TW201032906A - Dispensing liquid containing material to patterned surfaces using a dispensing tube - Google Patents

Description

201032906 六、發明說明： 相關文件 據此主張由伊繆爾M.莎棚思、瑞查L華勒斯、詹姆 士 F.布雷特及班傑明F.玻利多於2〇〇9年1月6曰提出 申請之名為「使用毛細配給管配給含有液體之材料至具有 圖案的表面」的美國臨時申請案第61/2〇4 382號的優先權， 其以引用之方式藉此完全併入本文中。 【發明所屬之技術領域】 無 【先前技術】 特定處理方案及架構揭示於由伊繆爾M.莎棚思及詹 姆士 F.布雷特及代表美國之麻省理工學院於2〇〇8年2月 15日提出申請且亦主張2007年2月15曰提出申請之第 60/901，511號及2008年1月23曰申請之第61/011,933號的 兩個美國臨時申請案的優先權之名為「附具有圖案的表面 之太揚能電池」的專利合作條約申請案第 PCT/US2008/002058號中。PCT中請案及兩個美國臨時申請 案之全文以引用之方式藉此完全併入本文中。此等申請案 中所揭示之技術在本文中被統稱為自對準電池（Self Aligned Cell，SAC)技術。 需要能夠將含有液體之材料精確地處理至具有紋理的 工件上，諸如在上文引用之專利申請案中所描述。亦需要 5 201032906 能夠使用各種待處理之材料以相對高速率將此材料如此處 理至窄凹槽中或沿著由工件之紋理界定之窄路徑處理。 【發明内容】 液體、漿料及膏劑及含有液體之其他材料沈積至一工 件（諸如，一將用以形成一太陽能收集電池之石夕晶圓）之 一表面上之凹槽中或沿該工件之表面上之其他實體工件路 徑沈積。液體可在壓力下經由一精細配給毛細管配給至將 形成薄金屬化指狀元件之凹槽中，該精細配給毛細管藉由 遵循該工件表面上之構形/表面紋理而被機械式地導引並對 準。該配給毛細管機械式地在該凹槽中循跡而行。該配給 毛細管可足夠小以使得其可搁置於凹槽底部處，其中該凹 槽之側壁提供循跡約束。或者，該配給毛細管可大於該凹 槽且可擱在該凹槽之頂部邊緣上，從而仍達成機械式對 準。一循跡特徵部（諸如，一突起）可提供於該配給端處 以响合該凹槽。非圓形橫截面及其他循跡特徵部（諸如， 橢圓形、表面上模製之突起及凸起部）可增強一凹槽中之 循跡。該配給毛細管通常為可撓的。該可撓性適應在通常 垂直於工件路徑之伸長尺寸的工件之平面及垂直於彼平面 兩者中之循跡誤差，該等誤差係歸因於工件上之實體工件 路徑與管之配給端在其被允許沿一完全平坦無摩擦工件 订進時原本遵循之無約束路徑之間的差異。該等誤差係歸 因於機械加工實體工件路徑時的誤差、引導一相對運動器 件遵循工件路徑之數學表示時的誤差、製造配給管及其他 201032906 。代替使用一

處理。在行進開始及結束時加速及減速所花費的時間減 少。複數個晶圓可安置於一具有平頂之轉鼓之面上，且其 中該轉鼓連續地旋轉。該配給毛細管可平行於該轉鼓之軸 裝置時的誤差’以致其軌跡之模型不準確等 可撓管，一管由一樞軸支撐，該樞軸在垂直 橫貫，同時向内移動及向外移動以隨著橫貫一個別晶圓而 提供升高及下降。 將參看隨附圖式更佳地理解本文中所揭示之發明之此 Φ 等及其他目標及態樣。 【實施方式】 本文中所揭示之發明係關於將液體、漿料及膏劑及載 有液體之其他類似形式之材料塗覆至工件之表面上之凹槽 (或類似結構）中。該等發明尤其係關於在光電吸收劑上 形成薄金屬化元件，其一般被稱作如在上文引用之PCT申 請案第PCT/US2008/002058號中大體描述之指狀物。此塗 覆液體、漿料及膏劑等在本文中以及在上文引用之PCT申 7 201032906 請案中一般被稱作處理。根據本文中所揭示之發明，液體 在壓力下經由一精細配給毛細管以潛在地精確地控制之方 式配給並計量，該精細配給毛細管藉由遵循工件之表面上 之構形/表面紋理機械式地引導並對準。在一具體實例中， 工件為在其中具有凹槽以用於金屬化的石夕晶圓。 上文所引用之PCT申請案論述處理一工件，所稱處理 一工件，意謂塗覆通常與一活性、通常反應性處理步驟（諸 如，電鍍或蝕刻）相關聯之液體，使用者期望之該步驟應 發生在工件之特定區處。該工件具有紋理以使得液體可塗 覆於包含液體可達道路之網路之區的一部分中。液體之塗 覆至少部分地由紋理引導。液體保持拒絕流動至設計者意 欲處理步驟不發生之區中。該拒絕至少部分地歸因於表面 紋理而發生。此類處理之一實施例描述於用於將電極提供 至PV電池表面之PCT申請案中。本文中所揭示之技術主 要用於此處理應用。 本文中所揭示之發明可用於配給對於處理步驟而言為 活性、通常為反應性之材料，且亦用於可用於阻斷一後續 活性、反應性步驟之材料。因此，其一般被稱作配給技術。 所配給之材料可為銀墨，其具有與用於矽太陽能電池 之製造中且通常藉由網版印刷塗覆之材料之一般成份相同 的知·成份° 一尤其有利方法為僅配給較小量之此種墨以 更在工件之燒製之後僅產生一金屬薄層。雖然此晶種薄層 自身不足以載運由太陽能電池產生之電流，但其可接著藉 由（例如）銀之電鍍積聚。經電鍍之金屬趨向於限制於凹 201032906 槽且垂直地積聚’而不會較水平地展布。用於該晶種層之 銀墨之固體含量可比習知銀漿稀釋，因為僅需要一晶種層。 如參看圖1示意性地顯示’太陽能電池140具有一具 有紋理的表面142。如圖所示，用於光捕捉目的之凹槽126 跨電池表面自左至右延伸。母線144平行於凹槽126延伸。 金屬化指狀物146與母線144交又，且垂直於紋理凹槽126 延伸。本文中所揭示之發明適用於與將材料處理至具有紋 φ 理的工件之不同區域有關的許多應用，該具有紋理的工件 將用於形成此類太陽能電池。其尤其適用於將材料配給至 凹槽（或類似結構）中，該等凹槽將被金屬化以提供金屬 化指狀物146。 ® 2示意性地顯示工件24〇之放大部分，諸如，將成 為諸如14〇之太陽能電池之一部分的矽晶圓。具有紋理的 表面242 #由半球之㈣、重#部分而非如上文所論述及 圖1中所顯示之平行光捕捉凹槽而具有紋理。該工件適當 〇地由任何支撐件（諸如’平台、夾盤或其他裝置）（圖上未 示）支撐。在圖2Α中顯示諸如將用於金屬化指狀物146之 凹槽256 (不同於光捕捉凹槽）之一部分的放大視圖。 使配給毛細# 260相對於工件24〇中之凹槽256移動， 因為含有液體之材料係自該管配給。相對運動由示意性地 顯示之任何適合相對運動器件241提供，其以使得工件-。毛細f 260可視需要相對於彼此移動及旋轉之方式 如’經由所有六個自由度）經由卫件支撲件㈣至配 給毛細管26_M24G兩者。（可能使用少於所有六個自 9 201032906 由度，但所有六個自由度係能夠達成的。）在-通用配置 中，在毛細配給管與工件之間將存在兩個自由度之相對平 移運動及零或-個自由度之相對旋轉運動。通常相對運 動器件241具有相對於彼此移動之兩個部分241a及241b。 (如本文中所使用，術語移動意謂平移及/或旋轉，且如本 文中所使用之術語運動意謂平移運動及/或旋轉運動。）相 對運動驅動機構可組態有靜止工件（相對於地面）及相對 於靜止工件移動之毛細配給管支律裝置，或者靜止毛細配 給管支樓裝置（相對於地面）及相對於靜止毛細配給管支 撐裝置移動之工件’或兩種相對運動之組合，纟中毛細配 給管支撐裝置及工件兩者均相對於地面移動。雖然提及相 對運動器# 24G通常具有相對於彼此移動之兩個部分但 此等部分24la、241b中之每-者自身可為高度複雜的，且 由相對於彼此移動之許多部分構成。 配給毛細管260之機械式引導藉由至少兩個機構實 現，此兩者涉及與凹槽256之相互作用且此兩者通常促成 效應。將使用此具體實例來說明一般原理。 根據一引導機構’如圖2及圖2A所示，配給毛細管26〇 機械式地在凹槽中循跡而行，極像在韻及數位媒雜出現 之前普遍使用的錄音機中之留聲機唱針。在一些狀況下， 如圖2A所示，配給毛細管260足夠小以使得其擱置於凹槽 之底部258上，且如圖2A所示，凹槽之側壁259實現循跡。 該等凹槽可為各種形狀，包括半圓柱形，如圖17中顯示。 在其他狀況下，如圖3及圖3A所示，配給毛細管36〇 201032906 大於經處理凹槽356之尺寸， 361上，但仍達成機械式對準。 配給毛細管360 ’該圓形橫截面 之凹槽356之寬度。 且因此擱在凹槽之頂部邊緣 圖3顯示具有圓形橫截面之 之直徑大於正處理之晶圓中

因此，就此而論，配給毛細管經定大小以機械式地沿 由具有紋理之工件表面界定之路徑循跡而行。在適當定大 小之範圍之-端處，諸如圖2A所示，無額外循跡特徵部（如 下文界疋）之簡單圓柱體具有相對於凹槽寬度之足夠小的 直徑，以使得該管自身完全裝配於凹槽之寬度内。此管因 此經定大小以機械式地沿該路徑循跡而行^在一些狀況 下’此相對小之管可具有阻塞問題，但在一些狀況下，其 可操作而無阻塞，丨因此為適用的。阻塞是否為一問題： 要取決於經處理之材料之性質。若含有液體之材料亦具有 2子（諸如，銀粒子墨），則小直徑毛細管可呈現一挑戰。 右不存在粒子’則小直徑毛細配給管通常並非為對操作 挑戰。） /一在經如此定大小以機械式地循跡之範圍之另一端處為 直徑比凹槽寬度大若干倍（通常高達約1〇倍）之管，其亦 可視為經適當地定大小以機械式地沿路徑循跡而行。此較 大管可為-簡單圓柱體，如圖从所示。但可提供—額外循 跡特徵部，如下文更全面地描述。圖3A未按比例繪製，伸 :意謂表示說明該範圍之上端之情形，其為一管具有為待 處理之凹槽中之凹槽的寬度的約十倍的直徑。 因此，在圖2A及圖3A中顯示之管兩者經定大小並成 201032906 形以機械式地沿分別與該等管相關聯地顯示之凹槽循跡而 行，具有大於圖2A所示之直徑且小於圖3A所示之直徑的 直徑的所㈣（表示為凹槽《寬度之約十倍的管）亦如此， 如與凹槽之寬度相比較。 根據一第二引導機構’如參看圖4及圖15示意性地顯 示，配給毛細管260、156〇藉由所配給液體2M、Η"自 身之毛細作用進一步固持至凹槽，所配給液體2“、1564

橋接於配給管260、1560之配給端261、1561與工件24〇、 1540之間。 ' 雖然管與I件之相對運動可經控制以保持管之配給 261接近於凹槽（其為管遵循之所要路徑），但製造變化 機器準確度將使無約束配給管將遵循之路徑偏離工件中 諸如’凹槽)。管之可撓性實現橫向及垂直偏轉 域传管在凹槽中猶跡而行，即使不存在完全對準時亦. 此，如下文所形式化。 此參看圖16更全面地理解。設計者

件路徑1602，靈i况甘加 双字埋心- 丰漆Μ面 含有液體之材料，（例如）以> 平導體晶圓上涂Vr — λ

—金屬化凹槽。一實體工件路徑1604U 如’一凹槽）例如藉 _ ^ 地搢由蝕刻、雷射機械加工或下文更全f 地:述之其他技術建立於卫件表面上 工件路徑1604偏齡柿如 肝存在實爱 , 想數學工件路徑1602之誤差△。夢 例而言，凹槽製造技術將通常且有失直μ之誤差 定位準確度限制，且 八 真、比例誤差及其相 驅動機構上之® 類似地存在與工件於實體相對運鸯 置放相關聯的有限容差。 12 201032906 如參看圖2示意性地顯示之相對運動驅動機構241經 程式化或以其他方式組態並控制以遵循數學相對運動路徑 1606。數學相對運動路徑1606以考量配給毛細管之幾何形 狀、實體工件路徑、管為了反轉方向而進行之經致動旋轉、 在兩者之間的相對運動之速度等之意圖設計，以使得配給 毛細管260之配給端261將遵循數學無約束配給端路徑 1608，其完全匹配數學工件路徑16〇2 (例如，凹槽256之 ❹數學表示）。如本文中所使用，無約束意謂配給端261在准 許其接觸完全平坦且無摩擦工件且沿該完全平坦且無摩擦 工件移動（包括因預負載所致之撓曲，如以上所論述）之 情況下將行進之路徑。 然而’存在將使實體無約束配給端路徑16丨〇偏離數學 無約束配給端路徑1608 (如由圖16中之誤差△ 2所獲取） 的許多誤差源。舉例而言’配給管可為不完全直的，且相 對運動驅動系統將具有帶寬、馬達大小等之限制。 ⑩ 由於誤差與么2之累加效應，實體無約束配給端路 徑1610偏離實體工件路徑ι6〇4達誤差^。此誤差ε藉由 毛細配給管之可撓性來適應，從而允許配給管之配給端26 i 完全沿實體工件路徑1604循跡而行且遵循實艎工件路徑 1604。通常，誤差ε可以無約束配給端路徑161〇與實體工 件路徑1604之間的橫向偏離來表明，其通常垂直於實體工 件路徑之伸長尺寸且通常在其通常駐留之平面内。誤差ε 亦可以無約束配給端路徑1610與實體工件路徑1604之間 的垂直偏離（例如，歸因於工件之厚度變化）來表明。 13 201032906 ^細管之長度可根據將遭遇之最大誤差^來選擇。因 ,若最大誤差為100微米，則毛細管可相對短，僅幾毫 米長。然而，若最大誤差為一毫米，則具有至少1〇顏長 度之相對較長的毛細管將為較適當的。 一重要考慮Λ防止管在配給端處之角纟呈現為相對於 凹槽自身之過尚值’此係由於高角度將較易於引起管搁在 凹槽之邊緣上且自凹槽逃脫。為此，隨著最大預期誤差增 加管之長度應按比例增加。關於管末端相對於凹槽之給 疋最大角度，偏轉與長度之間的比例性適用於如懸臂一樣 撓曲的管或其藉以擱置之其他結構部件之狀況。該比例性 亦適用於允許在其支撐件處枢轉之直管之狀況。 提供對無約束配給端路徑1610與實體工件路徑16〇4 之間的未對準的所要容差所需之操作參數可藉由檢查凹槽 中之管之機械特性來估計。工件中之凹槽之側壁可在自極 淺至極陡峭（垂直於工件之平面）之寬範圍内變化。在毛 細S與凹槽分離之前可由凹槽施加於毛細管上之最大恢復 力將與如由管之預負載判定之管對工件施加之任何向下作 用力大致成比例。凹槽與毛細管之相對形狀將改變預負載 力與最大恢復力之間的比例常數。藉由假設凹槽之壁與工 件成45度且在凹槽與管之間不存在摩擦，可作出適用估 計。在此狀況下，最大恢復力大致等於任何預負載力。應 注意’此情形僅在管在垂直及水平方向上具有相同剛度之 情況下為成立的。 因此’配給毛細管在凹槽中之機械式循跡藉由使配給 201032906 毛細管以正預負載力壓入凹槽來輔助。進行此之任何適當 方式均視為在本文中所揭示之發明之範圍内。 一種方式為將管彈簧負載在凹槽上。彈簧負載可使用 配給毛細管260自身之彈性來實現。舉例而言，一適合配 給毛細管可由具有65微米之ID及90微米之OD及黏附至 一根不鏽鋼管之ID的5 mm之懸臂長度的聚醯亞胺管材製 成。該鋼管緊固於一支撐總成中且由其支撐。此配給毛細 〇 管以與水平面成通常30度之角度向下安置。彈簧預負載藉 由以下方式施加：放低配給毛細管直至其接觸工件且接著 再放低配給毛細管支撐總成1 mm，因此使延伸之配給毛細 管撓曲圖14 (尤其）示意性地顯示一撓曲毛細配給管 1460。凹槽通常為3〇微米至5〇微米寬，但更小及更大寬 度均為可能的。 圖10顯示一典型配置（針對下文論述之多管具體實 例）其具有錫定於支撐總成1065中之鋼管1063及自鋼管 ® 1〇63延伸之聚合配給管1060。亦有可能使用由諸如硼矽酸 鹽之玻璃製成之配給毛細管.一聚合配給管具有一高阻 尼，其與玻璃之阻尼相比係有利的。另一適合候選者為石 英毛細管，其具有5〇微米之ID及8〇微米之亦可使 用金屬，諸如不鏽鋼。視需要，可藉由塗佈一聚合物薄層 而將阻尼添加至此等結構。對於諸如玻璃或金屬之較高模 數材料之毛細管，該管將必須比聚合管長以便適應相同程 度之誤差ε。毛細管亦可經拉引以使得其具有較大直徑剖 面，該直徑剖面逐漸減少至較小直徑。舉例而言，硼矽玻 15 201032906 ::藉由此項技術中已知之方法以此方式拉引。使所配給， 料緊接在進入毛細配給管之前流經過濾器以避免管之阻 塞為有利的。過遽器應保留大於管之内徑之僅一分率的任 何粒子。舉例而言，當使用具有100微米ID之管時，過濾 器應保留大於10微米之粒子。 遵循上文關於恢復力與任何向下作用力《間的關係之 論述，若管為圓形的，則在管之垂直於工件之平面中及平 行於工件之平®中的剛度粗略地相m，管末端相對 於凹槽之最大未對準將大致等於管對工件之預負載距離，© 所稱預負載距離，意謂在預負載狀態（如與鬆弛、零預負 载狀況相比較）下工件與管之配給端之間的間隔之差。 雖然使用配給管之固有可撓性提供允許配給尖端沿凹 槽循跡而行之順應性為便利的，但其他方法為可能的。舉 例而言，參看圖28,不漏流體之樞轉球窩接頭2868、2869 可結合一或多個彈性彈簧元件288〇使用以提供所要順應 度，從而允許配給管2860沿凹槽2856循跡而行。此方法 瓦 〇 具有以下優點：關於一給定橫向偏移度，配給尖端之局部 軸與工件上之凹槽之轴之間的角度（在平面圖中）將比在 順應性來自管之可撓性之狀況下小。 以上效應可藉由使管在接近其支撐端處部分地捲曲來 大致估計，如圖29A及圖29B中。配給管2960已在接近其 支撐端處塑性地變形以形成大致橢圓形捲曲區域2969，其 特徵部在於在橫向方向上局部地減少之剛度。此情形具有 使彎曲集中於接近支撐端之局部化區域之效應，進而大致 16 201032906 估計樞軸之行為。其具有產生在垂直方向上具有比在水平 方向上大的剛度之配給管的另一效應，此情形可如本文其 他處所論述為有益的。 出於結合下文論述之建立循跡之原因，如圖18所示， 將特徵部1890模製至管1860上可為有益的。此特徵部可 由環氧樹脂或另一聚合物黏著劑製造，其形狀由安置管時 抵靠的聚矽氧橡膠模提供。 ❹ 參看圖19示意性地顯示之適用選項為使用能夠永久磁 化之材料之粒子填充此澆鑄特徵部1990。舉例而言，其可 為磁性氧化鐵或稀土磁體材料之粒子，諸如，鈦鐵硼粒子。 在模製之後，此材料可極化以使得南北軸垂直於配給管 1960之軸。此小型永久磁體可接著用以藉由在工件1940下 方^放鐵磁材料之板1991 (諸如，低碳鋼板）而對毛細配 給管提供向下作用力4此方式，甚至在無需對管⑽彈 簧預負載之情況下，仍可對管施加高向下作用力。當然， ©磁性預負載亦可添加至機械式彈簧預負载以增加管之循跡 能力。若僅存在磁性預負載，則配給管196〇將可能以一凹 曲度向工件194〇彎曲，與圖19所示之情形相反。 雖然在大多數圖（諸如，S 2、圖4及圖5)中將毛細 配給管顯示為以相對於待處理之表面成小角度安置，但管 之角度可廣泛地變化。-方面，其可幾乎平行於表面。另 一方面’其可自始至終垂直於表面。維持管垂直於表面具 有以：優點：可在無需相對於工件旋轉管之支樓端之情況 下執行雙向配給。 17 201032906 舉例而言，如參看圖20A至圖20D示意性地顯示，若 配給管2060之支撐端2063維持大致上垂直於工件2040之 平面（如圖所示，垂直），則該管可相對於工件之邊緣移動 (向右’如圖20A所示），以使得當其接觸工件2040時， 支撐端2063保持垂直於工件，但配給端2061撓曲遠離垂 直’從而呈現如圖20B所示之向其尖端彎曲之形狀。當該 管之配給端橫貫工件路徑凹槽2056之整個長度時，如圖 20C所示，其可移動超出工件2040之末端，且接著相對運 動之方向可反轉（向左，如圖所示毛細管2060再次向 工件移動’直至其再次接觸邊緣（與上文首先提及之邊緣 相對）且毛細管配給端再次撓曲為止，從而呈現相對於表

面之相同形狀的曲線，但具有相反正負號或方向，如圖2〇D 所示。 代替維持配給管之支撐端垂直於工件之表面，如參看 圖21A至圖21D示意性地顯示，亦有可能使配給毛細管216〇 之支撐端2163傾斜成相對於工件2U〇之表面成第一角 度，且接著在管與工件之相對運動（向右，如圖21B所示） 引起該管已橫貫工件2140之表面之整個長度且超出之後， 配給管2160之支撐端2163可經過垂直而傾斜成一相反 角，如圖21C所示，此時相對運動之方向反轉，且橫貫以 另一方向開S ’如® 21D所示。雖然顯*一簡單枢軸，但 可使用諸如四連桿之另一適合連桿組以使得配給尖端在 運動期間不在工件之平面下方較遠地移位^斜配給管之 支撐端2163疋否有利將取決於管之可撓性管與其移動環 18 201032906 境之間的摩擦、相對運動器件之複雜度等。 ❿ ❹ 配給毛細管與紋理中之凹槽之自對準及循跡的一優點 在於：配給毛細管驅動機構不需要預對準至凹槽，以使得 配給管與藉以配給材料之實體工件路徑完全對準地向前移 動，即使實體無約束配給端路徑1610不與實體工件路徑 1604如此完全對準時亦如此。亦即，在進行配給之機器中 無需機器視覺或丨他系統。此1外，τ適應凹槽之間隔或平 直度之小變化。-般而言，循跡及對準容差為不嚴格的。 雖然配給毛細管一旦在實體工件路徑凹槽内之後便將 保留在其中，但配給毛細管必須首先找到凹槽。實現此舉 之便利方式為提供一引入特徵部’如參看圖5α、圖5Β示 意性地顯示。此等特徵部自個別凹槽⑸之末端_出不 且可採取工件表面中之升高人字紋（—η )或楔 舐凹陷（Wedge-shapeddepressi〇n)的形式。此等特徵部在 -進程之開始時對準毛細配給管，但一旦毛細管已行進至 凹槽之直剖面中時，装yr Jg. /u. u- , 吁其不棱供恢復力。舉例而言， 不工件54G上之三角形引人特徵部娜。配給毛細管56〇將 =二角形引人特徵冑566之—壁掷置，且拖复至中心且接 2入凹# 556。此引入特徵部為—種形式之對準引導件 術語在本文中所使用），在下文將論述其中之至少一 於一般而言’-對準引導件辅助將配給毛細管設立 至凹槽内。 冑飞右其變侍移位時將其恢復 圖5B顯不一替代形式夕3丨Λ 管代$式之引入特徵部567，其由會聚至 19 201032906 待處理之凹槽556之兩個引入凹槽567a及567b構成。此引 入特徵部在紋理化製程未良好地適合於蝕刻延伸區域（諸 如，圖5Α中之566)之情況下可為有利的。配給管將由凹 槽567a或567b卡掣且側向推動使得其沿凹槽556循跡而 行。輻射式過渡區567r輔助輕輕地推動管遵循軌道567a或 567b至凹槽556中’藉此最小化管將在引入軌道與凹槽556 之接合處自凹槽突起的機會。為清楚起見，無光捕捉紋理 顯示於圖5B中。 用以增強毛細管於凹槽中之循跡的另一手段為使用不 為圓形之配給毛細管。在下文論述得自配給毛細管之非圓 形末端的若干循跡特徵部。舉例而言，如圖6示意性地顯 示’具有一大致橢圓形橫截面而使長轴垂直地配置的配給 毛細管660與具有相同橫截面面積之圓形管相比將較深地 裝配至凹槽656中，且將因此改良循跡。用以製造此大致 橢圓形橫截面之一方式為提供捲曲或壓扁之管。舉例而 言，一管可（諸如）藉由在兩個滾筒之間擠壓管（其使管 塑性地變形）而部分地壓平。接著，該管在壓平之區域内 切開’藉此建立兩個管部分，每一者具有一具有大致橢圓 形橫截面之末端。 如參看圖7示意性地顯示，亦有可能提供具有一圓形 橫截面之配給毛細管760，但其具有切割成一斜角之尖端 757,此情形亦實現凹槽中之較佳循跡。所得形狀將擁有比 四方切喷嘴尖之尖端，且較尖尖端將較容易在凹槽中循跡 而行。此外，可將尖端弄皺折以製造將仍較精確地循跡之 20 201032906 鹤嘴形尖端。 亦有可能提供具有在配給毛細管之底部處具有一突起 之橫截面的配給毛細管。該突起可用以藉由進一步阻止配 給毛細管跳出凹槽而增強循跡。 一種類型之循跡特徵部（如此術語在本文中所使用） 久犬起之形式，且可結合提供一正向作用力從而將配 給毛細管推入半導體表面中而運用及雙重利用上文所論述 φ之結構。-潦铸突起特徵部職' 179〇在上文提及且分別 顯示於圖18及圖17Φ,甘-τι 圃Α/中其可由磁性粒子填充。此澆鑄特 徵I5 1790亦可經疋大小並成形以機械式地在凹槽η%内 循跡而行’與上文剛剛論述之斜角或弄敵尖端幾乎一樣。 事實上’若將（例如）環氧樹脂（如上文所論述）之此洗 铸特徵。ρ模製至配給管1760、186〇之尖端上，則其可為適 合於確實嚙合凹槽1756之任何形狀及大小。舉例而言圖 18顯示配給管1 86G之底部（如圖所示）上的—大體圓形圓 φ柱體1890，其具有一修圓面1893。圖22顯示配給管2260 上之一類似地成形之特徵部229〇，但具有一平坦面2293。 一適用選項為使用耐磨粒子填充此澆鑄特徵部，諸 如，二氧化矽粒子或另一陶瓷粒子。以此方式該循跡特 徵部將不會由於長期使用而磨損。 如參看圖23所顯示，一循跡特徵部亦可藉由將小直徑 引線2390黏附至配給管2360之末端製成。該引線可為金 屬的、陶兗的或聚合的。舉例而言，25微米直徑之不鏽鋼 引線可使用環氧樹脂結合至丨〇〇微米外徑之聚醯亞胺管之 21 201032906 側面。該引線充當循跡特徵部，其具有卓越耐磨蝕性同時 與工件相接觸。 製造具有循跡特徵部之毛細管之另一手段為擠壓或引 伸具有適當橫截面之塑膠管《引伸為一尤其有利方法。選 定聚合物之桿機器加工成所要橫截面之放大型式。加熱桿 之末端且將其拉引至所要最終尺寸。

因此，一些合理循跡特徵部包括（但不限於）：管之配 給端處之模製凸塊或其他形狀；非圓橫截面配給端，諸如 橢圓形橫截面管或管配給端；斜角切割配給端尖端；鹤嘴 形尖端，及在配給端之底部處具有一突起之管。代替模製 塊“管可具有一整鱧凸塊’其已經機器加工或藉由捲 曲該管末端來提供。如上文所界定，經定大小且成形以機 械式地沿工件路徑循跡而行之圓形橫截面管被視為自身構 成循跡特徵部（如此術語在本文中所使用 >，甚 何額外循跡特徵部（諸如，外部突起）時亦如此。

該循跡特徵部可僅存在於管之配給端觀、226i 236i 處，如圖18、圖22及圖23所示，或如圓25中如在259〇】、 處針對兩個平坦面特徵部所顯示，或如24中在 圓面1Π02處針對沿管之整個長度之-些或全部之兩個修 徵部所顯示。該猶跡特徵部亦應較佳地以某一方式 疋大小並成形以機輔式 凡 之路徑循跡而行1二:：疋於具有紋理的工件表面中 # ^ ^ I ^ 循跡特徵部之橫向尺寸有益地約 ;或小於其意欲處理之 好地裝配至凹描士 #之橫向尺寸。其目的在於良 且提供用於循跡之高恢復力，甚至當毛 22 201032906 細管自身顯著大於凹槽時亦如此。 出於與雙向處理有關之原因，如上文結合圖2〇及圖21 所論述，進一步如圖24及圖25所示，循跡特徵部2491、 249〇2存在於毛細配給管246〇之單一直徑d之相對端^、 d2上可為有益的。圖24顯示平行於配給毛細管2460之轴、 沿管之外部之實質長度的循跡特徵部，其具有修圓面。圖 25顯不僅在配給端2561附近之循跡特徵部25列1、， ❿ 其具有平坦面。 循跡特徵部幫助配給管機械式地在沿工件在第一方向 上之進程期間在-凹槽内循跡而行，其中可挽管配給端相 對於工件傾斜成第-角度或成具有第一正負號（例如， 凹陷向左，如圖20Α所示）之曲率的曲線，且在直徑〇之 端處在一位置di處接觸工件。接著，如上文所論述，相 士運動機構可反轉方向。可撓管配給端撓曲且接著變成 對於工件傾斜成第二角度·以及/或成具有與第一正負號相 ⑩反之正負號（例如’凹陷向右，如圖20D所示）之第二曲 又，接觸點將接著為在配給管之直徑d之與di相反之 末端處的I»相對運動裝置接著在與第一橫貫之方向相反 之方向上向前拖矣配給管，以使得接觸點1保持與表面接 觸歷時整個下一進程。在第二進程之末端處，相對運動裝 置再次反轉方向，且點di再次變成接觸點。 在一些狀況下’在配給管之末端之橫截面的圓周周圍 個、兩個或兩個以上（例如，四個）位置中提供循跡 特徵部可為有益的，在—些狀況下，管之配給端可具有非 23 201032906 圓形橫截面。在此狀況下，將此形狀之橫截面之廣度稱作 直徑可為不恰當的。如本文中所使用，跨越廣度或橫截面 廣度應意謂跨此橫截面面積之距離。 在循跡特徵部沿配給管之長度延伸之狀況下，諸如圖 24中之249(^、249〇2處顯示，單一及雙重循跡特徵部兩者 均具有以下優點：配給管在管之垂直於工件之平面中的剛 度高於管在平行於工件之位移中的剛度。以此方式，針對 一給定量之預負載位移，管之配給端2461與凹槽之最大可 允許未對準將大於原本在圓形管之狀況下之最大可允許未 對準。 般而s ’可關注提供關於不同軸具有不同剛度之配 給管’尤為在工件之平面中之剛度不同於垂直於工件之剛 度的配給管。雖然添加外部循跡特徵部將具有此效應，但 無論一循跡特徵部併入與否均可為理想的。可需要提供不 同剛度但不修改尖端處之形狀。舉例而言，毛細配給管可 、至共梅壓或以其他方式製造而在圓周之不同區段處具有不 同材料性質。或者’沿-條此類線（而非其他者）可存在 一較厚壁部分，或可存在沿一條此類線黏附之一條帶或某 其他材料，但並非沿中心轴之相反側處之線。亦可將諸 如纖維之加強元件模製至毛細管之在管之頂部及底部處之 壁令’以便增加管之垂直剛度。可沿—或多條線提供聚合 物珠粒或膠，等等。 、當存在一循跡特徵部及/或當使該管在垂直方向上比在 方向上較具剛性時，最大恢復力仍與任何預負載力成 24 201032906 比例。然而，與上文論述之較簡單狀況不同，最大恢復力 將較大且甚至顯著大於預負載力。 液體與凹槽之表面之間的潤濕角必須控制在一可允許 範圍内°若液體過濕，則其可爬移上凹槽之邊緣且在所要 區域外部之區域中潤濕。若液體過於不濕潤，則液體將在 其配給至凹槽中之後分解成珠粒。然而，存在將引起成功 操作之廣泛潤濕角。流體之流變學在該過程中亦將起到作 ❹ 用°可需要具有剪切稀化之流體以使得流鱧可擠過配給毛 細管’但一旦其在凹槽中，黏度將增加且流體將保留在其 所配給之處。亦可需要具有具一屈服應力（低於該應力時， 流體完全不移動）之流體。此將進一步保證流體保留於凹 槽内。然而’凹槽内之一些流動可為理想的，以使得液體 流出以填充凹槽，包括接觸凹槽之側壁。流體在凹槽中之 運動亦可藉由液體媒劑之蒸發停止。晶圓在配給操作期間 可保持於高溫以便進一步促進此蒸發。一旦流體在凹槽中 φ 即限制流體之運動的另一機制為在將液體配給至凹槽中之 後使液體凝固、絮凝、膠凝或交聯。 絮凝、膠凝及交聯可歸因於在配給前不久混合於待配 給之材料中之化學試劑。或者，引起絮凝、膠凝或交聯之 化學試劑可在圍繞工件之環境中。舉例而言，若工件維持 在二氧化碳之毯覆下’則所配給之水基材料之pH值將快速 地下降--此效應可用以實現絮凝、膠凝或交聯。膨脹劑 或剪切摘化流體可為有利的，因為由管配給之流體柱將較 不可能夹斷並形成小滴。在經沈積橫截面小於配給管之内 25 201032906 徑之橫截面之情況下，此情形為尤其重要的。 凹槽附近之光捕捉紋理之性質亦可絮助界定並保留經 金屬化區域之邊緣之清晰解析度。若此凹槽外部之工件為 平坦的，則限制為可能的。然而，若凹槽之邊緣為升高的， 或若凹槽外部之工件為降低的，則限制變得較強健。 ❹ 已發現，若如圖3A所示，達到壁359之頂端的凹槽 之邊緣361為尖銳的且在兩側上具有相對陡靖斜坡，則經 沈積材料保留在凹槽内，且不濁濕工件之相鄰上表面。此 情形可諸㈣3A中所顯示而達成’其中—陡λ肖斜坡在邊緣 361之一側上之壁359處，且陡惰壁由光捕捉紋理凹坑343 形成，光捕捉紋理凹坑343形成具有紋理的表面342。已發 現在二狀況下，若凹坑間隔成接近地相鄰於在壁359頂 上之邊緣’則不存在潤濕。而在其他狀況下’若凹坑間隔 得較遠，進而在壁359與經移除凹坑之間留下-較大月牙 邊平坦表面’則上表面可不良地潤濕。此亦由圖15 _之稍 微不同之情形說明’圖15顯示沿凹槽1556移動、配給含 有液體之材料1564的毛細配給管156〇,該毛細配給管156〇 頸狀收縮，填充凹槽，但不溢出超出凹槽之邊緣ΐ57ι至凹 坑1543之六角形陣列1542中。在如圖所示之圖15中凹 槽1556f被顯示為填充有妯Μ 具兄百材枓，而凹槽1556e保持為空。 已發現防止上表面之不良潤濕之另一幾何形狀示意性 地顯示於圖26中。相鄰於主凹槽咖之每一侧而提供一 額外凹w因為相鄰凹槽2伽之壁自介入邊緣2661 ㈣地背離’所以在邊緣之每—侧上存在—陡λ肖地傾斜之 26 201032906 表面且經沈積材料2664不潤濕超出邊緣。此類結構亦示意 性地顯示於由發明人Andrew M. Gabor及Richard L. Wallace在2009年4月17日申請之名為「METHODS TO PATTERN DIFFUSION LAYERS IN SOLAR CELLS AND SOLAR CELLS MADE BY SUCH METHODS」之 PCT 申請案 第PCT/US2009/02422號之圖8A至圖8D及圖14中，其揭 示内容以引用之方式完全併入本文中。 _ 流體至配給毛細管之材料之潤濕亦可經控制以減少流 體弄濕配給毛細管之外部的趨勢。 經由配給毛細管之流動速率應較佳地控制。所需之大 致流動速率可藉由計算待填充之凹槽之橫截面面積及乘以 配給毛細管之橫貫速度而估計。舉例而言，若具有3 0微米 寬度之半圓柱形凹槽待填充液體，則橫截面面積為3.5xl0·6 cm2 ^若此配給毛細管以10 cm/s橫貫，則所需流動速率 為.002 cc/min。流動可藉由向液體施加壓力來調節，其中流 φ 動由配給毛細管中之液體之黏滯壓力降控制。舉例而言， 可存在液壓地耦接至毛細配給管之支撐端的材料之經加壓 體積。亦可使用其他計量方法’諸如，計量泵。 處理可達到之速度對於該過程之經濟性而言為重要 的。配給毛細管在凹槽上之速度可相當高，無疑地高達2 m/s，且或許高達10 m/s。存在可能限制此速度之若干因素。 舉例而言，若待配給之材料具有高黏度，則其配給速率可 受到限制。 以令人滿意的軌跡控制移動工件及/或配給毛細管之能 27 201032906 力為重要的。如上文所論述，實趙無約束配給端路徑ΐ6ι〇、 可與實體工件路徑16G4少許未對準，因為在凹槽中循跡而 行之機械式及毛細管作用力將補償某一誤差度e。 可提供另-形式之對準引導件，其將有助於配給管已 移出凹槽之情況。此形式之對準引導件在本文中通常被稱 作恢復特徵部或導引特徵部。 如圖8所示，可提供相鄰於用於配給之設計凹槽856 的具有紋理的邊界。具有紋理的邊界為對角線凹槽⑹之 對準引導件，其類似於上文參看圖5A說明之三角形引人特Q 徵部566 ’其將導引或使經移位之行進配給毛細管860恢復 回至預期凹槽856路㈣（亦被稱作圖16令之實趙工件路 徑1604)»此等對準引導件亦在本文中被具體地稱作恢復特 徵部。配給毛細管860尖端在圍繞設計凹#㈣之經定向 紋理867上之移動在尖端上生成一偏斜力（為歸因於構形， 之摩擦力與法向力之組合），其趨向於將配給毛細管86〇向 預期路徑驅動。此恢復力藉由尖端跨表面紋理中之對角線 地形成之恢復特徵部元件的移動而產生。導引特徵部鏡射 〇 於配給凹槽856之任一側上。 生成對移動配給管尖端之偏斜摩擦力之許多紋理提供 一可能的導引、恢復特徵部。線性凹槽僅為此等特徵部之 因此，具有紋理的半導體主趙之表面之引入特徵部及 恢復（導引）特徵部兩者在本文中一般地被稱作對 件。 平彳丨導 28 201032906 諸如上文所描述之特徵部的引入特徵部可避免沿用於 配給之預期實體工件路徑1604具有經分離地界定之凹槽 856的需要。預期實體工件路徑1604將接著由跨騎用於配 給之實體工件路徑1604的具有紋理的之材料之兩個相對地 形成的集合之間的會聚線界定》 圖9A顯示類似於來自圖8之圖案的圖案，但不存在實 體工件路徑1604凹槽。存在凹穴之圖案，其為相鄰於線之 φ 彼此之鏡射影像。針對圖9A所示之設計，若配給毛細管大 體上自左下方移動至右上方，則實體工件路徑.將處於半球 形凹穴之相對地成角之列的會聚處，如毛細管所搁置處所 顯示。圖上未示之替代設計類似於圖9A所示。該等圖案可 為橫向脊。 圖9B中顯示之設計類似於上文結合圖9A所論述，除 了存在橫向脊之圖案之外’橫向脊之圖案會聚於凹槽956 上’提供於實體工件路徑1604處。流體被顯示為配給至凹 ❿ 槽中。 上文論述之純對角線特徵部並不為將偏斜地導引一行 進配給毛細管尖端之僅有特徵部。其他特徵部包括以不同 門隔來間隔之凹坑、z形脊圖案及由小跳（skips an(j hops ) 引導之凹槽。 包括對準引導件（諸如類似於圖13所示之引入特徵部 的引入特徵部及諸如圖8、圖9A及圖9B所示之恢復特徵 邛）的晶圓之具有紋理的表面可藉由任何適合手段建立。 對此等特徵部中之-些而非全部適用之尤其有吸引力之通 29 201032906 用技術族描述於由發明人班傑明F.玻利多、賀禮G.給特 及伊繆爾 M.莎棚思在2009年4月17日提出申請、在2009 年10月22日以案號WO 2009/128946公布之名為「不規則 表面之楔形壓印圖形（WEDGE IMPRINT PATTERNING OF IRREGULAR SURFACE)」 的 PCT 申請案 第 PCT/US2009/02423號中，其全部揭示内容藉此以引用之方 式併入本文中。用於製造此等特徵部之一額外有吸引力之 技術係藉由雷射刻劃。 PCT/US2009/02423案揭示用於光電用途及其他用途之 具有圖案的工件，其藉由將一可撓印模按壓於一覆蓋一工 件（諸如晶圓）的抗蝕劑材料薄層上而製造。抗蝕劑改變 相位或變成可流動的，流動離開壓印位置，展現工件，工 件經受一些成形製程，通常為蝕刻。移除由印模暴露之部 分，且保留由抗蝕劑保護之部分。一典型工件為矽，且一 典型抗蝕劑為蠟。本文中所描述之工件紋理包括延伸凹 槽、離散、間隔開之凹坑，及其組合及中間物。可類似地 提供諸如本文中關於引入特徵部及恢復力特徵部所描述之 紋理中之一些的額外紋理。可使用壓板或旋轉圖案化裝 置。粗糙及不規則工件可藉由延伸印模元件適應。抗蝕劑 可首先塗覆至工件、印模或大致上同時地塗覆於離散位置 中或任一者之整個表面上。抗蝕劑可在需要時對工件完全 除濕。 如圖10及圖10A中顯示，為獲得一高速率，可使用多 個配給毛細管1060a至1060〇，其各自配給於用於個別指狀 30 201032906 物1060a至1060〇之分離凹槽1056中。舉例而言若一晶 圓具有一百個指狀物1056，則可使用一百個配給毛細管 1060，以使得材料在一個進程中配給至晶圓之一百個指狀 物。該一百個配給毛細管可安置成單一列。或如圖1〇中關 於較小數目Υ(如圖所示，二十二）個管示意性地顯示，可 使用Υ個配給毛細管l〇6〇a，以使得材料在十個進程中配給 至晶圓之10 X Y個指狀物，其中配給毛細管在進程之間橫 向地遞增。 Ο 或如參看圖27、圖27A (端視圖）及圖27B (平面圖） 示忍性地顯示’配給毛細管2760之層級可配置成排成一 行，其中每一層級相對於每一其他層級橫向地移位（如自 圖27A可見），以使得在一工件274〇已經過整個總成之所 有層級2760a至2760c之後，每一凹槽已被處理。其可分離 成沿配給裝置與工件之相對運動之方向間隔開的（例如） 十個、二十個或二十五個配給毛細管之群組。為使該等圖 〇 明瞭，僅顯示各自具有三個配給管之三個層級2760a、2760b 及2760c。然而’存在各自具有諸多配給管之諸多層級為可 能的，如上文所論述。 圖10A顯示自一鋼管1063延伸之聚合配給毛細管 1060。鋼管1〇63固定於一支撐總成1〇65中，該支撐總成 1 〇65自身耦接至一相對運動驅動機構（圖上未示）。 無淪是使用單一配給毛細管，還是多個配給毛細管， 速率可藉由處理排成一行之若干晶圓來增加。此舉具有以 下優點（針對配給管在工件上往復之狀況）：在每一往復之 31 201032906 行進開始及結束時加速及減速配給毛細管所花費的時間減 少至總處理時間之較小分率。 諸如圖10A中所顯示之多重毛細配給管器件的多重毛 細配給管器件中的挑戰為：不管是否存在管直徑或長度之 較小變化以及在管中累積之沈積之可能性，保持配給管與 配給管之間的流動速率相同。一尤其有吸引力之方法為獨 立地控制每一毛細管之溫度且藉此改變液體之流變學及流

動速率。此情形對黏度通常隨著溫度之增加急劇地減小之 膏狀材料尤其有效。因此，若發現來自一特定管之流量低， 則可增加該管之溫度。可藉由圍繞管之小型加熱器之作用 或藉由用燈照射該管來改變溫度。沈積於管上之導電塗層 可由一射頻線圈搞接以提供加熱。或者，可將管上之一導 電薄膜用作電阻加熱器。此等導電膜可直接沈積於聚合管 材料及玻璃管材料上。必須將一絕緣層提供於金屬管上。 流動速率亦可藉由熱手段原位判定，例如，藉由量測在配

給管之-區域處之局部化熱源與管之下游之一後續溫度量 測器件之間的穿行時間（time 〇f fligh〇,或藉由量測由一 已知熱功率輸人引起之流趙之溫度升高來判斷。量測及控 制可由同一裝置實現。 或者如參看圖11及圖UA示意性地顯示，複數個工 件（諸如’晶圓1140a至114〇c)可安置於一具有平頂之轉 之面上且其中轉鼓在如由箭頭指示之一方向上連 :地旋轉。配給毛細管1⑽（圈UA)可接著在平行於轉 之轴X(轉鼓繞其旋轉）之方向上橫貫，_向内移動及 32 201032906 向外移動（移向晶圓及移離晶圓）以提供隨著橫貫個別晶 圓所需之升高及下降。鋼管1163支撐配給毛細管116〇，且 耦接至在圖11處示意性地顯示之較大體積主體1167，諸 如，注射針筒。 亦可藉由如圖12所示生成呈蜿蜒圖案之金屬化指狀凹 槽1256’且使單一配給毛細管126〇以實質恆定速度將材料 配給至整個蜿蜒凹槽（無引入特徵部顯示於此圖中）而達 φ 成高速率。 存在防止反應液體接觸到晶圓之邊緣（主要避免電分 流路徑）的優點。如至此所描述，配給過程之實施跨晶圓 之邊緣拖矣配給尖端，從而使邊緣暴露給反應流體。或者， 如圖13中示意性地顯示，邊緣可由遮蔽材料1382 (例如， 紙帶）薄層遮蔽以防止液體接觸晶圓之邊緣。此層結合至 晶圓表面為不必要的，雖然可為如此。對準至邊緣並不為 關鍵的，但該遮罩不能完全覆蓋用於指狀物之凹槽1356之 ® 引入特徵部1366，否則其將損失其有效性。該遮蔽材料可 為拋棄式的或經清潔且再使用的。遮蔽之相同概念可使用 於凹槽之末端處，從而又防止配給在電池之最邊緣處。沿 電池之長度延伸之紙帶遮蔽材料可同時遮蔽多個毛細管。 或者，在蜿蜒路徑具體實例中，僅存在一個入口及一個出 口待遮蔽。 配給毛細管之尖端可在其接近尖端之外表面上累積材 料。此可歸因於向後潤濕至配給毛細管之外表面上之流體 材料發生。其亦可為管與其在配給期間循跡而行之凹槽之 33 201032906

邊緣之間的毛細作用的結果。週期性地清潔配給管之外表 面以保持所配給材料之邊緣良好地界定為有利的。此清潔 了藉由若干手段單獨地或組合地實現。一種方式為使尖端 橫貫一材料條帶或襯墊。舉例而言，上文結合圖13描述之 遮蔽材料1382亦可提供清潔尖端之功能β遮蔽材料1382 可由具有少許表面粗糙度之吸附劑材料製成，以幫助自毛 細管之外部移除任何材料。經移除之材料將接著由遮蔽材 料吸收，…具彳充足吸收性之紙或非編織聚合物 織如將起作用。此方法具有以下優點：尖端在配給管在工 件上之每-進程之前清潔。或者，清潔條帶或襯塾可為-額外材料片且未整合至遮蔽條帶中。

尖端亦可藉由在清潔$ 1386中之週期性浸潰來清潔 ''月'繁'谷1386可為相鄰於工件西己置之超音波清潔浴 毛細配給管1360可沿由點線及箭頭指示之路徑橫貫。毛 配給管1360可（例如）藉由相對運動器件μ (圖灼 垂直運動明確地浸入至液體浴U86 +。或者設計者可 s己，。管1 36G之可撓性，且可配置行進路徑以使得當毛 配給管在液趙貯集器處時’尖端浸沒於液體η%中。隨 :細配給管接近貯集器之外邊緣1388,管偏轉，且接著 ^到達液體1386 _，其折入至液艘中且藉由超音波產生 9〇之作用清潔。該管沿點線繼續向前，且遭遇貯集器 内邊緣跡挽曲’且最終自液體退出，且向前拉向工件 :超音波清潔站可沿工件-個或兩個邊緣定位。浸潰時 可為短的’甚至小於―秒’以使得運動不被中斷。 34 201032906 圖14示意性地顯示一工件，諸如具有橫截面變化之用 於金屬化指狀物之凹槽1446的晶圓1440。每單位長度之凹 槽所配給之流體量可藉由改變配給尖端相對於晶圓之速度 或藉由調整配給壓力而在精確控制下變化。用以變化金屬 化指狀物橫截面之手段為理想的，因為由金屬化指狀物載 運之電流較高度地接近於母線1444 (電流收集點1445 )。 為最佳化歸因於較寬金屬化指狀物1446的減少之電阻功率 φ 損失與電池面積掩蔽之間的權衡，具有較接近母線之較大 橫截面的金屬化指狀物幾何形狀提供優勢。一理想形狀將 為抛物線，如自上方觀察，此係因為功率損失與電流之平 方成比例’其朝向母線線性地增加。 所配給流體之增加之流動速率可藉由指狀物之增加之 寬度適應以確保藉由毛細管作用將流體保持於凹槽中。 方法已在本文中關於在作為工件之離散晶圓上製造太 陽此電池的情形加以描述。該等方法亦可應用於較大格式 G 工件且甚至應用於連續輥應用。該等方法亦可應用於除了 太陽能電池之製造之外的電子應用。 雖然在先前描述之具體實例中，提供具有用於循跡之 必要順應性之配給尖端的實體定位之可撓元件與流體載運 &道為同一者’但此並非為本文中所揭示之發明之必要特 陡在一些狀況下，以下情形可為有利的：使用一引線或 其他純機械式元件提供順應定位，一分離流體載運管道在 配m端處附著至該引線或其他純機械式元件。舉例而言， 些所配給材料可不與具有必要順應度及磨耗性質之管材 35 201032906 化學相容。舉例而言，侵蝕性材料可經由軟惰性管（例如， ptFE)配給，且該配給管可在配給端處辆接至較適合順應 定位特徵部，諸如，由金屬、石英或碳纖維構成之實心桿。 參看圖30，具有循跡端3081及支撐端3〇82之可撓定位元 件3080在循跡端處耦接至流體配給管道3〇6〇之配給端 3〇61，以使得循跡端3081沿工件3〇4〇中之凹槽3〇56循跡 而行，且配給端3〇61將流體配給至凹槽3〇56中。管道3〇6〇 之來源端液壓地麵接至流體貯集器3〇9〇。 在許多狀況下，如本文中所描述，配給管之直徑將為 小的且用以定址小特徵部。出於此原因，在本揭示案中已 大量地使用術語毛細管。然而，將瞭解，本發明之實施方 案之尺度可變化，且較大特徵部可藉由較大管定址，較大 管可被簡單地稱為管而非毛細管。 本揭示案描述且揭示一種以上發明。該等發明在本揭 示案之申凊專利範圍及相關文件中闡述，不僅包括所申請 者，而且包括如在基於本揭示案之任何專利申請案之執行 期間所開發者。發明人意欲表示全部各種發明能夠解決先 前技術所存在之限制，因為隨後判定實情確實如此。本文 中所描述之特徵部皆不為本文中所揭示之每一發明所必需 的。因此，發明人意欲，本文中所描述但未在基於本揭示 案之任何專利之任何特定技術方案中主張的特徵部皆不應 併入至任一此技術方案中。 舉例而言’在各自獨立地或以小群組進行的溫度控制 下使用多個可撓管之發明可獨立於任何其他發明（特定言 36 201032906 之，任何類型之循跡特徵部或對準引導件）使用。一婉蜒 凹槽可用於工件中，而無引入或恢復特徵部。 些硬體總成或步驟群組在本文中被稱作一發明。然 而，此舉並非為承認：任何此等總成或群組為必要專利性 差異發明，尤其如關於將在一專利申請案中審查的發明數 目或發明單一性由法律及規章所預期者。其意欲為稱呼一 發明之一具體實例的捷徑。

❹ 同此提交發明摘要。所強調的是’提供此發明摘要以 遵守需要-發明摘要之規則，其將允許審查者及其他搜尋 者快速地確定技術解釋内容之㈣。其係在如下理解下提 交：其將不用以解釋或限制申請專利範圍之範疇或意義， 如由專利局之規則所約定。 先前論述應理解為說明性的且不應視為以任何意義限 制。雖然已參考該等發明之較佳具體實例特定地顯示並描 :。等發明，但熟習此項技術者將理解，可在不脫離如由 :請專利範圍界定之該等發明之精神及範脅之情況下對其 進订形式及細節的各種改變。 之對申請專利範圍中之所有手段或步驟加功能元件 體地主i之其材料、動作及等效者意欲包括用於組合如具 料或動作 所主張元件執行㈣功能的任何結構、材 概述 其包括具有不同組合等級之 在本文中揭示許多發明 裝置及方法。 37 201032906 就此進打之發明之一基本具體實例為一種用於將一含 有液體之材料配給至一半導體工件之一具有紋理的表面之 裝置’該裝置包含-具有—支擇端及―配給端之可挽管， 該配給端包含一機械式循跡特徵部。 -相關具體實例可進一步包含一與該可撓管相比較不 可撓之主體，該可撓管之該支撐端緊固至並液壓地耦接至 該較不可撓主體。 在一重要具體實例之情況下，該循跡特徵部包含一在 該管之一橫截面廣度之至少一端處的突起。該突起可包含 一耐磨材料及/或一磁吸引材料。 該突起可包含一黏附至該可撓管之主體。該突起可為 一與該可撓管整合之主體’其至少部分地由與形成該可撓 管相同之材料形成。 該可撓管具有大致上垂直於一橫向廣度之一長轴及該 橫向廣度。該循跡特徵部通常具有一小於該管之橫向廣度 之橫向廣度。 在一適用具體實例之情況下，該循跡特徵部可包含兩 個循跡特徵部，每一者為一在至少—橫截面廣度之相對端 處之突起，或四個突起，在兩個正交橫截面廣度之相對端 之每一者處各一個。該循跡特徵部可包含一沿該管之外部 的延伸肋，其大致上平行於該可撓管的一軸，沿著沿該管 之外部的一行、兩行或四行。 其他相關具體實例可具有配給端，該配給端具有一具 —第一橫截面廣度之橫截面，該第—橫截面廣度大於一垂 38 201032906 直於該第一橫截面廣度之橫截面廣度。該較大橫截面廣度 可有益地配置成大致上垂直於一工件之一平面。在此具體 實例之情況下，該可撓管配給端具有一橫截面形狀，該橫 截面形狀在該第一橫截面廣度之一端處具有一突起。 在此等具體實例中之許多者之情況下，該配給端可具 有一選自由以下各者組成之群的形狀：斜角；具有突起部 分之主要部分；圓；橢圓；部分壓平圓。 ❹ 通常’該可撓管之可撓性經選擇以准許該管之該配給 端機械式地沿一實體工件路徑循跡而言，而不管由該配給 端遵循之實體無約束配給端路徑與實體工件路徑之間的一 誤差。 該可撓管可包含一選自由以下各者組成之群之材料： 聚合物、聚醯亞胺、玻璃、石英、金屬及不鏽鋼。該可撓 管可為一經塗佈管。 通常將存在複數個額外可撓管，其中之每一者緊固至 © 該管支撐件。若如此，可存在一熱耦接至該複數個管中之 每一者的溫度控制器，其中之每一者可為可獨立地控制 的。舉例而言，每一溫度控制器可為一經定位以照射在一 f別管上之燈。每一管可包含一導電塗層。每一溫度控制 斋可為一射頻線圈。 一通常，該可撓管配給端具有一橫截面，該橫截面具有 「沿一第一尺寸配置之廣度，該廣度具有一大致上平行於 該管與一工件之相對運動之方向的分量，該廣度大於垂直 於該第一尺寸之配給端之第二廣度。 39 201032906 一般而言，該可撓管之可撓性使得准許該管之該配給 端遵循實體工件路徑相對於一平坦平面路徑之任何偏離。 就此進行之一發明之一相關重要具體實例為一種用於 將一含有液體之材料配給至一半導體工件之一具有紋理的 表面之裝置。該裝置包含··一工件支撐件，其經組態以支 撐一工件；一相對運動器件；及一具有一支撐端及一配給 端之可撓配給管（大體如上文描述），該配給端包含一循跡 特徵部，該支撐端經由一管支撐件耦接至該相對運動器 件。該相對運動器件經組態以引起該管之該配給端與該工 件支撐件相比較沿一實艘配給端路徑之相對運動，該管之 可撓性經選擇以使得在此相對運動之後，該管之該配給端 機械式地沿一由該支撐件支撐之工件之一具有紋理的表面 之一實體工件路徑循跡而行。該循跡特徵部可經定大小並 成形以機械式地沿一由一工件之一具有紋理的表面界定之 實體工件路徑循跡而行。該管可在其配給端處具有一非圓 形橫截面。 該管亦可具有剛剛結合前述重要具趙實例提及之額外 特徵部中之任一者。 亦可存在-支擇該工件之主體，該主體由一磁吸引材 料吸引#突起可包含一保持一永磁矩之磁性材料。 該實體工件路#具有一最小特性寬度，該循跡特徵部 具有-小於該實體工件路徑最小特性寬度之特性寬度。該 管可適用地具有一小於該實體工件路徑特性寬度之約十倍 的直徑。 40 201032906 一材料傳遞裝置可㈣至該可撓管，其經組態以將含 有液體之材料傳遞至可撓管。該材料傳遞裝置可包含一計 量泵。或者’該材料傳遞裝置可包含液壓地耦接至配給管 之支稽端的此材料之經加壓體積。 該工件支標件可包含-固定架，該固定架維持至少兩 個工件相對於彼此固定以使得每一者之一實體工件路徑大 致上共線。該固定架可包含一轉鼓，其具有繞其周邊之工 件定位台。 亦可有益地存在相鄰於該工件支撐件之清潔流體浴。 本文中揭示之發明之一極重要之具體實例為一種具有 圖案的工件，一含有液體之材料待沈積於其上，該工件包 含：一具有一第一表面之半導體主體；一對該第一表面定 邊界之周邊邊緣；及一在該第一表面上之實體工件路徑， 其包含具有一比一垂直尺寸長的相對較長尺寸的至少一凹 槽’該工件進一步包含至少一對準引導件。 ® 在此具體實例之情況下，含有液體之材料待由具有配 給端之配給管沈積。該至少一凹槽具有經選定之大小及形 狀’以機械式地使該配給端循跡而行，且在垂直於凹槽之 長尺寸之方向上向配給管施加與趨向於使配給端與凹槽分 離之任何力相反的恢復力。該至少一凹槽可包含複數個大 致上平行之凹槽❶或者，該至少一凹槽可包含一蜿蜒凹槽， 其反轉方向至少一次《在該蜿蜒凹槽之至少一端處可存在 一遮罩。 在每一至少一凹槽具有兩個端之狀況下，在每一此端 201032906 處可存在一遮罩。 瓶叩§ 對準引導件可包含—乂 至少-端處之引入特徵部，且此處，如上：：槽之 槽可包含複數個平行凹播兮埜3丨 及至夕一凹 以下各者組成之群之特d引入特徵部可包含選自由 特徵部.一開放三角空間、一人 一楔形物及一對成角凹槽。 、、 另外（或或者），在就此進行之一 實例之情況下，該至少―對準引㈣」之—極適用具體

工件路徑之恢復特徵部，白 、/實體 匕括相鄰於且沿該實體工件 之複數個恢復特徵部。該等恢復特徵部可包含選自二 各者組成之群的特徵部：與工件路徑斜對之凹槽及沿與： 件路徑斜對之線配置之凹坑。 、 二另-相關具雜實例’一發明為一種工件， 者具有兩個末端，且在每一端處具有 於該兩個末端之間的一位置處之寬度的寬度。

在另-具體實例之情況下，至少一凹槽遵循一抛物 線，如自上方觀察。 -發明之-高度理想具體實例為適合作為太陽 器之半導體主體，諸如，矽。 x、 就此進行之又-發明為一種具有圖案的半導體物品， 該物品包含：一具有一第一表面之半導體主體；一對該第 一表面定邊界之周邊邊緣；及在該第—表面上之至少—凹 槽，其具有一比一垂直尺寸長的相對較長尺f，該工件進 -步包含至少一對準引導件，該凹槽承載一沿大致上其整 42 201032906 個長度之金屬化件。續5 ,丨、 ^至^一凹槽可便利地包含複數個大 致上平行之凹槽，且每— # ^ ^ , 者或許多凹槽可承載一金屬化

件 或者’該至少一凹播έί . V 凹槽包含一蜿蜒凹槽，其反轉方向至 少一次。該主體當然可為-太陽能收集器。

具有金屬化件之複數個平行凹槽可包含金屬化指狀 物在弓丨2關主之具體實例中，存在一與該等指狀物中 之至少-者交又的母線金屬化件’其比指狀物寬之。該金 屬化指狀物可有益地在母線交又之處具有比金屬化指㈣ 之至少一端大之橫截面面積。 在此具體實例之情況下，如同上文論述之其他者一 樣’該至少-對iM丨導件可包含—在該凹槽之至少一端處 之引入特徵部。該引入特徵部可包含選自由以下各者組成 之群之特徵部：人字紋、楔形物及成角凹槽對、開放三角 空間。 該至少一對準引導件可亦包含或可或者包含一相鄰於 φ 該至少一凹槽之恢復特徵部，通常為相鄰於且沿該凹槽之 複數個恢復特徵部。 就此進行之又一極重要之發明為一種用於將一含有液 體之材料提供至一半導體工件之一具有紋理的表面之方 法。該方法包含以下步驟：提供一半導體工件，該半導趙 工件具有一界定一實體工件路徑之具有紋理的表面；提供 一具有一支撐端及一配給端之可撓管，該配給端經定大小 並成形以機械式地沿該實體工件路徑循跡而行；嚙合該可 撓管之該配給端與該實體工件路徑；在該配給端與該具有 43 201032906 紋理的表面之間建立一正接觸作用力；將含有液髋之材料 提供至該可挽管且使該含有液體之材料自該管配給至該工 件之該具有紋理的表面；及引起該管之該配給端與該工件 路徑相比較之沿一實體無約束配給端路徑之相對運動，同 時該含有液體之材料沿該實體工件路徑配給至該工件上。 該引起相對運動之步驟可包含引起此運動以使得該實 體無約束配給端路徑相對於該實體工件路徑偏離一誤差 己，該管之可撓性經選擇以使得不管該誤差ε如何，該管 之該配給端均機械式地沿該實體工件路徑循跡而行。 該建立一正接觸作用力之步驟可包含藉由以下步驟將 該可撓管之該配給端向該具有紋理的表面預負載·使該可 撓管之該支撐端進一步向該具有紋理的表面前進，在該管 與該工件已進行接觸之後，將一撓曲施加至該管。 或者或另外，該建立一正接觸作用力之步驟可包含建 立使該可撓管與該具有紋理的表面路徑彼此吸引之磁力。 在-典型具體實例中，該實體工件路徑包含一凹槽。 一般而言，存在與該工件路徑相關聯的至少一對準引 導件。該至少-對準引導件可包含一或多個恢復特徵部。 該至）一對準引導件可包含一引入特徵部，其中典型 引入特徵部選自由以下各者組成之群：―升高人字紋一 楔形凹陷、一三角凹陷及一對成角凹槽。 在就此進行之發明之另一重要形式之情況下該工件 進：步包含-邊緣，該工件路徑向該邊緣延伸。可存在一 覆蓋相鄰於該邊緣至少直至該玉件路徑的卫件之-部分的 44 201032906 遮蔽材料。若如此，則該引起相對運動之步驟可包含沿工 件路徑且在遮蔽材料上方移動管支撐端，進一步其中在該 配給端在該遮蔽材料上方的同時進行該配給含有液體之材 料之步驟，以使得材料配給至該遮蔽材料上。 有可能變化在工件之一位置處與另一位置處相比較的 相對運動之速度。 常適用的是，在該管之該配給端已沿一工件路徑經過 〇 之後且在使其沿另一工件路徑經過之前，使該管之該配給 端穿過一清潔浴。 含有液體之材料之流動可藉由施加壓力來有益地調 節。 在一最典型狀況下，提供至少兩個工件，其經對準以 使得每一者之一實體工件路徑大致上共線，其中該引起相 對運動之步驟包含：同時引起該管之支撐端與該至少兩個 工件中之每一者之間的相對運動，及使該可撓管之配給端 •與該至少兩個工件中之一第一者之實體工件路徑嚙合，且 接著與該至少兩個工件中之另一者之實體工件路徑喃合， 而不在行進之結束時顯著地使相鄰於該等工件中之該第一 者之配給管減速，且不使相鄰於該至少兩個工件中之另一 者之配給管加速。 發明態樣 就此進行之發明t以下態樣意欲在本*中描述，且此 部分意欲確保其被提及。其被稱呼為態樣，且雖然其看來 類似於申請專利範圍，但其並不為申請專利範圍。然而， 45 201032906 在將來之某個時刻，申請人保留在本申請案及任何相關申 請案中主張此等態樣中之任一者及全部的權利。 A1.—種用於將一含有液體之材料配給至一半導體工 件之一具有紋理的表面之裝置，該裝置包含： a_ —工件支撐件’其經組態以支撐一工件； b. —相對運動器件； c. 一具有一支撐端及一配給端之可撓配給管，該配給端 包含一循跡特徵部，該支撐端經由一管支撐件耦接至該相 對運動器件； θ d·該相對運動器件經組態以引起該管之該配給端與該 工件支撐件相比較沿一實體無約束配給端路徑之相對運 動’該管之可撓性經選擇以使得在該循跡特徵部與一由該 支撐件支撐之工件之一具有紋理的表面的一實艎工件路徑 之嚙合及該相對運動器件之致動之後，該管之該配給端機 械式地沿該實體工件路徑循跡而行。 A2.如態樣1之裝置，該循跡特徵部經定大小並成形以 機械式地沿一由一工件之一具有紋理的表面界定之實體工 件路徑循跡而行。 A3.如態樣1之裝置，該管在其配給端處具有一非圓形 橫截面。 A4.如態樣1之裝置，其進一步包含一與該可撓管相比 較不可撓之主體，該可撓管之該支撐端緊固至並液壓地耦 接至該較不可撓主體。 A5·如態樣1之裝置，該循跡特徵部包含一在該管之一 46 201032906 橫截面廣度之至少一端處的突起。 A6.如態樣5之裝置，該突起包含一耐磨材料。 A7_如態樣5之裝置，該突起包含一磁吸引材料。 A8_如態樣5之裝置，其進一步包含一支撐該工件之主 體，該主體由磁吸引材料吸引。 A9.如態樣5之裝置，該突起包含一保持一永磁矩之磁 性材料。 φ A10.如態樣5之裝置，該突起包含一黏附至該可撓管 之主體。

All.如態樣5之裝置，該突起包含一與該可撓管整合之 主體，其至少部分地由與形成該可撓管相同之材料形成。 A12.如態樣5之裝置，該可撓管具有大致上垂直於一 橫向廣度之一長軸及該橫向廣度’該循跡特徵部具有一小 於該管之該橫向廣度之橫向廣度。 A13.如態樣5之裝置，該實體工件路徑具有一最小特 ® 性寬度，該循跡特徵部具有一小於該實體工件路徑最小特 性寬度之特性寬度。 、 A14.如態樣5之裝置，該實體工件路徑具有一特性寬 度，該管具有一小於該實體工件路徑特性寬度之約十倍的 直徑》 ° A”.如態樣5之裝置，該循跡特徵部包含兩個 徵部’每一者為一在至少一橫截面廣度之相對端處之突起。 Α16.如態樣15之裝置，該循跡特徵部包含四個突 在兩個正交橫截面廣度之相對端之每一者處各一個。， 47 201032906 A17 _如態樣1之裝置’該循跡特徵部包含一沿該管之 外部的延伸肋，其大致上平行於該可撓管的一軸。 A18.如態樣17之裝置’該循跡特徵部包含沿該管之相 對侧之延伸肋。 A19·如態樣1之裝置，該配給端具有一具一第一橫截 面廣度之橫截面，該第一橫截面廣度大於一垂直於該第一 橫截面廣度之橫截面廣度》 A20.如態樣19之裝置，該較大橫截面廣度配置成大致 上垂直於一工件之一平面。 ® A21.如態樣19之裝置’該可撓管配給端具有一橫截面 形狀，該橫截面形狀在該第一橫截面廣度之一端處具有一 突起。 A22.如態樣1之裝置，該配給端具有一選自由以下各 者組成之群的形狀：斜角；具有突起部分之主要部分；圓. 橢圓、部分壓平圓。 A23·如技術方案1之裝置，該可撓管之該可撓性經選 擇以准許該管之該配給端機械式地沿一實體工件路徑循跡 〇 而行，而不管該實體工件路徑與該實體無約束配給端路徑 之間的一誤差。 A24.如態樣1之裝置，該可撓管包含一選自由以下各 者組成之群之材料：聚合物、聚醯亞胺、玻璃、石英、金 屬及不鏽鋼。 A25.如態樣1之裝置’該可撓管包含一經塗佈管。 A26.如態樣1之裝置，其進一步包含複數個額外可撓 48 201032906 管’其中之每一者緊固至該管支撐件。 A27.如態樣26之裝置，其進一步包含一熱耦接至該複 數個管中之每一者的溫度控制器。 A28.如態樣27之裝置，每一溫度控制器包含一可獨立 地控制之控制器。 A29,如態樣27之裝置，每一溫度控制器包含—加熱器。 A30·如態樣28之裝置，每一溫度控制器包含一經定位 ❿ 以照射在一各別管上之燈。 A3 1.如態樣27之裝置，每一管包含一導電塗層。 A32.如態樣27之裝置’一溫度控制器包含一射頻線圈。 A33.如態樣1之裝置該可挽管包含一聚酿亞胺材料。 - A34.如態樣1之裝置，該可撓管包含一石英材料。 A3 5.如態樣1之裝置’該可撓管配給端具有一橫截面， 該橫截面具有一沿一第一尺寸配置之廣度，該廣度具有一 大致上平行於該管與該工件之相對運動之方向的分量，該 Q 廣度大於垂直於該第一尺寸之配給端之第二廣度。 A36.如態樣1之裝置，該可撓管之該可撓性使得准許 該管之該配給端遵循實體工件路徑相對於一平坦平面路徑 之任何偏離。 A37.如態樣1之裝置，其進一步包含一搞接至該可撓 管之材料傳遞裝置，其經組態以將含有液體之材料傳遞至 該可撓管。 A38·如態樣37之裝置，該材料傳遞裝置包含一計量泵。 Α39.如態樣37之裝置，該材料傳遞裝置包含液壓地麵 49 201032906 接至該配給管之支撐端的此材料之經加壓體積。 A40·如態樣37之裝置，該工件支撐件包含一固定架， 該固定架維持至少兩個工件相對於彼此固定以使得每一者 之一實體工件路徑大致上共線。 A41.如態樣40之裝置，該固定架包含一轉鼓，其具有 繞其周邊之工件定位台。 A42.如態樣A1之裝置，其進一步包含一相鄰於該工件 支撐件之清潔流體浴。 A43.—種用於將一含有液體之材料配給至一半導體工 件之一具有紋理的表面之裝置，該裝置包含一具有一支撐 端及一配給端之可撓管，該配給端包含一機械式循跡特徵 部。 A44.如態樣43之裝置’該循跡特徵部經定大小並成形 以機械式地沿一由一具有紋理的工件表面界定之實體工件 路徑循跡而行。 A45.如態樣43之裝置，該管在其配給端處具有一非圓 形橫截面。 A46.如態樣43之裝置，其進—步包含—與該可挽管相 比較不可挽之主體’該可挽管之該支撐端緊固至並液壓地 耦接至該較不可撓主體。 A47.如態樣43之裝置，該循跡特徵部包含一在該管之 一橫截面廣度之至少一端處的突起。 A48.如態樣47之裝置，該突起包含一耐磨材料。 A49.如態樣47之裝置，該突起包含一磁吸引材料。 50 201032906 A50.如態樣47之裝置’該突起包含一磁性材料。 A51.如態樣47之裝置，該突起包含一黏附至該可撓管 之主體。 A52.如態樣47之裝置，該突起包含一與該可撓管整合 之主體，其至少部分地由亦形成該管之材料形成。 A53·如態樣47之裝置，該可撓管具有大致上垂直於一 橫向廣度之一長軸及該橫向廣度，該循跡特徵部具有一小 φ 於該管之該橫向廣度之橫向廣度。 A54.如態樣47之裝置，該路徑具有一最小特性寬度， 該循跡特徵部具有一小於該實體工件路徑最小特性寬度之 特性寬度尺寸。 A55.如態樣47之裝置，該實體工件路徑具有一特性寬 度，該管具有一小於該實體工件路徑特性寬度之約十倍的 直徑。 A56.如態樣47之裝置，該循跡特徵部包含兩個循跡特 ⑩ 徵部，每一者為一在至少一橫截面廣度之相對端處之突起。 A57.如態樣56之裝置，該循跡特徵部包含四個突起， 在兩個正交橫截面廣度之相對端之每一者處各一個。 A5 8.如態樣43之裝置，該循跡特徵部包含一沿該管之 外部的延伸肋’其大致上平行於該可撓管的一轴。 A59.如態樣58之裝置，該循跡特徵部包含沿該管之相 對側之延伸肋。 A60.如態樣43之裝置，該配給端具有一具一第一橫裁 面廣度之橫截面’該第一橫截面廣度大於一垂直於該第一 51 201032906 橫截面廣度之橫截面廣度。 A61.如態樣60之裝置，該可撓管配給端具有—橫截面 形狀，該橫截面形狀在該第一橫截面廣度之—端處具有一 突起。 A62.如態樣60之裝置，該配給端具有一選自由以下各 者組成之群的形狀：斜角；突起部分；圓；橢圓、部分壓 平圓、及在一側上具有一突起之形狀。 A63.如態樣43之裝置，該可撓管之該可撓性經選擇以 准許該管之該配給端機械式地沿一實體工件路徑循跡而 行，而不管由該配給端遵循之實體無約束配給端路徑與實 體工件路徑之間的一誤差。 A64.如態樣43之裝置，

屬、不鏽鋼。

a. —配給總成； ，該可撓管包含一經塗佈管。 ’其進一步包含： b.如態樣43 b.如態樣43中所提及之複數個額外裝置 其中之每一 者緊固於該配給總成中。

地控制之控制器。 其進一步包含一熱耦接至如態 中之每一者的溫度控制器。 每一溫度控制器包含一可獨立 A69.如態樣67之裝置，每一 溫度控制器包含一加熱器。 201032906 A70.如態樣68之裝置，每—溫度控制器包含—可經定 仅以照射在一各別管上之燈。 A71.如態樣67之裝置’每—管包含一導電塗層。 A72·如態樣67之裝置’一溫度控制器包含一射頻線圈。 A73.-種具有圖案的工件，一含有液體之材料待沈積 於其上，該工件包含： a·—具有一第一表面之半導體主體； 〇 b· 一對該第一表面定邊界之周邊邊緣； C. 一在該第一表面上之實體工件路徑，其包含具有一比 垂直尺寸長的相對較長尺寸的至少一凹槽，該工件進一 步包含至少一對準引導件。 A74.如態樣73之工件，其中該含有液體之材料待由具 有一配給端之配給管沈積，該至少一凹槽具有經選定之大 小及形狀，以機械式地沿該配給端循跡而行，且在垂直於 凹槽之長尺寸之方向上向配給管施加與趨向於使配給端與 Q 凹槽分離之任何力相反的恢復力。 A75·如態樣73之工件，該至少一凹槽包含複數個大致 上平行之凹槽。 Α76.如態樣73之工件，該至少一凹槽包含一婉挺凹槽， 其反轉方向至少一次。 Α77.如態樣76之工件，其進一步包含一在該蜿蜒凹槽 之至少一端處之遮罩。 Α78.如態樣73之工件，該至少一對準引導件包含一在 該凹槽之至少一端處之引入特徵部。 53 201032906 A79.如態樣78 凹槽 <工件，該至少一凹描占▲ 。 y四槽包含複數個平行 A80.如態樣78之τ从 下各者組成之群之特徵部二==包以 一楔形物、-對成角凹槽、三角形物。 人子紋、 机如態樣73之工件，該至

鄰於該實體工件路徑之恢復特徵部。導件包3一相 Α82.如態樣81之工件，該至少一對準 於且沿該實趙工件路徑之複數個恢復特徵部。 3如態樣81之工件，該等恢復特徵部包含選自由以 下各者組叙群的特徵部H路料對之凹槽，及沿 與工件路徑斜對之線配置之凹坑。 Α84·如態樣73之卫件，每—至少—凹槽具有兩個末 端其冑纟包含—在每一此末端處之遮罩。 H、樣73之工件，該等凹槽中之至少一者具有兩

個末端，且在每一端處美有小於該兩個末端之間的一位置 處之寬度的寬度。 Α86.如態樣73之工件，至少一凹槽遵循一抛物線之一 部分，如自上方觀察。 Α87.如態樣73之工件，該半導體主體包含一適合作為 一太陽能收集器之半導體。 Α88.如態樣73之工件，該半導體包含矽。 Α89.一種具有圖案的半導體物品，該物品包含： a· 一具有一第一表面之半導體主體； 54 201032906 b· —對該第一表面定邊界之周邊邊緣； C•在該第一表面上之至少-凹槽，其具有—比一垂直尺 寸長的相對較長尺寸m步包含至少—對準引導 件，該凹槽承載-沿大致上其整個長度之金屬化件。 A90·如態樣89之半導體物品，該至少—凹槽包含複數 個大致上平行之凹槽。

A91.如態樣89之半導體物品，該至少—凹槽包含一蜿 蜒凹槽，其反轉方向至少一次。 A92.如態樣89之半導體物品，該至少一對準引導件包 含一在該凹槽之至少一端處之引入特徵部。 A93.如態樣92之半導體物品，該引入特徵部包含一選 自由以下各者組成之群之特徵部：人字紋、楔形物及成角 凹槽對。 A94.如態樣89之半導體物品，該至少一對準引導件包 含一相鄰於該至少一凹槽之恢復特徵部。 A95.如態樣94之半導體物品，該至少一對準引導件包 含相鄰於且沿該凹槽之複數個恢復特徵部。 A96.如態樣90之半導體主體，具有金屬化件之複數個 平行凹槽包含金屬化指狀物，其進一步包含與該等指狀物 中之至少一者交叉的比指狀物寬之母線金屬化件。 A97.如態樣96之半導體主醴，該金屬化指狀物在母線 所交又之處具有比金屬化指狀物之至少一端大之橫截面面 積0 A98.如態樣89之半導體主體，該主體包含一太陽能收 55 201032906 集器》 A99· —種用於將一含有液體之材料配給至一半導體工 件之一具有紋理的表面之方法，該方法包含以下步驟： a.提供一半導體工件，該半導艎工件具有一界定一實體 工件路徑之具有紋理的表面； _ b.提供一具有一支撐端及一配給端之可撓管，該配給端 經定大小並成形以機械式地沿該實體工件路徑循跡； c. 嚙合該可撓管之該配給端與該實體工件路徑； d. 在該配給端與該具有紋理的表面之間建立一正接觸 作用力； e.將含有液體之材料提供至該可撓管且使該含有液體 之材料自該管配給至該工件之該具有紋理的表面；及 f·引起該管之該配給端與該工件路徑相比較之相對運 動，以冑得該配給端機g式地沿該實體工件$徑循跡而 行，同時該含有液體之材料沿該實體工件路徑配給至該工 件上。 ° μ

Α100.如態樣99之方法，該引起相對運動之步驟包^ 使該配給端遵循一實體無約束配給端路徑，該實體無約 配給端路徑相對於該實體工件路徑偏離一誤差該管之j 撓性經選擇以使得不管該誤差如何，該管之該配均i 械式地沿該實體工件路徑循跡而行。 A101.如態樣99之方法，該建立一正接觸作用力之步 驟包含藉由以下步驟將該可撓管之該配給端向該具有紋理 的表面預負載：使該可撓管之該支撐端進—步向該具有紋 56 201032906 理的表面前進，在該管與兮 兴该工件已進行接觸之後，將一接 曲施加至該管。 A102.如態樣99之方法，枯法a ^ . . 法該建立一正接觸作用力之步 驟包含建立使該可撓管與該 ^ 蜱渴具有紋理的表面路徑彼此吸引 之磁力。 Α103·如態樣99之方法，兮眘骑τ从 々凌該實體工件路徑包含一凹 AUM.如態樣99之方法， 價 .Ba 兵進步包含與該工件路禋 φ 相關聯之至少一對準引導件。 也 該至少一對準引導件包含一 該至少一對準引導件包含一 該引入特徵部選自由以下各 一横形凹陷、—三角凹陷及 A105.如態樣1〇4之方法 引入特徵部。 A106.如態樣1〇4之方法 恢復特徵部。 A107.如態樣1〇5之方法 者組成之群：一升高人字紋 會合之一對成角凹槽。 © a1〇8.如態樣99之方法，該工件進一步包含 a. —邊緣，該工件路徑向該邊緣延伸； b. -遮蔽材料，其覆蓋相鄰於該邊緣至少直 徑的工件之一部分β 工件路 A109.如態樣99之方法，苴冶 土 万决，其進一步包含以下步跡· 化在工件之一位置處與另— 驟.變 度。 興另纟置處相比較的相對運動之速 AU0.如態樣1G8之方法，其中該引起相對運 包含沿工件路徑且在遮蔽材料上方移動管支步驟 ^ 進·—步 57 201032906 其中在該配給端在該遮蔽材料上方的同時進行該配給含有 液體之材料之步驟，以使得材料配給至遮蔽材料上。 A111.如態樣1〇8之方法，其進一步包含以下步驟：在 該管之該配給端已沿一工件路徑經過之後且在使其沿另一 工件路徑經過之前’使該管之該配給端穿過一清潔浴。 A112.如態樣99之方法，其進一步包含藉由施加壓力來 調節含有液體之材料之流動。 A113.如態樣99之方法，其進一步包含以下步驟：提供 至少兩個工件，其經對準以使得每一者之一實體工件路徑 大致上共線，其中該引起相對運動之步驟包含：同時引起 該管之支撐端與至少兩個工件中之每一者之間的相對運 動，及使該可撓管之配給端與該至少兩個工件中之一第一 者之實體工件路徑嚙合，且接著與該至少兩個工件中之另 一者之實體工件路徑嚙合，而不在行進之結束時顯著地使 相鄰於該等工件中之該第一者之配給管減速，且不使相鄰 於該至少兩個工件中之另一者之配給管加速。 A114.如態樣99之方法，該工件路徑包含一蜿蜒路徑， 該引起相對運動之步驟包含引起一具有一大致上悝定之速 度量值之相對運動。 已描述本文中揭示之發明’所主張的内容係如申請專 利範圍所述。 【圖式簡單說明】 圖1為承載載運金屬化指狀物之凹槽的具有紋理的光 58 201032906 電器件的不意性表示，如本文中所描述； 配給毛細管的示 圖2為顯示搁置在凹槽之底表面上之 意性表示； 圖2A為圖2之區域A之放大視圖； 圖3為具有直徑大於被配給材料之凹槽之 橫截面之配給毛細管的示意性表示； 圓九 圖3A為圖3之區域a之放大視圖； © ® 4為顯示部分地由所配給液體自身之毛細作用固持 於凹槽中之配給毛細管的示意性表示； 、 圖5A為顯示接近具有三角形引人特徵部對準引導件之 凹槽之配給毛細管的示意性表示； ' 圖5B為顯示具有由在凹槽末端處會合之兩個成角凹槽 構成的引入特徵部對準引導件的凹槽的示意性表示； 圖6示意性地顯示具有橢圓形橫截面之毛細配給管； 圖7不意性地顯示具有經切划&曰士 Λ、丨* 丹，'生切割而具有斜邊之圓形橫截 ❿ 面的毛細配給管； 圖8示意性地顯示橫貫一凹槽之毛細配給管，該凹槽 具有間隔開之成角對準引導恢復特徵部以幫助周遊配給管 返回至所要路徑； 圖9以兩個子部分圖9Α、圓处示意性地顯示將輔助 沿-預期工件路徑引導-配給毛細管之工件表面恢復特徵 部圖案’其中圖9Α顯示無用於預期工件路徑之凹槽，且圖 圖 10示意性地顯示具有一 起移動之複數個配給毛 細管 59 201032906 的配給裝置； 圖10A為圖10中之A處所示之部分的放大視圖； 圖11不意性地顯示一具有配置於轉鼓之周邊周圍的用 於沈積之複數個工件的旋轉裝置及嚙合工件之凹槽之單一 毛細配給管； 圖11A示意性地顯示圖丨1在A處之部分之放大視圖； 圖12示意性地顯示具有單一配給毛細管之呈蜿蜒圖案 之金屬化指狀物； 圖13示意性地顯示-配置，其中超出工件路徑凹槽之 末端的工件之邊緣由-材料薄層豸蔽以防止所配給液體接 觸工件之邊緣，即使跨越邊緣區域拖良配給毛細管時亦如 此，且亦顯示一清潔浴；及 圖14示意性地顯示具有金屬化指狀通道之工件，該金 屬化指狀通道具有沿其長度變化之寬度，該通道可使用根 據就此進行之發明配給之材料處理； 圖15示意性地顯示-撓曲毛細配給管，其將含有㈣ 之材料配給於具有凹坑之六角形陣列之工件上之凹槽中； 圖16以方塊圖形式顯示適用於理解對準及循 問題的概念·， 度 圖Π示意性地顯示-具有循跡特徵部之撓曲毛細心 管，其係在具有凹坑之六角形陣列之工件上； α 圖18示意性地顯示一毛細管，装截 其载運在接近於配給端 之一位置處具有修圓面的循跡特徵部； ’ 圖19示意性地顯示一具有1磁社 頁八磁陡粒子之循跡特徵部之 60 201032906 撓曲毛細配給管，其係在一由被磁性粒子吸引之金屬板支 撐的具有凹坑之六角形陣列之工件上； 圖20A至圖20D顯示示意性地說明雙向地移動之毛細 配給管之序列，其中其支撐端維持相對垂直於工件之平 面’如圖所示垂直； 圖21A至圖21D顯示示意性地說明雙向地移動之毛細 配給管之序列，其中其支撐端自一進程至另一進程歷經垂 ❹ 直於工件而旋轉； 圖22示意性地顯示在一位置處載運一平坦面循跡特徵 部之毛細管； 圖23示意性地顯示一毛細管，其載運藉由在一位置處 將一引線黏附至一管之末端而製成之循跡特徵部； 圖24示意性地顯示一毛細管，其载運在沿配給管之實 質長度之兩個位置處具有修圓面的循跡特徵部； 圖25示意性地㈣—毛細管，其朗在接近於管之配 端之兩個位置處具有平坦面的循跡特徵部； 圖26示意性地顯示-撓曲毛細配給管，其將含有液體 之材料配給於具有凹坑之六角形陣列之工件上之凹槽中， 其中該等凹槽配置成具有三個並排凹槽之群組； 圖27示意性地顯示用於經由毛細配給管配給含有液體 材料之裝置，其顯示二個具有三個配給管之層級 配置以將材料處理至沿—傳送裝置經過該等層級的工件Γ 圖27A顯示圖27所示之裝置之端視囷； 圖27B顯示圖27所示之裝置之平面圈，· 61 201032906 圖28示意性地顯示由一球窩接頭支撐之相對不可撓毛 細配給管； 圖29A以平面圖示意性地顯示一毛細配給管其具有 接近於其支撐端之捲曲，從而供應可撓性至一以其他方 式相對不可挽之管； 圖29B以正視圖示意性地顯示圖29a所示之捲曲毛細 配給管；及 圖30示意性地顯示一具有可撓定位元件之裝置，該可 撓定位元件為與流體配給元件不同之實體元件。 【主要元件符號說明】 126 :凹槽 14〇 :太陽能電池 142 :具有紋理的表面 144 :母線 146 :金屬化指狀物 _ 240 :工件/相對運動器件 241 :相對運動器件/相對運動驅動機構 241 a :相對運動器件之部分 241b:相對運動器件之部分 242 :具有紋理的表面 256 :凹槽 258 :凹槽之底部 259 :凹槽之側壁 62 201032906 260 :配給毛細管 261 :配給管之配給端 264 :所配給液體 342 :具有紋理的表面 343 :光捕捉紋理凹坑 356 :凹槽 359 :壁 3 6 0 :配給毛細管 361 :凹槽之頂部邊緣 540 :工件 556 :凹槽 5 60 :配給毛細管 566 :三角形引入特徵部 567 :引入特徵部 567a :引入凹槽/軌道 567b :引入凹槽/執道 567r:輻射式過渡區 656 :凹槽 6 6 0 :配給毛細管 757 :尖端 7 6 0 :配給毛細管 856 :凹槽 860 :配給毛細管 867 :對角線凹槽 63 201032906 956 :凹槽 1056 :分離凹槽/指狀物 1060:聚合配給管 1060a至1060〇:配給毛細管/指狀物 1060a :配給毛細管 1063:鋼管 1065 :支撐總成 1140a 至 1140c :晶圓 11 6 0:配給毛細管 1163 :鋼管 1167 :主體 1170 ··轉鼓 1256 :金屬化指狀凹槽 1260 :配給毛細管 1356 :凹槽 13 60 :毛細配給管 1366 :引入特徵部 1382 :遮蔽材料 1386 :清潔浴/液體浴/液體 1388 :貯集器之外邊緣 1390 :超音波產生器 1392 :貯集器之内邊緣 1440 :晶圓 1444 :母線 64 201032906 1445 :電流收集點 1446 :凹槽/金屬化指狀物 14 6 0:撓曲毛細配給管 1540 :工件 1542 ：六角形陣列 1543 :凹坑 1556 :凹槽 1556e :凹槽 1556f :凹槽 1560 :配給毛細管 1 5 61 :配給端 1564 :所配給液體材料 1571 :凹槽之邊緣 1602 :數學理想工件路徑 1604 ：實體工件路徑 1606 :數學相對運動路徑 1608 :數學無約束配給端路徑 1610:實體無約束配給端路徑 1756 :凹槽 1760 ··配給管 1790 :澆鑄突起特徵部 1860 :配給管 1861 :管之配給端 1890:澆鑄突起特徵部/圓形圓柱體 65 201032906 1893 :修圓面 1940 :工件 1960 ··配給管 1990 :澆鑄特徵部 1991 :板 2040 :工件 2056 :工件路徑凹槽 2060 :配給管/毛細管 2061 :配給端 2063 :支撐端 2140 :工件 2160 ：配給毛細管 2163 :配給管之支撐端 2260 :配給管 2261 :管之配給端 2290 :圓形圓柱體 2293 :平坦面 2360 :配給管 2361 :管之配給端 2390 :引線 2460 :毛細配給管 2461 :管之配給端 249(^ :循跡特徵部 24902 :循跡特徵部 66 201032906 2561 :配給端 259(h :循跡特徵部 25902 :循跡特徵部 2656 ··主凹槽 2656s :額外凹槽/相鄰凹槽 2661 :介入邊緣 2664:沈積材料

2740:工件 2760:配給毛細管 2760a :層級 2760b :層級 2760c :層級 2856 :凹槽 2860 :配給管 2868 :不漏流體之柩轉球窩接頭 2869:不漏流體之樞轉球窩接頭 2880 :彈性彈簧元件 2960 :配給端 2969 ：大致橢圓形捲曲區域 3040 :工件 3056 :凹槽 3060 :流體配給管道 3 0 61 :配給端 3080 :可撓定位元件 67 201032906 3081 :循跡端 3082 :支撐端 3090 :流體貯集器 A .區域 D :直徑 d!:相對端/位置/點 d2 :相對端/接觸點 X :轉鼓之軸

Claims (1)

1. 201032906 七、申請專利範圍： 1. 一種用於將一含有一液體之材料配給至一半導體工 件之一具有紋理的表面之裝置，該裝置包含： a. —工件支撐件，其經組態以支撐一工件； b. —相對運動器件； C，具有支樓&及一配給端之可挽配，給管，該配給端 包含一循跡特徵部，該支撐端經由一管支撐件耦接至該相 對運動器件； 〇 d.該相對運動器件經組態以引起該管之該配給端相較 於該工件支撐件沿一實體無約束配給端路徑之相對運動， 該管之可撓性經選擇以使得在該循跡特徵部與一由該支撐 件支撐之工件之一具有紋理的表面的一實體工件路徑之嚙 合及該相對運動器件之致動之下，該管之該配給端機械式 地沿該實體工件路徑循跡而行。 2. 如申請專利範圍第丨項之裝置，該循跡特徵部經定大 ❹小並成形以機械式地沿-由—工件之一具有紋理的表面界 定之實體工件路徑循跡而行。 3. 如申請專利範圍帛i項之裝該循跡特徵部包含一 在該管之一橫截面廣度之至少一端處的突起。 4. 如申請專利範圍第3項之裝置，該實體工件路徑且有 一最小特性寬度’該循跡特徵部具有一小於該實體工:路 徑最小特性寬度之特性寬度。 5. 如申請專利範圍第3項之裝置，該實體工件路 一特性寬度，該管具有-小於該實體工件路徑特性寬度之 69 201032906 約十倍的直徑。 6.如申請專利範圍第1項之裝置’該可撓管之該可撓性 經選擇以准許該管之該配給端機械式地沿一實體工件路徑 循跡而行，而不管該實鱧工件路徑與該實體無約束配給端 路徑之間的一誤差。 7.如申請專利範圍第1項之裝置其 額外可撓管，其中之每一者緊固至該管支撐件

   8.如申請專利範圍第丨項之裝置該工件支撐件包含_ =疋架’ It固定架維持至少兩個工件相對於彼此固定以^ 得每一者之一實體工件路徑大致上共線。 •種用於將一含有液體之材料配給至一半導體工j 2具有紋理的表面之裝置，該裝置包含-具有L 及-配給端之可撓管，該配給端包含—機械式循跡特徵部 〇.如巾请專職圍第9項之裝置，該循跡特徵部經; 之實^成形以機械式地沿-由-具有紋理的工件表面界; 貫體工件路徑循跡而行。

   如申凊專利範圍第9項之裝置該管在其配給端』 /、有一非圓形橫戴面。 一乂2.如申請專利範圍第9項之裝置，該循跡特徵部包> 在該管之-橫截面廣度之至少—端處之突起。 材料。如中4專利範圍帛12項之裝置，該突起包含-耐】 12項之襞置，該突起包含一磁吸 14.如申請專利範圍第 引材料》 70 201032906 〗5.如申請專利範圍第12項之裝置，該可撓管具有大致 上垂直於一媒产 立 積向廣度之一長軸及該橫向廣度，該循跡特徵 p具有小於該管之該橫向廣度之橫向廣度。 如申請專利範圍第12項之裝置，該循跡特徵部包含 兩個循跡特傲>- . ^ 徵4 每一者為一在該至少一橫截面廣度之相 對端處之突起。 一 如中請專利範圍第9項之裝置，該循跡特徵部包含 © —沿該管之外部的延伸肋’其大致上平行於該可撓管的一 轴。 18.如_請專利範圍第9項之裝置，該可撓管包含-選 由、下各者組成之群之材料：聚合物、聚酿亞胺玻璃、 石英、金屬及不鏽鋼。 19· 一種具有圏案的工 一 於其上，該工件包含3有液體之材料待沈積 a·—具有一第一表面之半導體主體； Φ b. 一對該第—表面定邊界之周邊邊緣； c 古-在該第一表面上之實體工件路徑其包含具有一比 尺寸長的相對較長尺寸的至少一凹槽， 步包含至少一對準引導件。 干進 20.如申請專利範圍第19項之工件該至少一凹 複數個大致上平行之凹槽。 β 3 2!如申請專利範圍第19項之工件該 件包含一在該凹槽之至少一端處之引入特㈣。、準引導 22.如申請專利範圍第”項之工件該至少一凹槽包含 71 201032906 複數個平行凹槽。 23. 如申請專利範圍第21項之工 含選自由以fLi # &特徵部包 珉之群之特徵部：-開放三角空間、 一人子紋、一楔形物及一對成角凹槽。 24. 如申請專利_ 19項之工件該i少一 件包含-相鄰於該實體卫件路徑之恢復特徵部。 25. 如申請專利範㈣19項之卫件，每_至少—

   有兩個末端’其進__步包含—在每—此末端處之遮罩。、 26·—種具有圖案的半導體物品，該物品包含： a.—具有一第一表面之半導體主體； b. —對該第一表面定邊界之周邊邊緣； c. 在該第一表面上之至少一凹槽其具有一比一垂直 寸長的相對較長尺寸，該工件進一步包含至少一對準 件，該凹槽承載—沿大致上其整個長度之金屬化件。 27. 如申請專利範圍第26項之半導體物品該至少一凹 槽包含複數個大致上平行之凹槽。

   28. 如申請專利範圍第26項之半導體物品該至少一對 準引導件包含一在該凹槽之至少一端處之引入特徵部。 29. 如申請專利範圍第28項之半導體物品該引入特徵 部包含一選自由以下各者組成之群之特徵部：人字紋、楔 形物及成角凹槽對。 ' 30. 如申請專利範圍第26項之半導體物品，該至少一對 準引導件包含一相鄰於該至少一凹槽之恢復特徵部。 31. —種用於將一含有一液體之材料提供至一半導體工 72 201032906 啷之一具有紋理的表面之方法，該方法包含以下步驟： a. 提供一半導體工件，該半導體工件具有一界定一實體 工件路徑之具有紋理的表面； b. 提供一具有一支撐端及一配給端之可撓管，該配給端 應定大小並成形以機械式地沿該實體工件路徑循跡而行； c. 嚙合該可撓管之該配給端與該實體工件路徑； d·在該配給端與該具有紋理的表面之間建立一正接觸 I 作用力； © e. 將含有液體之材料提供至該可撓管且使該含有液體 之材料自該管配給至該工件之該具有紋理的表面；及 f. 引起該管之該配給端相較於該工件路徑之相對運 ' 動，以使得該配給端機械式地沿該實體工件路徑而行，同 時該含有液體之材料沿該實體工件路徑配給至該工件上。 32.如申請專利範圍第31項之方法，該引起相對運動之 步驟包含使該配給端遵循一實體無約束配給端路徑，該實 © 體無約束配給端路徑相對於該實體工件路徑偏離_誤差， 該管之可撓性經選擇以使得不管該誤差如何，該管之該配 給端均機械式地沿該實體工件路徑循跡而行。 " 33·如申請專利範圍第31項之方法，該建立一正接觸作 用力之步驟包含藉由以下步驟將該可撓管之該配給端向該 具有紋理的表面預負冑：使該可撓管t該支揮端進一步= 該具有紋理的表面前進，在該管與該工件已進行接 後’將一撓曲施加至該管。 之 34.如申請專利範圍第31項之方法，該實體工件路徑包 73 201032906 含一凹槽。 3 5.如申請專利範圍第31項之方法，其進一步包含以下 步驟：在該管之該配給端已沿一工件路徑經過之後且在使 其沿另一工件路徑經過之前，使該管之該配給端穿過一清 潔浴。 八、圖式： (如次頁） 74