TW201209883A - Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium - Google Patents

Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium Download PDF

Info

Publication number
TW201209883A
TW201209883A TW100117605A TW100117605A TW201209883A TW 201209883 A TW201209883 A TW 201209883A TW 100117605 A TW100117605 A TW 100117605A TW 100117605 A TW100117605 A TW 100117605A TW 201209883 A TW201209883 A TW 201209883A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
stencil
substrate
processing station
wafer
unit
Prior art date
Application number
TW100117605A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Inventor
Shoichi Terada
Koukichi Hiroshiro
Takanori Nishi
Takahiro Kitano
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Publication of TW201209883A publication Critical patent/TW201209883A/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/56Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
    • B29C33/58Applying the releasing agents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
TW100117605A 2010-05-21 2011-05-19 Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium TW201209883A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010117711 2010-05-21
JP2011103116A JP2012009831A (ja) 2010-05-21 2011-05-02 インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201209883A true TW201209883A (en) 2012-03-01

Family

ID=44991713

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100117605A TW201209883A (en) 2010-05-21 2011-05-19 Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2012009831A (ja)
TW (1) TW201209883A (ja)
WO (1) WO2011145611A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI707766B (zh) * 2018-07-16 2020-10-21 奇景光電股份有限公司 壓印系統、供膠裝置及壓印方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5754965B2 (ja) * 2011-02-07 2015-07-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品の製造方法
JP5346049B2 (ja) * 2011-02-18 2013-11-20 東京エレクトロン株式会社 テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム
JP6562707B2 (ja) * 2015-05-13 2019-08-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6703785B2 (ja) 2016-05-09 2020-06-03 キヤノン株式会社 基板処理装置、および物品製造方法
JP6963427B2 (ja) * 2017-06-30 2021-11-10 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP6953259B2 (ja) * 2017-09-28 2021-10-27 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および、物品製造方法
CN108845479A (zh) * 2018-05-28 2018-11-20 苏州光舵微纳科技股份有限公司 一种软膜替换及纳米压印一体设备
JP7308087B2 (ja) * 2019-07-02 2023-07-13 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004062886A1 (ja) * 2003-01-15 2004-07-29 Scivax Corporation パターン形成装置、パターン形成方法、パターン形成システム
JP2005153091A (ja) * 2003-11-27 2005-06-16 Hitachi Ltd 転写方法及び転写装置
US8011915B2 (en) * 2005-11-04 2011-09-06 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
JP2007329276A (ja) * 2006-06-07 2007-12-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ナノインプリントリソグラフィによるレジストパターンの形成方法
JP5069979B2 (ja) * 2007-09-03 2012-11-07 東芝機械株式会社 離型装置、給排システムおよび離型方法
JP5370806B2 (ja) * 2008-04-22 2013-12-18 富士電機株式会社 インプリント方法およびその装置
JP5077764B2 (ja) * 2008-04-22 2012-11-21 富士電機株式会社 インプリント方法およびその装置
JP5279397B2 (ja) * 2008-08-06 2013-09-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、およびデバイス製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI707766B (zh) * 2018-07-16 2020-10-21 奇景光電股份有限公司 壓印系統、供膠裝置及壓印方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011145611A1 (ja) 2011-11-24
JP2012009831A (ja) 2012-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI469864B (zh) 壓印系統、壓印方法、程式及電腦記憶媒體
TW201209883A (en) Imprinting system, imprinting method, and computer storage medium
JP5060517B2 (ja) インプリントシステム
WO2010150741A1 (ja) インプリントシステム、インプリント方法及びコンピュータ記憶媒体
JP5411201B2 (ja) インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2011104910A (ja) テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム
JP5611112B2 (ja) インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2011114926A1 (ja) テンプレート処理方法、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置
JP5285515B2 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP5149244B2 (ja) インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2010150740A1 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、テンプレート処理方法及びコンピュータ記憶媒体
JP5231366B2 (ja) テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒、テンプレート処理装置及びインプリントシステム
TW201249555A (en) Template processing method, program, computer storage medium, template processing apparatus, and imprinting system
JP5285514B2 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP5108834B2 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
TW201308475A (zh) 基板處理方法、程式、電腦記憶媒體、基板處理裝置及壓印系統
JP4807749B2 (ja) 露光・現像処理方法
TW201246375A (en) Characteristics modification method of substrate surface, program, computer storage medium, and property modification device of substrate surface
JP2011035186A (ja) 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP5487064B2 (ja) テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム
WO2011040466A1 (ja) テンプレート処理装置、インプリントシステム、テンプレート処理方法、及びコンピュータ記憶媒体