TW201030022A - Architectural articles comprising a fluoropolymeric multilayer optical film and methods of making the same - Google Patents

Description

201030022 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明概括而言係關於一種包含多層光學膜之建築物品 及製造與使用前述者之方法。 【先前技術】 聚合材料尤其基於其可撓性、光學性質及重量而提供優 於傳統建築構造材料之優勢。 舉例而言，在溫室應用中，建造用於結構性支撐之框架 Φ (例如金屬或塑膠）且將膜片材（例如200-500微米厚）覆蓋在 該框架構造上。膜片材通常包含1至3層聚乙烯，同時其中 一個層可經改質以添加功能性（例如防霧特徵）或添加耐久 性（諸如抗撕裂性或抗穿刺性）。聚乙烯為可供選擇之材 料，此係因為其不僅便宜且易於處理，而且其在較低波長 下具有與玻璃類似之透射率且在較高波長（諸如紅外線 具有比玻璃高之透射率。然而，聚乙烯在惡劣天氣條件中 存放期會變短，該等天氣條件會改變膜之機械及光學性 質。舉例而言，諸如由Alhamdan等人在《/owrwa/ 〇/ /Vocewiwg Tfec/mo/ogy 第 209卷，第 1期，第 63-69頁中描述’ . UV(紫外線）輻射會被聚乙烯吸收，此會引起膜氧化及機械 故障。可例如藉由添加UV吸收劑來改質聚乙烯膜以改良 UV抗性，然而為了不改變膜之機械完整性且/或出於成本 目的，通常添加有限量之UV吸收劑。 在另一實例中，在2008年北京奥運會期間使用之北京國 家游泳中心（Beijing National Aquatic Center)用乙烯與四氟 145488.doc 201030022 乙烯（ETFE)之共聚物之襯墊構造覆蓋。在襯墊構造物中， 藉由將ETFE膜片材沿邊緣焊接在一起且以氣體填充而將 該等片材製作成墊塊。隨後將此等墊塊夾持於支撐框架 中。雖然ETFE膜對於UV輻射為穩定的且可透過uV、可見 及IR(紅外線）輻射，但是建築物中之物體吸收IR區域（例如 800-1300 nm)内之地球太陽輻射會使使用ETFE膜之建築物 内部過度變熱。因此，通常將在建築構造中使用之etfe 膜改質以減少IR傳輸。此等改質包括：將圖案（例如圓 點、正方形、十字形等）印刷至ETFEM上或用瓜阻擋油墨 或金屬或金屬氧化物化合物塗布整個ETFE膜或其一部 分。此等改質不但減少進入建築物之IR輻射，而且其亦傾 向於減少進入建築物之所有輻射（包括UV及可見輻射），該 等輕射會影響透明度。另外，金屬及金屬氧化物化合物會 干擾諸如行動電話之廣播信號。 已使用包含多層光學膜之聚合構造來覆蓋玻璃片。舉例 而δ ’已使用IR鏡面膜來背面覆蓋玻璃窗以減少進入建築 物之太陽熱負荷。然而’此等IR鏡面膜使用汽化金屬層， 其可能不僅僅阻擋IR輻射。此外，在傳統上，多層光學膜 係由非氣化聚合材料之交替層構造而成，該等交替層具有 超過0.1之折射率差’例如具有〇25之折射率差之聚2,6萘 一曱酸乙二酯與聚（曱基丙烯酸甲酯）；及具有〇14之折射 率差之聚對苯二曱酸乙二酯與（自丙烯酸曱酯及丙烯酸乙 酯獲得之共聚物）。 【發明内容】 145488.doc 201030022 簡σ之’在—實施例中’本發明提供一種包含具有光學 堆叠之多層光學膜的建築物品其中該光學堆疊包含複數 個第一光學層及以重複序列與該複數個第一光學層一起安 置之複數個第二光學層，其中該複數個光學層中之至少一 者包含氟聚合材料且該光學堆疊具υν穩定性。 在一實施例中，本發明提供在襯墊構造物或張力構造物 中之本發明之多層光學膜。 在另一實施例中，本發明提供一種使用本發明之建築物 °°的方法，其中該方法包含在屋頂、外觀、牆壁、外殼、 窗戶、天窗、中庭或其組合之構造中使用該建築物品。 在另—實施例中，本發明提供一種製造建築物品之方 法’其包含使具有第一折射率之第一光學層與具有第二折 射率之第二光學層交替以構造一包含複數個層之光學堆 疊’其中該第一折射率不同於該第二折射率，該等光學層 中之至少一者包含氟聚合材料，且該光學堆疊具UV穩定 性。 有利的是’與使用聚合材料之其他建築物品相比，此等 新賴建築物品可提供改良之效能’包括例如改良之透明 度、UV及/或風化穩定性、降低之可燃性及/或爪反射性。 以上概述不意欲描述每一實施例。本發明之一或多個實 施例之詳情亦闡述於以下描述内容中。根據本說明書及申 明專利範圍，其他特徵、目標及優勢將為顯而易知的。 【實施方式】 如本文中所用，術語 I45488.doc 201030022 」°亥」及「…中之至少一者」可互換使用且意謂 一或多個（種）； 「及7或」帛於指示可能發生一或兩種所述情況，例如A 及/或B包括（A及B)及（A或B); 「互聚合」係指單體聚合在一起形成大分子化合物； 共聚物j係指一種包含至少兩種不同互聚合單體（亦 即該等單體不具有相同化學結構)且包括例如三元共聚物 (二種不同單體）或四元共聚物（四種不同單體）之聚合材 料； 「聚合物」係指一種包含相同單體（均聚物）或不同單體 (共聚物）之互聚合單體的聚合材料； 「光」係指具有200 nm至2500 nm範圍内之波長的電磁 輕射。 「可炫融加工J係指一種聚合材料在正常加工設備（諸 如擠壓機）中，在溶融、加熱及/或施加壓力後可流動；且 「光學層」係指一種厚度為欲反射之光波長的約四分之 一之材料層。 圖1A展示本發明之一個例示性實施例。多層光學膜1〇〇 包含光學堆疊14〇及視情況選用之其他層，諸如視情況選 用之保護邊界層12〇及122，及視情況選用之表層π〇及 150 ° 參看圖1B可更好地瞭解光學堆疊14〇。光學堆疊14〇包含 第一光學層160a、160b、...、160η(共同為第一光學層 160) ’其與第二光學層162a、162b、 、ι62η(共同為第二 145488.doc -6 - 201030022 光學層162)緊密接觸。 複數個第一或第二光學層中之至少一者包含氟聚合材 料。在一些實施例中，第一與第二光學層皆包含氟聚合材 料。本發明所涵蓋之氟聚合材料包括由完全或部分氟化單 體之互聚合單元獲得的可熔融加工型氟聚合物且可為半晶 質或非晶形的。氟聚合材料可包括以下單體中之至少一 者：四氟乙烯（TFE)、偏二氟乙烯（VDF)、氟乙烯（VF)、六 氟丙稀（HFP)、氣三氟乙烯（CTFE)、氟烷基乙烯基醚、氟 . 烷氧基乙烯基醚、氟化苯乙烯、氟化矽氧烷、六氟環氧丙 烷（HFPO)或其組合。 例示性氟聚合材料包括：TFE之均聚物（例如PTFE)、乙 烯與TFE共聚物之共聚物（例如ETFE) ; TFE、HFP及VDF之 共聚物（例如THV) ; VDF之均聚物（例如PVDF) ; VDF之共 聚物（例如coVDF) ; VF之均聚物（例如PVF) ; HFP及TFE之 共聚物（例如FEP) ; TFE及丙烯之共聚物（例如TFEP) ; TFE 及（全氟乙烯基）醚之共聚物（例如PFA) ; TFE、（全氟乙烯 基）醚及（全氟曱基乙烯基）醚之共聚物（例如MFA) ; HFP、 TFE及乙烯之共聚物（例如HTE);氯三氟乙浠之均聚物（例 - 如PCTFE);乙烯及CTFE之共聚物（例如ECTFE) ; HFPO之 、 均聚物（例如PHFPO) ; 4-氟-(2-三氟甲基）苯乙烯之均聚 物；TFE及降冰片烯之共聚物；HFP及VDF之共聚物；或 其組合。 在一些實施例中，上述代表性可熔融加工型共聚物 包括可經氟化或未經氟化之其他單體。實例包括：在 145488.doc 201030022 聚合條件下經歷開環之開環化合物（諸如3或4員環）， 例如環氧化物；烯烴單體，諸如丙烯、乙烯、偏二氟乙 烯、氟乙烯及降冰片烯；及式CF2=CF-(OCF2CF(Rf))aOR'f 之全氟（乙烯基醚），其中Rf為具有1至8個、通常為1至 3個碳原子之全氟烷基，R'f為具有1至8個、通常為1至 3個碳原子之全氟脂族基、通常為全氟烷基或全氟烷氧 基，且a為0至3之整數。具有此式之全氟（乙烯基醚）之 實例包括：CF2=CFOCF3、CF2=CFOCF2CF2CF2OCF3、 CF2=CFOCF2CF2CF3、CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3 及 CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3。尤其適用 者可為包含至少三種或甚至至少四種不同單體之可熔融加 工型氟聚合物。 氟聚合材料在性質上可為半晶質或非晶形的。舉例而 言，視TFE、HFP及VDF之比率而定，氟聚合材料可為半 晶質或非晶形的。關於進一步的論述，請參見Arcella，V. 及 Ferro R.之 Modern Fluoroplastics，Scheirs·，J.編，John Wiley and Sons, NY, 1997，第 77 頁。 以上論述之四氟乙烯及其他單體之例示性可熔融加工型 共聚物包括如下可購得之彼等者：以商標「DYNEON THV 220」、「DYNEON THV 230」、「DYNEON THV 500」、 「DYNEON THV 500G」、「DYNEON THV 510D」、

「DYNEON THV 610」、「DYNEON THV 815」、「DYNEON THVP 2030G」由 Dyneon LLC·, Oakdale, MN 出售之四氟乙 烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物；以商標「DYNEON 145488.doc 201030022 ΗΤΕ 1 5 1 0」及「DYNEON ΗΤΕ 1 705」由 Dyneon LLC.出售 以及以「NEOFLON EFEP」由 Daikin Industries, Ltd., Osaka, Japan出售之四氟乙稀、六氟丙浠及乙烯之共聚 物；以商標「AFLAS」由 Asahi Glass Co.，Ltd., Tokyo, Japan出售之四氟乙稀、六氟丙稀及乙稀之共聚物；以商 標「TEFLON AF」由 E.I. du Pont de Nemours and Co., Wilmington, DE出售之四氟乙稀及降冰片烤之共聚物；以 商標「DYNEON ET 6210A」及「DYNEON ET 6235」由 • Dyneon LLC.出售、以「TEFZEL ETFE」由 E.I· du Pont de Nemours and Co.出售以及以「FLUON ETFE」由 Asahi Glass Co·, Ltd.出售之乙稀及四氟乙烯之共聚物；以商標 「HALAR ECTFE」由 Solvay Solexis Inc·, West Deptford, NJ出售之乙烯及氯三氟乙烯之共聚物；以商標「DYNEON PVDF 1008」及「DYNEON PVDF 1010」由 Dyneon LLC. 出售之偏二氟乙烯之均聚物；以商標「DYNEON PVDF 11008」、「DYNEON PVDF 605 12」、「DYNEON FC-2145」 (HFP及VDF之共聚物）由Dyneon LLC.出售之聚偏二氟乙烯 之共聚物；以商標「DUPONT TEDLAR PVF」由E.I. du * Pont de Nemours and Co.出售之氟乙稀之均聚物；以商標 . 「HYFLON MFA」由 Solvay Solexis Inc.出售之MFA ;或其 組合。 在一些實施例中，光學堆疊可包含複數個多種大體上透 明之非氟化可熔融加工型聚合材料，其包括由以下之互聚 合單元獲得之均聚物或共聚物：以下單體中之至少一者： 145488.doc 201030022 丙烯酸酯、烯烴、苯乙烯、碳酸酯、乙酸乙烯酯、偏二氣 乙烯、二甲基矽氧烷及矽氧烷；以下官能基中之至少一 者：胺基曱酸酯及聚酯；或其組合。 例示性非氟化可熔融加工型聚合材料包括例如聚矽氧樹 脂；環氧樹脂；丙烯酸酯共聚物；乙酸酯共聚物；聚丙烯 腈；聚異丁烯；熱塑性聚酯；聚丁二烯；醯胺共聚物；醯 亞胺共聚物；聚氣乙烯；聚醚砜；對苯二甲酸酯共聚物； 乙基纖維素；聚曱醛；聚（甲基丙烯酸甲酯）；聚（曱基丙烯 酸甲酯）之共聚物；聚丙烯；丙烯之共聚物；聚苯乙烯， 包括例如間規聚笨乙烯、等規聚苯乙烯、無規聚苯乙烯或 其組合；苯乙烯之共聚物，諸如丙烯腈、苯乙烯及丙烯酸 酯之共聚物（ASA);聚偏二氣乙烯；聚碳酸酯；熱塑性聚 胺基曱酸酯；乙烯之共聚物；環狀烯烴共聚物；及其組 合。 例示性非氟化聚合材料包括諸如以下之彼等者：以商標 CP71」及「CP80」由 Ineos Acrylics, Inc., Wilmington, DE出售之聚（曱基丙烯酸曱酯）；由75重量百分比之甲基丙 烯酸甲酯及25重量百分比之丙烯酸乙酯製成、以商標 「PERSPEX CP63」由 lneos Acrylics, Inc·出售之聚（甲基丙 烯酸甲酯）之共聚物及由曱基丙烯酸甲酯及甲基丙烯酸正 丁醋製成之共聚物；聚丙烯，包括無規聚丙浠及等規聚丙 烯；由聚丙烯及順丁烯二酸酐製成且以商標r ADMER」 由 Mitsui Chemicals America Inc.，Rye Brook，NY出售以及 作為無規聚丙稀與等規聚丙烯之共聚物且以r REXFLEx 145488.doc -10. 201030022

Will」由 Huntsman Chemical Corp.，Salt Lake City, UT出 售之聚丙烯共聚物；以商標「STYRON」由Dow Chemical Co·, Midland，MI出售之聚苯乙烯；作為苯乙稀與乙腈之共 聚物且以商標「TYRIL」由Dow Chemical Co.出售、作為 丙烯腈、苯乙烯及丙烯酸酯之共聚物且以「STAREX」由 Samsung, La Mirada, CA出售之聚苯乙稀共聚物以及可自 Noveon(Lubrizol Corp·，Wickliffe，OH之子公司）獲得之苯 乙烯與丙烯酸酯之共聚物；以商標「SARAN」由Dow ® Chemical Co.出售之PVDC ;以商標「CALIBRE」由 Dow Chemical Co.出售之聚碳酸酯；以商標「STATRITE X5091」由 Lubrizol Corp.出售、以「ELASTOLLAN」由 BASF Coip.，Freeport, TX出售以及可自 Bayer MaterialScience， AG, Leverkusen, Germany獲得之熱塑性聚胺基曱酸醋；作 為乙烯與辛烯之共聚物且以商標「ENGAGE 8200」由Dow Chemical Co·出售、作為乙婦與乙酸乙浠醋之共聚物且以 「DUPONT ELVAX」由 E.I. du Pont de Nemours and Co.出 售、作為乙烯與丙烯酸酯（包括丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯 及丙烯酸甲酯）之共聚物（EBA、EEA及EMA)且以 ‘「DUPONT ELVALOY」由 E.I. du Pont de Nemours and Co. 出售以及作為乙烯共聚物以「DUPONT BYNEL」由E.I. du Pont de Nemours and Co.出售之聚乙烯共聚物；作為乙烯 與降冰片烯之共聚物、以商標「TOPAS COC」由Topas Advanced Polymers，Florence, KY 出售之環狀稀烴共聚 物；或其組合。 145488.doc 201030022 再次參看圖IB，第二光學層162以重複序列與第一光學 層160 —起安置。如圖1B中所示，層對（例如其中第一光學 層160為A且第二光學層162為B)可排列為交替層對（例如 ABABAB...)。在其他實施例中，層對可與諸如第三光學層 C之中間層一起排列（例如ABCABC...)或以非交替方式排列 (例如 ABABABCAB.·.、ABABACABDAB··.、ABABBAABAB… 等）。通常，層對排列為交替層對。 在一個實施例中，各第一光學層包含一包括四氟乙烯之 互聚合單體之可熔融加工型共聚物；且各第二光學層包含 選自由以下組成之群之非氟化聚合材料：聚（甲基丙烯酸 甲酯）；聚（甲基丙烯酸甲酯）之共聚物；聚丙烯；丙烯之共 聚物；聚苯乙烯；苯乙烯之共聚物；聚偏二氣乙烯；聚碳 酸酯；熱塑性聚胺基甲酸酯；乙烯之共聚物；環狀烯烴共 聚物；及其組合。另外，可熔融加工型共聚物不為氟化乙 烯-丙烯共聚物或全氟烷氧基樹脂，其中氟化乙烯-丙烯共 聚物（亦即FEP)係根據ASTM D 2116-07「FEP-碳氟化合物 模製及擠出材料之標準規範（Standard Specification for FEP-Fluorocarbon Molding and Extrusion Materials)」所定義且 折射率為1.34，並且全氟烷氧基樹脂（亦即PFA)係根據 ASTM D 3307-08「全氟烷氧基（PFA)-氟碳樹脂模製及擠出 材料之標準規範（Standard Specification for Perfluoroalkoxy (PFA)-Fluorocarbon Resin Molding and Extrusion Materials)」 所定義且折射率為1.35。然而，涵蓋超出ASTM D 2116-07 及ASTM D 3307-08之外包括四氟乙烯及六氟乙烯及/或乙 145488.doc -12- 201030022 烯基醚之聚合材料。關於更多詳情，請參見伴隨申請之美 國臨時申凊案第61/141572號（代理人案號64819US002)， 該臨時申請案以引用的方式併入本文中。 • 在另一實施例中，各第一光學層及各第二光學層包括氟 聚α材料關於更多詳情，請參見伴隨申請之美國臨時申 請案第61/141591號（代理人案號64817us〇〇2)，該臨時申 請案以引用的方式併入本文中。 本發明之例示性層對包括例如聚（甲基丙烯酸甲酯）與（六 氟丙烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物）之層對；聚（甲基丙烯 酸甲酿）與（四氟乙缔、六氟丙烯及偏二氣乙稀之共聚物）之 層對；聚碳酸酯與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之 共聚物）之層對；聚碳酸酯與（六氟丙烯、四氟乙烯及乙稀 之共聚物）之層對；聚碳酸酯與（乙烯及四氟乙烯之共聚物） 之層對；聚丙烯之共聚物與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏二 氟乙烯之共聚物）之層對；聚丙烯與（六氟丙烯、四氟乙烯 • 及乙烯之共聚物）之層對；聚苯乙烯與（四氟乙烯、六氟丙 烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對，包括間規聚苯乙烯與 (四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對；聚 苯乙烯之共聚物與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之 共聚物）之層對；聚苯乙烯之共聚物與（六氟丙烯、四氟乙 烯及乙烯之共聚物）之層對；聚乙烯之共聚物與（四氟乙 稀 /、氣丙婦及偏一氣乙細之共聚物）之層對；聚乙稀之 共聚物與（六氟丙稀、四氟乙烯及乙烯之共聚物）之層對； (丙稀猜、本乙稀及丙稀酸醋之共聚物）與（四氟乙稀、六氟 145488.doc •13· 201030022 丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對；（丙烯腈、苯乙烯及 丙稀酸酯之共聚物）與（六氟丙烯、四氟乙烯及乙烯之共聚 物）之層對；環狀烯烴共聚物與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏 二氟乙烯之共聚物）之層對；環狀烯烴共聚物與（六氟丙 烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物）之層對；熱塑性聚胺基甲 酸酯與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層 對’偏二氟乙烯之均聚物與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏二 氟乙烯之共聚物）之層對；（乙烯及氯三氟乙烯之共聚物）與 (四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對；（四 氟乙烯、六氟丙烯及乙烯之共聚物）與（四氟乙烯、六氟丙 烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對；（四氟乙烯、六氟丙烯 及乙烯之共聚物）與（乙烯及四氟乙烯之共聚物）之層對； (四氟乙烯、六氟丙烯及乙烯之共聚物）與四氟乙烯及降冰 片烯之共聚物之層對；（乙烯及四氟乙烯之共聚物）與（四氟 乙稀、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對；或其組 合。 藉由對第一光學層及第二光學層作適當選擇，光學堆疊 140可經設計以反射或透射所需帶寬之光。根據以上討 論，應瞭解，第二光學層之選擇不僅依賴於多層光學膜之 預定應用，而且依賴於對第一光學層所作出之選擇以及加 工條件。 當光穿過光學堆疊140時，光或光之某一部分透射通過 光學層，為光學層所吸收，或自光學層之間的界面反射 掉。 145488.doc 14- 201030022 透射通過光學層之光與吸收率、厚度及反射率有關。透 射率（T)與吸收率（A)之相關性在於A=-log T，且％Α+%Τ+% 反射率=100%。在光學層之間的各界面處產生反射。再次 參看圖1Β，第一光學層160及第二光學層162分別具有不同 之相應折射率η,及ns。光可在相鄰光學層之界面處，例如 在第一光學層160a與第二光學層162a之間的界面處；及/或 在第二光學層162a與第一光學層i60b之間的界面處被反 射。在相鄰光學層之界面處未經反射之光通常穿過連續層 ❹ 且在後續光學層中被吸收、在後續界面處被反射或完全透 射通過光學堆疊140。通常，對特定層對之光學層進行選 擇以便實質上可讓需要進行反射之彼等光波長透過。在層 對界面處未經反射之光傳輸至下一層對界面，其中一部分 光被反射且未經反射之光繼續傳輸，且如此進行下去。以 此方式，具有許多光學層（例如超過5〇個、超過1〇〇個、超 過1000個或甚至超過2000個光學層）之光學層堆疊能夠產 0 生高度反射性。 通常，相鄰光學層之界面之反射率與反射波長下第一光 學層與第二光學層之折射率差之平方成正比。層對之間的 絕對折射率差（Ιη〗-η2Ι)通常為0.1或0.1以上。第一光學層 與第—光學層之間的較高折射率差為可取#，此係因為可 產生較大光功率（例如反射率），由此能夠實現較大反射帶 寬。然而’在本發明中，視所選層對而定，層對之間的絕 對差可小於G.2G、小於G·15、小於G.1G、小於G.G5或甚至小 於〇〇3。舉例而言’ PMMA及DYNEON ΗΤΕ 1705X具有 145488.doc -15- 201030022 ο·ΐ2之絕對折射率差。 參 藉由選擇適當層對、層厚度及/或層對數目，光學堆疊 可經設計以透射或反射所需波長。各層厚度可藉由改變反 射量或變換反射波長範圍來影響光學堆叠效能。光學層之 平均單層厚度通常為相關波長之約四分之一，且層對厚度 為相關波長之約-半。光學層可各自為四分之一波長厚或 光學層可具有不同光學厚度，只要層對之光學厚度之總和 為波長之-半（或其倍數）即可。舉例而言，& 了反射彻奈 米（nm)光均單層厚度將為約i 〇〇⑽，且平均層對厚度 將為約200 nm。類似地，為了反射8〇〇咖光平均單層厚 度將為約且平均層對厚度將為約4G0 nm。第一光 學層160及第二光學層162可具有相同厚度。或者，光學堆 叠可包括具有不同厚度之光學層以增大反射波長範圍。具 有超過兩個層對之光學堆叠可包括具有不同光學厚度之光 學層以提供在某一波長範圍内之反射性。舉例而言，光學 堆疊可包括已經個別地調整以達成具有特定波長之正入射光 ，最佳反射的層對或可包括層對厚度之梯度以反射較大帶寬 ，圍内之《特定層對之正反射率主要視單層之光學厚度而 疋，其中光學厚度被定義為層之實際厚度細其折射率之乘 積自光子層堆疊反射之光的強度與其層對數目及各層對 中光學層之折射率差呈函數關係。比率nidi/(nid丨+叫(通 常稱為「f比值」）與指定波長下特定層對之反射率相關。 在f比值中’ η丨及n2為層對中第一及第二光學層在指定波長 下各自之折射率’且七及1為層對中第一及第二光學層各 J454S8.doc 16 201030022 自之厚度。藉由合理選擇折射率、光學層厚度及『比值， 可對第-級反射之強度實行某種程度之控制。舉例而言， 可由約0.05與0.3 nmi間的層光學厚度來獲得紫色（4〇〇奈 . 米（nm)波長）至紅色（70〇 nm波長）之第一級可見反射。通 常，與f比值偏差0.5導致較小程度之反射性。 可利用方程式λ/2 =〜七+㈣來調整光學層以反射處於 正入射角下之波長為λ之光。在其他角度下， #度視穿過組分光學層之距離（其大於層厚度）及光學層之 三個光軸中之至少兩者的折射率而定。光學層可各自為四 分之一波長厚或光學層可具有不同光學厚度只要光學厚 度之總和為波長之-半（或其倍數）即可。具有超過兩個層 對之光學堆疊可包括具有不同光學厚度之光學層以提供在 某波長範圍内之反射性。舉例而言，光學堆疊可包括已 經個別地調整以達成具有特定波長之正入射光之最佳反射 的層對或可包括層對厚度之梯度以反射較大帶寬範圍内之 • 光。 •一 一種典型方法為使用所有或大部分四分之一波長膜的堆 疊。在此情況下，控制光譜需要控制膜堆疊中之層厚度概 況右層為聚合者，則寬頻帶光譜（諸如反射空氣中較大 角&範圍内之可見光所需的寬頻帶光譜）仍需要較多層 係因為與無機膜相比，可由聚合物媒達成相對較小 之折射率差。可使用美國專利第6,783,349號（Neavin等人） 2教不之軸桿裝置結合由顯微技術獲得之層概況資訊來調 節為等光學堆疊之層厚度概況以提供改良之光譜特徵。 145488.doc •17- 201030022 一種提供具有受控光譜之多層光學膜的理想技術包括： 1) 如美國專利第6,783,349號（Neavin等人）所教示，使用 轴桿加熱器控制共擠聚合物層之層厚度值。 2) 在製造期間自層厚度量測工具（諸如原子力顯微鏡、 透射電子顯微鏡或掃描電子顯微鏡）獲得及時的層厚 度概況回饋。 3) 進行光學模擬以產生所需層厚度概況。 4) 基於所量測之層概況與所需層概況之間的差異來重複 軸桿調節。 層厚度概況控制之基本過程涉及基於目標層厚度概況與 所量測之層概況的差異來調節軸桿區功率設定。為調節特 定給料機構區中之層厚度值所需的軸桿功率增加可首先根 據使彼加熱器區中產生之層的所得厚度變化〖奈米所需之 熱輸入瓦特數來校準。使用24個轴桿區有可能精密控制 275個層之光譜。一旦經校準’則只要給定目標概況及量 測概況，即可計算出必需的功率調節。可重複該程序直至 兩個概況達成一致。 舉例而言，可將光學堆疊之層厚度概況（層厚度值）調節 為近似線性之概況，其中第一（最薄）光學層經調節以對於 340 nm光而言具有約四分之一波長光學厚度（指數乘以實 體厚度）’且進行至最厚層，其經調節以對於42〇 nm光而 言為約四分之一波長厚光學厚度。 增加光學堆疊中之光學層數目亦可提供較大光功率。舉 例而言，若層對之間的折射率較小，則光學堆疊可能不能 145488.doc •18· 201030022 達成所需反射率，然而藉由增加層對數目，可達成足夠反 射率。在本發明之一個實施例中，光學堆疊包括至少2個 第一光學層及至少2個第二光學層、至少5個第一光學層及 至少5個第二光學層、至少50個第一光學層及至少50個第 二光學層、至少200個第一光學層及至少200個第二光學 層、至少500個第一光學層及至少500個第二光學層，或甚 至至少1000個第一光學層及至少1000個第二光學層。 光學層之雙折射（例如由拉伸所引起）為增加層對中光學 層之折射率差的另一有效方法。視例如光學層數目、f比 值及折射率而定，包括以兩個互相垂直之平面内軸定向之 層對的光學堆疊能夠反射極高百分比之入射光，且為高效 反射體。 正如所提及，本發明之光學堆疊可經設計以反射或透射 至少相關之特定帶寬（亦即波長範圍）。在一個實施例中， 本發明之光學堆疊可透射以下中之至少一者：約400-700 nm 之間、約380-780 nm之間或甚至約350-800 nm之間的波長 之至少一部分；大於約700 nm、大於約780 nm或甚至大於 約800 nm之波長的至少一部分；約700-2500 nm之間、約 800-1300 nm之間或甚至約800-1100 nm之間的波長之至少 一部分；約300-400 nm之間或甚至約250-400 nm之間的波 長之至少一部分；小於約3 00 nm之波長之至少一部分；或 其組合。「至少一部分」意謂不僅包含整個波長範圍，而 且包含一部分波長，諸如至少2 nm、10 nm、25 nm、50 nm 或100 nm之帶寬。「透射」意謂在90度入射角下透射至少 145488.doc -19- 201030022 30、40、50、60、70、80、85、90、92或 95百分比之相關 波長。 在一個實施例中，本發明之光學堆疊可反射以下中之至 少一者：約400-700 nm之間、約380-780 nm之間或甚至約 350-800 nm之間的波長之至少一部分；大於約700 nm、大 於約780 nm或甚至大於約800 nm之波長的至少一部分；約 700-2500 nm之間、約 800-1300 nm之間或甚至約 800-1100 nm 之間的波長之至少一部分；約300-400 nm之間或甚至約 250-400 nm之間的波長之至少一部分；小於約300 nm之波 長之至少一部分；或其組合。「反射」意謂在90度入射角 下反射至少 30、40、50、60、70、80、85、90、92或 95百 分比之相關波長。 可對層對、層數及層厚進行選擇以便使光學堆疊反射第 一帶寬之光且透射第二帶寬之光。舉例而言，光學堆疊可 透射可見波長（例如400-700 nm)且反射紅外波長（例如700-2500 nm)、透射紫外線波長（例如250-400 nm)且反射紅外 波長，或透射紅外波長且反射UV波長。 歸因於戶外應用，風化亦為光學堆疊及多層光學膜之一 個重要特徵。加速風化研究為鑑定物品效能之一種選擇方 案。通常使用與ASTM G-155「在使用實驗室光源之加速 測試裝置中暴露非金屬材料之標準操作（Standard Practice for Exposing Non-Metallic Materials in Accelerated Test Devices that Use Laboratory Light Sources)」中描述之彼 等者類似的技術，對多層光學膜進行加速風化研究。本發 145488.doc -20- 201030022 明之光學堆疊實質上具uv穩定性。在一個實施例中，實 質上具uv穩定性在本文中意謂可包括其他非光學結構支 撐層（諸如表層）之光學堆疊當暴露於ASTM G155〇5a中所 描述之風化循環及以反射模式操作之D65光源時，在顏 色、霧度及透射率方面實質上無變化。實f上無變化意 謂.與初始霧度％相比，霧度％之增加並未超過ΐ5 ' 1〇、 8 5 2、I.5、1或甚至0.5之值，與初始透射率％相比，

❹ 透射率之減少並未超過15、1〇、8、5、2或甚至〗.5之值， 且使用CIE L*a*b*色空間獲得之△”（其中b*為用於定量聚 合物膜之黃度的參數）相對於初始之增加並未超過1〇、 8 5 2、1或甚至〇.5之值。在一個實施例中，在6000小 時風化之後，光學堆疊實質上具υν穩定性。 除上述光學堆疊之外，可視情況在多層光學膜中採用諸 如圖1Α中展示之彼等者的其他層來改良或增強多層光學膜 之物理、化學及/或光學特徵。可視情況在本發明之多層 光學膜中使用的塗層或層之非限制性列舉在以下段落中詳 述0 在-個實施例中，多層光學膜包含一或多個光學層。應 瞭解’多層光學臈可由單—光學堆疊組成或可由多個光學 堆疊製成，該等光學堆疊隨後經組合以形成多層光學膜。 可添加之其他光學層包括例如偏振器、鏡面、透明至有色 膜、有色至有色膜、冷光鏡或其組合。 在-個實施例中，多層光學膜包含一或多個非光學層， 諸如，一或多個表層或一或多個内部非光學層，諸如光學 145488.doc -21 * 201030022 層組之間的保護邊界層。可使用非光學層來提供多層光學 膜結構或在加工期間或之後保護多層光學膜免受傷害或損 傷。對於一些應用’可能需要包括犧牲性保護表層，其中 控制表層與光學堆疊之間的界面黏附以便可在使用之前自 光學堆疊剝離表層。 通常’安置一或多個非光學層以便使欲由光學層透射或 反射之光的至少一部分亦穿過此等層（亦即此等層被安置 於可穿過第一及第二光學層或可由第一及第二光學層反射 之光之路徑中）。非光學層可能影響或可能不影響光學堆 ❹ 疊對於相關波長範圍之反射或透射性質。通常，其不應影 響光學堆疊之光學性質。 對非光學層可選擇賦予或改良多層光學膜之性質（諸如 抗撕裂性、抗穿刺性、韌性、耐風化性及/或耐化學性）的 材料。當選擇例如用於抗撕裂層中之材料時，應考量許多 因素，諸如斷裂伸長百分率、楊氏模數（Y〇ung，s m〇dulus)、 撕裂強度、對内部層之黏附力、對相關波長之透射率及吸 收率百分率、光學透明度及霧度、耐風化性及對各種氣體❹ 及溶劑之滲透性。可用作抗撕裂層之材料之實例包括：聚 碳酸酯、聚碳酸酯與共聚酯之摻合物、聚乙烯之共聚物、 聚丙烯之共聚物、乙稀與四氟乙烯之共聚物、六1丙稀、 四氟乙烯及乙烯之共聚物及聚（對苯二甲酸乙二酯）。 非光學層可由任何合適材料製成且可與光學堆叠中使用 之材料之-相同。當然’重要的是所選材料不具有對於光 學堆昼之彼等材料過於有害的光學性質。可由各種聚合物 145488.doc •22- 201030022 (包括在第-及第二光學層中使用之任何聚合材料)形成非 光學層。在-些實施例中，對於非光學層所選擇之材料與 對於第一光學層所選擇之聚合材料及/或對於第二光學層 所選擇之聚合材料類似或相同。 可將視情況選用之uv吸收層施加於多層光學膜以保護 多層光學臈以免受會引起降解之uv輻射影響。太陽光， 尤其280 nm至400 nm之UV輻射會引起塑膠降解，後者又 導致變色及光學與機械性質劣化。對於長期耐久性必不可 ❹ 少之戶外應用，抑制光氧化降解為至關重要的。舉例而 言，聚（對苯二曱酸乙二酯）吸收Uv輻射開始於36〇 11瓜周 圍’在320 nm以下明顯增加，且在3〇〇 nm以下極為顯著。 聚（萘二曱酸乙二酯）強烈吸收31〇_37〇 ηιη範圍内之uv^ 射，且吸收尾部延伸至約410 nm，且最大吸收發生在352 nm 及337 nm下。在氧氣存在下發生鏈斷裂，且主要光氧化產 物為一氧化碳、二氧化碳及羧酸。除酯基之直接光解之 φ 外，必須考量氧化反應，其同樣地經由過氧化物基團形成 一乳化碳。 UV吸收層包括聚合物及uv吸收劑。通常，該聚合物為 . 熱塑性聚合物，但此不為必要條件。合適聚合物之實例包 • 括聚酯（例如聚（對苯二曱酸乙二酯））、氟聚合物、聚酿 胺、丙烯酸系物（例如聚（曱基丙烯酸曱酯））、聚矽氧聚合 物（例如熱塑性聚矽氧聚合物）、苯乙烯系聚合物、聚稀 煙、烯烴共聚物（例如可以TOPAS COC獲得之乙烯與降冰 片烯之共聚物）、聚矽氧共聚物、胺基甲酸酯或其組合（例 145488.doc -23- 201030022 如聚曱基丙烯酸甲酯與聚偏二氟乙烯之摻合物）。 UV吸收層藉由吸收UV光來保護多層光學膜。通常，UV 吸收層可包括能夠在較長時間内抵禦UV輻射之任何聚合 物組合物（亦即聚合物加上添加劑）。 通常將各種UV光吸收及穩定添加劑併入UV吸收層中以 有助於其保護多層光學膜之功能。該等添加劑之非限制性 實例包括一或多種選自UV光吸收劑、受阻胺光穩定劑、 抗氧化劑及其組合之化合物。 UV穩定劑（諸如uv吸收劑）為可干涉光誘導降解之物理 及化學過程的化合物。因此可藉由使用UV吸收層來防止 由UV輻射所引起之聚合物光氧化，該UV吸收層含有至少 一種UV吸收劑以有效地吸收小於約40〇 nm之波長之光。 UV吸收劑通常以吸收至少70百分比、通常為8〇百分比、 更通常為大於90百分比或甚至大於99百分比之處於18〇至 400 nm波長範圍内之入射光的量包括在uv吸收層中。 典型UV吸收層厚度為1〇至5〇〇微米，不過亦可使用更薄 及更厚之UV吸收層。通常，uv吸收劑係以2至20重量百分 比之量存在於UV吸收層中，但亦可使用更小及更大之含 量。 一種例示性UV吸收化合物為笨并三唑化合物5_三氟甲 基-2-(2-羥基-3-α-異丙苯基_5_第三辛基苯基）_2H_苯并三 唑。其他例示性苯并三唑包括例如2·(2_羥基_3,5_:_α_異 丙苯基苯基）-2Η-苯并三唑、5-氣-2-(2-羥基-3-第三丁基-5-曱基笨基）-2H-苯并三唑、5_氣_2_(2羥基_35二第三丁基 145488.doc -24· 201030022 苯基）-2H-苯并三唑、2·(2-羥基-3,5-二-第三戍基笨基）_2H-苯并三唑、2-(2-羥基·3-α-異丙苯基-5-第三辛基苯基）-2H-苯并三唑、2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲基苯基）-5-氣-2H-苯 并三唑。其他例示性UV吸收化合物包括2-(4,6-二苯基-1-3,5-三嗪-2-基）-5-己氧基-苯酚以及以商標「TINUVIN 1577」及「TINUVIN 900」由 Ciba Specialty Chemicals Corp.，Tarrytown，NY出售之彼等者。另外，UV吸收劑可與 受阻胺光穩定劑（HALS)及/或抗氧化劑組合使用。例示性 HALS 包括以商標「CHIMASSORB 944」及「TINUVIN 123」由Ciba Specialty Chemicals Corp.出售之彼等者。例示 性抗氧化劑包括以商標「IRGANOX 1010」及「ULTRANOX 626」由 Ciba Specialty Chemicals Corp.出售之彼等者。 除將UVA、HALS及抗氧化劑添加至UV吸收層中之外， 可將UVA、HALS及抗氧化劑添加至其他層（包括本發明之 第一或第二光學層）中。 在另一實施例中，可將視情況選用之IR吸收層施加於多 層光學膜以保護多層光學膜以免受IR輻射影響。IR吸收層 包括聚合物及IR吸收劑。可將IR吸收層塗布至多層光學膜 上或可擠出摻合於聚合物層中。例示性IR吸收化合物包 括：氧化銦錫；氧化銻錫；IR吸收染料，諸如以商標 「EPOLIGHT 4105」、「EPOLIGHT 2164」、「EPOLIGHT 3130」 及「EPOLIGHT 3072」由 Epolin，Inc.，Newark, NJ 出售之彼等 者；雜多酸，諸如美國專利第4,244,741號（Kruse)中所描述 之彼等者；金屬錯合物，諸如美國專利第3,850,502號 145488.doc -25- 201030022 (Bloom)中所描述之彼等者；鎳錯合物染料，諸如由Hw Sands Corp·，jupiter，fl出售之SDE8832;及鈀錯合物染 料’諸如亦由H.W. Sands Corp.出售之SDA5484。 為了進一步增強多層光學膜之反射及/或透射效能或視 覺特性’可將其他添加劑添加至至少一個層中。舉例而 言，多層光學膜可用油墨、染料或顏料處理以改變多層光 學膜外觀或針對特定應用來定製多層光學膜。因此，舉例 而言，多層光學膜可用油墨或其他印刷標誌（諸如用於顯 示產品資訊、廣告、裝飾或其他資訊之彼等者）處理。可❹ 使用各種技術在多層光學膜上進行印刷，諸如網版印刷、 凸版印刷及平版印刷。亦可使用各種類型之油墨，包括例 如單組分或雙組分油墨、氧化乾燥型&uv乾燥型油墨、 溶解油墨、分散油墨及1〇〇%油墨系統。亦可使多層光學 臈之外觀帶有顏色，諸如將染色層層壓至多層光學膜上、 將著色塗層施加至多層光學膜表面、在—或多個層（例如 第一或第二光學層、其他光學層或非光學層）中包括顏 料或其組合。可見光化合物與近IR化合物均涵蓋於本發❹ 明中’且包括例如光學增亮齊!，諸如在uv範圍内吸收且 在可見範圍内發螢光的化合物。 &可包括在多層光學媒中之其他添加劑包括微粒1例而 · =，可將碳黑顆粒分散於聚合物中或塗布至基材上以提供 遮蔽作用。或者或另外，小顆粒非顏料型氧化辞、氧化鋼 錫及氧化鈦亦可用作阻擋、反㈣散射添加劑以使UV輕 射降解減至最低程度。奈米級顆粒可讓可見光透過同時 I45488.doc • 26 - 201030022 散射或吸收有害uv輻射，由此減少對熱塑性塑膠之損 害。美國專利第5,504,134號（Palmer等人）描述經由使用直 徑尺寸在約0.001微米至約0.20微米範圍内且更通常直徑為 約0.01微米至約0.15微米之金屬氧化物顆粒來減少由UV輻 射引起之聚合物基材降解。美國專利第5,876,688號 (Laundon)教示一種產生微米尺寸化氧化辞之方法，該氧 化辞足夠小以便當作為UV阻擋及/或散射劑併入塗料、塗 層、修飾面層、塑膠物品及裝飾品中時為可透光的，其完 ® 全適合於在本發明中使用。可削弱UV輻射的粒徑在10-100 nm範圍内之此等精細顆粒（諸如氧化鋅及氧化鈦）可購自 Kobo Products, Inc·，South Plainfield，NJ 〇 多層光學膜可視情況包含耐磨層。耐磨層可包含可讓相 關波長透過之任何耐磨材料。耐刮塗層之實例包括：以商 標「TECOFLEX」由 Lubrizol Advanced Materials, Inc., Cleveland, OH出售之熱塑性胺基甲酸酯，其含有5重量百分 比之以商標「TINUVIN 405」由Ciba Specialty Chemicals Corp. ^ 出售之UV吸收劑、2重量百分比之以商標「TINUVIN 123」出售之受阻胺光穩定劑及3重量百分比之以商標 「TINUVIN 1577」由 Ciba Specialty Chemicals Corp.出售 之 UV吸收劑；及以商標「PERMA-NEW 6000 CLEAR HARD COATING SOLUTION」由 California Hardcoating Co.，Chula Vista, CA出售的由熱固化奈米二氧化矽矽氧烷填充之聚合 物組成之对刮塗層。 耐磨層可視情況包括至少一種防汙組分。防汙組分之實 145488.doc -27- 201030022 2匕括氟聚口物、矽氧烷聚合物、二氧化鈦顆粒、多面體 寡聚倍切氧烧（例如以商標「p〇Ss」由吵⑹

Of Hattiesburg，MS出售）或其組合。耐磨層亦可包含傳導 性填充劑，通常為透明傳導性填充劑。 本發明之多層光學膜可視情況包含—或多個邊界膜或塗 層以改變多層光學膜對於某些氣體或液體之傳輸性質。此 等邊界膜或塗層抑制水蒸氣、有機溶劑、氧氣及/或二氧 化碳傳輸通過媒。在多層光學膜之組分可能會因水分渗透 而變形之高濕度環境中，邊界膜或塗層可為特別可取的。 亦可考量其他視情況選用之層，例如抗靜電塗層或膜， 及防霧材料。 視情況選用之其他層可比光學堆疊之各個光學層厚、 薄，或厚度相同。視情況選用之其他層之厚度一般為至少 -個個別光學層厚度的至少四倍，通常為至少⑽且可 為至少100倍或100倍以上。可改變其他層之厚度以製得且 有特定厚度之多層光學膜。 在多層光學膜中，可經由共擠出或此項技術中已知之任 何黏附技術（包括例如使用黏著劑、溫度、壓力或其組人） 來施加視情況選狀其他層。若存在1視情況選用且之°黏 結層有助於多層光學膜各層之間，主要為光學堆疊盘視情 況選用之其他層之間的黏附。黏結層可為有機（例如聚二 層）或無機者。例示性無機黏結層包括金屬氧化物，^ 二氧化鈦、氧化鋁或其組合。可藉由任何合適方法(包括 溶劑澆鑄及粉末塗布技術）提供黏結層。 ’ 了使其不會引 145488.doc -28- 201030022 起多層光學膜之效能降級，視情況選用之黏結層通常實質 上對相關波長範圍内之光不具吸收性。 可用熟習此項技術者熟知之方法，利用諸如共擠出、層 壓、塗布、氣相沈積或其組合之技術來製造光學堆疊。在 共擠出中，將聚合材料共擠出成網狀物。在共擠出中，較 佳的是兩種聚合材料具有類似流變性質（例如熔融黏度）以 防止層不穩定性或不均勻性。在層壓中，將聚合材料片材 層疊在一起且隨後使用熱、壓力及/或黏著劑來層壓。在 塗布中，將一種聚合材料之溶液塗覆於另一種聚合材料 上。在氣相沈積中，將一種聚合材料氣相沈積至另一種聚 合材料上。另外，可將功能性添加劑添加至第一光學層、 第二光學層及/或視情況選用之其他層中以改良加工。功 能性添加劑之實例包括加工添加劑，其可例如增強流動及/ 或減少熔體破裂。 可參照美國專利第5,552,927號（Wheatley等人）、第 ❿ 5,882,774號（Jonza等人）、帛 6,827,886號（Neavin等人）及第 6,830,713號(Hebrink等人)獲得關於選擇材料及製造光學堆 疊與多層光學膜的其他考量因素。 通常，所選擇的第一 一與第二光學層及視情況選用之其他 層之聚合材料具有類似流變性質（例如炼融黏度）以便使其 可在無流動擾動沾，法…·

層及視情況選用 使多層光學膜不會分層。 因此達成光學堆疊 達成各個折射率之間的所需關係（且因 145488.doc -29. 201030022 之光學性質)的能力受到用於製備光學堆疊之加工條件的 ::在—個實施例中，多層光學膜-般係藉由以；步： 來製=共擠出個別聚合材料形成多層光學膜，隨後藉由 、、田声m 多層7b學膜，崎況接著在選定 -又下…疋i。或者’可同時進行擠出及定向步驟。 可例如用長度定向器在加工方向上，或使用拉幅機在寬 度方向上拉伸多層光學膜。對預拉伸溫度、拉伸溫度、拉 伸料、拉伸比、熱定型溫度、熱定型時間、熱定型鬆他 及乂又拉伸氣、他進行選擇以產生具有所需折射率關係之多 層光學膜。此等變數為相互依賴的，因此例如若與例如相 對較低之拉伸溫度結合，則可使用相對較低之拉伸速率。 一般技術者應明瞭如何選擇此等變數之合適組合以獲得所 需多層光學膜。若拉伸膜，則一般而言，較佳的是在一個 拉伸方向上拉伸比在1:2至範圍内且在與此 #拉伸方向正交之方向上在1:〇 2至1:1〇或甚至2至卜7 轭圍内。在一些實施例中，總拉伸比大於3:1，大於4:1或 甚至大於6:1。 夕層光學膜一般為柔性材料片材。為達成本發明之目 的，術語柔性指示多層光學膜在尺寸上穩定，然而仍具有 此夠實現隨後模製或成形為各種形式之撓性特徵。在一個 實施例中，多層光學膜可熱成形為各種形狀或結構以用於 特定最終用途應用。 本發明之多層光學膜被用於建築物品中。在一些實施例 中，多層光學膜可單獨使用或可將該多層膜安置於可撓性 145488.doc 201030022 無機或有機、編織或非編織、纖維網或另一聚合材料（諸 如聚合膜）上。實例包括：玻璃纖維、PTFE纖維、來自e I du Pont de Nem〇Urs and c〇 之「KEVLAR」或金屬網。可 使用熱、壓力及/或黏著劑使多層光學膜與可撓性無機或 有機、編織或非編織、纖維網或聚合材料結合。 在-些實施例中，多層光學膜為張力構造物或襯塾 物之一部分。

在張力構造物中’將多層光學膜固定至剛性框架（例如 木材、金屬及/或塑膠）。通常，使用機械緊固件（例如失持 器）將多層光學膜固持於框架中。通常，張力構造物限於 較小構造物，諸如窗戶、溫室或較小尺寸的屋頂。 襯墊構造物之-個例示性實施例係展示於圖2中。襯墊 構仏物200包括外部片材2〇2、内部片材2〇6及視情況選用 之中間片材204。個別片#係經焊接、膠合或以其他方式 裝配在起且隨後固定至夹持框架2心及η〇匕中。外部片 材2内邓片材2〇6及視情況選用之中間片材咖界定可 充氣之空間220及240。 襯墊構k物可包含—個、兩個或兩個以上片材，例如如 圖中所不之3個片材，或甚至5個或5個以上片材。再次參 看圖2中之襯墊構造物之例示性實施例，外部片材202、内 部片材裏及視情況選用之中間片材2〇4包含平土曰之適型聚 合材料片材（亦即聚合膜）。習知用於襯塾構造物中之膜為 ETFE ’但其他聚合材料（諸如pvc(聚氣乙烯）及HTE)亦可 用作適型片材。將兩個或兩個以上聚合材料片材在邊緣處 145488.doc 201030022 接合且以低壓空氣充氣。兩個或兩個 1 . W M上層可經充氣而形 成襯塾。内部麼力對聚合材料片材預加應力，使襯塾構造 物能夠承荷（諸如風及雪）。該壓力通常在細捕 帕斯卡㈣叫之間。在多層觀塾中，外部片材通常為最 厚（約200至300微米），因為其必須能承受外部條件。内部 片材可較薄。適型聚合材料片材之邊緣處可被夹持在框架 上，該框架可固定在其他結構上。一些移動可為適型聚合 材料片材所緩衝。應瞭解多層光學膜同樣可施用於單一外 部片材，其因内部及外部麼力差異而保持拉緊。 € 在本發明之-個實施例中，本發明之多層光學媒為外部 片材、㈣片材及/或中間片材中之至少一者。在本發明 之另-實施例中’多層光學膜係安置於聚合膜之片材之外 表面、聚合膜之片材之内表面中的至少一者上，或央在聚 合材料片材之一的外表面與内表面之間。舉例而言，多層 光學膜可安置於外部片材2〇2之外表面、外部片材搬之内 表面上，或若外部片材202係由兩層ETFE組成，則多層光 學膜可夾在構成外部片材2〇2之兩層ETFE之間。襯墊構造 Θ 物可如wo專利公開案2007/096781(Temme等人）中揭示般 包含用於減弱雜訊之其他組分，諸如流體。 田多層光學膜與支撐結構（例如襯墊構造物、張力構造 物或可撓性無機或有機、編織或非編織纖維網）附接時， 在一個實施例中’支撐結構中之多層光學膜具有小於2.5 GPa(吉帕斯卡（giga Pasca1))、小於2 GPa、小於 1.5 GPa 或 甚至小於1 GPa之撓曲模數。 145488.doc •32· 201030022 在個實施例中’多層光學膜可用於建築應用中，諸如 屋頂覆蓋物、部分屋頂覆蓋物、外觀覆蓋物、圓頂覆蓋物 (例如加壓構4)、用於分隔目的之牆壁、外殼(例如用於建 - 築物之側面及屋頂上)、窗戶、門、天窗、中庭或其組 • 纟建築應用中所使用之多層光學膜可經設計以便可透

射可見光，但反制么τ从，士 E 射外波長，從而獲得可減少建築物之熱 負何的透明覆蓋物。在另一實施例中，在溫室應用中所使 :之多層光學膜可經設計以便可透射紫外線波長以允許 髎大化植物生長。 取 與用不包含氟聚合光學層之光學堆疊製成之多層光學膜 相比，本發明之多芦夯與 、 s予σ提供匕括以下之優勢：不揪 性或降低之可燃性、改良 … 良之廣播"拉 文良之透明度、改良之耐腐蝕性、改 良之廣播W接收及/或改良之風化能力。 此：實：：用以下實例來說明本發明之優勢及實施例，但 ,M L陳述之特定材料及其量以及其他條件及詳情不 •二:為有過材度::制本發明。除非另有陳述或顯:: 為可蹲得的或為熟習此項技術者所知。 實例 實例將用於說明本發明。除非另 量計。則實例中之所有份數、百分比、比率等均以重 J 12 .如下製得各種氟化聚合材料 化聚合材料以速率乂遞送至以 =之_膜。將氟 出機中。擠出物在合n Μ/0運作之單螺捍擠 勿在口適皿度下擠出且以輕速度ζ 145488.doc -33- 201030022 輥堆疊上且捲繞。以測微規量測出各膜之厚度為500微米 (μπι)厚。以下表1中展示各測試試樣之實例、遞送速率（公 斤/小時（kg/hr))、螺桿速度（轉數/分鐘（rpm))及親速度（公 尺/分鐘（m/min))。所有氟化聚合材料係自Dyneon LLC.， Oakdale, MN獲得。以分光光度計（LAMBDA 950 UV/VIS/NIR， 來自 PerkinElmer, Inc.，Waltham, ΜΑ)量測各淹鑄膜。 表1 實例 DYNEON氟化聚合材料 遞送速率X 螺桿速度Y 輥速度z 1 ET 6235 2.9 kg/hr 20 rpm 0.20 m/min 2 ETFE6218X 2.9 kg/hr 20 rpm 0.20 m/min 3 ΗΊΠΕ 1705 4.6 kg/hr 26 rpm 0.32 m/min 4 HTE1510 4.5 kg/hr 24 rpm 0.30 m/min 5 THV220 3.9 kg/hr 18 rpm 0.24 m/min 6 THV500 4.8 kg/hr 24 rpm 0.30 m/min 7 THV415G 5.4 kg/hr 25 rpm 0.33 m/min 8 THVP 2030GX 4.1 kg/hr 22 rpm 0.25 m/min 9 PFA6502T 3.5 kg/hr 30 rpm 0.20 m/min 10 FEP 6303 3.3 kg/hr 25 rpm 0.20 m/min 11 PVDF 1010/0001 4.2 kg/hr 22 rpm 0.27 m/min 12 PVDF 1008/0001 4.2 kg/hr 22 rpm 0.27 m/min 表2(如下）報導表1中之各氟化聚合材料在所選波長下之 透射率％。 表2 實例 透射率％ 250 nm 300 nm 350 nm 450 nm 550 nm 650 nm 750 nm 850 nm 950 nm 1 33.2 52.9 64.0 73.5 80.1 84.3 87.1 89.1 90.7 2 39.3 57.1 65.8 74.2 80.4 84.5 87.2 89.1 90.6 3 54.1 65.5 71.1 80.3 85.7 88.8 90.8 92.1 93.1 4 51.8 53.3 72.0 82.5 87.7 90.7 92.2 93.2 94.0 5 85.0 89.3 92.2 94.2 94.8 95.0 95.1 95.2 95.3 6 90.1 88.6 89.6 92.4 93.9 94.6 95.0 95.2 95.4 7 89.7 90.6 92.3 94.3 94.9 95.3 95.3 95.4 95.6 8 90.9 93.2 94.3 95.1 95.3 95.4 95.4 95.3 95.7 9 85.4 80.1 82.0 87.8 91.1 93.0 93.9 94.5 95.0 10 90.8 84.2 84.0 88.3 91.1 92.8 93.7 94.4 95.0 11 72.0 77.2 83.4 86.4 87.8 88.7 89.2 89.7 90.5 12 77.8 79.3 83.5 86.1 87.6 88.7 89.2 89.8 90.5 -34- 145488.doc 201030022 實例13 :藉由以一次操作擠出澆鑄網狀物且隨後在實驗 室膜拉伸裝置中拉伸膜來製得含有61個層之共擠膜。將由 一個擠壓機以10磅/小時之速率遞送之聚（甲基丙烯酸曱 醋）（以商標「ALTUGLAS V 044」由 Arkema InC_, C〇l〇mbes Cedex，France出售）、由另一擠壓機以口磅/小時之速率遞送 的四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物（以商標 DYNEON THVP 2030GX」由 Dyneon，LLC.出售）及由第 二擠壓機以10磅/小時之速率遞送的用於表層之聚（甲基丙 ❹ 烯酸甲酯）共擠壓通過一多層聚合物熔體歧管以形成具有 61個層且具備聚（甲基丙烯酸曱酯）表層的多層熔體流。將 此夕層共擠溶體流以4.0公尺/分鐘（m/min)洗鑄至冷卻輥 上’形成10密耳（mil)〈約〇·25毫米（mrn))厚且6.5吋（約16.5 公分（cm))寬之多層澆鑄網狀物。 使用實驗至拉伸裝置拉伸多層堯鑄網狀物，該裝置使用 縮放儀來夾持網狀物之方截面且在兩個方向上以均勻速度 φ' 同時拉伸該網狀物。將4吋（約10 cm)方形之多層洗鑄網狀 物置放於拉伸架中且在烘箱中，在l4(rc下加熱55秒。隨 後以25%/秒（基於原始尺寸）拉伸該多層澆鑄網狀物直至網 狀物被拉伸至原始尺寸之約3 x 3倍。在拉伸後立即自拉伸 • 裝置取出多層光學膜且在室溫下冷卻。發現多層光學膜具 有1密耳（25 μιη)厚度。以測微規量測多層光學膜且發現其 在膜中心處具有25 μηι厚度且在膜邊緣處具有3 1 μιη厚度。 以LAMBDA 95〇 UV/VIS/NIR分光光度計量測多層光學膜 且各種波長下之反射百分比展示於圖3中。在圖3中，光譜 145488.doc •35- 201030022 300為膜中心處獲得之反射光譜，且光譜32〇為膜邊緣處獲 得之反射光譜。如圓3中所示，反射光譜可基於多層光學 膜之厚度而位移。 實例14 ·藉由以一次操作擠出澆鑄網狀物且隨後在實驗 室膜拉伸裝置中拉伸膜來製得含有61個層之共擠膜。將由 一個擠壓機以14磅/小時之速率遞送之聚丙烯共聚物（以商 標「TOTAL POLYPROPYLENE 8650」由 T〇tal p_chemicals，

Inc.，Houston，TX出售）、由另一擠壓機以15磅/小時之速率遞 送之DYNEON THVP 2〇30G X及由第三擠壓機以1〇磅/小時 之速率遞送的用於表層之聚丙烯共聚物共擠壓通過一多層 聚合物熔體歧管以形成具有61個層且具備聚丙烯之共聚物 表層的多層熔體流。將此多層共擠熔體流以2.2 m/min澆鑄 至冷卻親上，形成20密耳（約0.51 mm)厚且7.25吋（約18·5 cm)寬之多層澆鑄網狀物。 使用實驗室拉伸裝置拉伸多層洗鱗網狀物，該裝置使用 縮放儀來爽持網狀物之方截面且在兩個方向上以均勻速度 同時拉伸該網狀物。將4吋（約10 cm)方形之多層洗鑄網狀 物置放於拉伸架中且在烘箱中，在1451：下加熱45秒。隨 後以50%/秒（基於原始尺寸）拉伸該多層澆鑄網狀物直至網 狀物被拉伸至原始尺寸之約5x5倍。在拉伸後立即自拉伸 裝置取出多層光學膜且在室溫下冷卻。以測微規量測多層 光學膜且發現其在中心處具有19 μπι厚度且在邊緣處具有 17 μπι厚度。以LAMBDA 950 UV/VIS/NIR分光光度計量測 多層光學膜且各種波長下之反射百分比展示於圖4中。在 145488.doc -36- 201030022 圖4中，光谱370為膜中心處獲得之反射光譜，且光譜35〇 為膜邊緣處獲得之反射光譜。如圖4中所示，反射光譜可 基於多層光學膜之厚度而位移。 實例15 :藉由以一次操作擠出澆鑄網狀物且隨後在實驗 室膜拉伸裝置中定向膜來製得含有151個層之共擠膜。將 由一個擠壓機以10磅/小時之速率遞送之聚偏二氟乙烯 (PVDF ’ 以商標「DYNE〇N pvDF 1〇〇8」由 Dyn_ 以 出售）（其中10%之PVDF流量進入兩個外部保護邊界層，各 參 邊界層為高指數光學層厚度之約10倍）、由另一擠壓機以 η磅/小時之速率遞送的四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙 稀之共聚物（以商標「DYNEON THVP 2030G X」由 Dyneon，LLC.出售）及由第三擠壓機以1〇碌/小時之速率遞 送的用於表層之PVDF共擠壓通過一多層聚合物熔體歧管 以形成具有151個層且具備？乂〇1?邊界及表層之多層熔體 流。將此多層共擠熔體流以〇95公尺/分鐘（m/min)澆鑄至 ❿ 冷卻輥上，形成29密耳（約〇·74 mm)厚且6.5吋（約16.5 cm) 寬之多層洗鑄網狀物。在第二次試作中，將多層共擠熔體 流以3.1 m/min澆鑄至冷卻輥上，形成9密耳（約〇23瓜⑷厚 • 且5,75吋（約丨4.5 cm)寬之多層澆鑄網狀物。 • 使用實驗至拉伸裝置拉伸多層洗鑄網狀物，該裝置使用 縮放儀來夾持網狀物之方截面且在兩個方向上以均勻速度 同時拉伸該網狀物。將4吋（約1 〇 cm)方形之29密耳多層澆 鑄網狀物置放於拉伸架中且在烘箱中在9〇秒内加熱至 165 C。隨後以50%/秒（基於原始尺寸）拉伸該多層澆鑄網 1454B8.doc -37- 201030022 狀物直至網狀物被拉伸至原始尺寸之約4χ4倍。在拉伸後 立即自拉伸裝置取出多層光學膜且在室溫下冷卻。在第二 人4作中，將4吋（約10 cm)方形之9密耳多層澆鎊網狀物置 放於拉伸架中且在烘箱中在3〇秒内加熱至165°C。隨後以 25%/秒（基於原始尺寸）拉伸該多層澆鑄網狀物直至網狀物 被拉伸至原始尺寸之約4x4倍。在拉伸後立即自拉伸裝置 取出多層光學膜且在室溫下冷卻。 實例16 .遵循與實例丨5中相同之程序，以altugl as v 〇44(PMMA)以及六敗丙烯、四氟乙稀及乙稀之共聚物（以 商標「DYNEON ΗΤΕ 151〇χ」由加咖，llc出售），且 以PMM A為邊界及表層來構造多層洗锖網狀物。將此多層 共擠熔體流以0.75 m/min洗鑄至冷卻輥上，形成％密耳（約 1.42 mm)厚且7.5吋（約19 cm)寬之多層澆鑄網狀物。 實例17 :遵循與實例15中相同之程序藉由以一次操作 擠出澆鑄網狀物且隨後在實驗室膜拉伸震置中定向膜來製 得含有151個層之共擠膜。將由__個擠屡機以㈣/小時之 速率遞送之ALTUGLAS V 〇44(PMMA)n㈣機以 17碎/小時之速率遞送的四氟乙烯、六氟丙稀及乙婦之共 聚物（以商標「THV 5〇〇」由加⑽，LLC出售）及由另一 擠壓機以H)糾、時之速率遞送的用於表層之pMMA共擠壓 通過一多層聚合物熔體歧管以形成具有151個層且具備 PMMA邊職表層的多層㈣流1此多層共擠熔體流以 4.6 m/min洗鑄至冷卻輥上，形成9密耳（約〇23瓜⑷厚且6 忖（約15 cm)寬之多層堯鎿網狀物。 145488.doc -38 · 201030022 使用實驗室拉伸裝置拉伸多層澆鑄網狀物。將4吋（約10 cm)方形之多層澆鑄網狀物置放於拉伸架中且在烘箱中， 在140°C下加熱55秒。隨後以25%/秒（基於原始尺寸）拉伸 該多層澆鑄網狀物直至網狀物被拉伸至原始尺寸之約 2.5x2.5倍。在拉伸後立即自拉伸裝置取出多層光學膜且在 室溫下冷卻。使用測微規發現多層光學膜具有約3 1 μιη之 厚度。 實例18 :遵循與實例17中相同之程序，以聚（對苯二曱 © 酸乙二酯）（ΡΕΤ，以「EASTAPAK 7452」由 Eastman Chemical of Kingsport, TN出售）及乙烯與四|L乙稀之共聚 物（以商標「DYNEONET6218X」由Dyneon，LLC.出售）， 且以PET為邊界及表層來構造多層洗鑄網狀物。將此多層 共擠嫁體流以4.5 m/min洗鎊至冷卻輥上，形成9密耳（約 0.23 mm)厚且6对（約15.5 cm)寬之多層洗鑄網狀物。

實例19 :遵循與實例17中相同之程序，以ALTUGLAS V 044(PMMA)及聚偏二氟乙烯（以商標「DYNEON PVDF ❹ ▼ 1008/0001」由Dyneon，LLC·出售），且以PMMA為邊界及 表層來構造多層澆鑄網狀物。將此多層共擠熔體流以1 ·5 . m/min澆鑄至冷卻輥上，形成29密耳（約0·74 mm)厚且7吋 (約18 cm)寬之多層澆鑄網狀物。 實例20 :遵循與實例17中相同之程序，以ALTUGLAS V 044(PMMA)及 DYNEON PVDF 11008/0001，且以 PMMA為 邊界及表層來構造多層澆鑄網狀物。將此多層共擠熔體流 以1.4 m/min洗鑄至冷卻輥上，形成29密耳（約0.74 mm)厚 145488.doc -39- 201030022 且7叶（約1 8 cm)寬之多層澆鑄網狀物。 實例21 :遵循與實例17中相同之程序，以ALTUGLAS V 044(PMMA)以及六氟丙烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物（以 商標「DYNEON ΗΤΕ 1705X」由 Dyneon，LLC.出售），且 以PMMA為邊界及表層來構造多層澆鑄網狀物。將此多層 共擠炼體流以1.5 m/min洗鎊至冷卻輥上，形成29密耳（約 0.74 mm)厚且7吋（約17.5 cm)寬之多層澆鑄網狀物。比較 實例A :用由聚對苯二甲酸乙二酯（PET，以商標 「EASTAPAK 7452」由 Eastman Chemical of Kingsport，TN ❹ 出售）形成之第一光學層及由聚（曱基丙烯酸甲酯）之共聚物 (以商標「PERSPEX CP63」由 Ineos Acrylics, Inc·出售，其 為75重量百分比之曱基丙烯酸甲酯與25重量百分比之丙烯 酸乙酯之共聚物）形成之第二光學層製成UV反射性多層光 學膜。將PET及聚（曱基丙烯酸甲酯）之共聚物共擠壓通過 一多層聚合物熔體歧管以形成223個光學層之堆疊。將層 厚度概況（層厚度值）調節至近似線性之概況，其中第一（最 薄）光學層經調節以對於340 nm光而言具有約四分之一波 © 長光學厚度（指數乘以實體厚度），且進行至最厚層，其經 調節以對於420 nm光而言為約四分之一波長厚光學厚度。 可使用美國專利第6,783,349號"6&乂丨11等人）中教示之轴桿 裝置結合由顯微技術獲得之層概況資訊來調節該等膜之層 厚度概況以提供改良之光譜特徵。 除此等光學層之外，將非光學保護性PET表層（各101微 米厚）共擠壓於光學堆疊之任一側上。將此多層共擠熔體 145488.doc -40· 201030022 流以22 m/min澆鑄至冷卻輥上，形成約1400 μιη(15密耳）厚 之多層澆鑄網狀物。隨後在拉幅機烘箱中，在95°C下加熱 該多層洗鑄網狀物約10秒，然後雙軸定向至3.3x3.5之拉伸 比。再在225°C下加熱經定向之多層膜10秒，以增加PET層 之結晶度。以LAMBDA 950 UV/VIS/NIR分光光度計量測 比較實例A得知，在340-420 nm之帶寬範圍内具有97.8百 分比之平均反射率。比較實例A具有0.9密耳（約22.9 μηι)之 平均厚度。 風化測試：將來自以上實例13之多層光學膜之三個片材 切割成3叶X3叫·（約7 ·6 cmX7·6 cm)尺寸的片材且將來自比 較實例A之多層光學膜之三個片材切割成3吋χ3吋（約7.6 cmx7.6 cm)尺寸的片材。利用以 LAMBDA 950 UV/VIS/IR 分光光度計進行之CIE顏色量測來量測各片材上之顏色且 根據ASTM E308「藉由使用CIE系統計算物體顏色之標準 操作（Standard Practice for Computing the Colors of Objects by Using the CIE System)」由 400-800 nm透射光譜計算 b*。使用霧度計（HazeGuard，BYK-Gardner Columbia，MD) 量測各片材上之霧度。使用LAMBDA 950 UV/VIS/IR分光 光度計在300-2500 nm之間量測透過各片材之透射率。隨 後將實例13試樣（實例13)及比較實例A試樣（實例A)置放於 加速風化腔室中且使用與ASTM G-155中所描述之彼等者 類似的技術循環操作。將試樣置於加速風化腔室中。在各 個時間點，移出試樣且量測各試樣之顏色、霧度及透射 率，測試之後將試樣放回至加速風化腔室。平均結果展示 145488.doc -41 201030022 於以下表3中。 表3 時間(小時） 霧度％ 透射率％ 顏色(Δ1>*) 時間(小時） 實例13 實例A 實例13 實例A 實例13 實例A 0 0.30 0.5 92.2 89.5 1.5 0.5 1000 0.31 13.4 90.9 86.7 1.5 0.5 2000 0.41 20.8 90.5 82.3 1.5 2.1 3000 0.44 36.7 90.5 65.7 1.6 6.7 4000 0.45 49.1 90.6 60.3 1.5 12.8 5000 0.45 67.8 90.5 45.9 1.5 22.1 6000 0.44 79.5 90.6 24.5 1.5 27.0 比較實例B :包含乙烯與四氟乙烯之共聚物（以商標 「DYNEON ET 6235」由 Dyneon，LLC.出售）之擠出膜 撕裂測試：根據DIN 533 63對實例13-1 8及比較實例A及B 的具有切口之梯形形狀之試樣測試撕裂擴展行為。垂直於 切口以100 mm/min之測試連度拉扯各試樣直至試樣完全撕 開且記錄撕裂擴展強度。撕裂擴展強度（N/mm)為所獲得之 最大力除以樣本厚度所得的商。對各實例進行重複實驗。 結果展示於表4中。表4中報導各實例之重複實驗之次數， 其在平均撕裂擴展強度之後的括號中列出。 表4 實例 平均撕裂擴展強度(N/mm) 13 21⑷ 14 33(4) 15 278(5) 17 525(2) 18 1247(4) 實例A-加工方向 155(5) 實例A-橫向方向 150(5) 實例B-加工方向 510(5) 實例B-橫向方向 670(5) 熟習此項技術者應顯而易知，可對本發明進行可預見到 145488.doc • 42- 201030022 之修改及變化而不背麴 牙雖本發明之範圍及精神。本發明不應 受限於本申請案中出於 說月目的而闡述之實施例。 【圖式簡單說明】 圖1A為根據本發明之一個例示性實施例的多層光學膜 100之示意侧視圖； 圖1B為在多層光學膜丨〇〇中所包括之雙組分光學堆疊14〇 之示意側視圖； ❹

圖2為根據本發明之一個例示性實施例的襯墊構造物200 之示意側視圖； 圖3為實例13之多層光學膜的波長與反射率之關係圖；及 圖4為實例14之多層光學膜的波長與反射率之關係圖。 【主要元件符號說明】 100 多層光學膜 120 保護邊界層 122 保護邊界層 130 表層 140 光學堆疊 150 表層 160 第一光學層 160a 第一光學層 160b 第一光學層 160η 第一光學層 162 第二光學層 162a 第二光學層 145488.doc • 43- 201030022 162b 二光學層 162η 第二光學層 200 襯墊構造物 202 外部片材 204 中間片材 206 内部片材 210a 夾持框架 210b 夾持框架 220 可充氣之空間 240 可充氣之空間 145488.doc

Claims (1)

1. 201030022 七、申請專利範圍： 1_ 一種包含具有光學堆疊之多層光學膜的建築物品，其中 該光學堆疊包含複數個第一光學層及以重複序列與該複 數個第一光學層一起安置之複數個第二光學層，其中該 複數個光學層中之至少一者包含氟聚合材料且該光學堆 疊具UV穩定性。 2. 如請求項1之建築物品，其中該氟聚合材料包含由以下 單體中之至少一者之互聚合單元獲得的均聚物或共聚 φ 物：TFE、VDF、HFP、CTFE、（氟基烷基乙烯基）醚、 (氟基乙烯基烷氧基）醚、氟化苯乙烯、HFPO、氟化矽氧 烷或其組合。 3. 如請求項2之建築物品，其中該氟聚合材料包含以下中 之至少一者：TFE之均聚物、乙烯與TFE共聚物之共聚 物；TFE、HFP及VDF之共聚物；VDF之均聚物；VDF之 共聚物；VF之均聚物；HFP與TFE之共聚物；TFE與丙 烯之共聚物；TFE與（全氟乙烯基）醚之共聚物；TFE與全 ® 氟烷基乙烯基醚之共聚物；TFE、（全氟乙烯基）醚及（全 氟曱基乙烯基）醚之共聚物；HFP、TFE及乙烯之共聚 ，物；氯三氟乙烯之均聚物；乙烯與CTFE之共聚物； HFPO之均聚物；4-氟-(2-三氟甲基）苯乙烯之均聚物； TFE與降冰片烯之共聚物；HFP與VDF之共聚物；或其組 合。 4. 如前述請求項中任一項之建築物品，其中該複數個光學 層中之至少一者包含由以下之互聚合單元獲得之均聚物 145488.doc 201030022 或共聚物：以下單體中之至少—者：丙烯酸醋、烯烴、 苯乙稀、碳酸醋、乙酸乙埽醋、偏二氣乙稀、二甲基石夕 氧烷、矽氧烷或其組合；及/或以下官能基中之至少一 者：胺基甲酸酯及聚酯或其組合。 5. 如前述請求項中任—項之建築物品，其中各第—光學層 包含一包括四氟乙烯之互聚合單體的可熔融加工型共聚 物，其限制條件為該可熔融加工型共聚物不為符合 八8丁]\4〇2116-07之氟化乙稀_丙：^共聚物或符合八8谓〇 3307-08之全氟烷氧基樹脂；且各第二光學層包含選自由 以下組成之群之非氟化聚合材料：聚（甲基丙烯酸甲 酯）；聚（甲基丙烯酸曱酯）之共聚物；聚丙烯；丙烯之共 聚物；聚苯乙烯；苯乙烯之共聚物；聚偏二氣乙烯；聚 碳酸知，熱塑性聚胺基甲酸酯；乙稀之共聚物；環狀烯 烴共聚物；及其組合。 6. 如請求項5之建築物品，其中該可熔融加工型共聚物係 選自由以下組成之群：四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙 烯之共聚物；六氟丙烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物；四 氟乙烯及丙烯之共聚物；四氟乙烯及降冰片烯之共聚 物；以及乙烯及四氟乙烯之共聚物。 7. 如請求項1至3中任一項之建築物品，其中各第一光學層 及各第二光學層包含氟聚合材料。 8·如請求項1之建築物品，其中該光學堆疊包含選自由以 下組成之群之層對：聚（曱基丙烯酸甲酯）與（四氟乙烯、 八氟丙烯及偏二氟乙稀之共聚物）之層對；聚（甲基丙稀 1454S8.doc 201030022 酸曱醋）與（六氣丙稀、四氟乙缚及乙稀之共聚物）之層 對；聚碳酸醋與（四氟乙稀、六氣丙稀及偏二氣乙稀之共 聚物）之層對；聚碳酸醋與（六氣丙稀、四敗乙稀及乙稀 ，之共聚物）之層對；聚碳酸醋與（乙烯及四氟乙稀之共聚 物)之㈣；聚丙烯之共聚物與(四氟乙烯、六氟丙烯及 偏二氟乙稀之共聚物）之層對；聚丙烯與（六氟丙稀、四 氟乙烯及乙烯之共聚物）之層對；聚苯乙烯與（四氟乙 #、六氣丙稀及偏二氟乙烯之共聚物）之層對；聚苯乙稀 之共聚物與(四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之此聚 物）之層對；聚苯乙烯之共聚物與（六氟丙婦、四氣乙稀 及乙烯之共聚物）之層對；聚乙烯之共聚物與（四氟乙 烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對；聚乙烯之 共聚物與（六氟丙烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物）之層 對；環狀烯烴共聚物與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙 烯之共聚物）之層對；環狀烯烴共聚物與（六氟丙烯、四 ❹ 氟乙烯及乙烯之共聚物）之層對；熱塑性聚胺基甲酸酯與 (四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對； 偏二氟乙烯之均聚物與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙 狀共聚物）之㈣；（乙稀A氯三a乙稀之共聚物）與 (四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對； (六氟丙烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物）與（四氟乙烯、六 氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之層對；（六氟丙烯、四 氟乙烯及乙烯之共聚物）與（乙烯及四氟乙烯之共聚物）之 層對；（六氟丙烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物）與四氟乙 145488.doc 201030022 烯及降冰片烯之共聚物之層對；及（乙烯及四氟乙烯之共 聚物）與（四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物）之 層對。 9. 如請求項1至3及5至8中任一項之建築物品，其中該氟聚 合材料包含至少三種不同單體。 10. 如請求項1至3及5至8中任一項之建築物品，其中該氟聚 合材料包含至少四種不同單體。 11. 如剛述請求項中任一項之建藥物品，其中該光學堆叠可 透射以下中之至少一者： a) 約400-700 nm之間的波長之至少一部分； b) 大於約700 nm之波長之至少一部分； c) 小於約300nm之波長之至少—部分；或 d) 約300-400 nm之間的波長之至少一部分。 12. 如前述請求項中任一項之建築物品，其中該光學堆疊可 反射以下中之至少一者： a) 約400-700 nm之間的波長之至少一部分； b) 大於約700 nm之波長之至少一部分； c) 小於約300nm之波長之至少一部分；或 d) 約300-400 nm之間的波長之至少一部分。 13·如前述請求項中任一項之建築物品，其中該多層光學與 進—步包含以下中之至少一者： a) 印刷物； b) 黏著劑； c) 抗撕裂層； 145488.doc 201030022 d) 表層；或 e) 保護邊界層。 14. 如前述請求項中任一項之建築物品，其進一步包含卩乂吸 收化合物、IR吸收化合物或其組合，其中該可熔融加工 型共聚物、該非氟化聚合材料或視情況選用之其他層包 含該UV吸收化合物、該瓜吸收化合物或其組合。 15. 如前述請求項中任一項之建築物品，其中該多層光學膜 係女置於可撓性無機或有機、編織或非編織、纖維網或 聚合材料上。 16. 如前述請求項中任一項之建築物品，其中該多層光學膜 係在襯墊構造物或張力構造物中。 17. 如請求項16之建築物品，其中該多層光學膜為該襯墊構 造物之外部片材、中間片材或内部片材中之至少一者。 18. 如清求項16或丨7之建築物品，其中該襯墊構造物進一步 包括一包含乙烯及四氟乙烯之互聚合單元的聚合膜。 19. 如請求項18之建築物品，其中該多層光學膜係層壓至該 聚合膜之外表面、該聚合膜之内表面中的至少一者上， 或夾在該聚合膜之該外表面與該内表面之間。 20. 如請求項15至19中任一項之建築物品，其中該多層光學 膜係安置在一支撐結構中且該支撐結構中之該多層光學 膜具有小於2.5 GPa之撓曲模數。 21. 如請求項15至20中任一項之建築物品，其中該支撐結構 中之該多層光學膜具有小於1 GPa之撓曲模數。 22. —種使用如請求項15至21中任一項之建築物品的方法， 145488.doc 201030022 該方法包含在屋頂、外觀、牆壁、外殼、窗戶、天窗、 中庭或其組合之構造中使用該建築物品。 23. —種製造如前述請求項中任一項之建築物品之方法，其 包含：使具有第一折射率之第一光學層與具有第二折射 率之第二光學層交替以構造一包含複數個層之光學堆 疊，其中該第一折射率係不同於該第二折射率，該等光 學層中之至少一者包含氟聚合材料，且該光學堆疊具 穩定性^ 24. 如請求項23之製造建築物品之方法，其包含以下中之至 少一者： a) 將該第一光學層及該第二光學層共擠成網狀物； b) 將該第一光學層之片材層疊至該第二光學層上或將 該第二光學層之片材層疊至該第一光學層上，然後層壓 之； c) 將該第一光學層之溶液塗布至該第二光學層上或將 該第二光學層之溶液塗布至該第一光學層上； d) 將該第-光學層氣相沈積至該第二光學層上或將該 第二光學層氣相沈積至該第一光學層上或 e) 其組合。 145488.doc • 6 ·