TW201109759A - Objective lens and optical pickup comprising the objective lens - Google Patents

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201109759 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 =明侧於近場龍儲存用之物鏡，使用 光學拾波器，以及此光學拾波器之操作方法。 兄之 【先前技術】 今日資訊科技已面臨日增的資料量，由於更複 體應用之故。因而亟需有高度儲存容量之可移式資料=】 置’例如供南解像度電影或視訊遊樂器。遠從資訊^ 起，即以磁力儲存裳置受寵，而迄是光學儲存媒體 = (微型光碟）、DVD (數位多樣化光碟）或BD (藍 主宰可移式資料儲存媒體市場。 ’、 光學資料儲存—般受到讀寫系_光學解像度的限制。 提高光學解像度的率直方法，涉及加寬聚焦光束和開= 度，即數值孔徑NA，代價是透鏡複雜性。其他措施有窄化 光學儲存媒體的可容許傾斜邊緣，或減少掃描雷射進入 或接近紫外綠圍之波長。在光學資料儲存系助減少声斑 尺寸之不同措施’是使用具有高數值孔彳i (NA>1)之& 光圈。此高數值孔徑-般係借助固態浸沒透鏡（ 雖然CD、DVD、BD等習知系統，是以光學遠場形態作^， 如傳統光圈所述，惟前述新系統是以光學近場形態 了 近場光圈所述。對習知线而言，作業距離（即^學^ 體的表面與讀寫磁頭，通常指物鏡的第—光學表面間之空氣 間隙）’是在100 μηα之比例尺。相反地，使用近場光圈 統，需要很小的作業距離或空氣間隙，比例尺為5〇 nm。纪 錄和/或閱讀用的光學儲存系統，使用近場光圈 w°〇 2005/104109 A卜儲存媒體表面與物鏡透鏡表面間之低作業 距離’疋近場科技主要挑戰之—。小作業距離需對相關光^ 儲存媒體（例如碟片）之斜度和垂直偏差限度，設定嚴格 格。即使碟片規格只容許垂直逸出值，比現時藍光碟小 倍’以20 μιη取代1〇〇 μιη ’光學拾波器的讀寫磁頭仍然難以 201109759 片表面，閉合焦點環路’而無磁頭與碟片接觸，或磁 5貝砰製。 率直的措施是從斜度和偏差通常比儲存媒體外區為小的 ’開始讀寫作業。惟對近場光學儲存緖*言，需到 外區，而在大約5〇 11111的上述低作業距離，無 遍U·259897號揭示—種絲拾波器，能夠記錄和 度和低密度光學記錄媒體二者。拾波11有低密度媒 =之第-物鏡，把準直光收斂’糾遮掉通過第—物鏡之 ;和絲元件’㈣二物鏡和固態浸沒透鏡組成，供 尚f度媒體用。就低密度媒體而言，磁頭以滑器推近光屏。 對高密度媒體，磁頭則接近記錄媒體。 。 US 2008/0198728揭示一種光碟磁碟機，包括物鏡、固離 ί沒透鏡，和孔徑元件，可集光學記錄媒體反射的一部份i 束，相當於物鏡和固態浸沒透鏡的有效孔徑數小於丨。發生 速度電路按照制元制得域水準，把_沒 記錄媒體的速度降低。驅動器電路按照發生速度 出，驅動物鏡和固態浸沒透鏡。如此一來，確保固態浸沒透 鏡不會接觸到光學記錄媒體。 “ US 2008/0089208揭示一種近場光學掃描裝置，適於把透 鏡從相對於光學記錄媒體的遠方位置帶到近場位置。為此使 用孔彳空曈孔形象（表示固態浸沒透鏡和光學記 的間隙大小）之形象處理。孔徑瞳孔形象之形象分析表= 衍生，空氣間隙距離在微米範圍内的趨向程序之控制訊號。如 此可得快速、有效率、準確且可靠之趨向程序。 〜 【發明内容】 本發明之目的，在於提供一種物鏡，容許安全且快速趨 向光學儲存媒體的表面。本發明又一目的，在於擬議一種光 學拾波器，包括此等物鏡，以及此光學拾波器之作業方法， 該方法係就趨向程序加以改進。 201109759 上述目的係由申請專利範圍獨立項之標的達成。本發明 有益之具體例’則為申請專利範圍附屬項之目的。 本發明提供之物鏡，包括固態浸沒透鏡和多隹透鏡，二 者設置在辆光轴上。上述多焦'透鏡包括巾央區和包圍中央 區之周邊區。周邊區適於構成辆模態狀光學系統。多焦 透鏡之中央區連關態浸沒透鏡，構成近場模_之光學:系、 統。固態浸沒透鏡和多焦透鏡適於和諧運動。把多焦透鏡的 中央區和m態浸沒系統，組合於光學祕，即可提&在中央 區和周邊區有不同^^性能之物鏡。如此可使二區的光 能適應不同的光學記錄媒體。 多焦透鏡的巾央區和@態浸沒透鏡，最好構成近場光學 糸統。此近場光學系統宜有大於一之數值孔徑。又宜提供一 種多焦透鏡，其周邊區設計成可在光學遠場作業 焦距為短。由於固態浸沒透鏡-般為近場 ，二貝枓儲存所需，此項配置確保物鏡不必額外修改， ϊ寫近場儲存舰。同時，讀寫遠繼存賴之要件較不麗 格，對此等光學記錄媒體，只用周邊區已夠。 多焦透鏡包括二獨區，提料同焦距。因此， ^焦透鏡於不同目的。多焦透鏡的巾央區連㈣ ^ f於ίϋ近場作f ’而多焦透鏡的周邊區用於遠場作業。合 學儲存媒體表面時，宜實施二步驟過程，ί實I 物鏡在遠場和近場二者均可用。 又提供之多焦透鏡宜有環形孔徑，設置 央區和周邊區之間。該環形孔徑可省略雜散先在。九，、透鏡的中 周邊區的焦距最好適應遠場模態在50_250 距離，而多焦透鏡中央區的焦距，適。 在數十或數百师範圍内之心在距= 向包括上述物鏡的讀寫磁頭，而無磁頭破裂之高度危 本發明光學拾波㈣為遠場和近場模_作而設計。該 6 201109759 光學拾波器包括本發明物鏡。 對物鏡所述之類似或媲美優點，同樣適用於光學拾波 器。 最好是訊號光束之第一部份導入第一分析光程，而訊號 光束之第二部份導入第二分析光程，其中第一分析光程是為 焦點控制而設。在此情況下，光學拾波器宜包括極化光束分 離器和未極化光束分離器，係設置在訊號射束之光程内。訊 號光束利用極化光束分離器，耦合於第一分析光程，並利用 非極化光束分離器，耦合於第二分析光程。第一分析光程最 好包括像散透鏡。 上述光學拾波器宜可以遠場模態和近場模態作業，而以 遠場模態作業時，配置於第一分析光程内之像散透鏡宜容許 像散焦點控制。 按照有益的變化例，透過固態浸沒透鏡和多焦透鏡中央 區的訊號光束第一部份，耦合於第一分析光程，而透過多^ 透鏡周邊區的訊號光束第二部份，耦合於第二分析光程，其 中第二分析光程是提供給焦點控制。在此情況下，光學拾波 器宜包括極化光束分裂器和非極化光束分裂器，係設置在訊 號光束之光程内，其中已通過固態浸沒透鏡和多焦透鏡中央 區之訊號光束第一部份，借助極化光束分離器，耦合於第一 分析光程内。已通過多焦透鏡周邊區的訊號光束第二部份， 利用非極化光束分離器，耦合於第二分析光程。四分之一波 板設置在訊號光束第一部份的光程内，而像散透鏡則配置在 第二分析光程内。四分之一波板宜配置在多焦透鏡的表面， 或固態浸沒透鏡的表面。 借助上述光學拾波器，只有一部份訊號光束通過四分之 一波板。因此，只有通過上述四分之一波板的該部份訊號光 束，顯示其極化，是垂直於讀出資料所用光束之極化。因 此，通過四分之一波板的該部份訊號光束，耦合於第一分析 光程，而不通過四分之-波板的該部份喊光束，耦合於第 201109759 離==於二 近場模態之作業。 予反益以退％模態和 ，供本發明方法，可讓光學拾波器以遠場和近 ?。该光學拾波器包括本發鳴鏡。此方法包括步驟為‘二 趨 儲存媒體表面，達成該物鏡與光學儲存媒 離第至少大: ^光學系統，利用焦點控制加以控疋制。該方 ::場物：向離^媒體之表面’—^^ 學儲存媒體1作業 k步驟過程，趨向光 c體：表面。由於光學儲存媒體表面和物鏡間之距 =裂之虞大為降低。蓋因事實上，遠場作業=於： 如轉動光碟垂直逸出的典型數值。 、 物鏡趨向近場作業距離之步驟，宜藉減少 ，值為之。於遠場作業之際，測定儲存媒體 ^或垂直逸出等重大參數。該參數對遠場作姊近場作業都 有效。唯一不同的是作業距離的偏差值。此偏差大致是多焦 透鏡周邊區焦距與近場距離間之差異所致。 又一優點是提供光學拾波器之作業方法，包括步驟為： 把訊號光束第一部份麵合於第一分析光程，第一分 析光程是為焦點控制而設；和 程第刀 一把訊號光束第二部份粞合於第二分析光程； 其中光學儲存媒體趨向遠場作業距離之步驟，是使第一 析光程，利用焦點控制進行。 # 77 1此目的’拾波器宜包含極化光束分離器和非極化光束 分離器L係設置在訊號光束之光程内。訊號光束借助極化光 束分離器，耦合於包括像散透鏡之第一分析光程，並借助非 201109759 巧化光束分離H ’輕合於第二分析絲。光 遠場作業距離之步驟，係使用配置之& 靠控制作業距離。 彳㈣又决速又可 ㈣是，Ϊ在遠場作業之際’使用第—分析光程來 控制作業雜，而在近場作業之際，使用第 ° it 用第一分析先程來檢復資料。 另外，光學拾波器作業方法包含步驟為： 笛够把巧固態紐透鏡和多焦透鏡中央區的訊號光束 第一部份，耦合於第一分析光程；和 二把通過多焦透鏡周邊區的訊號光束第二部份，耦合 ^第^77析光程，第二分析光程係為魅控制而設； _、中光干儲存媒體表面趨向遠場作業距離之步驟係使用第 二分析光程，藉焦點控制進行。 為]^目的，拾波器最好包含極化光束分離器和非極化光 为離器，係設置在訊號光束之光程内。通過固態浸沒透鏡 ^多焦透鏡巾央區軌號光束第-部份，借祕化光束分離 輕合於第-分析光程。通過多紐鏡周邊區的訊號光束 第一部份，則利用非極化光束分離器，耦合於包括像散透鏡 ^第二分析光程内。光學儲存媒體表面趨向遠場作業距離之 二驟’係使用第二分析光程所包括之像散透鏡，藉像散焦點 ^制為之。在遠場作業之際和近場作業之際，第二分析光程 且用來控制作業距離，而第二分析絲只檢復資料。 按照上述方法，提供作業距離控制和資料檢復間之功能 性分離。當實施光學拾波器控制時，此舉可以簡化。 【實施方式】 為更加明瞭本發明起見，參照附圖詳述如下。須知本發 ，不限於具體例，而特定之特點可權宜組合和/或修飾，不 运本發明在所附申請專利範圍内所界定。 201109759 ^ 1和2_圖表示本發明物鏡2第—具體例之縱向斷面 圖。第1圖表示物鏡2以遠場模態作業，而第2圖表示以近 場模」態作業的情況。物鏡2包括_浸沒透鏡4和多焦透鏡 者設置在共同光軸A±。多焦透鏡6包括中央區8和 ff區1〇 ’其中周邊區1〇包圍中央區8。物鏡2能夠以遠場 以及近場模態作業。為達成此舉，周邊區1()構成可供以 遠场模態作業之光m中央區8連卵態浸沒透鏡4、構 成可供以近频態作f的光學系統。後者具有高數值孔徑， 即NAM。環形孔徑12設置在中央區8和周邊區丨 以防發生雜散光。 物鏡2 X包括環圈14，有多焦透鏡6和底部16間隔離 讀的侧。_浸沒透鏡4固定赴述底部1δ，此最好由 ^態=沒透鏡4的同樣材料製成。當然，固態浸沒透鏡4同 ，可直接附設於多紐鏡6。另外，_浸沒透鏡4和多焦 透鏡6是完全分開的光學元件。多焦透鏡6之中央區8焦^ ^周邊區10焦距的選擇不同。界定遠場作業距離DF的遠場 焦點18，係周邊區1G的焦距界定^由中央區8和固態浸沒 透鏡4構成的光料統’有近場焦點2()，界定近場作g NF。遠場作業距離DF錢近場作業距離仰，是在光^儲存 媒體22的表面21和面朝光學儲存媒體22上面表面21的底 ^16表面之間測量。舉例而言，遠場作業距離DF係在50-範圍，而近場作業距離NF是在25_50nm範圍。遠場 =業距離DF等於至少大約多焦透鏡6的周邊區1〇焦距。 光學儲存媒體22是在包括物鏡2的拾波器下方轉動 古、作業距離DF設定於典型上比光學儲存媒體22的垂 傾斜為大之數值，以防磁頭破 =媒體22的表面21之間相碰。以辆而言，由於光= SXi學ίΐίΐ22會周期性垂直逸出。又，遠場作業和 祕業’垂直逸出相同。由於此項事實，物鏡2之趨向光 201109759 學儲存媒體22的表面2卜係按二步驟過程為之，詳後。 豐方供含有本個物鏡2的光學拾波器24作 業方法。帛3和4圖分別表示拾波器24例。該光 24可 =場模態和近場模態作業。X包括活動組件％ ϋίΪΓί鏡2 ’和四分之—波板28。活動組件26可在垂 (即H業距離沉和近場作業距離NF)可以調節?舉^ 而言在ί波器24，是以遠場模態表示。 Λ、ί =中’活動組件26趨向光學儲存媒體 場作業距離DF。隨後按照該方法又一 步驟’利用活動組件26趨向光學儲存媒體22 2卜 到近場作業雜NF，輸柄健_ DF為小。以遠場^ 子，體22的垂直逸出。為追縱光學儲 ίϊί 得參數，可應用於遠場作業以及近 场作業。因此，趨向光學儲存媒體22的表面2卜到達近 作業距離NF時，只要減少遠場作業距離现預定值，即可趨 從遠場作業距離^ (大約為多焦透鏡6 周邊區10之焦距）與近場作業距離NF間之差異可知。 ^ 3圖所示光學拾波器24包括雷射二極體％ 辭直儀34加以準直^雷射光束料過Ϊ 極化光束为離器36 ’把該雷射光束32之 於反饋控制雷射功率狀功率監驗單位38嘴後，在 =把雷射光束32聚焦於光學儲存媒體22之前，通過極化 ^束分離H 4。。雷射林32與光學儲存舰22的 動結果，即調變訊號光束42。 、 42沿非極化光束分離器36和光學儲存媒體22 間的雷射光束32同樣光程行進訊號光束42通過活動组件 26 ’借助極化絲分離器4G，輕合於第—分析絲44，並借 助非極化光束分離器36，耦合於第二分析光程牝。 行進通過極化光束分離器4〇的雷射光束32，有在第一 201109759 方向定向之線形極化。雷射光束32的線形極化借助四分之一 波板28，轉變成環形極化。該環形極化雷射光束32的轉動 方向，因該雷射光束32在光學儲存媒體22的表面21上之反 射而改變。反射之雷射光束32稱為訊號光束42，在雷射光 束32的相反方向有環形極化。借助四分之一波板28，達成 訊號光束42具有線形極化，其定向是垂直於線形極化雷射光 束32反方向通過極化光束分離器40之各定向。因此，該部 份訊號光束42反射入第一分析光程44内。該第一分析光程 44包括像散透鏡48，容許借助四象限檢測器50，做像散焦 點控制。 一部份雷射光束32又反射在朝向光學儲存媒體22表面 21的固態浸沒透鏡4底側。當雷射光束32反射在上述表面 時，即發生解極化效應。因此，此反射光的極化方向，並不 正確配合極化光束分離器40之方向。故通過該極化光束分離 器40。在固態浸沒透鏡4底面發生的解極化效應量，隨著由 於近場效應，從固態浸沒透鏡4通過空氣間隙，耦合於光學 儲存媒體22表面的光量增加而遞減。因此，基於與反射光量 相關的訊號，提供間隙錯誤控制。該反射光借助非極化光束 分離器36，耦合於第二分析光程46。 總之，第3圖所示光學拾波器24，得以遠場模態以及近 場模態作業。在近場模態時，利用分析光程46所為g隙錯誤 控制，是用來控制近場作業距離DF，而在遠場模態時，利用 第一分析光程44所為像散焦點控制，保全遠場作業距離 DF。若光學拾波器24係以近場模態作業，所為資 復，係利用第-分析光程44進行。 巧之貝科檢 光學拾波器24又一具體例，如第4圖所示。與第3圖 較’四分之—波板28尺寸減小。涵蓋多焦透 鏡6之中央邛伤8，而在多焦透鏡6的周邊區1〇，雷射光 32和訊號絲42從料過四分之-波板28。因此 過多焦透鏡6周邊區10之雷射光束32的第一部份線形極 201109759 化。所以，不會因光學儲存媒體22表面21反射，而發生極 化方向改變。因此，該部份雷射光束32通過極化光束分離器 4〇 ’被非極化光束分離器36反射到第二分析光程46 ^ ^ 故，如果第4圖所示光學拾波器24以遠場模態作業，使用配 置於第二分析光程46的像散透鏡48，藉像散焦點控制，保 全遠場作業距離DF。 以近場模態作業時，通過多焦透鏡6中央區8的雷射光 束32第二部份，會因事實上通過四分之一波板28，而改變 才，化方向。因此，利用極化光束分離器4〇反射到第一分析光 程44。第4圖所示光學拾波器24，得以控制遠場作業距離 DF和β近場作業距離nf，單純借助第二分析光程仞即可。因 此，提供在第一分析光程44内資料檢復和第二分析光程46 内距離控制之間的功能性分開。 【圖式簡單說明】 第1圖表示本發明物鏡以遠場模態作業之縱向斷面圖； 第2圖表示第1圖物鏡呈近場模態； ^Ϊ 3圖表示包括第1和2圖物鏡的光學拾波器第一具體 例簡單示意圖； 八 4圖表示包括第1和2圖物鏡的光學拾波器第二且體 例簡早示意圖。 /、瓶 【主要元件符號說明】 2 物鏡 6 多焦透鏡 10 周邊區 14 環圈 18 遠場焦點 21 儲存媒體表面 24 光學拾波器 28 四分之一波板 32 雷射光束 21 24 28 32 4 固態浸沒透鏡 8 中央區 12 環形孔徑 16 底部 20 近場焦點 22 儲存媒體 26 活動組件 30 雷射二極體 34 準直儀 201109759 36 非極化光束分離器 38 功率監驗單位 40 極化光束分離器 42 訊號光束 44 第一分析光程 46 第二分析光程 48 像散透鏡 50 四象限檢測器 A 光軸 DF 遠場作業距離 NF 近場作業距離 14

Claims (1)

1. 201109759 七、申請專利範圍： ⑷包括固態浸沒透鏡（4)和多焦透鏡 參區置ί:、同光轴⑷上，其中多焦透鏡（6)包括中 (8)，和包圍中央區（8)之周邊區（1〇)，宜拉 tf) 於構成遠場模態用之光學系統:而多1透i ^用之m(8) (4)，構近場模 ί運動^ 態浸沒透鏡⑷和多焦透鏡（6)適於和 ^之中央& (8)和固態浸沒透鏡⑷構成近場光學系統 3.如φ請專利範圍第丨或2項之物 (賴，彳树綱U 之隹^範圍第1項之物鏡⑺，其中中央區⑻ 之”、、距比周邊區（1〇)焦距為短者。 (12Ί:ί2圍第1項之物鏡(2)，其中環形孔徑 g 多鏡（6)的中央區⑻朗邊區（10)之 辈，予t波器（24) ’可供以遠場模態和近場模態作 ί鏡ϋ 拾波器（24)包括申料娜圍第1項之 範圍第6項之物鏡（2)，其中訊號光束 /卩份引入第一分析光程（44)，而訊號光束 i 入第二分析光程（46)’其中第-分析光 程（44)係為焦點控制而設者。 、未沐8疗、申利範圍$ 6項之物鏡⑵，其中通過固體浸沒 ^多焦透鏡（6) +央區⑻的訊號光束（42)第 二;第—分析光程（44)，而通過多焦透鏡⑷周 ，二ϋ訊號光束（42)第二部份，耦合於第二分析光程 第一分析光程（46)係為焦點控制而設者。 201109759 9. 一種光學拾波器（2 =包括申請專利範圍第1項之 具有物鏡⑵^光學H以焦點控制趨向 物鏡（2)和光學儲存媒體之表面（21)，到達在該 離⑽），其中遠場作業距離（ΐΪ)等(3 業距 (6)周邊區（1〇)之焦距； ）專於至少大約多焦透鏡 ^ (22) ^ ‘乂 遠㈣業距離（DF)為短之近場作業距離 10. 如申請專利範圍第9項之 近場作業距離（NF)之步驟，似細/,、巾、趨向物鏡（2)至 ⑽）運動預定值為之f势⑽物鏡⑵從遠場作業距離 11. 如申請專利細第1G項之方 大約為多焦透鏡（6)周邊區Mn、^ f值寺於至； ⑽）間之差異者。 ⑽的紐與近場作業距離 12. 如申請專利範圍第9項之方法，其中又含下列步驟： -令訊就光束（42)之第—部份輕合於第—分 (44)，第-分析光程（44)係為焦點控制而設；刀析先程 ⑽.—令訊號光束（42)之第二部份柄合於第二分析光程 其中光學儲存媒體（22)之表面（21)趨向到近場作 業距離（DF)之步驟’係使用第—分析光程（44)，藉焦點控 制進行者。 13. 如申請專利範圍第12項之方法，其中於遠場操作之 際，使用第一分析光程控制遠場作業距離（DF)，而在近場操 作之際，使用第二分析光程控制近場作業距離（NF)，而使用 第一分析光程（44)檢復資料者。 14. 如申請專利範圍第9項之方法，其中又有如下步驟： 201109759 一令通過固態浸沒透鏡（4)和多焦透鏡（6)中央區 (8)之訊號光束（42)第一部份，耦合於第一分析光程 (44)； 一令通過多焦透鏡（6)周邊區（10)之訊號光束 (42)第二部份，耦合於第二分析光程（46)，第二分析光程 (46)係為焦點控制而設； 其中光學儲存媒體（22)的表面（21)趨向遠場作業 距離（DF)之步驟，係使用第二分析光程（46)，藉焦點控制 進行者。 15.如申請專利範圍第14項之方法，其中在遠場操作和在 近場操作之際，使用第二分析光程（46)控制作業距離 (DF)，而使用第一分析光程（44)於檢復資料者。 17