基板接觸的第一易 接著層包含聚酯，第二易接著層包含丙烯酸樹脂或胺基曱 酸醋樹脂的構成’則易顯現易接著性。第—第二易接著層 所用的父聯劑較佳為噁唑啶化合物、環氧化合物或異氰酸 酉曰化合物。第二易接著層因在最外層，故較佳使用潤滑劑。 第易接著層厚度較佳為30 nm以上300 nm以下， 65nm以上i5〇nm以下更佳。未滿3〇nm時透明基板與 第1層的接著性可能不足。若超過綱nm，則帛i層可能 會有面狀惡化，故不佳。 第二易接著層的厚度無特別限制，但為確保良好的透 明性並同時實現易接著性，較佳為IGnm以上5_nm以 下’ 20 nm以上15G0 nm以下更佳。若第2層的厚度未滿 10 rnn，則與上層的接著性可能不足；另—方自，若厚度 超過5000 nm，則可能會有面狀惡化。 方法無特別限制， ’可使用棒式塗布機塗布、 、斜板式發希機

相同万法，亦可使用不同方法。又 在與第一層同時塗布之後乾燥，亦 本發明的易接著層較佳藉塗布設置，但形成塗布層的 又’在形成第二層時，可 亦可在將第一層塗布乾燥

脂系等。形成層的方法無特別限制， 糸、酚樹脂系、乙婦樹 ’可使用網版印刷法等。 201241691 以下依序說明上述電極所用材料及電極的製造方法。 [電極材料] 以下δ尤明可形成本發明的上下部電極群的導電材料。 、先則構成觸控面板的電極的材料使用ΙΤΟ等具有光透 過f生的V電材料，本發明_控面板的電極因利用_ 導電細線’故須使用阻抗低於先前 ITO等的材料， 又土疋使用導電性高的金屬或合金，例如銅、銀、金、始、 铲鎳、錫、鋁、鈷、铑、銥、鐵、釕、鐵、錳、鉬、鎢、 二^ ”、録、錯等，其中依導電性佳的觀 金。X :，'、銅、銀、金、鉬、把、錄、錫、紹及該些的合 X該二金屬或合金形成電極時，可利用以下A)〜〇所 溥膜。接著如下圖案化此金屬薄膜以形成格 :，金屬薄膜上形成光阻膜上= _，以形成含細金屬線的網狀圖宰。或除先 抗娜成時，利用網版印刷、凹版印刷 薄膜中未被抗舰覆的部分，然後剝離=== 21 201241691 金屬細線的網狀圖案。 B)以米粒的墨水（或膏）印刷網狀圖案的方法。 電奈米的:粒:气亦:使，導 合物的粒子。奈米粒的平均粒經為2雜以 小於先前的微 I 罔狀圖案時可使用網版印刷法或凹版印刷法。 金屬二。ίΓ :含的導電材料亦可為導電纖維，而非 的纖触㈣案戶Γ胃導電纖維包括被稱為金屬線、奈来線 的纖維狀物質、中空構造的管、奈 :轴長度(有時稱「平均短轴徑」、「平均== 下’ WOnm更佳，〜斗一又更佳’ 15〜35譲 使料電纖維形成導電層時，例如可將日本專利 9_215594、特開細9·242880、特開 2_·299162、 ^ 84173、特開2_-_、勒-86714揭示的技 術加以組合來形成導電層。 财?利㈣相時所用的鹵化銀照相感光材料，對由該材 的層實施網狀圖案曝光後，進行顯影、㈣處理， 獲付由被顯影的銀構成的導電性細線圖案的方法。 ㈣t發明中獲得導電性細線圖_方法中，根據感光 材枓與顯影處理的形態而包含以下3種形態。 y )對不3物理顯影核的感光性齒化銀黑白感光材料 或熱_影，而使金屬銀部縣於該感光材料 上的形態。 22 201241691 化銀乳劑層中含有物理顯影㈣感光性齒化 銀白感光材料進行溶解物理顯影，而使金屬銀部形成於 该感光材料上的形態。 ⑺使不3物理顯影核的感光性_化銀黑白感光材料 ”具，含物理顯影核的非感光層的顯像片重合後進行擴散 轉印減W ’而使金屬銀部形成於非感紐顯像片上的形態。 上述⑴的形態是-體型黑白顯影方式，於感光材料上 形成光透雜導電_透紐導紐 2是化學顯影銀或熱顯影銀，就高比表面的細絲的觀= 來看，於後續的鍍敷或物理顯影過程中活性高。 上述(2)的形悲是於曝光部，物理顯影核附近的齒化銀 教子溶解並沈積於顯影核上，藉此於感光材料上形成光透 過性導電性料透紐導電性膜。該職亦為—體型里白 顯影方式。因顯影作用是朝物理顯影核 活性，但顯影銀是比表面小的球形。 故為门 、、上述(3)的形態是於未曝光部，齒化銀粒子溶解、擴散 並沈積於顯像ϋ上的顯影核上，藉此於雖片上形成光透 過性導，性膜等透紐導電性膜。該形態是所謂的分離方 式，其疋將顯像片自感光材料中剝離來使用的形態。 任-形態均可選擇負型顯影處理及反轉顯影處理的任 二種顯影（於減轉印方式的情況下，藉由將直接正像型 感光材料用作感光材料而可實現負型顯影處理）。 此處所述的化學顯影、熱顯影、溶解物理顯影、擴散 轉印顯影的含Α如同業界巾通常所制_語的含義，於 23 201241691 照相化學的一般教科書，例如菊地真一著「照相化學」（共 立出版社 1955 年發行）、(：.£.1^.]\^63編的「11^1^〇7(^ Photographic Processes，4th ed·」（Mcmillan 公司 1977 年發 行）中有講解。雖然本案是關於液體處理的發明，但亦可 參考應用熱顯影方式作為其他顯影方式的技術。例如，可 應用日本專利特開2004-184693號、特開2004-334077號、 特開2005-010752號的各公報所記載的技術。 另外，關於本發明中使用的材料與導電圖案的製法， 可使用作為網狀的電磁波屏蔽膜的發明的日本專利特開 2006-352073號的記載與技術、作為靜電容式觸控面板的 發明的日本專利特願20〇9_265467號的記載與技術。 ，本發明可於所形成的電極上設置包覆層，其具有使所 形成的金屬或合金的金屬綺;視覺功能，及利用 金屬的關、防遷移提高耐久性的功能，本發明中此 層稱作黑化層。接著說明上述黑化層（包覆層）的形成材 料與形成方法H層的紐積層料可解職處理盘 化學侧法。鍍敷處理只要是壯稱作黑色餘的處理，、 何處理’可例舉：錢黑ni、錄黑鉻、鑛黑錫ni &金、鍍錫m銅合金、黑色鋅鉻酸鹽處理等。且體可使用 日產業公司製的黑色鑛浴（商品名服:，錫 ^ 口 h ' %金屬化學工業公司製的黑色鍍浴（商品名 ―麵85糸列，絡系）、DipW公司性鉻酸鹽劑（商 品名ZB-54卜鍍鈕里缺酿杰,、Λ 分夂1月U商 雷㈣任4 劑）。錢數法可為無電鍍、 又 ，可在緩和條件下，亦可為高速織。鑛層 24 201241691 厚度只要看起來為黑色’則不限定，但通常較佳為1〜5 μιη。 亦可對導電金屬部的部分作氧化或硫化處理來形成黑 色部。例如於導電金屬部為銅時，銅表面的黑化處理劑例 如可使用Meltex公司製的商品名Enplate MB438A、Enplate MB438B ’三菱瓦斯化學公司製的商品nPE-900，MEC公 司製的商品名MECetchBOND BO-7770V，Isolate化學研究 所製的商品名 Copper black CuO、Copper black CuS、硒系 的Copper black no.65等。當然，除上述以外，例如亦可處 理硫化物來產生硫化氫（H2S)，而使銅的表面變成硫化銅 (CuS )來黑化。該些處理只要看起來為黑色，則厚度不 限定，但通常較佳為3/mi以下，〇·2 μπι〜2 μιη更佳。 [本發明的電極的形成方法] 接著說明本發明的上部及下部電極群的形成方法。 首先依圖9說明將金屬箔或薄膜用作形成電極的材料 (上述Α))時的形成方法。圖9(a)是兼作觸摸面的上部透 明基板11，例如約1〇〇 的PET膜。清潔膜表面後於其 上設置金屬或合金的薄層21 (圖9(b))。上述易接著層^交 佳是設置於金屬或合金的薄層21之前，但於本圖中省略。 設置金屬或合金的薄層的方法有真空製膜法與化學製 膜法，但膜薄時使用蒸鍍法等真空製膜法。濺鍍或離子^ 法比蒸鍍法更易得導電性良好的膜而較佳。膜厚超過5〇2 nm時可使用電鍍法或無電鍍法’能以低成本製膜而較佳。 金屬可使用以上記載者，但可較佳使用銀、鋼、銘或 該些的合金。薄層的形成法可使用濺鍍法等，但亦可為其 25 201241691 他者。形成的金屬薄層厚度愈薄愈難剝離，故較佳，但變 薄則電阻變高、作為觸控面板的回應性變差，故較佳〇.丨y m 以上3/mi以下，0.2 "m以上2/mi以下更佳。為防止剝離， 「線寬/厚度」比例較佳設為2.5以上，4以上更佳。 續於以上形成的金屬薄膜上形成光阻膜並用光罩（自 圖4a、6等產生遮罩者）曝光，然後用顯影液顯影，以形 成硬化抗^虫膜的圖案。以姓刻液勉刻而將電極細線以外的 部分去除後，將留下的電極際線上的硬化抗蝕膜剝除，以 形成包含金屬細線的電極圖案（圖9(c))。圖9(c)的51表 示所形成的電極的導電細線51。 接著視需要於以上形成的感測器電極上設置g声 (包覆層）45(圖_，其厚度較佳5㈣以下HI 下更佳〇.2 以上2 Am以下尤佳。然後利用微影法將 未包覆電極細線的觀視部上的黑化層（包覆層）去除，藉 此形成觀視性、敎性佳的麵的電極圖案（圖9(e))。9 田使用含有導電奈米粒子的墨水（或膏）時（上述B)， 可將上述網狀㈣直接印刷於兼作絕緣層的透明基體層 i金】印刷後視需要進行熱處理等而形: 的金屬圖案上時’可進行與上述相同的處理。 作電二銀照相感光材料用 4Α、6Α等):方i述C))°圖1〇表示上部電極（圖 寻）的軸方法，下部電極亦與其同様地形成。 隸2，關於本發明所用的_化銀照相感光材料，於作 '用顯影銀的細線圖案的電磁波屏蔽膜的發明的日 26 201241691 本專利特開2006-352073號中有詳細說明。 圖10的(a)繪示兼作觸摸面的上部透明基板丨丨， ^約⑽PET膜。清潔縣面後於其上設置南化= ^目感光材料的薄層70 (圖1〇(b))，其尚未形成 ^ 7而二電二未圖示，但通常在透明基板與薄層 叹置作為易接者層的底塗層。鹵化銀照相感光材 ，感光特性佳的鹵化銀、霄等黏合劑、塗布助劑^

感光度用的各種添加劑。塗布銀量（銀鹽塗布量）換I :後較佳為1〜30 g/m2，μ g/m2更佳，5〜2〇咖2又更佳。 共，予顯影處理形成的銀導電性，難將銀與 土 ，設為0·1〜iO’w更佳，a7〜5G尤佳。將塗布= /、黏合劑的量設為上述範圍，曝光、顯影處理後的導 望的表面阻抗。薄膜的形成較佳使用製造昭相 材料時所使用的多層塗布機。 4‘、、、相 =實施圖案狀曝光，以於上述鹵化銀照相感光材料 峰=止0上形成導電細線。® 10⑷中以43表示藉曝光而 卢理核的區域。圖1G⑹緣示對經曝光的膜作顯影定影 :1 。_72表示藉顯影而形成於感光核周邊的銀的集合 二士73表不以定影處理將未感光的鹵化銀照相感光材料部 ΙΓ所含的銀鹽等去除至層外而成為透明的膜的狀態。如 旦」可开/成基於顯影銀的導電細線圖案。又，於該利用顯 方式中，雖然依存於所形成的齒化銀照相感光材料 ^的銀’辰度’但生成顯影銀的集合體的部分72的厚度 2比顯影前鹵化銀照相感光材料薄層的厚度更厚，未感 27 201241691 • · 一一一ji t f定影處理絲_化賴翻區域73的厚度dll則比 〜:鹵化銀照相感光材料薄層的厚度更薄。 述方法形成的上下部電極以®1 1所示構成形成本 =眩觸控面板。上下部電極是以表面相對的方式利用作 ’目^片的貼合材隔著空間積層。圖1的32表示該空間。 電極間保持空間，使得未觸摸狀態下上部電極不與 梅f接觸的功能的間隔片有如下兩種：設於觸控面板 :、科側的框部並規定電極間距離的貼合材3卜及用 以防^於觸摸部㈣電極材料f曲而接觸導通的點隔片。 述貼合材厚度較佳為5〇以上獅㈣以下⑽ 上250仰以下更佳，12〇 _以上以下尤佳。 ，的方式配置，故無需為透_ 二易 上述厚度’則可使用任意高分子材料。就加 :=明基板u、透明基板12所用:材 =載： 圖㈣㈣面設置轉綱來使用、。 圖疋觸摸（按壓）本發明的電阻 下H基板12以如下方式固定在玻璃板80上：且上邻 電極群21的上部透幫板㈣料由 彎= 可撓性的可動部’具下部電極群22的 作不，壓而移動的固定部。本發明的:=巧 於作為固定部的下部透板側。點隔片3 1 = 動部側，但依耐久性峨點，較佳是設置於可 28 201241691 圖12是圖U的電阻祺式觸控面板的觸携（按壓）部 、方大圖’上部電極群21顯示與平行 =下部電極群22顯示配置在與本圖垂直的方向= 茅、一雷，線的剖面。圖12中hd表示點隔片的高度，則 录不電極細線的高度。 是於亡到圖13B表示形成點隔片的面的差異，圖13A 13B由妾考層上形成有電極細線與點隔片時的例子，圖 搞，· _’於易接著層上形成利用顯影方式的銀圖像的電 理後SC形成於感光性層的未感光的部分 的顯影定影處 的電_式觸控面板是被3或4處點隔片 彎^古1電極、（本案中為上部電極）因觸摸（按壓）而 言声點來‘通’因此根據點隔片的高度與電極細線的 的等動你以及賴產生的彎曲量的義’會產生觸摸測知 點^H乍1因此’必須相對於按壓產生的彎曲量適當設定 片的尚度與電極細線的高度的差，如_ 12所示。 測量點隔錯揮功能的高度，實際上只要實際 動部與電極表面的高度的差，並根據與可 電極的弓曲度之間的關係來調整高度即可。 點隔片較佳是避開電極上方而配置於電極 i 4上是以被觸摸_按壓對抗電極的電的 :這是為了避免因點隔片按壓電極細線而損^ $ ==的配置間隔W佳為以 乂下（對應本案電極間隔2mm以上8m 29 201241691 . 點隔片的南度HD疋考慮電極向度的2倍（2Hd)與 彎曲量V的和的關係來設定’藉此可進行穩定的觸摸測知] 此處，彎曲量V以下式求出： V=WxL3/ (48xExI) W為觸摸的按壓壓力（將以200 g力按壓作為基準）， L為點隔片的配置間隔（m) ’ E為透明基板的材料的揚式 模數（GPa)，I為透明基板的剖面二次矩。 工 於本發明中， 較佳是滿足 〇.7HDS2Hd+VSl.3HD 式（1 )， 更佳是滿足 〇.8HDS2Hd+VSl.2HD 式（2)， 再佳是滿足0.9HDs2Hd+VHHD式（3)。 本發明中，當將100〜200 的PET用於可動電極的 透明基板，且上下電極各自的高度（厚度）為卜2辦 點隔片的高度較佳為i声以上15_以下，以上 //m以下更佳，6/mi以上8"m以下又更佳。 的半形狀可為半球狀，亦可為於高度方向上延伸 ;柱狀且上部具有曲面的形狀，關於底面的大小， 為圓形時直徑較佳為以上削押以下，3〇^上 /方糾—邊的長度触為上 A卜30以上80/mi以下更佳。 稀酸料可使用三聚氰胺丙稀酸曝、丙 丙烯酸曰、環氧丙烯酸醋樹脂、甲基丙稀酸- 乙歸醇樹月B婦酸-丙烯酸醋樹脂等丙稀酸醋樹脂，聚 曰寺透明的光硬化麵脂，可_絲處理將該 201241691 坠柄月曰形成為微細的點狀而獲得點隔片。另外，亦可利用 印刷法形成多個微細的點來製成間隔片。 實例 以下例舉本發明的實例來更具體地說明本發明。再 者’只要不脫離本發明的主旨，則以下實例中所示的材料、 使用量、比例、處理内容、處理程序等吁適宜變更。因此， 本發明的ϋ不應由以τ所示的具體例限定地作解釋。 首先說明本發明的電随臈式觸控面板的評價的標準盘 方法。 ^ (觸控晝面的辨認性1:晝面的觀視容易度） 、、以晝面的觀視容易度進行評價。包括自圖案的—部分 被感知的極&的情況，至雖然形狀未被看出但於晝面中感 到粗糖的情況為止。 X砰彳貝·影像以外的形狀被看出；者於畫面中 變粗感巧射光不均勾等粗糙感。 有線 ~ △科.依觀視方向而有感到線變粗或反射光不 寻粗縫的情況。 〇評價：晝面看上去均勻。 (觸控晝面的觀視性2 :疊紋） 二4尺寸的上部電極以使電極的長度方向與晝面的 松方向平行的方式貼附於液晶顯轉置上，於整體顯示中 改變明亮度來調錢何檢查出叠紋。 X評價：容易觀察到疊紋。 △評價.根據晝面的明亮度、色彩的變化、觀看角度 31 201241691

• ▲ V H 的變化等評價條件而有觀察到疊紋的情況。 ◦評價：即使改變條件，亦觀察不到疊紋。 (觸摸測知的穩定性1 :準確性） x評價：反覆觸摸時有誤認位置的情況。 △評價：當反覆觸摸時略有誤認位置的情況。 〇評價：即使反覆觸摸亦可高度精確地測知。 (觸摸測知的穩定性2 :耐久性） x評價：若反覆觸摸1萬次，則檢測出電極細線的斷 線或浮起。 △評價：若反覆觸摸5萬次，則檢測出電極細線的斷 線或浮起。 〇評價：即使反覆觸摸5萬次，亦檢測不出異常。 (電阻比） 針對各電極直接讀取所製作的觸控面板的外部連接端 子（5*7f、57b)間的電阻值RT，並將其設為RTi。接著直 接凟取配線部的配線，例如圖々A的55-1等的電阻，並將 其設為配線部電阻ri (ri=rfi+rbi)e感測器部的電阻值Ri 是藉由Ri=RTi-ri來求出’且根據Ri/ri來計算電阻比。 實例1〜17、比較例1〜5 [具有易接著層的上部透明基板及下部透明基板的製造] 對厚100 /mi的PET膜支撐體的兩面作電晕放電處理 ，二棒塗法訂述第！層塗布在該兩面並乾燥，而 形成第！層。續以棒塗法將下述第2層塗布液塗在第Μ 表面並乾燥，以製成於膜的-面有2層結構易接著層^ 32

20124169L PET膜。又，第1、2層乾燥後厚度分為〇〇8/nn、〇〇9/ml。 第1層塗布液的組成 •聚酯樹脂黏合劑（大日本油墨化學工業公司製造，

FinetexES650，固體成分為29質量％) 49.7質量份 •作為交聯劑的環氧系化合物（長瀨化成公司製造， Denacol EX-314) 相對於樹脂黏合劑為6質量％ •界面活性劑A (三洋化成工業公司，sanded BL，固 體成分為10質量％，陰離子性） 2.3質量份 •界面活性劑B (二洋化成工業公司，Naroacty HN_ 100，固體成分為5質量°/〇，非離子性） 5.36質量份 •作為消光劑A的Si02微粒分散液（日本Aerosil公司 製，OX-50的水分散物，固體成分為1〇 wt%) 2 4質量份 •作為消光劑B的膠體Si〇2分散液（曰產化學公司製 造，Snowtex-XL，固體成分為10質量％) 4.6質量份 以使整體變成1000質量份的方式添加蒸餾水來製備。 第2層塗布液的組成 •丙豨酸樹脂黏合劑（MMA為59莫耳。/Q、st為9莫耳 °/〇、2EHA為26莫耳％、HEMA為5莫耳％、AA為1莫 耳％的乳膠’固體成分濃度為28 wt%) 62.7質量份 •作為交聯劑的環氧系化合物（長瀨化成公司製造， Denacol EX-314) 相雜上述樹雜合劑為6 wt% •第1層塗布液的消光劑A 2 7質量份 •第1層塗布液的消光劑B 4.6質量份 •第1層塗布液的界面活性劑A 1.9質量份 33 201241691 •第1層塗布液的界面活性劑B 5 36質量份 跑京油脂公司製’棕櫚蠟分散物里二 固體成分為3wt%) 7 6f量份 =整體變成麵質量份的方式添加蒸餾水來製 ’上文中MMA表示f基㊉烯酸甲醋，St表示笨 烯西卜iEH A表示丙稀酸2_乙基己醋，hema表示甲基丙 烯酸羥基乙酯，AA表示丙烯酸。 ^下來說明具有上部電極群21的片材的製作方法。 下部電極群22的片材能夠以與具有上部電 極群^材相同的方式製作，因此省略相同部分的說明。 在上述所製作的於—面具有2層構成的易接著層的 /mi厗的PET膜的易接著層的 金屬鋼的厚度為2μτη的薄層。 麟法。又置 =以上形成的銅薄膜上形成光阻膜，使下述光罩 本Γβ :光阻膜上而曝光’然後用顯影賴影，以形成曝 蝕膜的網狀圖案。以氣化鐵蝕刻液蝕刻後， f除’以形成具有包含大致格狀圖案的導 ^又的關上二電極群與配線部（圖4A的55)的上部電極 55 罩1的圖案參數’將圖4A中配線部的導線 5-^線寬汉為M5 _ ’電極間距離d設 =電極的導電細線叫的寬度設為3"m，導電細線大 3距離^為5GG ^，導電細線的連接線52_i寬度設為 ㈣接^ 52間距離幻設為5〇0㈣，且每根電極中的 6條導電細線以兩端連結來製成-根電極。設計為位於連 34 201241691 接線上的斷線部的長度d4為5〇^m、斷線部的位置於電極 間無規地移動的圖案，且設計為於A4尺寸的上部透明其 板即附易接著層的PET片材上形成2〇根該電極的圖案。土 上部電極片2〜4是以如下方式製作。除將製作上述上 邛私極片1時使用的光罩1的配線部的導線55的線寬^衫 mm改成900冲1、450 ym、9〇ym以外，以與光罩相同 的方式製作光罩2〜4並使用之，除此以外，實施與上部電 極片1相同的操作來製作上部電極片2〜4。 製作將上述光罩3的導電細線的連接線52之中位於電 極間的連接線削除的光罩5並使用之，除此以外，以與實 例1相同的方式製作上部電極片5。 續以圖2A的上部電極群與配線部的參數來製作光罩 6並使用之，除此以外，以與上部電極片1相同的方式製 作上部電極片6。所用的參數如下所述：將於圖2A中配線 部的導線55的線寬設為45〇#m，電極間距離設為3 mm， 電極的導電細線51的寬度設為3 一瓜，導電細線51間的距 離設為500/mi，且每一根電極中的6條導電細線以兩端連 結來製成一根電極。該電極因未使用連接線’故未被格子 化。設計為於A4尺寸的上部透明基板即附易接著層的pET 片材上形成20根該電極的圖案。 以上例示的是將多條導電細線結合來形成電極群的各 電極，相對於此，上部電極片7是以單線形成各電極。亦 即，製作配線部的導線的線寬為45〇/mi、電極感測器部的 導電性細線的線寬為20 、每隔3 mm配置有電極的圖 35 201241691 案的光罩7並使用之，除此以外，以與上部電極片1 的方式製作上部電極片7。 上部電極片8除將上部電極片7的電極感測$ 電性細線的線寬變成一以外，以與上:電 同的方式製作。 以上記載是於具易接著層的100 厚pET上形成上 部電極群及下部電極群，相對於此，上部電極片9是於不 f易接著層的100 厚PET上形成電極群，除此以外， 實施與電極片3相同的操作來製作片材9。 續以圖6A的上部電極群與配線部的參數爽铜 9並使用之，除此以外，以與上部電極片】相同^方式製 作上部電極片10。用於光罩9的參數如下所述：將圖"61 中配線部的導線55的線寬設為450 ，電極間阳雜兮凡盔 3 mm，電極的導電細線51的寬度設為3 ，導電細f51 間距離設為500 /mi，將一邊為500 的正方形格子設為 傾斜了 45°的配置，且於電極之間（例如電極2M與電極 21-2之間）設置有1〇〇的無導電材料的空間。 以上說明了上部電極片1〜10。下部電極片卜忉是於 製作上部電極片1〜1〇後形成點隔片而製成。關於片， 於上部電極片上塗布紫外線硬化性^^；片用 说影法僅使所望位置藉备、外線硬化’並去除未硬化樹脂， 以製成附點隔片的下部電極。點隔片位置設在電極之間， 間隔約3 mm，高度約8 "m，且使底面成為約2〇^m的圓。 因將下部電極設為固定電極，所以在作為透明基板的 36 201241691 mm厚的破璃板，以製 PET的與電極群相反的一側接著3 成下部電極片1〜1〇。 立將下部電極片10的點隔片高度改成15 來製 部電極片11 ’且改成30/πη來製作下部電極片12。=下 下。Ρ電極片1〇的點隔片設置間隔改成來 夸 極片13，且改成1 mm來製作下部電極片14。P電 接著說明觸控面板的製作方法。 (實例1〜10及比較例1〜4) 材二= = === 接端子的部分，周緣== ::向=加上部電極片1，並壓接形成約15』 露出，^, 1的上部透明基板上安裝僅觸摸面部名 將=分被遮蓋的外罩’而製成實例1的觸控面板| 9、214、9、1Q鱗鱗的下部電極片2〜4 控面板。^亚以與貫例1相同的方式製作實例2〜6 _ 部電將上部電極片10用於上部電極，並組合飞 1片叫4來製作實例7〜10的觸控面板。 以J 別使用下部電極片5〜8及上邻雷極μ 5 8， =:Γ的方式製作比較例—：〜 用於電極材料的例子，以™ 首先說明具有上部電極群21的片材的製作方法。异 37 20124169 lplf 者’具有下部電極群22的片材能夠以與具有上部電極群的 片材相同的方式來製作’因此省略相同部分的說明。 對自寬度30 cm的輥抽出的pET膜作清潔處理後，對 其表面作電暈放電處理，然後將含明膠的底塗液以成為〇 2 /mi厚的固體成分量的方式塗布來作為易接著層41。 於s玄底塗層表面上以使銀塗布量為8 g/m2的方式塗布 下述含鹵化銀感光材料的塗布液，以製成圖9(b)的試樣。 此時的塗布寬度為25 cm、塗布長度為2〇m，自塗布至顯 影疋衫處理元成為止，皆於暗室中處理具塗布層的膜。 [含鹵化銀感光材料的塗布液] 製備相對於水介質中的銀15〇 g，&含明膠1〇 〇 g且 含有球相當餘平均為Q1 的_氣化銀粒子（1=〇 2 莫耳/〇，Br=40 莫耳％)的乳劑。將 K3[Rh2Br9]& K2[IrCl6] 以濃度成為10。（莫耳/莫耳銀）的方式添入該乳劑，而向 肩化銀粒子摻雜Rh離子與Ir離子。將Na2PdCl^入該乳 =，再使用氣金酸與硫代硫軸進行金硫增感後 ，添加明 膠硬膜翁製成塗布液。再者，銀/明膠體積比設為^。 於圖9(b)㈣化銀照相感光材料層41上尚未形成有 你田Γ線^案。形成均電極21的導電圖㈣的光罩是 使用上述實例3所使用的光罩3。 ΜΐΊ圖案的光罩密接於以上製作的圖10⑼的感光材 来，制^Ϊ’利用以高壓水麵為光_平行光進行面曝 1 od二感光成圖案狀的部分與非感光部分的試樣（圖 c K樣實施IX下的顯f彡處理，獲得排列有具導 38 201241691. 電細線結構的感測器電極的上部電極片。再者，顯影處理 中，以形成於感光部分的乳劑中的潛像為核心而形成顯影 銀的集合體，從而成為導電性的細線。 [顯影液配方]每1升中的含量且省略水量 對苯二酚 20 g 亞硫酸鈉 50 g 碳酸鉀 40 g 乙二胺·四乙酸 2g 溴化鉀 3 g 聚乙二醇2000 1 g 氫氧化鉀 4 g PH 調成10.3 [定影液配方]每1升中的含量且省略水量 硫代硫酸銨液（75%) 300 ml 亞硫酸銨· 一水鹽 25 g 1,3-二胺基丙烷·四乙酸 8g 乙酸 5g 氨水（27%) i g PH 調成6.2 [處理流程] 處理機：富士軟片公司製的自動顯影機（FG-710PTS) 處理條件：顯影為35°C、30秒， 定影為34°C、23秒， 水洗為流動水（5 L/min ) 的20秒處理。 39 201241691 "tl JJUpif 極群22H 而得上料則15。具下部電 與具上部電極群者相同的方式製作，故 名相同部分的說明’且省略上部、下部而僅稱為電極片。 本發明的實例僅於下部電極片上形成點隔片。具 胆而吕，於製作上部電極>} 15後，將紫外線硬化性丙烯酸 =脂塗在上部電極片15上’彻微影法僅使所望的位置藉 紫外線而硬化，並絲未硬化樹脂，以製成帶有點隔片的 下。Ρ電極片15。將點隔片的位置設在電極之間，間隔約3 mm，高度約8/mi，且使底面成為直徑約2〇/πη的圓。 另外，因為下部電極被設為固定電極，所以在作為透 明基板的PET膜的與電極群相反的一側接著3 mm厚的玻 璃板，以製成下部電極片15。 (電極片16〜22的製作） 除了不對電極片15設置易接著層（底塗層）以外，以 與電極片15相同的方式製作電極片16。 電極片17是使用光罩9製作具有導電細線傾斜了 45。 的圖案的電極片。 電極片18是除了使用光罩9以外，將點隔片高度自8 //m改成15ywm來製作電極片。 電極片19〜21是除了使用光罩9以外，分別將點隔片 高度改成30 //m，將點隔片間隔自3 mm改成6 mm、1 mm 來製作電極片19〜21。 電極片22是使用光罩6製作不具斷線部及連接線的圖 案的電極片。 接著使用上述上部電極片、下部電極片製作觸控面板。 201241691 (實例11〜17及比較例5) 觸控面板的製作方法與上述實例1相同。使用下部電 極片15〜21及上部電極片15〜21製作實例11〜17的觸控面 板，使用電極片22製作比較例5的觸控面板。 以上製作的觸控面板的評價結果示於表1。 表1 實例與比較 例的編號 光罩 電極片 編號 觸摸檢測的; 隱定性 觸控畫面的辨認性 阻抗比 編號 參照圖式 檢測的準確性 耐久性 觀視容易度 疊紋 實例1 1 4A 1 Δ 〇 〇 Δ 80.5 實例2 2 4A 2 〇 〇 〇 Δ 50 實例3 3 4A 3 0 〇 〇 Δ 25 實例4 4 4A 4 Δ 〇 〇 Δ 5 比較例1 5 4A 5 Δ 〇 Δ Δ 80.5 比較例2 6 2A 6 X Δ Δ Δ 25 比較例3 7 無 7 X X 〇 Δ 22.5 比較例4 8 無 8 X X X Δ 4.5 實例5 3 4A 9 〇 X 〇 Δ 25 實例6 9 6A 10 〇 〇 〇 〇 25 實例7 9 6A 11 Δ 〇 〇 〇 25 實例8 9 6A 12 X X 〇 〇 25 實例9 9 6A 13 Δ 〇 〇 〇 25 實例10 9 6A 14 Λ 〇 〇 〇 25 實例11 3 4A 15 〇 〇 〇 Δ 22 實例12 3 4A 16 〇 X 〇 Δ 22 實例13 9 6A 17 〇 〇 〇 〇 22 實例14 9 6A 18 Δ 〇 0 〇 22 實例15 9 6A 19 X 〇 〇 〇 22 實例16 9 6A 20 Δ 〇 0 〇 22 實例17 9 6A 21 Δ 〇 〇 〇 22 比較例5 6 2A 22 Δ Δ Δ Δ 25 由表1的結果可知以下事項。 實例3與比較例1因相鄰電極間的斷線部長度不同， 故當構成觸控面板時，實例3中感測器部與電極間空間看 上去均勻而容易觀視，相對於此，比較例1中電極間的空 41 201241691 -+i 間看上去有浮起。 相對於上述比較例1，未設置連接線而以6條單線構 成電極的比較例2中，因為瑕疫等使觸摸測知的精度差。 相對於比較例1，以1條單線構成電極的比較例3、4 中，因為瑕疵等使觸摸測知的精度比比較例2差。另比較 例4有當觀視觸控面板時上下電極的交點被看出的缺點。Λ 將使電極的感測器部成為正方形格子的實例3、u、 12的觸控面板安裝於液晶顯示裝置時，會觀察到疊紋，相 對於此，使電極的感測器部成為傾斜了 45。的菱形格子的 實例6〜10、13〜17的面板則未觀察到疊紋。 實例5及12的觸控面板是不設置易接著層的構成，在 耐久試驗時產生電極的浮起、斷線等缺損。 一實例中，相對於點隔片高度8 Y的實例6及13，點隔 片尚度15 的實例7及14的觸摸測知的準確性略差， 點隔片尚度30/mi的實例8及15的觸摸測知的準確性差， 耐久性亦變成略差的結果，可知更佳為5〜1〇/mi。 實例18 於圖8的電路圖中，MCU運算裝置上僅連接57〇與 57f20 ’還連接有鄰近電極（圖中未示）。即，對於根電 極，於MCU運算裝置上連接電極片左端的電極的連接部 57Π，使該電極另一端的57bl與相鄰電極的57b2連接， 再將57f2與570連接，續將57b3與57b4連接，反覆進 行此種連接後，將第20根電極的57f20連接於MCU運算 裝置上。使用上述實例1〜17的電極片製作具有如下類比 42 201241691^ 極=比電極是作為將其兩末端變成· 〇的—條電阻線的電極，然後製作將該且有類比^ 的電極片分別作為上部電極片、τ部電 ^ ，些觸控面板進行評價的結果，可知電;反範 片=Γ板的線晝的表現優良，且可知本發明的』 片亦/、有類比方式的觸控面板適應性。 [產業利用性] ^艮據本發明可獲得J卩使大面積化回應性亦佳，作 晝，觀視時不會使人感覺到異物或疊㈣的觀視性佳，且 I實現多點觸控的電阻膜式觸控面板，進而可獲得能多句穩 疋製造且品質穩定的觸控面板。 〜 以上雖詳細地且參照特定的實施形態說明了本發明， =本領域從業人貞應該_，可在不麟本發明的精神與 範圍的情況下施加各種變更或修正。 本申請案是基於2011年3月8日申請的曰本專利申請 案（日本專利特願2〇11_〇5〇652的申請案，其内容 】 照被引用於本申請案中。 …多 【圖式簡單說明】 圖1是用以說明本發明實施形態的例示電阻膜式觸控 面板的剖面圖的一部分。 圖2是構成先前技術的觸控面板的上部電極群（2α) 與下部電極群（2Β)的排列圖。 圖3是將圖2的上部電極群與下部電極群正交配置時 自觸摸者側所看到的透視圖。 43 20l24l691f -r l 下部控面板的上部電極群(⑷與 自觸以極群與下部電極群正交配置時 自觸===;極群與下部電極群正交配置時 極的^。8是以觸控面板内的電阻值的構造表示圖4A的電 圖9是本發明的電極群的形成方法的-例。 圖10是本發明的電極群形成方法的異於圖9的 導通㈣板，U下電極 的故是圖11的電阻膜式觸控面板的觸摸（按壓）部 圖13A到圖13B是表示圖12的點隔片與電極細 阿度的圖。 【主要元件符號說明】 I :本發明的觸控面板 10 :觸控面板外罩 II ··上部透明基板（可撓性透明基板） 12 :下部透明基板 2〇 :觸摸面用的透明基板 21 :上部電極群 44 201241691 21-1〜21-4 :上部電極 22:下部電極群 31 :貼合劑（周緣部間隔片） 32 ··空間（空氣層） 33 :點隔片 41 :上部易接著層 42 :下部易接著層 43 :藉曝光而生成感光核的區域 45 ·黑化層（包覆層） 51、 51a〜51e :構成電極的導電細線 52、 52a〜52f :導電細線的連結線 53 :導電細線的連結線的斷線部 54 :電極的大致格狀（網狀）感測器部 55、55-1〜55_4 :配線部的配線（至外部連接端子為止的 引出電路） 57、57fl〜57fi、57M〜57bi :外部連接端子⑽、57b) 60 :表示觸控晝面的範圍 70 :鹵化銀感光層 銀I!子具有祕魅成於光層场觀核的齒化 72:藉顯影處理形成於感光核周圍的銀粒 合 73 .未感光部分的顯影定影處理後的膜 八 80:增強用的玻璃板 、 d:電極間距離 45 201241691 ^ΐο^υρΐϊ U1 等電細線間的距離 d2 .電極的外側細線間的距離 d3 .導電細線的連結線間的距離 d4:導電細線的連結線的斷線部的長户 纽··利用顯影銀方式的非感光部二 如：利用顯影銀方式的感光部的處理後膜厚 HD:點隔片的高度 .、，'員办疋衫處理後的膜厚

Hd:電極細線的距透明基板的最表面 的電極的突出高度） 同度（自表面起 L·點隔片的間隔 MCU :運算裝置 R1〜Ri:電極的感測器部的電阻值 子^^糊物卜部連接端 46

Claims (1)

1. 201241691 七、申請專利範園： 1. 一種矩陣電阻膜式 為x電極群）與下部電極群=f，其將上部電極群（稱 片相對的方式配置，該p =為γ電極群）以隔著間隔 大致於X方向上導通極群形成於上部透明基板且 且大致於Υ方向上導通亥1/電=群形成於下部透明基板 該矩陣電阻膜式觸控面板的特徵在°於與γ方向大致直行， 該上部電極群及下部電的 部與配線部，該感測器部 2電極包含感測器 的導通方向傾斜的方向上以向或自電極 該些導電細線的方向正交 ^電、·、田線，以及在與 條導電=線’且該導電細線或導電連二 導電細線或導電連接線的導通由斷線部阻斷接電極的 2二範二第1項所述之矩陣電阻膜式觸控面 板/、 Μ導電π線相對於電極的導通方向傾斜 60。，該導電連接線相對於電極的導通方向傾斜普〜身: #面板，豆二Tim,2項所述之矩陣電阻膜式觸 才工面板/、T田將邊上部電極與下部電極重疊並自觸摸 側透視時，形成了大致均句的格子圖案。 4. 如申請專利範圍第i或2項所述之矩陣電阻膜式觸 控面板，其中當該感測器部的電阻值為Ri(Q)、該配線部 的電阻值為ri ( Ω )時，其比值Ri/ri為4以上5〇以下。 5. 如申請專利範圍第丨或2項所述之矩陣電阻瞑式觸 控面板，其中該上部電極群及該下部電極群中各個電極的 47 201241691 HI JDUpif 間隔為1 mm以上8 mm以下。 6. 如申明專利範圍第丨或2項所述之矩陣電阻膜式觸 控面板’其中構成該電極的感測器部的導電細線的間隔或 導電連接線的間隔為1 〇〇 以上6〇〇 以下。 7. 如申請專利範圍第1或2項所述之矩陣電阻膜式觸 控面板，其中該電極形成於該上部透明基板或該下部透明 基板上所形成的易接著層上。 8. 如申請專利範圍第1或2項所述之矩陣電阻臈式觸 控面板’其中該感測器部的導電細線與導電連接線的線寬 為1 ym以上1〇 以下。 9. 如申請專利範圍第1或2項所述之矩陣電阻膜式觸 控面板’其中該感測器部的導電細線與導電連接線的厚度 為0.5 /im以上5 //m以下。 10. 如申請專利範圍第1或2項所述之矩陣電阻膜式觸 控面板，其中該配線部的導線的線寬為50 〜1 mm。 11. 如申請專利範圍第1或2項所述之觸控面板，其中 該上部電極及下部電極的分別設置於相鄰電極間的導電細 線或導電連接線的斷線部的平均長度為lOym以上2〇〇 μιη 以下。 12·如申請專利範圍第1或2項所述之矩陣電阻膜式觸 控面板’其中該上部電極與下部電極以電極表面相對的方 式’藉由作為間隔片的貼合材隔著空間而積層，該貼合材 的厚度為100 〜300 。 13.如申請專利範圍第1或2項所述之矩陣電阻膜式觸 48 201241691 控面板’其中於藉該貼合劑形成的下部電極上的空間内配 置點隔片’其間隔L為2 mill以上8 mm以下，該點隔片 的高度為1/πη以上15〆《!以下。 14·如申請專利範圍第 .....〜叫不1 返之矩陣1；阻獏式觸 控面板，其中該上部電極群及該下部電極群分別由 屬薄膜或函化銀照相感光材料膜形成。 至 :5.如專利範圍第匕 控面板，其中該上部雷搞雜h I , $’式觸 與該配線部同時形成圖案。”下部電極群的該感測器部 49