TW201209883A - Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium - Google Patents
Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium Download PDFInfo
- Publication number
- TW201209883A TW201209883A TW100117605A TW100117605A TW201209883A TW 201209883 A TW201209883 A TW 201209883A TW 100117605 A TW100117605 A TW 100117605A TW 100117605 A TW100117605 A TW 100117605A TW 201209883 A TW201209883 A TW 201209883A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- stencil
- substrate
- processing station
- wafer
- unit
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/58—Applying the releasing agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010117711 | 2010-05-21 | ||
JP2011103116A JP2012009831A (ja) | 2010-05-21 | 2011-05-02 | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201209883A true TW201209883A (en) | 2012-03-01 |
Family
ID=44991713
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW100117605A TW201209883A (en) | 2010-05-21 | 2011-05-19 | Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012009831A (ja) |
TW (1) | TW201209883A (ja) |
WO (1) | WO2011145611A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI707766B (zh) * | 2018-07-16 | 2020-10-21 | 奇景光電股份有限公司 | 壓印系統、供膠裝置及壓印方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5754965B2 (ja) * | 2011-02-07 | 2015-07-29 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および、物品の製造方法 |
JP5346049B2 (ja) * | 2011-02-18 | 2013-11-20 | 東京エレクトロン株式会社 | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム |
JP6562707B2 (ja) * | 2015-05-13 | 2019-08-21 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
JP6703785B2 (ja) | 2016-05-09 | 2020-06-03 | キヤノン株式会社 | 基板処理装置、および物品製造方法 |
JP6963427B2 (ja) * | 2017-06-30 | 2021-11-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品製造方法 |
JP6953259B2 (ja) * | 2017-09-28 | 2021-10-27 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および、物品製造方法 |
CN108845479A (zh) * | 2018-05-28 | 2018-11-20 | 苏州光舵微纳科技股份有限公司 | 一种软膜替换及纳米压印一体设备 |
JP7308087B2 (ja) * | 2019-07-02 | 2023-07-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004062886A1 (ja) * | 2003-01-15 | 2004-07-29 | Scivax Corporation | パターン形成装置、パターン形成方法、パターン形成システム |
JP2005153091A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Hitachi Ltd | 転写方法及び転写装置 |
US8011915B2 (en) * | 2005-11-04 | 2011-09-06 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
JP2007329276A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ナノインプリントリソグラフィによるレジストパターンの形成方法 |
JP5069979B2 (ja) * | 2007-09-03 | 2012-11-07 | 東芝機械株式会社 | 離型装置、給排システムおよび離型方法 |
JP5370806B2 (ja) * | 2008-04-22 | 2013-12-18 | 富士電機株式会社 | インプリント方法およびその装置 |
JP5077764B2 (ja) * | 2008-04-22 | 2012-11-21 | 富士電機株式会社 | インプリント方法およびその装置 |
JP5279397B2 (ja) * | 2008-08-06 | 2013-09-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、およびデバイス製造方法 |
-
2011
- 2011-05-02 JP JP2011103116A patent/JP2012009831A/ja active Pending
- 2011-05-17 WO PCT/JP2011/061305 patent/WO2011145611A1/ja active Application Filing
- 2011-05-19 TW TW100117605A patent/TW201209883A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI707766B (zh) * | 2018-07-16 | 2020-10-21 | 奇景光電股份有限公司 | 壓印系統、供膠裝置及壓印方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011145611A1 (ja) | 2011-11-24 |
JP2012009831A (ja) | 2012-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI469864B (zh) | 壓印系統、壓印方法、程式及電腦記憶媒體 | |
TW201209883A (en) | Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium | |
JP5060517B2 (ja) | インプリントシステム | |
WO2010150741A1 (ja) | インプリントシステム、インプリント方法及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP5411201B2 (ja) | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2011104910A (ja) | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム | |
JP5611112B2 (ja) | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
WO2011114926A1 (ja) | テンプレート処理方法、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置 | |
JP5285515B2 (ja) | テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP5149244B2 (ja) | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
WO2010150740A1 (ja) | テンプレート処理装置、インプリントシステム、テンプレート処理方法及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP5231366B2 (ja) | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒、テンプレート処理装置及びインプリントシステム | |
TW201249555A (en) | Template processing method, program, computer storage medium, template processing apparatus, and imprinting system | |
JP5285514B2 (ja) | テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP5108834B2 (ja) | テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
TW201308475A (zh) | 基板處理方法、程式、電腦記憶媒體、基板處理裝置及壓印系統 | |
JP4807749B2 (ja) | 露光・現像処理方法 | |
TW201246375A (en) | Characteristics modification method of substrate surface, program, computer storage medium, and property modification device of substrate surface | |
JP2011035186A (ja) | 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP5487064B2 (ja) | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム | |
WO2011040466A1 (ja) | テンプレート処理装置、インプリントシステム、テンプレート処理方法、及びコンピュータ記憶媒体 |