TW201137137A - Coating system - Google Patents
Coating system Download PDFInfo
- Publication number
- TW201137137A TW201137137A TW099112620A TW99112620A TW201137137A TW 201137137 A TW201137137 A TW 201137137A TW 099112620 A TW099112620 A TW 099112620A TW 99112620 A TW99112620 A TW 99112620A TW 201137137 A TW201137137 A TW 201137137A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- coating
- solvent
- chamber
- coating system
- hole
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 14
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 13
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 13
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 7
- 238000013022 venting Methods 0.000 claims description 2
- 238000007592 spray painting technique Methods 0.000 abstract 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 210000000496 pancreas Anatomy 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Description
201137137 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 [_1] 本發明涉及鍍膜制程領域,尤其涉及一種鏟膜系統。 [先前技術] [0002]當前’許多工業產品表面都鑛有功能薄膜以改善產品表 面之各種性能。如在光學鏡片之表面鍍上一層抗反射膜 ’以降低鏡片表面之反射率,降低入射光通過鏡片之能 量損耗。又如在某些濾光元件表面鑛上一層濾光膜,可 Q 渡掉某一預定波段之光,製成各種各樣之遽光片。一般 地’鍵膜方法主要包括離子鑛膜法、射頻磁控濺鍍、真 空蒸發法、化學氣相沉積法等^ Ichiki,M.等人在2003 年5月發表於2003 Symposium on Design, Test, Integration and Packaging of MEMS/MOEMS之論文 《Thinfilmfonnation-afabricationonnon-planar surface by spray coating method》中介 紹了通過喷塗在非平面形成薄胰之方法e D [0003]先前鑛膜方式係將錄膜和喷漆在不同之裝置中進行之, 因此鑛膜完成後之待鍍物品要經過專門之運送裝置運送 至喷漆裝置中’這無疑增加了運送成本’同時,待鍍物 品在運送過程中也容易被污染,對待鍍物品之鍍膜良率 造成影響,同時加工步驟煩j負。 【發明内容】 [0004] 有鑒於此’有必要提供一種可提高鍍膜良率及提高鍍膜 速率之鍍膜系統。 [0005] 一種鍍骐系統,其包括一腔體、一鍍膜傘架及一旋轉驅 099112620 表單編號A0101 第5頁/共19頁 0992022320-0 201137137 動組件。所述鍵膜傘架用於收容複數個待錢膜之其板 所述旋轉驅動組件連接至所述鍍膜傘架,用於驅動所述 錢膜傘架在所述腔體内轉動。所述腔體包括—隔板 , 隔板將所述腔體分隔成相互間隔之鍍犋腔及嘴漆腔。所 述鍍骐系統進一步包括一升降驅動組件、一溶劑儲室及 —噴射裝置。所述升降驅動組件帶動旋轉驅動組件升降 ’以使所述鍍膜傘架在鍍膜腔及噴漆腔内升降》所述溶 劑儲室用於存放塗料溶劑。所述溶劑儲室與所述噴漆腔 相貫通,所述喷射裝置設置在所述溶劑儲室内,該嗔射 裝置並連接至所述喷漆腔,以將溶劑儲室内之塗料溶劑 喷射至待鍍膜之基板。 : : .· . .
[0006] 相對於先前技術,本發明之鍵膜;系統既可對待鍍膜之基 板進行蒸鍍又可對待鍍膜之基板喷射塗料’省去了由蒸 鍍制程到喷射塗料制程之間對待鍍膜之基板之運送動作 ’因此節省了鍍膜成本及提高了鍍膜效率’同時避免待 : :: :!... 鍍膜之基板由於運送而造成之污染,造而提高了鍍膜良 率。 : .:. 【實施方式】 [0007] 下面將結合附圖’對本發明提供之鍍膜系統作進—步之 詳細說明。 [0008] 請參閱圖1 ’所示為本發明第一實施方式之鍍膜系統1〇〇 之結構圖,所述鍍膜系統1〇〇包括一個腔體1〇、—離子發 射源2 0、一蒸發源3 0、一鐘膜傘架4 0、一旋轉驅動組件 50、一升降驅動組件60、一閘門結構70、一溶劑儲室8〇 及一噴射裝置90。 099112620 表單編號A0101 第6頁/共19頁 0992022320-0 201137137 [0009]所述腔體10為一中空箱體,其包括一殼體11、一隔板12 〇 。所述隔板12設置於所述殼體11内,以將所述殼體11内 部空間分隔為鍍媒腔13及喷漆腔14。所述隔板12之中心 部開設有一開口 121,該開口 121使所述鍍膜腔13及喷漆 腔14相貫通。所述殼體11包括一頂板11a、一與頂板11a 相對設置之底板lib、與所述頂板1 la及底板lib垂直設 置之第一側板11c及第二側板lid。所述第一侧板lie及 第二側板11 d相對設置。所述頂板11 a上開設有一圓孔 114。所述第一侧板lie上開設有一排氣孔11〇,該排氣 孑L110用於使所述喷漆腔14與外界相連通。所述第二側板 lid上開設有第一通孔112。 [0010] 所述離子發射源20及所述蒸發源3〇均收容在所述鍍膜腔 13内並固定在所述鍍膜腔13之底板Ub之内側。所述蒸發 源30與所述離子發射源20相鄰設置,該蒸發源3〇用於使 所述離子發射源20發射之靶材加熱至蒸氣狀態。本實施 方式中,所述靶材為Si〇2。 〇 [0011] 所述鑛膜傘架40在升降驅動級件⑽之驅動了可升降地設 置在殼體11並在所述旋轉驅動組件5Q之驅動下實現轉動 。所述鑛膜傘架4G最大端之直徑與所述隔板12上之開口 121之直徑相同或者略小於所述隔板12之開口 121之直徑 。該鍵膜㈣40具有魏_雜41,每健膜孔㈣ 放置有待鑛膜之基板44。所述待鑛膜之基板44可為鏡 片金屬基板等’本實施方式中,所述待鍵膜之基板 為U戶斤述待錄膜之基板44欲鍵膜之表面朝向所述離 子發射源2 0及所述蒸發源3 〇。 099112620 表單編號删1 ^^191 0„-0 201137137 [0012] 所述旋轉驅動組件50為一致動器。 包括一主體部502及一可相對主體 。所述轉軸504穿設於所述頂板Η 所述旋轉驅動組件5〇 部502轉動之轉軸504 &上之圓孔114,且該 轉轴504之-端固定連接至所述㈣傘㈣,另—端可轉 動地連接至所述主體部5〇2並可在所述主體部5Q2之驅動 下旋轉。所述轉軸504轉動時帶動錢膜傘架4q在腔體_ 旋轉。 [0013] 所述升降驅動組件60包括一固定桿62、一轉動桿μ、一 套環66及第-馬達68。所述固定桿咖定在所述殼體n 之頂板11a之外側。所述轉動桿64為一中空結構,所述轉 動桿64設有外螺紋。所述轉動桿64之—端_於所述固 定桿62,且另一端可轉動地連接至第一馬達68,並在第 一馬達68之帶動下轉動。所述套環66設有與所述轉動桿 64之外螺紋匹配之内螺紋。所述套環66套設在所述轉動 才干64上且套環6 6之内螺紋與所述轉動桿64之外螺紋相嚙 合。所述套環66通過一連接桿69連接至所述旋轉驅動組 . . .... ':·: 件50之主體部502。因此,可通過第一馬達68帶動轉動桿 64轉動以使套環66沿著所述轉動桿64做升降運動,從而 使與所述旋轉驅動組件50相連接之所述鍍膜傘架4〇可在 鍍膜腔13及噴漆腔14内上下移動。 [0014] 所述閘門結構70包括兩個閥門71、兩個第二馬達72。所 述兩個第二馬達7 2分別設置在所述隔板12上並分別與所 述閥門71連接從而使所述閥門71可翻轉地設置在所述隔 板12上。所述兩個閥門71上分別設有半圓形通孔。當該 兩個閥門71閉合時,所述兩個半圓形通孔形成一第二通 099112620 表單編號A0101 第8頁/共19頁 0992022320-0 201137137 孔7ΐ〇。所述旋轉驅動組件50之轉轴504可穿過在所述第 ;通孔710内轉動。所述兩個閥門71分別可轉動地連接至 第二馬達72上’並可在第二馬達72之帶動下相對隔板12 翻轉β封閉或者開啟所述隔板上之開口 121。 [0015] Ο [0016] 所述溶劑儲室8〇設置在所述殼體11之第二侧板lld—側, 真對應所述第二側板lid之第一通孔112位置設有第三通 孔81 〇。所述溶劑儲室80還開設有一注料口 820,其用於 往所述溶劑儲室8〇内注入塗料溶劑85,本實施方式中, 所述塗料溶劑8 5為樹醋。 所述噴射裝置90包括一噴嘴91及一導管92。所述噴嘴91 收容在所述第一通孔112及第三通孔810内,且該喷嘴91 玉對所述喷漆腔14。所述導管92之一端連接至噴嘴μ, 另〆端插入至溶劑儲室80内,以將溶劑儲室8〇内之塗料 溶齊I丨85導至喷嘴91對待鐘膜之基板44進行噴射塗料溶劑 85 ° Q [0017] 請一併參閱圖‘2,鍍骐時,所述第二馬達72旋轉,打開閥 ,通過排氣孔110抽取腔體10之空氣,以使喷漆腔 14及鍍膜腔13處於真空狀態。隨後,第二馬達72旋轉’ 閥門71關閉。所述離子發射源2 0發射無材,蒸發源3〇加 熱所述發射之托材至蒸汽狀態,同時所述旋轉驅動組件 50旋轉所述鍍膜傘架40,以使鍍膜傘架40在所述鍍膜腔 13内旋轉,以使所述複數個鍍膜孔41内放置之所述待鍍 膜之基板44形成一層均勻之增透膜。請一併參閲圖2與圖 3,然後,通過注料口 820往所述溶劑儲室8〇内注入塗料 溶劑85。隨後,所述第二馬達72旋轉,打開閥門7丨,所 099112620 0992022320-0 表單編號A0101 第9頁/共19頁 201137137 述升降驅動組件6〇工作,以使所述鍍膜傘架4〇上升至所 述噴漆腔14内。隨後,打開排氣孔11〇,開啟所述喷射裝 置90,同時驅動元件5驅動所述鍍膜傘架4〇在所述喷漆腔 14内旋轉,通過喷嘴91向鍍膜傘架4〇内之待鍍膜之基板 44噴射所述塗料溶劑85,以使所述複數個鍍膜孔41内放 置之所述待鍛膜之基板44形成一層均勻之防水膜。 [0018] [0019] [0020] 099112620 明參閱圖3,為本發明第二實施方式之鍍膜系統2〇〇,本 實施方式之鍍膜系統200與第-實施方式之鍍膜系統1〇〇 大體相同’其差異主要在於:所述升降驅動組件?5為一 '又缸,其包括一第一主體部750及一伸縮桿752。所述伸 縮桿752之一端可伸縮地連接至所述第—主艎部75〇 ,所 述伸縮桿752之另一端連接至旋轉驅動組件5〇之主體部 502。且該升降雜動組件75之第一主體部75〇固定在一高 度高於腔體U)之固定板77上。所述升降堪動組件75之伸 縮桿752之伸縮帶動所述旋轉驅動組件5〇升降從而帶動 所述鍍膜傘架40在所述鍍膜腔及喷漆腔14内升降。 本發明之賴系紐可輯_魏板進行蒸鍵又可對 待艘膜之基㈣射塗料,省去了由蒸㈣㈣喷射塗料 制程之間對待賴之基板之運送動作,因此節省了錄膜 成本及提高了鍍膜效率,同時避免待賴之基板由於運 送而造成之污染,進而提高了鍍膜良率。 綜上所述’本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提 出專利中請。惟’以上所述者僅為本發明之較佳實施方 式’自不能以此限制本案之中請專利範圍。舉凡熟悉本 案技藝之人域依錢明之㈣所作之等效修飾或變化 表單編號_1第!。頁/共19頁 09„0 201137137 ' [0021] ,皆應涵蓋於以下申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 圖1係本發明第一實施方式之鍍膜系統之示意圖; [0022] 圖2係圖1中之鍍膜系統之使用狀態示意圖; [0023] 圖3係本發明第二實施方式之鍍膜系統之示意圖。 [0024] 【主要元件符號說明】 鍍膜系統:100、200 〇 [0025] 腔體:10 [0026] 離子發射源:20 [0027] 蒸發源:30 [0028] 鍍膜傘架:40 [0029] 旋轉驅動組件:50 [0030] 升降驅動組件:60、75 〇 [0031] 閘門結構:70 [0032] 溶劑儲室:80 [0033] 喷射裝置:90 [0034] 殼體:11 [0035] 隔板:12 [0036] 鍍膜腔:13 [0037] 喷漆腔:14 099112620 表單編號Α0101 第11頁/共19頁 0992022320-0 201137137 [0038] 頂板:11a [0039] 底板:lib [0040] 第一侧板:11 c [0041] 第二側板:lid [0042] 圓孔:114 [0043] 排氣孔:110 [0044] 第一通孔:112 [0045] 鍍膜孔:41 [0046] 待鍍膜之基板:44 [0047] 主體部:502 [0048] 轉軸:504 [0049] 固定桿:6 2 [0050] 轉動桿:64 [0051] 套環:66 [0052] 第一馬達:68 [0053] 連接桿:69 [0054] 閥門:71 [0055] 第二馬達:72 [0056] 固定板:7 7 099112620 表單編號A0101 第12頁/共19頁 0992022320-0 201137137 [0057] [0058] [0059] [0060] [0061] [0062] [0063] ❹ [0064] [0065] 第二通孔:710 第三通孔:810 喷嘴:91 導管:92 注料口 : 820 塗料溶劑:85 開口 : 121 第一主體部:750 伸縮桿:752 ❹ 099112620 表單編號A0101 第13頁/共19頁 0992022320-0
Claims (1)
- 201137137 七、申請專利範圍: 1 . 一種鍍膜系統,其包括一腔體、一鍍膜傘架及一旋轉驅動 組件,所述鍍膜傘架用於收容複數個待鍍膜之基板,所述 旋轉驅動組件連接至所述鍍膜傘架,用於驅動所述鍍膜傘 架在所述腔體内轉動,其改進在於:所述腔體包括一隔板 ,該隔板將所述腔體分隔成相互間隔之鍍膜腔及喷漆腔, 所述鍍膜系統進一步包括一升降驅動組件、一溶劑儲室及 一喷射裝置,所述升降驅動組件帶動旋轉驅動組件升降, 以使所述鍍膜傘架在鍍膜腔及喷漆腔内升降,所述溶劑儲 室用於存放塗料溶劑,所述溶劑儲室與所述喷漆腔相貫通 ,所述喷射裝置設置在所述溶劑儲室内,該喷射裝置並連 接至所述喷漆腔,以將溶劑儲室内之塗料溶劑喷射至待鍍 膜之基板。 2 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統,其中:所述隔板 之中心部開設有一開口,該開口使所述鍍膜腔及噴漆腔相 貫通。 3 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統,其中:所述殼體 包括一頂板,所述升降驅動組件包括一固定桿、一轉動桿 、一套環及第一馬達,所述固定桿固定在所述殼體之頂板 之外侧,所述轉動桿為一中空結構,所述轉動桿設有外螺 紋,所述轉動桿之一端套設於所述固定桿,且另一端轉動 地連接至第一馬達,並在第一馬達之帶動下轉動,所述套 環設有與所述轉動桿之外螺紋匹配之内螺紋,所述套環套 設在所述轉動桿上且套環之内螺紋與所述轉動桿之外螺紋 相嚙合,所述套環通過一連接桿連接至所述旋轉驅動組件 099112620 表單編號A0101 第14頁/共19頁 0992022320-0 / 201137137 之主體部。 4 •如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統,其中:所述殼體 還包括一與頂板相對設置之底板、均與所述頂板及底板垂 . 直設置之第一側板及第二側板,所述第一侧板及第二側板 相對設置,所述第一側板開設有一排氣孔,該進/排氣孔 用於使所述喷漆腔體與外界相連通。 5 .如申請專利範圍第4項所述之鍍膜系統,其中:所述第二 側板上開設有第一通孔,所述溶劑儲室設置在所述殼體之 € 第二側板之外側上,且對應所述第二侧板之第一通孔位置 設有第三通孔,所述喷嘴收容在所述第一通孔及第三通孔 内。 6 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統,其中:所述溶劑 儲室開設有一注料口’該注料口用於往所述溶劑儲室内注 入塗料溶劑。 7 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統,其中:所述鍍膜 系統進一步包括一離子發射源及一蒸發源λ所述離子發射 〇 源及所述蒸發源均設置在所述腔體内,)所述蒸發源與所述 離子發射源相鄰設皇,該蒸發源用於使所述離子發射源發 射之靶材加熱至蒸氣狀態。 8 .如申請專利範圍第2項所述之鍍膜系統,其中:所述頂板 上開設有一圓孔,所述旋轉驅動組件包括一主體部及一可 相對主體部轉動之轉軸,所述轉軸穿設於所述頂板上之圓 孔,且該轉轴之一端固定連接至所述锻膜傘架,另一端轉 動地連接至所述主體部並在所述主體部之驅動下旋轉。 9 .如申請專利範圍第8項所述之錄膜系統,其中:所述鑛膜 系統進一步包括一閘門結構’該閘門結構包括兩個閥門、 099112620 0992022320-0 表單編號Α0101 第15頁/共19頁 201137137 ' 兩個第二馬達,所述兩個第二馬達分別設置在所述隔板上 分別與所述閥門連接,所述兩個閥門上分別設有半圓形通 孔,當該兩個閥門閉合時,兩個半圓形通孔形成一第二通 孔,所述致動器之轉軸在所述第二通孔内轉動,所述兩個 閥門分別轉動地連接至第二馬達上,並在第二馬達之帶動 下相對隔板翻轉以封閉或者開啟所述隔板上之開口。 10 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜系統,其中:所述喷射 裝置包括一喷嘴及一導管,所述喷嘴連接至所述噴漆腔, 所述導管之一端連接至喷嘴,另一端插入至溶劑儲室内, 以將溶劑儲室内之塗料溶劑引導至喷嘴,以對待鍍膜之基 板進行喷射塗料溶劑。 099112620 表單編號A0101 第16頁/共19頁 0992022320-0
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW099112620A TWI486469B (zh) | 2010-04-22 | 2010-04-22 | 鍍膜系統 |
| US12/880,164 US8475595B2 (en) | 2010-04-22 | 2010-09-13 | Coating system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW099112620A TWI486469B (zh) | 2010-04-22 | 2010-04-22 | 鍍膜系統 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201137137A true TW201137137A (en) | 2011-11-01 |
| TWI486469B TWI486469B (zh) | 2015-06-01 |
Family
ID=44814688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW099112620A TWI486469B (zh) | 2010-04-22 | 2010-04-22 | 鍍膜系統 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8475595B2 (zh) |
| TW (1) | TWI486469B (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI588112B (zh) * | 2011-11-30 | 2017-06-21 | 康寧公司 | 用於製造具光學及易於清潔之塗層的玻璃製品之製程 |
| CN110983304A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-10 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | 化学镀设备及表面处理系统 |
| US11180410B2 (en) | 2011-11-30 | 2021-11-23 | Corning Incorporated | Optical coating method, apparatus and product |
| US11208717B2 (en) | 2011-11-30 | 2021-12-28 | Corning Incorporated | Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10208381B2 (en) * | 2014-12-23 | 2019-02-19 | Rec Silicon Inc | Apparatus and method for managing a temperature profile using reflective energy in a thermal decomposition reactor |
| EP3366804B1 (en) * | 2017-02-22 | 2022-05-11 | Satisloh AG | Box coating apparatus for vacuum coating of substrates, in particular spectacle lenses |
| CN109560495B (zh) * | 2018-11-20 | 2019-12-17 | 浙江新跃电气有限公司 | 一种长寿命配电箱的制备方法 |
| CN110230034B (zh) * | 2019-05-20 | 2024-04-16 | 江苏光腾光学有限公司 | 光学镀膜多角度伞架及包含该伞架的镀膜机 |
| CN110860410A (zh) * | 2019-11-26 | 2020-03-06 | 葛攀 | 一种电梯轿厢生产用防腐处理装置 |
| CN111686970B (zh) * | 2020-06-28 | 2021-02-26 | 南通巨大机械制造有限公司 | 一种球体表面完整喷漆设备 |
| CN113019756B (zh) * | 2021-03-11 | 2021-11-23 | 胜大科技有限公司 | 一种ar眼镜生产用镜片表面保护膜贴敷设备 |
| CN117089811B (zh) * | 2023-10-17 | 2024-01-30 | 焕澄(上海)新材料科技发展有限公司 | 一种制备光学镀膜的装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4583488A (en) * | 1984-03-23 | 1986-04-22 | International Business Machines Corporation | Variable axis rotary drive vacuum deposition system |
| JP2913745B2 (ja) * | 1990-04-10 | 1999-06-28 | 松下電器産業株式会社 | 真空蒸着装置 |
| JP2555004B2 (ja) * | 1993-12-30 | 1996-11-20 | アネルバ株式会社 | スパッタリング装置 |
| DE19544584A1 (de) * | 1995-11-30 | 1997-06-05 | Leybold Ag | Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material |
| TWI261625B (en) * | 2002-03-21 | 2006-09-11 | Microcosm Technology Co Ltd | Successive type sputtering device |
| TWM264280U (en) * | 2004-09-17 | 2005-05-11 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Vacuum vapor deposition apparatus |
| TW200734474A (en) * | 2006-03-08 | 2007-09-16 | Univ Chienkuo Technology | Film-coating device with replaceable coating chamber |
-
2010
- 2010-04-22 TW TW099112620A patent/TWI486469B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-09-13 US US12/880,164 patent/US8475595B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI588112B (zh) * | 2011-11-30 | 2017-06-21 | 康寧公司 | 用於製造具光學及易於清潔之塗層的玻璃製品之製程 |
| US11180410B2 (en) | 2011-11-30 | 2021-11-23 | Corning Incorporated | Optical coating method, apparatus and product |
| US11208717B2 (en) | 2011-11-30 | 2021-12-28 | Corning Incorporated | Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings |
| CN110983304A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-10 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | 化学镀设备及表面处理系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US8475595B2 (en) | 2013-07-02 |
| US20110259266A1 (en) | 2011-10-27 |
| TWI486469B (zh) | 2015-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW201137137A (en) | Coating system | |
| CN102234762B (zh) | 镀膜系统 | |
| US9487857B2 (en) | Machine for painting and line for finishing small three-dimensional objects and related methods | |
| EP2948297B1 (en) | Machine for coating an optical article with a predetermined coating composition and method for using the machine | |
| CN104882395A (zh) | 基板处理装置及基板处理方法 | |
| CN109865628A (zh) | 一种木材防开裂设备 | |
| EP0183707B1 (fr) | Traitement de surface d'une piece pour ameliorer l'adherence d'un revetement depose ensuite sur la piece, par projection a chaud | |
| US10550474B1 (en) | Vapor deposition system | |
| CN118773552A (zh) | 一种镀膜装置 | |
| CN102002680B (zh) | 承载盘以及具有该承载盘的顶出治具 | |
| JP4860259B2 (ja) | レンズ塗布装置およびレンズ塗布方法 | |
| CN104561899B (zh) | 真空镀膜摄像头盖板及其制备方法 | |
| FR2501081A1 (fr) | Procede et dispositif de glacage de corps creux ceramiques | |
| JP2010067430A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| CN108165947B (zh) | 用于修补平面沉积膜层的自吸式磁控溅射系统及溅射方法 | |
| EP2365513B1 (fr) | Enveloppe de protection pour canon à ions, dispositif de dépôt de matériaux par évaporation sous vide comprenant une telle enveloppe de protection et procédé de dépôt de matériaux | |
| JP6574828B2 (ja) | 光学物品を所定の液体コーティング組成物でコーティングするための機械及び機械を使用するための方法 | |
| TWI245922B (en) | Coating method for wet-coated thin film using an anti-reflective compound | |
| JP4492775B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| CN211689209U (zh) | 一种纳米真空镀膜仪 | |
| CN213255361U (zh) | 一种高效的五金件表面喷漆设备 | |
| CN115709155B (zh) | 一种柜门烤漆设备 | |
| CN220406101U (zh) | 一种汽车刹车泵活塞热喷涂机构 | |
| CN216826845U (zh) | 一种消防设备生产用喷漆装置 | |
| CN213203175U (zh) | 一种防水镀膜装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |