TW201145561A - Light emitting device - Google Patents
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201145561 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種發光元件’尤其是一種具有分散式布 拉格反射結構的發光元件。 【先前技術】 目前發光元件(例如發光二極體)的應用領域已十分廣 泛。例如在顯示裝置、交通訊號裝置、照明裝置、醫療裝置以 及通訊裝置等領域之產品,皆可見到發光元件之應用。 請參閱圖1 ’所示為一種習知的發光元件1〇,其包括導電 基板11、黏結層π、金屬反射層15、透明導電層17以及半 導體疊層19。其中,黏結層13位於導電基板11上,金屬反 射層15位於黏結層13上,透明導電層17位於金屬反射層15 上’而半導體疊層19位於透明導電層17上。半導體叠層19 包括與透明導電層17相連的p型氮化鎵層192、位於p型氮 化鎵層192上方的η型氮化鎵層196以及位於p型氮化鎵層 192與η型氮化錄層196之間的活性層194。 在發光元件10中,透明導電層17是直接接觸ρ型氮化鎵 • 層192而達成歐姆接觸功能,透明導電層17的高穿透率特性 可使金屬反射層15發揮高反射功能。 然而’由於在發光元件1〇的製造過程中,需進行熱處理, 而熱處理時容易造成透明導電層17與金屬反射層15之間發生 相互擴散(Diffusi〇n),因此在發光元件10的製造過程中導致金 屬反射層15霧化,進而會降低金屬反射層15反射率,使得發 光元件10的發光效率受到影響。 因此,如何避免發光元件在製造過程中反射結梅的反射率 被降低’以提高發光元件的發光效率實為相關領域之人員所重 201145561 視的議題之一。 【發明内容】 有鑑於此’本發明提供一種發光元件,其可提高發光效率。 本發明提出-種發光元件,其包括導電基板、金屬反射 層、具有兩種或兩種以上折射率相異材質交互堆疊之多層膜結 構、透明導電層與半導體疊層。金屬反射層配置於導電基板 上。父互堆疊之多層膜結構配置於金屬反射層上,上述之交互 堆f之ί層膜結構係至少具有―絕緣層,且具有至少一導孔結 構貫穿交互堆疊之多層膜結構,崎料電層配置於交互堆疊 之多層膜結構上,且半導體疊層配置於透明導電層上。 本發明還提出-種發光元件,其包括導電基板、金屬反射 層、具有兩種或兩種以上折射率相異材質 構、透料電層與半導體疊層。其中,金屬反射二;;= 基,上。父互堆疊之多層膜結構配置於金屬反射層上,且上述 之交互堆疊之多層麟構係由導t性材f製成,此導電性材質 至_>包含有具有摻雜的Ti〇2。透明導電層配置於交互堆疊之 多層膜結構上。半導體疊層配置於透明導電層上。 本發明之發光元件採用交互堆疊之多層膜結構具有兩種 或兩^以上折射率相異材質交互堆疊之多層膜結構來反射 光父互堆疊之多層膜結構能避免金屬反射層與透明導電層之 間因熱作用而導致的物質相互擴散問題、反射率降低之問題, 從而有利於提高發光元件的發光效率。 ^為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易 懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下。 【實施方式】 圖2繪示為本發明實施例之一的發光元件的示意圖。請參 201145561 閱圖2,本發明實施例之一的發光元件3〇包括導電基板3l、 金屬反射層33、具有兩種或兩種以上折射率相異材質交互堆 疊之多層膜結構35、透明導電層37、半導體疊層'39、導孔結 構352以及一電極41。 如圖2所示,發光元件30為一垂直式的發光二極體;其 中,金屬反射層33位於導電基板31上,交互堆疊之多層膜結 構35位於金屬反射層33上,透明導電層37位於交互堆疊之 多層膜結構35上,而半導體疊層39位於透明導電層37上, 此外,上述的電極41位於半導體疊層39上。其中,上述之相 互堆疊之多層膜結構35中至少具有一絕緣層Γ其中絕緣層材 質可以是Ta2〇5、SiNx、Ti〇2或Si〇2,且上述之交互堆疊之多 層膜結構35具有至少-導孔結構说貫穿其中,且導孔結構 352用於使金屬反射層33與透明導電層37之間形成電性連 接。在圖2實施例中,雖然僅繪示一導孔結構352,但本發明 並不以導孔結構352的數量為限,在其他實施例中,導孔結構 352一數量還可為多個。不僅如此,上述導孔結構352之材質是 由高光反射性金屬或熱穩性金屬材料填充於其中,利用高光反 射性金屬,諸如銀、铭、金及其合金等材料,#此提高發光元 件3〇之光反射率,而熱穩性金屬材料則可以是欽、在呂、絡等 金屬或上述金屬所構成之合金,用以提高導孔結構说之緻密 性0 此外,父互堆疊之多層膜結構35亦可以是由不同的絕緣 材質交互堆疊而成,上述的絕緣材質可以STa2(vsiNx、Ti〇2 或s1〇2;於本實施例中,交互堆疊之多層膜結構35係Ti〇2 與Si〇2兩種絕緣材質交互堆疊而成的。 承上述,所謂的具有兩種或兩種以上折射率相異材質交互 201145561 堆疊之多層膜結構35,通常是將折射率相異的兩種材質交互 堆疊而成,在本實施例中,交互堆疊之多層膜結構35係為— 分散式布拉格反射(Distributed Bragg Reflector,DBR)結構,其 中每層的厚度係為λ/4,其中λ為發光元件3〇之主波^ (dominant wavelength)。 再者,半導體疊層39之材質可選自氮化鋁銦鎵系列材料 或磷化鋁銦鎵系列材料,且可包括第一導電型半導體層392、 活性層394以及第二導電型半導體層396。其中,第一導電型 半導體層392位於透明導電層37上,活性層394位於第一導 電型半導體層392上’而第二導電型半導體層3%位於活性層 394 上。 詳細來說,活性層394可為多重量子井(multi_quantum wdl, MQW)結構,而第一導電型半導體層392與第二導電型半導體 層396可分別為p型半導體層與n型半導體層。更詳細地,第 -導電型半導體層392與第二導電型半導體層3%可分別為? 型氮化鎵層與η型氮化鎵層。 不僅如此,上述半導體疊層39之表面可以是一粗化結 構,以減少光線由活性層產生後因為半導體疊層39與外界間 之折射率差異而形成全反射的情況,進而增加發光元件3〇之 出光摘出效率。 此外,透明導電層37之材質可以是透明金屬氧化材料, 諸如 ΙΤΟ、CTO、ZnO、in2〇3、Sn〇2' CuA1〇2、CuGa02、SrCu202, 在本實施例中,透明導電層37之材質系為IT〇。 不僅如此,上述導電基板31之材質可以是氧化鋅、矽或 金屬。此外’更可以在導電基板31之下表面形成一背電極(Back Electrode)312。 201145561 此外,上述的金屬反射層33可以同時具有黏結層之功 能,用以接合導電基板31與交互堆疊之多層膜結構%。在本 實施例中’金屬反射層33可以選用具有高光反射性之金屬, 諸如銀、銘、金及其合金等材料,並且利用金屬共晶梦八 (Eutectic bonding)技術形成,使得金屬反射層33同時具有$ = 層之功能。但需要指出的是’本發明並不以金屬反射層^同 時具有黏結作用為限。 圖3為本發明另—實施例,如圖3所示,金屬反射層33 與導,基板31還具有-黏結層34,而黏結層%的作用主要 是提高金屬反射層33與導電基板W間的黏結力,上述黏結層 34之材質可以是金屬材料或具有導電粒子的有機材料。 細上所述,本發明之發光元件採用兩種或兩種以上折射率 相異材質交互堆疊之多層膜結構來分隔金屬反射層與透明導 電層,用以減少金屬反射層與透明導電層之間因熱作用擴散問 題而導致金屬反射層霧化之問題,藉此提高發光元件的發光效 率。 由於交互堆疊之多層膜結構35與介於金屬反射層33與透 • 明導電層37之間,使得金屬反射層33與透明導電層37之交 界面不存在因為熱作用而導致的相互擴散而導致金屬反射層 33霧化之問題’因此可避免金屬反射層33的反射率受到影 響’從而有利於提高發光元件30的發光效率。再者,利用交 互堆疊之多層膜結構35搭配金屬反射層33形成一全方向性之 反射鏡’因此還有利於發光元件30之結構設計。 圖4為本發明另一實施例的發光元件50。發光元件50與 發光元件30相似,其不同點在於:交互堆疊之多層膜結構55 係由導電性材質製成,其材質可以選自ITO、CTO、ZnO、 201145561 1〜〇3、Sn〇2、CuAl〇2、CuGa〇2 或 SrC , 多層膜結構55係由導電材質所製成,因此;:隹:: 3電層37間可直接藉由交互堆疊之多層膜結“產生電: 於本實施例中,交互堆疊之多㈣結構5 有摻雜的Ti02之材料,其中上述Tio认仏 ^ 湘志由主' 2的摻雜物可以是元素週 期表中VB族70素;在本實施例中,且古 以β τ 財捧雜的™2材料可 上疋X a』2或Τ1χΝ1^·χ〇2,更進一步地來說,本實施例中 =堆疊之多層膜結構55係由TixTai為與Ιτ〇交互堆疊而 成的。 除此之外,發光元件50亦可以包含至少一貫穿交互堆聶 之多層膜結構55之導孔結構(圖未示),用以改善金屬反射^ 33與透明導電層37之電性連接,且上述導孔結構之材質是由 鬲光反射性金屬或熱穩性金屬材料填充於其中,利用高光反射 性金屬,諸如銀、!S、金及其合金等材料,藉此提高發光元件 5〇之光反射率,而熱穩性金屬材料則可以是鈦、鋁、鉻等金 屬或上述金屬所構成之合金,用以提高導孔結構之緻密性。 圖5為本發明又一實施例,如圖5所示,金屬反射層33 與導電基板31還具有一黏結層54,而黏結層54的作用主要 是提高金屬反射層33與導電基板31間的黏結力,上述黏結層 54之材質可以是金屬材料或具有導電粒子的有機材料。 综上所述,本發明之發光元件採用兩種或兩種以上折射率 相異材質交互堆疊之多層膜結構來分隔金屬反射層與透明導 電層,用以減少金屬反射層與透明導電層之間因熱作用擴散問 題而導致金屬反射層霧化之問題,因此可避免金屬反射層33 的反射率受到影響,藉此提高發光元件的發光效率。再者,利 201145561 用父互隹且之夕層膜結構搭配金屬反射層形成一全方向性之 反射鏡’因此還有利於發光元件之結構設計。 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定 本發^,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍 内’當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之賴範圍當視後 附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 圖1繪示為一種習知的發光元件的示意圖。 圖2繪示為本發明實施例之一的發光元件的示意圖。 圖3繪示為本發明另一實施例的發光元件的示意圖。 圖4繪示為本發明再一實施例的發光元件的示意圖。 圖5繪示為本發明又一實施例的發光元件的示意圖。 【主要元件符號說明】 〜 30、50 :發光元件 31 :導電基板 312 ·背電極 33 :金屬反射層 34、 54 :黏結層 35、 55 :交互堆疊之多層膜結構 352 .導孔結構 37 :透明導電層 39 =半導體疊層 392 :第一導電型半導體層 394 :活性層 396 :第二導電型半導體層 41 :電極
Claims (1)
- 201145561 七、申請專利範圍: L —種發光元件,其包括: 一導電基板; 一金屬反射層,配置於該導電基板上; 一具有兩種或兩種以上折射率相異材質交互堆疊之多 層膜結構,配置於該金屬反射層上; 一透明導電層,配置於該交互堆疊之多層膜結構上; 以及 一半導體疊層,配置於該透明導電層上, •其中該交互堆疊之多層膜結構中至少具有一絕緣層,以及 一導孔結構貫穿該多層膜結構。 2. 如申請專利範圍第1項所述之發光元件,其中該交互 堆疊之多層膜結構之材質更包含IT〇、CTO、ΖηΟ、Ιη203、 Sn02、CuA1〇2、CuGa〇2、SrCu202、Ti02、Ta205、SiNx 或 Si02 之一種或一種以上之物質。 3. 如申請專利範圍第1項所述之發光元件,其中該交互 堆疊之多層膜結構為分散式布拉格反射結構。 # 4.如申請專利範圍第1項所述之發光元件,其中該金屬 反射層可以是一黏結層。 5‘如申請專利範圍第1項所述之發光元件,更包含一黏 結層位於該基板與該反射層之間。 6. 如申請專利範圍第5項所述之發光元件,其中該黏結 層可以是金屬或具導電粒子的有機黏著物質。 7. 如申請專利範圍第1項所述之光電元件,其中該導孔 結構使該金屬反射層電性連接於該透明導電層。 8’如申請專利範圍第丨項所述之航元件,其中該半導 201145561 體疊層包括: 一第一導電型半導體層,與該透明導電層相連; 一活性層,位於該第一導電型半導體層上,以及 一第一導電型半導體層,位於該活性層上。 9. 如申請翻範圍第8項所述之發光元件,其中該 層為多重量子井結構。 & 10. 如申請專利制第i項所叙發光料,其中該半導 ^疊層之材質選自氮化銦鎵彳、列材料或攝化㉟銦鎵系列材 ^ U·如申請專利範圍第1項所述之發光元件,其中該導電 基板之材質可以是氧化鋅、矽或金屬。 12. 如申請專利範圍第1項所述之發光元件,更包含-第 電極位於„亥半導體疊層上以及一第二電極位於該導電基板 之下表面。 13. 如申請專利範圍第丨項所述之發光元件其中該導孔 結構之材質可以是銀、金、鈦、、鉻等金屬及其合金。 14. 一種發光元件,其包括: • 一導電基板; 一金屬反射層,配置於該導電基板上; 具有兩種或兩種以上折射率相異材質交互堆疊之多 層膜結構,配置於該金屬反射層上; 一透明導電層,配置於該交互堆疊之多層膜結構上; 以及 一半導體疊層,配置於該透明導電層上, 其中孩交互堆疊之多層膜結構由導電性材質製成,且該材 質至少包含具有摻雜的丁丨〇2。 201145561 15. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,其中該交 互堆疊之多層膜結構之材質更包含IT〇、CT〇、Zn〇、In2〇3、 Sn〇2、CuAl〇2、CuGa〇2或SrCu2〇2之一種或一種以上之物質。 16. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,其中該交 互堆疊之多層膜結構為分散式布拉格反射結構。 17. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,其中該金 屬反射層可以是一黏結層。 18. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,更包含一 黏結層位於該基板與該反射層之間。 19. 如申請專利範圍第18項所述之發光元件其中該黏 結層的材質可以是金屬或具有導電粒子的有機黏著物質。 20. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,其中該半 導體疊層包括: 一第一導電型半導體層,與該透明導電層相連; 一活性層’位於該第一導電型半導體層上,以及 一第一導電型半導體層,位於該活性層上。 21. 如申請專利範圍第2〇項所述之發光元件,其中該活 # 性層為多重量子井結構。 22. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,其中該半 導體疊層之材質選自氮化鋁銦鎵系列材料或磷化鋁銦鎵系列 材料。 23. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,其中該導 電基板之材質可以是氧化鋅、矽或金屬。 24. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件更包含一 第一電極位於該半導體疊層上以及一第二電極位於該導電基 板之下表面。 12 201145561 25. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,更包含至 少一導孔結構貫穿該交互堆疊之多層膜結構,使該金屬反射層 與該透明導電層形成電性連接。 26. 如申請專利範圍第25項所述之發光元件,其中該導 孔結構之材質可以是金、銀、鈦、銘、鉻等金屬及其合金。 27. 如申請專利範圍第14項所述之發光元件,該具有摻 雜的Ti02之摻雜物係元素週期表中VB族元素。 八、圖式·13
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