JP5507343B2 - タッチパネル及び導電シート - Google Patents
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Description
本発明は、タッチパネル及び導電シートに関し、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適なタッチパネル及び導電シートに関する。
一般に、静電容量方式のタッチパネルは、人間の指先と導電膜との間での静電容量の変化を捉えて指先の位置を検出する位置入力装置であるが、この静電容量方式のタッチパネルとしては、表面型と投影型とがある。表面型は、構造が簡便ではあるが、同時に２点以上の接触（マルチタッチ）を検知することができない。一方、投影型は、例えば液晶表示装置の画素構成のように、多数の電極がマトリクス状に配列して構成され、より具体的には、垂直方向に並ぶ複数の電極が直列に接続された複数の第１電極群が水平方向に配列され、水平方向に並ぶ複数の電極が直列に接続された複数の第２電極群が垂直方向に配列されて構成され、複数の第１電極群及び複数の第２電極群で容量変化を順次検出していくことで、マルチタッチが検出できる構成となっている。
この投影型静電容量方式のタッチパネルの先行技術として例えば特許文献１記載のタッチスイッチが挙げられる。このタッチスイッチは、基板と、前記基板の一面に形成され、一定間隔で並べられた複数の第１電極と、前記基板の他面に形成され、一定間隔で並べられ、前記複数の第１電極とで格子状になる複数の第２電極と、を備え、ディスプレイの前面に取り付けられるタッチスイッチであって、前記第１電極と第２電極がそれぞれ複数の導体線によって網目を形成し、導体線の方向がディスプレイのブラックマトリクスに対して斜め方向となっている。さらに、このタッチスイッチは、前記一面において、第１電極同士の間に形成された第１補助線と、前記他面において、第２電極同士の間に形成された第２補助線とを備え、前記第１電極の導体線、第１補助線、第２電極の導体線、第２補助線によって線の間隔が均等な１つの格子形状が形成されている。また、前記基板の一面に形成された第１電極の導体線、第１補助線、またはその両方が、基板の他面に形成された第２電極の導体線、第２補助線、またはその両方とで１本の線状を形成するようにしている。
ところで、基板の一面に第１電極及び第１補助線を形成し、基板の他面に第２電極及び第２補助線を形成する場合、製造ばらつき（成膜ばらつき）によって、格子形状が均一にならなくなり、ずれ量が第１補助線や第２補助線の長さの１／２程度になると、第１電極の例えば第１方向（又は第２方向）に沿った直線部分が第２電極の第１方向に沿った直線部分と重なったり、第１方向に沿って延びる第１補助線が、第２電極の第１方向に沿った直線部分と重なったりすることとなる。反対に、第２電極の例えば第１方向（又は第２方向）に沿った直線部分が第１電極の第１方向に沿った直線部分と重なったり、第２方向に沿って延びる第２補助線が、第１電極の第１方向に沿った直線部分と重なったりする。そうすると、直線部分同士が重なった部分の幅が大きくなり（線太り）、これにより、第１電極や第２電極の位置が目立ってしまい、視認性が劣化するという問題が生じる。
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルの大サイズ化にも対応させることができ、しかも、モアレの発生を抑制することができるタッチパネルを提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適な導電シートを提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適な導電シートを提供することを目的とする。
［１］ 第１の本発明に係る導電シートは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、前記第１格子電極及び前記第２格子電極が配置された領域全体の開口率と、前記隙間領域全体の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［２］ 第１の本発明において、前記第１格子電極及び前記第２格子電極が配置された領域全体の開口率と、前記隙間領域全体の開口率との差が１％以下であることを特徴とする。
［３］ 第２の本発明に係るタッチパネルは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、所定の区画に含まれ、それぞれ同一面積を有する前記第１格子電極の一部及び前記第２格子電極の一部の平均開口率と、前記所定の区画に含まれ、前記隙間領域の一部（前記第１格子電極の一部又は前記第２格子電極の一部と同一面積を有する）の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［４］ 第２の本発明において、前記平均開口率と前記開口率との差が１％以下であることを特徴とする。
［５］ 第２の本発明において、前記所定の区画は、以下の条件を満足する第１点、第２点、第３点及び第４点で囲まれた領域であることを特徴とする。
（条件）
第１点：前記隙間領域と前記第１格子電極との境界から前記第１格子電極に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第２点：前記隙間領域と前記第２格子電極との境界から前記第２格子電極に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第３点：前記第１点から前記隙間領域の長手方向に沿って進み、且つ、前記第１格子電極内に含まれる位置の点。
第４点：前記第２点から前記隙間領域の長手方向に沿って進む線と、前記第３点から前記第１点と前記第２点とを結ぶ線と平行な線との交点。
［６］ 第３の本発明に係るタッチパネルは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターンと、該第１透明電極パターン間の領域に形成された多数の第１ドットとを有し、前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターンと、該第２透明電極パターン間の領域に形成された多数の第２ドットとを有し、上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによる隙間領域が形成されていることを特徴とする。
［７］ 第３の本発明において、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンが配置された領域全体の開口率と、前記隙間領域全体の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［８］ 第３の本発明において、前記第１透明導電パターンは、２以上の第１大格子が前記第１方向に直列に接続されて構成され、前記第２透明導電パターンは、２以上の第２大格子が前記第２方向に直列に接続されて構成され、各前記第１大格子及び各前記第２大格子は、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、前記第１大格子の辺の周囲に、多数の前記第１ドットを有し、前記第２大格子の辺の周囲に、多数の前記第２ドットを有することを特徴とする。
［９］ 第３の本発明において、所定の区画に含まれ、それぞれ同一面積を有する前記第１大格子の一部及び前記第２大格子の一部の平均開口率と、前記所定の区画に含まれ、前記隙間領域の一部（前記第１大格子の一部又は前記第２大格子の一部と同一面積を有する）の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［１０］ 第３の本発明において、前記所定の区画は、以下の条件を満足する第１点、第２点、第３点及び第４点で囲まれた領域であることを特徴とする。
（条件）
第１点：前記隙間領域と前記第１大格子との境界から前記第１大格子に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第２点：前記隙間領域と前記第２大格子との境界から前記第２大格子に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第３点：前記第１点から前記隙間領域の長手方向に沿って進み、且つ、前記第１大格子内に含まれる位置の点。
第４点：前記第２点から前記隙間領域の長手方向に沿って進む線と、前記第３点から前記第１点と前記第２点とを結ぶ線と平行な線との交点。
［１１］ 第３の本発明において、前記隙間領域には、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによって、それぞれ小格子を形作る２以上の像が形成されていることを特徴とする。
［１２］ 第４の本発明に係る導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、前記第１格子電極及び前記第２格子電極が配置された領域全体の開口率と、前記隙間領域全体の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［１３］ 第５の本発明に係る導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、所定の区画に含まれ、それぞれ同一面積を有する前記第１格子電極の一部及び前記第２格子電極の一部の平均開口率と、前記所定の区画に含まれ、前記第１格子電極の一部又は前記第２格子電極の一部と同一面積を有する前記隙間領域の一部の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［１４］ 第６の本発明に係る導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターンと、該第１透明電極パターン間の領域に形成された多数の第１ドットとを有し、前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターンと、該第２透明電極パターン間の領域に形成された多数の第２ドットとを有し、上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによる隙間領域が形成されていることを特徴とする。
［１５］ 第７の本発明に係るタッチパネルは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、前記第１格子電極及び前記第２格子電極が配置された領域の光透過率と、前記隙間領域の光透過率との差が４％以下であることを特徴とする。
［２］ 第１の本発明において、前記第１格子電極及び前記第２格子電極が配置された領域全体の開口率と、前記隙間領域全体の開口率との差が１％以下であることを特徴とする。
［３］ 第２の本発明に係るタッチパネルは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、所定の区画に含まれ、それぞれ同一面積を有する前記第１格子電極の一部及び前記第２格子電極の一部の平均開口率と、前記所定の区画に含まれ、前記隙間領域の一部（前記第１格子電極の一部又は前記第２格子電極の一部と同一面積を有する）の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［４］ 第２の本発明において、前記平均開口率と前記開口率との差が１％以下であることを特徴とする。
［５］ 第２の本発明において、前記所定の区画は、以下の条件を満足する第１点、第２点、第３点及び第４点で囲まれた領域であることを特徴とする。
（条件）
第１点：前記隙間領域と前記第１格子電極との境界から前記第１格子電極に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第２点：前記隙間領域と前記第２格子電極との境界から前記第２格子電極に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第３点：前記第１点から前記隙間領域の長手方向に沿って進み、且つ、前記第１格子電極内に含まれる位置の点。
第４点：前記第２点から前記隙間領域の長手方向に沿って進む線と、前記第３点から前記第１点と前記第２点とを結ぶ線と平行な線との交点。
［６］ 第３の本発明に係るタッチパネルは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターンと、該第１透明電極パターン間の領域に形成された多数の第１ドットとを有し、前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターンと、該第２透明電極パターン間の領域に形成された多数の第２ドットとを有し、上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによる隙間領域が形成されていることを特徴とする。
［７］ 第３の本発明において、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンが配置された領域全体の開口率と、前記隙間領域全体の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［８］ 第３の本発明において、前記第１透明導電パターンは、２以上の第１大格子が前記第１方向に直列に接続されて構成され、前記第２透明導電パターンは、２以上の第２大格子が前記第２方向に直列に接続されて構成され、各前記第１大格子及び各前記第２大格子は、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、前記第１大格子の辺の周囲に、多数の前記第１ドットを有し、前記第２大格子の辺の周囲に、多数の前記第２ドットを有することを特徴とする。
［９］ 第３の本発明において、所定の区画に含まれ、それぞれ同一面積を有する前記第１大格子の一部及び前記第２大格子の一部の平均開口率と、前記所定の区画に含まれ、前記隙間領域の一部（前記第１大格子の一部又は前記第２大格子の一部と同一面積を有する）の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［１０］ 第３の本発明において、前記所定の区画は、以下の条件を満足する第１点、第２点、第３点及び第４点で囲まれた領域であることを特徴とする。
（条件）
第１点：前記隙間領域と前記第１大格子との境界から前記第１大格子に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第２点：前記隙間領域と前記第２大格子との境界から前記第２大格子に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第３点：前記第１点から前記隙間領域の長手方向に沿って進み、且つ、前記第１大格子内に含まれる位置の点。
第４点：前記第２点から前記隙間領域の長手方向に沿って進む線と、前記第３点から前記第１点と前記第２点とを結ぶ線と平行な線との交点。
［１１］ 第３の本発明において、前記隙間領域には、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによって、それぞれ小格子を形作る２以上の像が形成されていることを特徴とする。
［１２］ 第４の本発明に係る導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、前記第１格子電極及び前記第２格子電極が配置された領域全体の開口率と、前記隙間領域全体の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［１３］ 第５の本発明に係る導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、所定の区画に含まれ、それぞれ同一面積を有する前記第１格子電極の一部及び前記第２格子電極の一部の平均開口率と、前記所定の区画に含まれ、前記第１格子電極の一部又は前記第２格子電極の一部と同一面積を有する前記隙間領域の一部の開口率との差が５％以下であることを特徴とする。
［１４］ 第６の本発明に係る導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターンと、該第１透明電極パターン間の領域に形成された多数の第１ドットとを有し、前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターンと、該第２透明電極パターン間の領域に形成された多数の第２ドットとを有し、上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによる隙間領域が形成されていることを特徴とする。
［１５］ 第７の本発明に係るタッチパネルは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、第１方向に接続された複数の第１格子電極を有し、前記第２導電部は、第２方向に接続された複数の第２格子電極を有し、上面から見たとき、前記第１格子電極に隣接し、且つ、隙間領域を介して前記第２格子電極が配置され、前記第１格子電極及び前記第２格子電極が配置された領域の光透過率と、前記隙間領域の光透過率との差が４％以下であることを特徴とする。
以上説明したように、本発明に係るタッチパネルによれば、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルの大サイズ化にも対応させることができ、しかも、モアレの発生を抑制することができる。
本発明に係る導電シートによれば、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適となる。
本発明に係る導電シートによれば、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適となる。
以下、本発明に係る導電シート及び静電容量方式タッチパネルの実施の形態例を図１〜図７を参照しながら説明する。なお、本明細書において数値範囲を示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。
本実施の形態に係るタッチパネル用の導電シート（以下、タッチパネル用導電シート１０と記す）は、図１及び図２Ａに示すように、第１導電シート１２Ａと第２導電シート１２Ｂとが積層されて構成されている。
第１導電シート１２Ａは、図１及び図３に示すように、第１透明基体１４Ａ（図２Ａ参照）の一主面上に形成された第１導電部１６Ａを有する。この第１導電部１６Ａは、それぞれ第１方向（ｘ方向）に延在し、且つ、第１方向と直交する第２方向（ｙ方向）に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターン１８Ａと、各第１透明導電パターン１８Ａの周辺に配置され、多数の第１ドット２０Ａがランダムあるいは非等間隔に形成された第１ドット領域２２Ａとを有する。
第１導電シート１２Ａは、図１及び図３に示すように、第１透明基体１４Ａ（図２Ａ参照）の一主面上に形成された第１導電部１６Ａを有する。この第１導電部１６Ａは、それぞれ第１方向（ｘ方向）に延在し、且つ、第１方向と直交する第２方向（ｙ方向）に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターン１８Ａと、各第１透明導電パターン１８Ａの周辺に配置され、多数の第１ドット２０Ａがランダムあるいは非等間隔に形成された第１ドット領域２２Ａとを有する。
第１透明導電パターン１８Ａは、２以上の第１大格子２４Ａが第１方向に直列に接続されて構成され、各第１大格子２４Ａは、それぞれ２以上の小格子２６が組み合わされて構成されている。
隣接する第１大格子２４Ａ間には、これら第１大格子２４Ａを電気的に接続する第１接続部２８Ａが形成されている。第１方向と第２方向とを二等分する方向を第３方向（ｍ方向）とし、第３方向と直交する方向を第４方向（ｎ方向）としたとき、第１接続部２８Ａは、ｎ個（ｎは１より大きい実数）の小格子２６が第４方向に配列された大きさの中格子３０が配置されて構成されている。第１大格子２４Ａの第４方向と直交する辺のうち、中格子３０と隣接する部分には、小格子２６の１つの辺が欠除した第１欠除部３２Ａが形成されている。小格子２６は、ここでは一番小さい正方形状とされている。中格子３０は、図３の例では、３個分の小格子２６が第４方向に配列された大きさを有する。
隣接する第１大格子２４Ａ間には、これら第１大格子２４Ａを電気的に接続する第１接続部２８Ａが形成されている。第１方向と第２方向とを二等分する方向を第３方向（ｍ方向）とし、第３方向と直交する方向を第４方向（ｎ方向）としたとき、第１接続部２８Ａは、ｎ個（ｎは１より大きい実数）の小格子２６が第４方向に配列された大きさの中格子３０が配置されて構成されている。第１大格子２４Ａの第４方向と直交する辺のうち、中格子３０と隣接する部分には、小格子２６の１つの辺が欠除した第１欠除部３２Ａが形成されている。小格子２６は、ここでは一番小さい正方形状とされている。中格子３０は、図３の例では、３個分の小格子２６が第４方向に配列された大きさを有する。
また、隣接する第１透明導電パターン１８Ａ間は電気的に絶縁された第１絶縁部３４Ａが配され、この第１絶縁部３４Ａにも多数の第１ドット２０Ａを有する第１ドット領域２２Ａが形成されている。
上述のように構成された第１導電シート１２Ａは、図１に示すように、各第１透明導電パターン１８Ａの一方の端部側に存在する第１大格子２４Ａの開放端は、第１接続部２８Ａが存在しない形状となっている。各第１透明導電パターン１８Ａの他方の端部側に存在する第１大格子２４Ａの端部は、第１端子４０Ａを介して第１外部配線４２Ａに電気的に接続されている。
上述のように構成された第１導電シート１２Ａは、図１に示すように、各第１透明導電パターン１８Ａの一方の端部側に存在する第１大格子２４Ａの開放端は、第１接続部２８Ａが存在しない形状となっている。各第１透明導電パターン１８Ａの他方の端部側に存在する第１大格子２４Ａの端部は、第１端子４０Ａを介して第１外部配線４２Ａに電気的に接続されている。
一方、第２導電シート１２Ｂは、図１及び図４に示すように、第２透明基体１４Ｂ（図２Ａ参照）の一主面上に形成された第２導電部１６Ｂを有する。この第２導電部１６Ｂは、それぞれ第２方向（ｙ方向）に延在し、且つ、第１方向（ｘ方向）に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターン１８Ｂと、各第２透明導電パターン１８Ｂの周辺に配置され、多数の第２ドット２０Ｂがランダムあるいは非等間隔に形成された第２ドット領域２２Ｂとを有する。
第２透明導電パターン１８Ｂは、２以上の第２大格子２４Ｂが第２方向に直列に接続されて構成され、各第２大格子２４Ｂは、それぞれ２以上の小格子２６が組み合わされて構成されている。
隣接する第２大格子２４Ｂ間には、これら第２大格子２４Ｂを電気的に接続する第２接続部２８Ｂが形成されている。第２接続部２８Ｂは、ｎ個（ｎは１より大きい実数）の小格子２６が第３方向に配列された大きさの中格子３０が配置されて構成されている。第２大格子２４Ｂの第３方向と直交する辺のうち、中格子３０と隣接する部分には、小格子２６の１つの辺が欠除した第２欠除部３２Ｂが形成されている。
隣接する第２大格子２４Ｂ間には、これら第２大格子２４Ｂを電気的に接続する第２接続部２８Ｂが形成されている。第２接続部２８Ｂは、ｎ個（ｎは１より大きい実数）の小格子２６が第３方向に配列された大きさの中格子３０が配置されて構成されている。第２大格子２４Ｂの第３方向と直交する辺のうち、中格子３０と隣接する部分には、小格子２６の１つの辺が欠除した第２欠除部３２Ｂが形成されている。
また、隣接する第２透明導電パターン１８Ｂ間は電気的に絶縁された第２絶縁部３４Ｂが配され、この第２絶縁部３４Ｂにも多数の第２ドット２０Ｂを有する第２ドット領域２２Ｂが形成されている。
上述のように構成された第２導電シート１２Ｂは、図１に示すように、各第２透明導電パターン１８Ｂの一方の端部側に存在する第２大格子２４Ｂの開放端は、第２接続部２８Ｂが存在しない形状となっている。各第２透明導電パターン１８Ｂの他方の端部側に存在する第２大格子２４Ｂの端部は、第２端子４０Ｂを介して第２外部配線４２Ｂに電気的に接続されている。
上述のように構成された第２導電シート１２Ｂは、図１に示すように、各第２透明導電パターン１８Ｂの一方の端部側に存在する第２大格子２４Ｂの開放端は、第２接続部２８Ｂが存在しない形状となっている。各第２透明導電パターン１８Ｂの他方の端部側に存在する第２大格子２４Ｂの端部は、第２端子４０Ｂを介して第２外部配線４２Ｂに電気的に接続されている。
第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂの一辺の長さは、３〜１０ｍｍであることが好ましく、４〜６ｍｍであることがより好ましい。一辺の長さが、上記下限値未満であると、第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂを例えばタッチパネルに利用した場合に、検出時の第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂの静電容量が減るため、検出不良になる可能性が高くなる。他方、上記上限値を超えると、位置検出精度が低下する虞がある。同様の観点から、第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂを構成する小格子２６の一辺の長さは５０〜５００μｍであることが好ましく、１５０〜３００μｍであることがさらに好ましい。小格子２６が上記範囲である場合には、さらに透明性も良好に保つことが可能であり、表示装置の前面にとりつけた際に、違和感なく表示を視認することができる。
また、第１透明導電パターン１８Ａ（第１大格子２４Ａ、中格子３０）の線幅、並びに第２透明導電パターン１８Ｂ（第２大格子２４Ｂ、中格子３０）の線幅は、それぞれ１〜３０μｍである。それぞれの線幅は、好ましくは１〜１５μｍであり、より好ましくは３〜１０μｍであり、さらに好ましくは５〜９μｍである。
第１ドット領域２２Ａの第１ドット２０Ａ及び第２ドット領域２２Ｂの第２ドット２０Ｂの面積は４００μｍ２以下であることが好ましく、１００μｍ２以下であることがさらに好ましい。下限値は、１μｍ２であることが好ましく、５μｍ２であることがより好ましく、１０μｍ２であることがさらに好ましい。第１ドット２０Ａ及び第２ドット２０Ｂの面積は、細線パターンの交点の面積と略同面積であることも好ましい。面積が大きすぎると、表示装置にごみが付着しているような錯覚を感じる可能性が生じ、また小さすぎるとダミーパターンとしての視認性改善効果が発現しない可能性がある。この場合、多数の第１ドット２０Ａの各面積が同じであってもよいし、異なっていてもよい。同様に、多数の第２ドット２０Ｂの各面積が同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、第１ドット２０Ａと第２ドット２０Ｂの面積が同じであってもよいし、異なっていてもよい。
そして、例えば第２導電シート１２Ｂ上に第１導電シート１２Ａを積層してタッチパネル用導電シート１０としたとき、図５に示すように、第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂとが交差して配置された形態とされ、具体的には、第１透明導電パターン１８Ａの第１接続部２８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂの第２接続部２８Ｂとが第１透明基体１４Ａ（図２Ａ参照）を間に挟んで対向し、第１導電部１６Ａの第１絶縁部３４Ａと第２導電部１６Ｂの第２絶縁部３４Ｂとが第１透明基体１４Ａを間に挟んで対向した形態となる。
積層した第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂを上面から見たとき、第１導電シート１２Ａに形成された第１大格子２４Ａの隙間を埋めるように、第２導電シート１２Ｂの第２大格子２４Ｂが配列され、また、第１接続部２８Ａの中格子３０と第２接続部２８Ｂの中格子３０とが直交して重なることで、小格子２６が均一に配列した形態となることから、第１透明導電パターン１８Ａの部分、第２透明導電パターン１８Ｂの部分、並びにこれら第１透明導電パターン１８Ａ及び第２透明導電パターン１８Ｂが重なった部分は、多数の小格子２６が敷き詰められた形態となる。以下の説明では、この多数の小格子２６が敷き詰められた領域を格子領域１８という。また、このとき、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの間に、第１ドット領域２２Ａと第２ドット領域２２Ｂとが対向することによって多数の第１ドット２０Ａと多数の第２ドット２０Ｂとが組み合わされた隙間領域４４が形成される。多数の第１ドット２０Ａと第２ドット２０Ｂを同時に等間隔に配置するのは好ましくない。両方を同時に等間隔に配置すると第１ドット領域２２Ａと第２ドット領域２２Ｂとを重ねたとき、ばらつきによっては多数の第１ドット２０Ａと第２ドット２０Ｂとが重なってしまい、その結果開口率が大きくなってしまう可能性がある。従って、第１ドット２０Ａと第２ドット２０Ｂとはランダムあるいは非等間隔に配置して、同時に多数のドットが重ならないようにすることが好ましい。
そして、この実施の形態では、第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂが配置された格子領域１８全体の開口率と、隙間領域４４全体の開口率との差が５％以下となっている。好ましくは１％以下である。
ここで、格子領域１８全体の開口率とは、第１透明導電パターン１８Ａ及び第２透明導電パターン１８Ｂにおける導電部分と開口部分を含めた全体の面積をＡａ、第１透明導電パターン１８Ａ及び第２透明導電パターン１８Ｂにおける開口部分のみの面積をＡｂとしたとき、（Ａｂ／Ａａ）×１００％をいう。
隙間領域４４全体の開口率とは、隙間領域４４における多数の第１ドット２０Ａ、多数の第２ドット２０Ｂ及び開口部分（第１ドット２０Ａ及び第２ドット２０Ｂがない部分）を含めた全体の面積をＡｃ、隙間領域４４における開口部分のみの面積をＡｄとしたとき、（Ａｄ／Ａｃ）×１００％をいう。
ここで、格子領域１８全体の開口率とは、第１透明導電パターン１８Ａ及び第２透明導電パターン１８Ｂにおける導電部分と開口部分を含めた全体の面積をＡａ、第１透明導電パターン１８Ａ及び第２透明導電パターン１８Ｂにおける開口部分のみの面積をＡｂとしたとき、（Ａｂ／Ａａ）×１００％をいう。
隙間領域４４全体の開口率とは、隙間領域４４における多数の第１ドット２０Ａ、多数の第２ドット２０Ｂ及び開口部分（第１ドット２０Ａ及び第２ドット２０Ｂがない部分）を含めた全体の面積をＡｃ、隙間領域４４における開口部分のみの面積をＡｄとしたとき、（Ａｄ／Ａｃ）×１００％をいう。
このように、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの間に、空白（幅が小格子２６の辺の長さに相当し、長さが第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂの辺の長さに相当する空白）が配置されるということがなくなり、多数の第１ドット２０Ａと多数の第２ドット２０Ｂとの組合せによる隙間領域４４が形成されることとなる。しかも、第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂが配置された格子領域１８全体の開口率と、隙間領域４４全体の開口率との差を５％以下、好ましくは１％以下としたので、隙間領域４４が目立つということがなくなり、あるいは、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂが目立つということがなくなり、その結果、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの境界は目立たなくなる。
上述の例では、全体的な開口率の差で示したが、局部的な開口率の差においても、以下のように規定することが好ましい。
すなわち、図６に示すように、所定の区画４６に含まれ、それぞれ同一面積を有する第１大格子２４Ａの一部及び第２大格子２４Ｂの一部の平均開口率と、所定の区画４６に含まれ、隙間領域４４の一部（第１大格子２４Ａの一部又は第２大格子２４Ｂの一部と同一面積を有する）の開口率との差が５％以下、好ましくは１％以下である。
すなわち、図６に示すように、所定の区画４６に含まれ、それぞれ同一面積を有する第１大格子２４Ａの一部及び第２大格子２４Ｂの一部の平均開口率と、所定の区画４６に含まれ、隙間領域４４の一部（第１大格子２４Ａの一部又は第２大格子２４Ｂの一部と同一面積を有する）の開口率との差が５％以下、好ましくは１％以下である。
所定の区画４６は、以下の条件を満足する第１点ｄ１、第２点ｄ２、第３点ｄ３及び第４点ｄ４で囲まれた領域である。
［第１点ｄ１］：隙間領域４４と第１大格子との境界から第１大格子２４Ａに向かって、隙間領域４４の幅Ｗａだけ進んだ位置の点。
［第２点ｄ２］：隙間領域４４と第２大格子との境界から第２大格子２４Ｂに向かって、隙間領域４４の幅Ｗａだけ進んだ位置の点。
［第３点ｄ３］：第１点ｄ１から隙間領域４４の長手方向に沿って進み、且つ、第１大格子２４Ａ内に含まれる位置の点。
［第４点ｄ４］：第２点ｄ２から隙間領域４４の長手方向に沿って進む線と、第３点ｄ３から第１点ｄ１と第２点ｄ２とを結ぶ線と平行な線との交点。
このように規定することで、隙間領域４４が目立つということがなくなり、あるいは、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂが目立つということがなくなり、その結果、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの境界は目立たなくなる。
［第１点ｄ１］：隙間領域４４と第１大格子との境界から第１大格子２４Ａに向かって、隙間領域４４の幅Ｗａだけ進んだ位置の点。
［第２点ｄ２］：隙間領域４４と第２大格子との境界から第２大格子２４Ｂに向かって、隙間領域４４の幅Ｗａだけ進んだ位置の点。
［第３点ｄ３］：第１点ｄ１から隙間領域４４の長手方向に沿って進み、且つ、第１大格子２４Ａ内に含まれる位置の点。
［第４点ｄ４］：第２点ｄ２から隙間領域４４の長手方向に沿って進む線と、第３点ｄ３から第１点ｄ１と第２点ｄ２とを結ぶ線と平行な線との交点。
このように規定することで、隙間領域４４が目立つということがなくなり、あるいは、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂが目立つということがなくなり、その結果、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの境界は目立たなくなる。
ところで、上述した特許文献１では、第１電極の導体線、第１補助線、第２電極の導体線、第２補助線によって線の間隔が均等な１つの格子形状を形成するようにしていることから、積層ばらつきによって、第１電極の例えば第１方向（又は第２方向）に沿った直線部分が第２電極の第１方向に沿った直線部分と重なったり、第１方向に沿って延びる第１補助線が、第２電極の第１方向に沿った直線部分と重なったりすることとなる。反対に、第２電極の例えば第１方向（又は第２方向）に沿った直線部分が第１電極の第１方向に沿った直線部分と重なったり、第２方向に沿って延びる第２補助線が、第１電極の第１方向に沿った直線部分と重なったりする。そうすると、直線部分同士が重なった部分の幅が大きくなり（線太り）、これにより、第１電極や第２電極の位置が目立ってしまい、視認性が劣化するという問題が生じる。
これに対して、本実施の形態では、上述した特許文献１とは異なり、隙間領域４４が多数の第１ドット２０Ａと多数の第２ドット２０Ｂが組み合わされた形態となっているため、第１導電シート１２Ａと第２導電シート１２Ｂとの積層ばらつきがあっても、直線部分同士が重なるということがないため、視認性が劣化するということがない。
なお、積層ばらつきがあった場合、第１接続部２８Ａと第２接続部２８Ｂとが対向した部分において、小格子２６の形状が均一にならない部分が生じる。しかし、小格子２６が不均一となった部分の数は、第１接続部２８Ａの中格子３０と第２接続部２８Ｂの中格子３０とが直交して重なる部分の四方に存在する第１大格子２４Ａの小格子２６の数、第２大格子２４Ｂの小格子２６の数に比して少ないことから（５％程度）、小格子２６の不均一さはほとんど目立たない。しかも、第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂに中格子３０に隣接して第１欠除部３２Ａ及び第２欠除部３２Ｂを形成するようにしたので、中格子３０の直線部分が第１大格子２４Ａの直線部分や第２大格子２４Ｂの直線部分と重なることがなく、従って、中格子３０付近のどこをとっても視認できるような開口率のばらつきや光透過率のばらつきが生じることがなく、視認性の劣化はほとんどない。第１ドット２０Ａと第２ドット２０Ｂは、等間隔に配置されていないため、積層ばらつきがあったときでも同時に多数のドットが重なることはなく、従って隙間領域４４のどこをとっても視認できるような開口率のばらつきや光透過率のばらつきは生じることはなく、視認性の劣化はほとんどない。
そして、このタッチパネル用導電シート１０をタッチパネルとして使用する場合は、第１導電シート１２Ａ上に保護層を形成し、第１導電シート１２Ａの多数の第１透明導電パターン１８Ａから導出された第１外部配線４２Ａと、第２導電シート１２Ｂの多数の第２透明導電パターン１８Ｂから導出された第２外部配線４２Ｂとを、例えばスキャンをコントロールするＩＣ回路に接続する。このとき、タッチパネル用導電シート１０のうち、液晶表示装置の表示画面から外れた外周領域（額縁領域）の面積が極力小さくなるように、第１透明導電パターン１８Ａと第１外部配線４２Ａとの各接続部が直線状に配列された形態にし、第２透明導電パターン１８Ｂと第２外部配線４２Ｂとの各接続部が直線状に配列された形態にすることが好ましい。
指先を保護層上に接触させることで、指先に対向する第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂ間の静電容量が変化する。ＩＣ回路では、この変化量を検出し、この変化量に基づいて指先の位置を演算する。この演算をそれぞれの第１透明導電パターン１８Ａ／第２透明導電パターン１８Ｂ間にて行う。従って、同時に２つ以上の指先を接触させても、各指先の位置を検出することが可能となる。
このように、タッチパネル用導電シート１０においては、該タッチパネル用導電シート１０を用いて例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに適用した場合に、その表面抵抗が小さいことから応答速度を速めることができ、タッチパネルの大サイズ化を促進させることができる。
しかも、第１導電部１６Ａと第２導電部１６Ｂとがずれて配置されていても、上述したように、第１導電シート１２Ａの第１大格子２４Ａと第２導電シート１２Ｂの第２大格子２４Ｂとの境界が目立たなくなり、局部的に線太りが生じる等の不都合もなく、全体として、視認性が良好となる。また、積層ばらつきがなく、第１透明導電パターン１８Ａの部分、第２透明導電パターン１８Ｂの部分、並びに第１透明導電パターン１８Ａ及び第２透明導電パターン１８Ｂとが重なった部分において、均一に多数の小格子２６が配列した形態となったとしても、第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ間に多数の第１ドット２０Ａ及び多数の第２ドット２０Ｂの組合せによる隙間領域４４が介在することとなるため、これにより、多数の空間周波数が合わさった形態となり、その結果、液晶表示装置の画素配列との干渉が抑制され、モアレの発生を効果的に低減させることができる。
上述のタッチパネル用導電シート１０では、小格子２６の形状を正方形状としたが、その他、多角形状としてもよい。また、一辺の形状を直線状のほか、湾曲形状でもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば対向する２辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する２辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。
上述した第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂにおいては、第１接続部２８Ａ及び第２接続部２８Ｂを構成する中格子３０の大きさを、３個分の小格子２６の大きさに設定したが、その他、１．５個分、２個分、２．５個分等、種々の組合せに設定することができる。中格子３０は、あまりに大きすぎると、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂの配置が難しくなり、検出してはいけない交差部での静電容量変化が大きくなるため、最大で５個分の小格子２６の大きさであることが好ましい。
また、小格子２６のサイズ（１辺の長さや対角線の長さ等）や、第１大格子２４Ａを構成する小格子２６の個数、第２大格子２４Ｂを構成する小格子２６の個数も、適用されるタッチパネルのサイズや分解能（配線数）に応じて適宜設定することができる。
また、小格子２６のサイズ（１辺の長さや対角線の長さ等）や、第１大格子２４Ａを構成する小格子２６の個数、第２大格子２４Ｂを構成する小格子２６の個数も、適用されるタッチパネルのサイズや分解能（配線数）に応じて適宜設定することができる。
上述のタッチパネル用導電シート１０では、図１及び図２Ａに示すように、第１透明基体１４Ａの一主面に第１導電部１６Ａを形成し、第２透明基体１４Ｂの一主面に第２導電部１６Ｂを形成して、積層するようにしたが、その他、図２Ｂに示すように、第１透明基体１４Ａの一主面に第１導電部１６Ａを形成し、第１透明基体１４Ａの他主面に第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。また、第１導電シート１２Ａと第２導電シート１２Ｂとはその間に他の層が存在してもよく、第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂとが絶縁状態であれば、それらが対向して配置されてもよい。
上述の例では、第１ドット領域２２Ａに多数の第１ドット２０Ａをランダムに形成し、第２ドット領域２２Ｂに多数の第２ドット２０Ｂをランダムに形成して、第１ドット領域２２Ａと第２ドット領域２２Ｂとを対向させることによって多数の第１ドット２０Ａと多数の第２ドット２０Ｂとがランダムに配された隙間領域４４を形成するようにしたが、以下のような隙間領域４４を形成するようにしてもよい。
すなわち、図７に示すように、多数の第１ドット２０Ａの拡散状態を偏らせると共に、多数の第２ドット２０Ｂの拡散状態を偏らせることで、多数の第１ドット２０Ａと多数の第２ドット２０Ｂとの組合せによって、それぞれ小格子２６を形作る２以上の像（以下、小格子像２６ａと記す）を有する隙間領域４４を形成するようにしてもよい。小格子像２６ａの配列ピッチは、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂを構成する小格子２６の配列ピッチとほぼ同じにすることが好ましい。これにより、隙間領域４４にあたかも多数の小格子２６が配列された形態となり、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの境界がさらに目立たなくなる。小格子像２６ａは、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの間に隣接する小格子２６を構成する細線の延長線の周辺領域に偏っていることで、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの境界にも小格子２６が形成されているような錯覚を覚えることで、視認性を向上させることができる。
すなわち、図７に示すように、多数の第１ドット２０Ａの拡散状態を偏らせると共に、多数の第２ドット２０Ｂの拡散状態を偏らせることで、多数の第１ドット２０Ａと多数の第２ドット２０Ｂとの組合せによって、それぞれ小格子２６を形作る２以上の像（以下、小格子像２６ａと記す）を有する隙間領域４４を形成するようにしてもよい。小格子像２６ａの配列ピッチは、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂを構成する小格子２６の配列ピッチとほぼ同じにすることが好ましい。これにより、隙間領域４４にあたかも多数の小格子２６が配列された形態となり、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの境界がさらに目立たなくなる。小格子像２６ａは、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの間に隣接する小格子２６を構成する細線の延長線の周辺領域に偏っていることで、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの境界にも小格子２６が形成されているような錯覚を覚えることで、視認性を向上させることができる。
次に、第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂを製造する方法について説明する。
第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂを製造する場合は、例えば第１透明基体１４Ａ上及び第２透明基体１４Ｂ上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって、露光部及び未露光部にそれぞれ金属銀部及び光透過性部を形成して第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。なお、さらに金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって金属銀部に導電性金属を担持させるようにしてもよい。
第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂを製造する場合は、例えば第１透明基体１４Ａ上及び第２透明基体１４Ｂ上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって、露光部及び未露光部にそれぞれ金属銀部及び光透過性部を形成して第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。なお、さらに金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって金属銀部に導電性金属を担持させるようにしてもよい。
あるいは、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に形成された銅箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する銅箔をエッチングすることによって、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。
あるいは、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に金属微粒子を含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行うことによって、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂをスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷形成するようにしてもよい。
あるいは、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に金属微粒子を含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行うことによって、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂをスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷形成するようにしてもよい。
次に、本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂにおいて、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法を中心にして述べる。
本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂの製造方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。
（１） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。
（２） 物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。
（３） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部を非感光性受像シート上に形成させる態様。
本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂの製造方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。
（１） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。
（２） 物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。
（３） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部を非感光性受像シート上に形成させる態様。
上記（１）の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に光透過性導電膜等の透光性導電性膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。
上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面の小さい球形である。
上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。
いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。
上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面の小さい球形である。
上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。
いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。
ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社、１９５５年刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ， ４ｔｈ ｅｄ．」（Ｍｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開２００４−１８４６９３号、同２００４−３３４０７７号、同２００５−０１０７５２号の各公報、特願２００４−２４４０８０号、同２００４−０８５６５５号の各明細書に記載された技術を適用することができる。
ここで、本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂの各層の構成について、以下に詳細に説明する。
［第１透明基体１４Ａ、第２透明基体１４Ｂ］
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂとしては、プラスチックフイルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。
上記プラスチックフイルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂとしては、ＰＥＴ（融点：２５８℃）、ＰＥＮ（融点：２６９℃）、ＰＥ（融点：１３５℃）、ＰＰ（融点：１６３℃）、ポリスチレン（融点：２３０℃）、ポリ塩化ビニル（融点：１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（融点：２１２℃）やＴＡＣ（融点：２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフイルム、又はプラスチック板が好ましく、特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。タッチパネル用導電シート１０に使用される第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂのような透明導電性フィルムは透明性が要求されるため、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの透明度は高いことが好ましい。
［第１透明基体１４Ａ、第２透明基体１４Ｂ］
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂとしては、プラスチックフイルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。
上記プラスチックフイルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂとしては、ＰＥＴ（融点：２５８℃）、ＰＥＮ（融点：２６９℃）、ＰＥ（融点：１３５℃）、ＰＰ（融点：１６３℃）、ポリスチレン（融点：２３０℃）、ポリ塩化ビニル（融点：１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（融点：２１２℃）やＴＡＣ（融点：２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフイルム、又はプラスチック板が好ましく、特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。タッチパネル用導電シート１０に使用される第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂのような透明導電性フィルムは透明性が要求されるため、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの透明度は高いことが好ましい。
［銀塩乳剤層］
第１導電シート１２Ａの第１導電部１６Ａ（第１大格子２４Ａ、第１接続部２８Ａ、多数の第１ドット２０Ａ等）及び第２導電シート１２Ｂの第２導電部１６Ｂ（第２大格子２４Ｂ、第２接続部２８Ｂ、多数の第２ドット２０Ｂ等）となる銀塩乳剤層は、銀塩とバインダーの他、溶媒や染料等の添加剤を含有する。
本実施の形態に用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本実施の形態においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。
銀塩乳剤層の塗布銀量（銀塩の塗布量）は、銀に換算して１〜３０ｇ／ｍ２が好ましく、１〜２５ｇ／ｍ２がより好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２がさらに好ましい。この塗布銀量を上記範囲とすることで、タッチパネル用導電シート１０とした場合に所望の表面抵抗を得ることができる。
本実施の形態に用いられるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
本実施の形態の銀塩乳剤層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。銀塩乳剤層中のバインダーの含有量は、銀／バインダー体積比で１／４以上が好ましく、１／２以上がより好ましい。銀／バインダー体積比は、１００／１以下が好ましく、５０／１以下がより好ましい。また、銀／バインダー体積比は１／１〜４／１であることがさらに好ましい。１／１〜３／１であることが最も好ましい。銀塩乳剤層中の銀／バインダー体積比をこの範囲にすることで、塗布銀量を調整した場合でも抵抗値のばらつきを抑制し、均一な表面抵抗を有するタッチパネル用導電シートを得ることができる。なお、銀／バインダー体積比は、原料のハロゲン化銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（重量比）に変換し、さらに、銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（体積比）に変換することで求めることができる。
第１導電シート１２Ａの第１導電部１６Ａ（第１大格子２４Ａ、第１接続部２８Ａ、多数の第１ドット２０Ａ等）及び第２導電シート１２Ｂの第２導電部１６Ｂ（第２大格子２４Ｂ、第２接続部２８Ｂ、多数の第２ドット２０Ｂ等）となる銀塩乳剤層は、銀塩とバインダーの他、溶媒や染料等の添加剤を含有する。
本実施の形態に用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本実施の形態においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。
銀塩乳剤層の塗布銀量（銀塩の塗布量）は、銀に換算して１〜３０ｇ／ｍ２が好ましく、１〜２５ｇ／ｍ２がより好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２がさらに好ましい。この塗布銀量を上記範囲とすることで、タッチパネル用導電シート１０とした場合に所望の表面抵抗を得ることができる。
本実施の形態に用いられるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
本実施の形態の銀塩乳剤層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。銀塩乳剤層中のバインダーの含有量は、銀／バインダー体積比で１／４以上が好ましく、１／２以上がより好ましい。銀／バインダー体積比は、１００／１以下が好ましく、５０／１以下がより好ましい。また、銀／バインダー体積比は１／１〜４／１であることがさらに好ましい。１／１〜３／１であることが最も好ましい。銀塩乳剤層中の銀／バインダー体積比をこの範囲にすることで、塗布銀量を調整した場合でも抵抗値のばらつきを抑制し、均一な表面抵抗を有するタッチパネル用導電シートを得ることができる。なお、銀／バインダー体積比は、原料のハロゲン化銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（重量比）に変換し、さらに、銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（体積比）に変換することで求めることができる。
＜溶媒＞
銀塩乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
本実施の形態の銀塩乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、銀塩乳剤層に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。
銀塩乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
本実施の形態の銀塩乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、銀塩乳剤層に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。
＜その他の添加剤＞
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限は無く、公知のものを好ましく用いることができる。
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限は無く、公知のものを好ましく用いることができる。
［その他の層構成］
銀塩乳剤層の上に図示しない保護層を設けてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する銀塩乳剤層上に形成される。その厚みは０．５μｍ以下が好ましい。保護層の塗布方法及び形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法及び形成方法を適宜選択することができる。また、銀塩乳剤層よりも下に、例えば下塗り層を設けることもできる。
銀塩乳剤層の上に図示しない保護層を設けてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する銀塩乳剤層上に形成される。その厚みは０．５μｍ以下が好ましい。保護層の塗布方法及び形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法及び形成方法を適宜選択することができる。また、銀塩乳剤層よりも下に、例えば下塗り層を設けることもできる。
次に、第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂの作製方法の各工程について説明する。
［露光］
本実施の形態では、第１導電部及び第２導電部を印刷方式によって施す場合を含むが、印刷方式以外は、第１導電部及び第２導電部を露光と現像等によって形成する。すなわち、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に設けられた銀塩含有層を有する感光材料又はフォトリソグラフィ用フォトポリマーを塗工した感光材料への露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。
露光方法に関しては、ガラスマスクを介した方法やレーザー描画によるパターン露光方式が好ましい。
［露光］
本実施の形態では、第１導電部及び第２導電部を印刷方式によって施す場合を含むが、印刷方式以外は、第１導電部及び第２導電部を露光と現像等によって形成する。すなわち、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に設けられた銀塩含有層を有する感光材料又はフォトリソグラフィ用フォトポリマーを塗工した感光材料への露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。
露光方法に関しては、ガラスマスクを介した方法やレーザー描画によるパターン露光方式が好ましい。
［現像処理］
本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
本発明における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
上記定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、さらに好ましくは２５〜４５℃である。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、さらに好ましくは７秒〜５０秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に対して６００ｍｌ／ｍ２以下が好ましく、５００ｍｌ／ｍ２以下がさらに好ましく、３００ｍｌ／ｍ２以下が特に好ましい。
現像、定着処理を施した感光材料は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。上記水洗処理又は安定化処理においては、水洗水量は通常感光材料１ｍ２当り、２０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。
現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
本実施の形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、４．０を超えることが好ましい。現像処理後の階調が４．０を超えると、光透過性部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を４．０以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる。
以上の工程を経て導電シートは得られるが、得られた導電シートの表面抵抗は１００オーム／ｓｑ．以下が好ましく、０．１〜１００オーム／ｓｑ．の範囲にあることが好ましく、１〜１０オーム／ｓｑ．の範囲にあることがより好ましい。このような範囲に表面抵抗を調整することで、面積が１０ｃｍ×１０ｃｍ以上の大型のタッチパネルでも位置検出を行うことができる。また、現像処理後の導電シートに対しては、さらにカレンダー処理を行ってもよく、カレンダー処理により所望の表面抵抗に調整することができる。
本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
本発明における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
上記定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、さらに好ましくは２５〜４５℃である。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、さらに好ましくは７秒〜５０秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に対して６００ｍｌ／ｍ２以下が好ましく、５００ｍｌ／ｍ２以下がさらに好ましく、３００ｍｌ／ｍ２以下が特に好ましい。
現像、定着処理を施した感光材料は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。上記水洗処理又は安定化処理においては、水洗水量は通常感光材料１ｍ２当り、２０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。
現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
本実施の形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、４．０を超えることが好ましい。現像処理後の階調が４．０を超えると、光透過性部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を４．０以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる。
以上の工程を経て導電シートは得られるが、得られた導電シートの表面抵抗は１００オーム／ｓｑ．以下が好ましく、０．１〜１００オーム／ｓｑ．の範囲にあることが好ましく、１〜１０オーム／ｓｑ．の範囲にあることがより好ましい。このような範囲に表面抵抗を調整することで、面積が１０ｃｍ×１０ｃｍ以上の大型のタッチパネルでも位置検出を行うことができる。また、現像処理後の導電シートに対しては、さらにカレンダー処理を行ってもよく、カレンダー処理により所望の表面抵抗に調整することができる。
［物理現像及びめっき処理］
本実施の形態では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部の導電性を向上させる目的で、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本発明では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよく、物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよい。なお、金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施したものを含めて「導電性金属部」と称する。
本実施の形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントＢ＆Ｗフイルム、インスタントスライドフイルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。
また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行ってもよい。
本実施の形態において、めっき処理は、無電解めっき（化学還元めっきや置換めっき）、電解めっき、又は無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。本実施の形態における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術を用いることができ、例えば、プリント配線板等で用いられている無電解めっき技術を用いることができ、無電解めっきは無電解銅めっきであることが好ましい。
本実施の形態では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部の導電性を向上させる目的で、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本発明では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよく、物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよい。なお、金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施したものを含めて「導電性金属部」と称する。
本実施の形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントＢ＆Ｗフイルム、インスタントスライドフイルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。
また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行ってもよい。
本実施の形態において、めっき処理は、無電解めっき（化学還元めっきや置換めっき）、電解めっき、又は無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。本実施の形態における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術を用いることができ、例えば、プリント配線板等で用いられている無電解めっき技術を用いることができ、無電解めっきは無電解銅めっきであることが好ましい。
［酸化処理］
本実施の形態では、現像処理後の金属銀部、並びに、物理現像及び／又はめっき処理によって形成された導電性金属部には、酸化処理を施すことが好ましい。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の透過性をほぼ１００％にすることができる。
本実施の形態では、現像処理後の金属銀部、並びに、物理現像及び／又はめっき処理によって形成された導電性金属部には、酸化処理を施すことが好ましい。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の透過性をほぼ１００％にすることができる。
［導電性金属部］
本実施の形態の小格子２６、中格子３０、第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂを構成する導電性金属部の線幅は、１μｍ以上２０μｍ以下がよいが、１μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。さらに好ましくは５μｍ以上１０μｍ以下、最も好ましくは５μｍ以上９μｍ以下である。線幅が上記下限値未満の場合には、導電性が不十分となるためタッチパネルに使用した場合に、検出感度が不十分となる。他方、上記上限値を越えると導電性金属部に起因するモアレが顕著になったり、タッチパネルに使用した際に視認性が悪くなったりする。なお、上記範囲にあることで、導電性金属部のモアレが改善され、視認性が特によくなる。線間隔（ここでは小格子２６の互いに対向する辺の間隔）は３０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは５０μｍ以上４００μｍ以下、最も好ましくは１００μｍ以上３５０μｍ以下である。また、導電性金属部は、アース接続等の目的においては、線幅は２００μｍより広い部分を有していてもよい。また、可視光透過率の点から、第１透明導電パターン及び第２透明導電パターンによる格子領域の開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。例えば、線幅１５μｍ、ピッチ３００μｍの正方形の格子状の開口率は、９０％である。
本実施の形態の第１ドット２０Ａ及び第２ドット２０Ｂは、４００μｍ２以下の面積を有することが好ましく、１００μｍ２以下の面積を有することが更に好ましい。この場合も、多数の第１ドット２０Ａ及び多数の第２ドット２０Ｂの組合せによる隙間領域４４の開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。
本実施の形態の小格子２６、中格子３０、第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂを構成する導電性金属部の線幅は、１μｍ以上２０μｍ以下がよいが、１μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。さらに好ましくは５μｍ以上１０μｍ以下、最も好ましくは５μｍ以上９μｍ以下である。線幅が上記下限値未満の場合には、導電性が不十分となるためタッチパネルに使用した場合に、検出感度が不十分となる。他方、上記上限値を越えると導電性金属部に起因するモアレが顕著になったり、タッチパネルに使用した際に視認性が悪くなったりする。なお、上記範囲にあることで、導電性金属部のモアレが改善され、視認性が特によくなる。線間隔（ここでは小格子２６の互いに対向する辺の間隔）は３０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは５０μｍ以上４００μｍ以下、最も好ましくは１００μｍ以上３５０μｍ以下である。また、導電性金属部は、アース接続等の目的においては、線幅は２００μｍより広い部分を有していてもよい。また、可視光透過率の点から、第１透明導電パターン及び第２透明導電パターンによる格子領域の開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。例えば、線幅１５μｍ、ピッチ３００μｍの正方形の格子状の開口率は、９０％である。
本実施の形態の第１ドット２０Ａ及び第２ドット２０Ｂは、４００μｍ２以下の面積を有することが好ましく、１００μｍ２以下の面積を有することが更に好ましい。この場合も、多数の第１ドット２０Ａ及び多数の第２ドット２０Ｂの組合せによる隙間領域４４の開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。
［光透過性部］
本実施の形態における「光透過性部」とは、第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂのうち導電性金属部以外の透光性を有する部分を意味する。光透過性部における透過率は、前述のとおり、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値で示される透過率が９０％以上、好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９７％以上であり、さらにより好ましくは９８％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。
本実施の形態における「光透過性部」とは、第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂのうち導電性金属部以外の透光性を有する部分を意味する。光透過性部における透過率は、前述のとおり、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値で示される透過率が９０％以上、好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９７％以上であり、さらにより好ましくは９８％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。
［第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂ］
本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂにおける第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの厚さは、５〜３５０μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。５〜３５０μｍの範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に設けられる金属銀部の厚さは、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に塗布される銀塩含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。金属銀部の厚さは、０．００１ｍｍ〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、０．０１〜９μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。また、金属銀部はパターン状であることが好ましい。金属銀部は１層でもよく、２層以上の重層構成であってもよい。金属銀部がパターン状であり、且つ、２層以上の重層構成である場合、異なる波長に感光できるように、異なる感色性を付与することができる。これにより、露光波長を変えて露光すると、各層において異なるパターンを形成することができる。
導電性金属部の厚さは、タッチパネルの用途としては、薄いほど表示パネルの視野角が広がるため好ましく、視認性の向上の点でも薄膜化が要求される。このような観点から、導電性金属部に担持された導電性金属からなる層の厚さは、９μｍ未満であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ未満であることがより好ましく、０．１μｍ以上３μｍ未満であることがさらに好ましい。
本実施の形態では、上述した銀塩含有層の塗布厚みをコントロールすることにより所望の厚さの金属銀部を形成し、さらに物理現像及び／又はめっき処理により導電性金属粒子からなる層の厚みを自在にコントロールできるため、５μｍ未満、好ましくは３μｍ未満の厚みを有する第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂであっても容易に形成することができる。
なお、本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂの製造方法では、めっき等の工程は必ずしも行う必要はない。本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂの製造方法では銀塩乳剤層の塗布銀量、銀／バインダー体積比を調整することで所望の表面抵抗を得ることができるからである。なお、必要に応じてカレンダー処理等を行ってもよい。
本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂにおける第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの厚さは、５〜３５０μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。５〜３５０μｍの範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に設けられる金属銀部の厚さは、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に塗布される銀塩含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。金属銀部の厚さは、０．００１ｍｍ〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、０．０１〜９μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。また、金属銀部はパターン状であることが好ましい。金属銀部は１層でもよく、２層以上の重層構成であってもよい。金属銀部がパターン状であり、且つ、２層以上の重層構成である場合、異なる波長に感光できるように、異なる感色性を付与することができる。これにより、露光波長を変えて露光すると、各層において異なるパターンを形成することができる。
導電性金属部の厚さは、タッチパネルの用途としては、薄いほど表示パネルの視野角が広がるため好ましく、視認性の向上の点でも薄膜化が要求される。このような観点から、導電性金属部に担持された導電性金属からなる層の厚さは、９μｍ未満であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ未満であることがより好ましく、０．１μｍ以上３μｍ未満であることがさらに好ましい。
本実施の形態では、上述した銀塩含有層の塗布厚みをコントロールすることにより所望の厚さの金属銀部を形成し、さらに物理現像及び／又はめっき処理により導電性金属粒子からなる層の厚みを自在にコントロールできるため、５μｍ未満、好ましくは３μｍ未満の厚みを有する第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂであっても容易に形成することができる。
なお、本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂの製造方法では、めっき等の工程は必ずしも行う必要はない。本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂの製造方法では銀塩乳剤層の塗布銀量、銀／バインダー体積比を調整することで所望の表面抵抗を得ることができるからである。なお、必要に応じてカレンダー処理等を行ってもよい。
（現像処理後の硬膜処理）
銀塩乳剤層に対して現像処理を行った後に、硬膜剤に浸漬して硬膜処理を行うことが好ましい。硬膜剤としては、例えば、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン等のジアルデヒド類及びほう酸等の特開平２−１４１２７９号公報に記載のものを挙げることができる。
［タッチパネル用導電シート１０］
タッチパネル用導電シート１０には、反射防止層やハードコート層などの機能層を付与してもよい。
銀塩乳剤層に対して現像処理を行った後に、硬膜剤に浸漬して硬膜処理を行うことが好ましい。硬膜剤としては、例えば、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン等のジアルデヒド類及びほう酸等の特開平２−１４１２７９号公報に記載のものを挙げることができる。
［タッチパネル用導電シート１０］
タッチパネル用導電シート１０には、反射防止層やハードコート層などの機能層を付与してもよい。
なお、本発明は、下記表１及び表２に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。
上述の例では、第１透明導電パターン１８Ａを、２以上の第１大格子２４Ａを第１方向に直列に接続して構成し、第２透明導電パターン１８Ｂを、２以上の第２大格子２４Ｂを第２方向に直列に接続して構成した例を示したが、その他、第１透明導電パターン１８Ａを、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）膜による例えばひし形状の２以上の透明電極を第１方向に直列に接続して構成し、第２透明導電パターン１８Ｂを、ＩＴＯ膜による例えばひし形状の２以上の透明電極を第２方向に直列に接続して構成してもよい。
この場合も、ＩＴＯ膜による透明電極が隣接して配置されることによる多数の規則的な透明電極の配列と、透明電極間に形成される多数の第１ドット２０Ａと多数の第２ドット２０Ｂとの組合せによる隙間領域４４が形成されることから、これにより、多数の空間周波数が合わさった形態となり、その結果、液晶表示装置の画素配列との干渉が抑制され、モアレの発生を効果的に低減させることができる。
この場合も、ＩＴＯ膜による透明電極が隣接して配置されることによる多数の規則的な透明電極の配列と、透明電極間に形成される多数の第１ドット２０Ａと多数の第２ドット２０Ｂとの組合せによる隙間領域４４が形成されることから、これにより、多数の空間周波数が合わさった形態となり、その結果、液晶表示装置の画素配列との干渉が抑制され、モアレの発生を効果的に低減させることができる。
以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
この実施例では、参考例、実施例１〜１０に係るタッチパネルについてのモアレ及び視認性を評価した。参考例、実施例１〜１０の内訳並びに評価結果を後述する表３に示す。
この実施例では、参考例、実施例１〜１０に係るタッチパネルについてのモアレ及び視認性を評価した。参考例、実施例１〜１０の内訳並びに評価結果を後述する表３に示す。
［実施例１］
（ハロゲン化銀感光材料）
水媒体中のＡｇ１５０ｇに対してゼラチン１０．０ｇを含む、球相当径平均０．１μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。
また、この乳剤中にはＫ３Ｒｈ２Ｂｒ９及びＫ２ＩｒＣｌ６を濃度が１０−７（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ２ＰｄＣｌ４を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が１０ｇ／ｍ２となるように第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ（ここでは、共にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））上に塗布した。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は２／１とした。
幅３０ｃｍのＰＥＴ支持体に２５ｃｍの幅で２０ｍ分塗布を行ない、塗布の中央部２４ｃｍを残すように両端を３ｃｍずつ切り落としてロール状のハロゲン化銀感光材料を得た。
（ハロゲン化銀感光材料）
水媒体中のＡｇ１５０ｇに対してゼラチン１０．０ｇを含む、球相当径平均０．１μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。
また、この乳剤中にはＫ３Ｒｈ２Ｂｒ９及びＫ２ＩｒＣｌ６を濃度が１０−７（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ２ＰｄＣｌ４を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が１０ｇ／ｍ２となるように第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ（ここでは、共にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））上に塗布した。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は２／１とした。
幅３０ｃｍのＰＥＴ支持体に２５ｃｍの幅で２０ｍ分塗布を行ない、塗布の中央部２４ｃｍを残すように両端を３ｃｍずつ切り落としてロール状のハロゲン化銀感光材料を得た。
（露光）
露光のパターンは、タッチパネル用導電シート１０の第１導電シート１２Ａについては図１及び図３に示すパターンで、第２導電シート１２Ｂについては図１及び図４に示すパターンで、Ａ４サイズ（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ）の第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂに行った。露光は上記パターンのフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。
露光のパターンは、タッチパネル用導電シート１０の第１導電シート１２Ａについては図１及び図３に示すパターンで、第２導電シート１２Ｂについては図１及び図４に示すパターンで、Ａ４サイズ（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ）の第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂに行った。露光は上記パターンのフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。
（現像処理）
・現像液１Ｌ処方
ハイドロキノン ２０ ｇ
亜硫酸ナトリウム ５０ ｇ
炭酸カリウム ４０ ｇ
エチレンジアミン・四酢酸 ２ ｇ
臭化カリウム ３ ｇ
ポリエチレングリコール２０００ １ ｇ
水酸化カリウム ４ ｇ
ｐＨ １０．３に調整
・定着液１Ｌ処方
チオ硫酸アンモニウム液（７５％） ３００ ｍｌ
亜硫酸アンモニウム・１水塩 ２５ ｇ
１，３−ジアミノプロパン・四酢酸 ８ ｇ
酢酸 ５ ｇ
アンモニア水（２７％） １ ｇ
ｐＨ ６．２に調整
上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フイルム社製自動現像機 ＦＧ−７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃ ３０秒、定着３４℃ ２３秒、水洗 流水（５Ｌ／分）の２０秒処理で行った。
・現像液１Ｌ処方
ハイドロキノン ２０ ｇ
亜硫酸ナトリウム ５０ ｇ
炭酸カリウム ４０ ｇ
エチレンジアミン・四酢酸 ２ ｇ
臭化カリウム ３ ｇ
ポリエチレングリコール２０００ １ ｇ
水酸化カリウム ４ ｇ
ｐＨ １０．３に調整
・定着液１Ｌ処方
チオ硫酸アンモニウム液（７５％） ３００ ｍｌ
亜硫酸アンモニウム・１水塩 ２５ ｇ
１，３−ジアミノプロパン・四酢酸 ８ ｇ
酢酸 ５ ｇ
アンモニア水（２７％） １ ｇ
ｐＨ ６．２に調整
上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フイルム社製自動現像機 ＦＧ−７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃ ３０秒、定着３４℃ ２３秒、水洗 流水（５Ｌ／分）の２０秒処理で行った。
（タッチパネル）
第２導電シート１２Ｂ上に第１導電シート１２Ａを積層してタッチパネル用導電シートを得た後、液晶表示装置の表示画面にタッチパネル用導電シートを貼り付けて実施例１に係るタッチパネルを構成した。この実施例１では、後述する表３にも示すように、導電部（第１透明導電パターン１８Ａ、第２透明導電パターン１８Ｂ）の線幅が５μｍ、小格子２６の一辺の長さが５０μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さが３ｍｍで、第３方向及び第４方向へのずれ量（以下、ずれ量と記す）が０μｍである。
また、第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂが配置された格子領域１８全体の開口率と、隙間領域４４全体の開口率との差が２〜５％である。所定の区画４６に含まれ、それぞれ同一面積を有する第１大格子２４Ａの一部及び第２大格子２４Ｂの一部の平均開口率と、所定の区画４６に含まれ、第１大格子２４Ａの一部又は第２大格子２４Ｂの一部と同一面積を有する隙間領域４４の一部の開口率との差は２〜５％である。
第２導電シート１２Ｂ上に第１導電シート１２Ａを積層してタッチパネル用導電シートを得た後、液晶表示装置の表示画面にタッチパネル用導電シートを貼り付けて実施例１に係るタッチパネルを構成した。この実施例１では、後述する表３にも示すように、導電部（第１透明導電パターン１８Ａ、第２透明導電パターン１８Ｂ）の線幅が５μｍ、小格子２６の一辺の長さが５０μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さが３ｍｍで、第３方向及び第４方向へのずれ量（以下、ずれ量と記す）が０μｍである。
また、第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂが配置された格子領域１８全体の開口率と、隙間領域４４全体の開口率との差が２〜５％である。所定の区画４６に含まれ、それぞれ同一面積を有する第１大格子２４Ａの一部及び第２大格子２４Ｂの一部の平均開口率と、所定の区画４６に含まれ、第１大格子２４Ａの一部又は第２大格子２４Ｂの一部と同一面積を有する隙間領域４４の一部の開口率との差は２〜５％である。
［実施例２］
実施例２に係るタッチパネルは、開口率の差が１％以下である点以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例３、４］
実施例３及び４に係るタッチパネルは、ずれ量をそれぞれ２．５μｍ及び５μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例５］
実施例５に係るタッチパネルは、導電部の線幅を８μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さを５ｍｍとし、ずれ量を１０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例６］
実施例６に係るタッチパネルは、ずれ量を２５μｍとしたこと以外は、上述した実施例５と同様にして作製した。
［実施例７］
実施例７に係るタッチパネルは、導電部の線幅を８μｍ、小格子２６の一辺の長さを２５０μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さを５ｍｍとし、ずれ量を５０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例８、９］
実施例８及び９に係るタッチパネルは、ずれ量をそれぞれ１００μｍ及び１２５μｍとしたこと以外は、上述した実施例７と同様にして作製した。
［実施例１０］
実施例１０に係るタッチパネルは、導電部の線幅を１０μｍ、小格子２６の一辺の長さを３００μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さを６ｍｍとし、ずれ量を１５０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［参考例］
参考例に係るタッチパネルは、開口率の差が６〜１０％以下である点以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
実施例２に係るタッチパネルは、開口率の差が１％以下である点以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例３、４］
実施例３及び４に係るタッチパネルは、ずれ量をそれぞれ２．５μｍ及び５μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例５］
実施例５に係るタッチパネルは、導電部の線幅を８μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さを５ｍｍとし、ずれ量を１０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例６］
実施例６に係るタッチパネルは、ずれ量を２５μｍとしたこと以外は、上述した実施例５と同様にして作製した。
［実施例７］
実施例７に係るタッチパネルは、導電部の線幅を８μｍ、小格子２６の一辺の長さを２５０μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さを５ｍｍとし、ずれ量を５０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例８、９］
実施例８及び９に係るタッチパネルは、ずれ量をそれぞれ１００μｍ及び１２５μｍとしたこと以外は、上述した実施例７と同様にして作製した。
［実施例１０］
実施例１０に係るタッチパネルは、導電部の線幅を１０μｍ、小格子２６の一辺の長さを３００μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さを６ｍｍとし、ずれ量を１５０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［参考例］
参考例に係るタッチパネルは、開口率の差が６〜１０％以下である点以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
〔評価〕
（モアレの評価）
タッチパネルを回転盤に設置し、液晶表示装置を駆動して白色を表示させる。その状態で、回転盤をバイアス角−４５°〜＋４５°の間で回転し、モアレの目視観察・評価を行った。
モアレの評価は、液晶表示装置の表示画面から観察距離１．５ｍで行い、モアレが顕在化しなかった場合を○、モアレが問題のないレベルでほんの少し見られた場合を△、モアレが顕在化した場合を×とした。
（視認性の評価）
上述のモアレの評価に先立って、タッチパネルを回転盤に設置し、液晶表示装置を駆動して白色を表示させた際に、タッチパネルの第１大格子及び第２大格子の境界が目立つかどうかを肉眼で確認した。
（モアレの評価）
タッチパネルを回転盤に設置し、液晶表示装置を駆動して白色を表示させる。その状態で、回転盤をバイアス角−４５°〜＋４５°の間で回転し、モアレの目視観察・評価を行った。
モアレの評価は、液晶表示装置の表示画面から観察距離１．５ｍで行い、モアレが顕在化しなかった場合を○、モアレが問題のないレベルでほんの少し見られた場合を△、モアレが顕在化した場合を×とした。
（視認性の評価）
上述のモアレの評価に先立って、タッチパネルを回転盤に設置し、液晶表示装置を駆動して白色を表示させた際に、タッチパネルの第１大格子及び第２大格子の境界が目立つかどうかを肉眼で確認した。
（評価結果）
先ず、モアレについては、参考例、実施例１〜１０共に顕在化しなかった。視認性は、参考例について、第１大格子及び第２大格子の境界が少し目立った程度であり、実施例１〜１０については目立たなかった。
なお、図２Ｂに示すように、第１透明基体１４Ａの一主面に第１導電部１６Ａを形成し、第１透明基体１４Ａの他主面に第２導電部１６Ｂを形成して参考例、実施例１〜１０と同様にタッチパネルを作製した場合においても、上述と同様の評価結果となった。
先ず、モアレについては、参考例、実施例１〜１０共に顕在化しなかった。視認性は、参考例について、第１大格子及び第２大格子の境界が少し目立った程度であり、実施例１〜１０については目立たなかった。
なお、図２Ｂに示すように、第１透明基体１４Ａの一主面に第１導電部１６Ａを形成し、第１透明基体１４Ａの他主面に第２導電部１６Ｂを形成して参考例、実施例１〜１０と同様にタッチパネルを作製した場合においても、上述と同様の評価結果となった。
なお、本発明に係るタッチパネル及び導電シートは、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
１０…タッチパネル用導電シート １２Ａ…第１導電シート
１２Ｂ…第２導電シート １４Ａ…第１透明基体
１４Ｂ…第２透明基体 １６Ａ…第１導電部
１６Ｂ…第２導電部 １８…格子領域
１８Ａ…第１透明導電パターン １８Ｂ…第２透明導電パターン
２０Ａ…第１ドット ２０Ｂ…第２ドット
２２Ａ…第１ドット領域 ２２Ｂ…第２ドット領域
２４Ａ…第１大格子 ２４Ｂ…第２大格子
２６…小格子 ２８Ａ…第１接続部
２８Ｂ…第２接続部 ３０…中格子
３２Ａ…第１欠除部 ３２Ｂ…第２欠除部
３４Ａ…第１絶縁部 ３４Ｂ…第２絶縁部
４４…隙間領域
１２Ｂ…第２導電シート １４Ａ…第１透明基体
１４Ｂ…第２透明基体 １６Ａ…第１導電部
１６Ｂ…第２導電部 １８…格子領域
１８Ａ…第１透明導電パターン １８Ｂ…第２透明導電パターン
２０Ａ…第１ドット ２０Ｂ…第２ドット
２２Ａ…第１ドット領域 ２２Ｂ…第２ドット領域
２４Ａ…第１大格子 ２４Ｂ…第２大格子
２６…小格子 ２８Ａ…第１接続部
２８Ｂ…第２接続部 ３０…中格子
３２Ａ…第１欠除部 ３２Ｂ…第２欠除部
３４Ａ…第１絶縁部 ３４Ｂ…第２絶縁部
４４…隙間領域
Claims (9)
- タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、
前記タッチパネル用導電シートは、
基体と、
前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、
前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターンと、該第１透明導電パターン間の領域に形成された多数の第１ドットとを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターンと、該第２透明導電パターン間の領域に形成された多数の第２ドットとを有し、
上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、
前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによる隙間領域が形成されていることを特徴とするタッチパネル。 - 請求項１記載のタッチパネルにおいて、
前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンが配置された領域全体の開口率と、前記隙間領域全体の開口率との差が５％以下であることを特徴とするタッチパネル。 - 請求項１記載のタッチパネルにおいて、
前記第１透明導電パターンは、２以上の第１大格子が前記第１方向に直列に接続されて構成され、
前記第２透明導電パターンは、２以上の第２大格子が前記第２方向に直列に接続されて構成され、
各前記第１大格子及び各前記第２大格子は、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、
前記第１大格子の辺の周囲に、多数の前記第１ドットを有し、
前記第２大格子の辺の周囲に、多数の前記第２ドットを有することを特徴とするタッチパネル。 - 請求項３記載のタッチパネルにおいて、
所定の区画に含まれ、それぞれ同一面積を有する前記第１大格子の一部及び前記第２大格子の一部の平均開口率と、前記所定の区画に含まれ、前記隙間領域の一部（前記第１大格子の一部又は前記第２大格子の一部と同一面積を有する）の開口率との差が５％以下であることを特徴とするタッチパネル。 - 請求項４記載のタッチパネルにおいて、
前記所定の区画は、以下の条件を満足する第１点、第２点、第３点及び第４点で囲まれた領域であることを特徴とするタッチパネル。
［条件］
第１点：前記隙間領域と前記第１大格子との境界から前記第１大格子に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第２点：前記隙間領域と前記第２大格子との境界から前記第２大格子に向かって、前記隙間領域の幅だけ進んだ位置の点。
第３点：前記第１点から前記隙間領域の長手方向に沿って進み、且つ、前記第１大格子内に含まれる位置の点。
第４点：前記第２点から前記隙間領域の長手方向に沿って進む線と、前記第３点から前記第１点と前記第２点とを結ぶ線と平行な線との交点。 - 請求項３記載のタッチパネルにおいて、
前記隙間領域には、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによって、それぞれ小格子を形作る２以上の像が形成されていることを特徴とするタッチパネル。 - タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、
前記タッチパネル用導電シートは、第１導電シートと第２導電シートとが積層され、
前記第１導電シートは、第１基体と、前記第１基体の一方の主面に形成された第１導電部とを有し、
前記第２導電シートは、第２基体と、前記第２基体の一方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターンと、該第１透明導電パターン間の領域に形成された多数の第１ドットとを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターンと、該第２透明導電パターン間の領域に形成された多数の第２ドットとを有し、
上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、
前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによる隙間領域が形成されていることを特徴とするタッチパネル。 - 基体と、
前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、
前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターンと、該第１透明導電パターン間の領域に形成された多数の第１ドットとを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターンと、該第２透明導電パターン間の領域に形成された多数の第２ドットとを有し、
上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、
前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによる隙間領域が形成されていることを特徴とする導電シート。 - 第１導電シートと第２導電シートとが積層された導電シートであって、
前記第１導電シートは、第１基体と、前記第１基体の一方の主面に形成された第１導電部とを有し、
前記第２導電シートは、第２基体と、前記第２基体の一方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターンと、該第１透明導電パターン間の領域に形成された多数の第１ドットとを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターンと、該第２透明導電パターン間の領域に形成された多数の第２ドットとを有し、
上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、
前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１ドットと前記第２ドットとの組合せによる隙間領域が形成されていることを特徴とする導電シート。
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