TW201028735A - Speckle mitigation in laser scanner projector systems - Google Patents

Description

201028735 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明的實施例係關於雷射掃瞄投射系統。更特別地 ，本發明的實施例係關於雷射掃瞄投射系統以及減少斑點 雜訊出現的相關方法，該斑點雜訊由於使用週期相光罩在 '' 雷射投射影像中為可見的。 ， 【先前技術】 ©每當使用同調光照射粗糙表面時斑點雜訊就隨之產生 ，例如螢幕或其他會產生漫射或透射的物體。尤其是多個 螢幕的小部分區域或其他反射物體會將光線散射成多個反 射性光束。斑點雜訊會在投射的影像上引起高空間頻率噪 訊。在觀測者雙眼或相機感應器之類的觀測點上，光束會 建設性干擾並形成一個亮點，或破壞性地形成一黑點，然後 產生斑點雜訊的隨機粒狀強度圖案。 斑點雜訊的特點是它的粒狀尺寸及對比度，其對比度 φ 常被定義為標準偏差比率來表示觀測面中的光照度。對於 1 足夠大的照明區域及夠小的單一散射點的尺寸來說斑點 / " 雜訊可說是用百分之百的亮度標準偏差π全面性發展”。如 果使用雷射光束在螢幕上形成一個影像像這樣的粒狀構 造意味著干擾或嚴重降低影像晝質。雖然使用投射機來顯 示影像時，這種干擾可能不是大問題，但是當投射機用來顯 示如文子之類的尚空間頻率影像時，將會是個嚴重的問題。 使用散射器的一般概念是用來將斑點減為最低，該概 念包含投射間雷射f彡像在小尺寸賴散面積上，以及使 201028735 用投射光學系統再形成該中間影像於最終銀幕上。藉著快 速移動散射器，電場的將會隨時_動，改變已察覺的班點 ，型。如果散射器移動或振動的夠快，斑賴型也將會在 高空間頻率狀態中改變且由目測可得知樣型改變。為了更 有效地運作，多數的賴晝面必須麵_時合内產 生，一般來說是50Hz的程度。 f T然快速移動散射器可能會降低班點雜訊，但這樣會 S要昂貴且複雜的機械裝置來高速侧向地移動相光罩。 【發明内容】 β要求不S義散射n便麟低賴雜簡祕及方法 是和此背景相違背的。根據當前發明的一項實施例提供 了雷射投射㈣。雷射投射系統包括了可見光的光源更 包括了至少一個雷射。掃瞄元件及系統控制器。系統控制 器是被程式化以產生掃瞒的雷射影像，其係藉由操作編碼 影像資料之光學發射的雷射以及控制掃瞄元件在整個多個 鲁 影像圖素上掃瞄可見光源之輸出光束。 此系統還包含了第一透鏡將已掃瞄的輸出光束聚焦以 形成中間的雷射影像。第二透鏡投射以及將中間的雷射影 像重新成像到投射的表面。個週期性相位遮罩被置於中間 雷射影像之上。週期性相位遮罩的週期約等於或大於中間 雷射影像上已掃瞄的輸出光束腰部直徑。週期性相位遮罩 的週期是這樣的使得掃瞄輸出光束由逐一圖素漸進地跳躍 ，由此產生可由肉眼或感應器辨識的斑點圖案。換言之，當 輪出光線掃瞄過週期性相位遮罩時，由於相位遮罩產生迅速 201028735 的強度調變，榮幕上的光束形狀因而立即地改變。雷射投射 系統也可包含光瞳相位遮罩，其配置成在接近第二透鏡的光 瞳加入相變化。 根據另一項實施例，本發明提供了雷射投射系統。雷射 投射系統包括了可見光光源，掃瞄元件，系統控制器以及週 期性相位遮罩。系統控制器加以程式化以藉由操作編碼影 r 像貝料光學發射之雷射以產生中間雷射影像，以及控制掃 〇 瞄元件以掃瞄可見光光源之輸出光束通過多個影像圖素。 週期性相位遮罩具有大約等於或大於中間雷射影像處掃瞄 輸出光束之光束腰部直徑。 一種用以減少雷射投射系統之投射影像中斑點的方法 包含將含有編碼影像資料之掃瞄雷射光束通過第一透鏡， 該透鏡聚焦該雷射光束以形成中間雷射影像;令含有該中 間雷射影像之掃瞄雷射光束通過週期性相位遮罩，此遮罩 具有等於或大於該掃瞄雷射光束在該中間雷射影像處之光 Ο 束腰部直徑的週期；產生該掃瞄雷射光束的複數個繞射階 ' ;透過第二透鏡然後再透過光曈相位遮罩投射該中間雷射 影像，藉以在表面上構成投射影像其中該經投射中間雷射 影像包含經投射掃瞄輸出光束此光束係逐一圖素漸進地 跳躍以降低該投射影像裡的斑點對比。 【實施方式】 特定實施例以雷射投射系統的情況加以說明，其中該 系統係經配置以橫越投射表面上掃瞄輸出信號或光束以產 生二維影像（即如點陣掃瞄）。可藉由在該投射表面上快速 201028735 地產生許多不同的斑點圖案來減少該掃瞄雷射影像之内出 現斑點。人眼或感測器將該等不同斑點圖案加以積算並平 均化，因而可減少出現斑點。 根據一些實施例，週期性相位遮罩位於鄰近於由投射 光學元件所構成的中間雷射影像，以及加以配置以藉由在 該光束投射於螢幕或表面上之前快速地改變該光束的形狀 ’ 與大小，藉此減少該螢幕或表面中的斑點出現情況。該相 Φ 位遮罩的週期近約等於或大於用以構成該中間影像之雷射 光束在該中間影像平面處的光束腰部直徑。當橫越該週期 性相位遮罩上進行光束掃瞄時，該選定週期在光束通過該 遮罩時即改變該輸出光束。特定地說，當該光束在該相位 遮罩裡特定週期的中心局部上聚焦時，會產生單一次光束， 並且當該輸出光束在多個特定週期之間聚焦時會產生兩 個以上次光束。通過該週期性相位遮罩之後該光束經由 透鏡而投射於該最終螢幕，使得該相位遮罩的相位調變在 ❿ 5 亥螢幕位置處被轉換成高空間頻率強度調變。 ， 變化的次光束照射該投射表面上的不同區域。投射於 • 該投射表面上的單一光束點逐漸地變型為兩個或多個光束 點，然後又隨著該光束掃瞄變回另一個單一光束點。即如 在此詳細說明中，快速地改變的光束點和相位調變產生多 個斑點圖案而可由眼睛或感測器加以平均化因此減少影 像裡出現的斑點。 參考圖1，示範性雷射掃瞄器投射系統1〇〇包含可見光 源20,獅構件30,像是能夠在至少水平及垂直方向上進行 201028735 掃瞒的掃瞒鏡子，以及系統控制器1〇。尤其，該可見光源2〇 可包含-個或多個雷射，像是半導體雷射，光較運之固態 雷射，光纖或是任何類似雷射，並触置喊生一個或 多個輸出光束22(即如經配置以發射紅，冑或綠輸出光束的 雷射）。該系、統控制器10可經配置以控制該或該等雷射2〇 ' 和該掃瞄構件30。 ，/_驗儀1G可峨㈣H錢其他_似裝置所 _操作，並可控制該或該等雷射2〇以發射能夠用於構成該投 射影像的編碼影像資料之光學發射。此外該系統控制器 10控制該触齡3G，使得賴购肢魏 射表面8〇上的多個圖素進行輸出先束掃猫(點 二亥等糸統控制器1 〇,雷射20和掃瞎構件3〇可協同作業以在 一投射表面80上產生二維掃瞄雷射影像。 根據第1圖所示之實施例，該雷射掃猫器投射系統1〇〇 包含第-及第二透鏡40及7〇，週期性相位遮罩6〇以及光瞳 ⑩相位遮罩72。該第-透鏡4G㈣該掃_出光束烈，並且 、在約位於該週期性相位遮罩6〇上的中間平面處產生中間雷 =影像50。該聊性她料6{)的週_略特或大於該 二出光束22在該中間雷射縣5G處的躲腰部直概亦即 週期係為使得當進行掃猫時該光束會被改變）。該輸出 ，束22產生光束點，並且該點在橫越該週期性相位遮罩 掃猫’後，該第二透鏡7G將經設置於該她遮罩上的 間雷娜像5G重新職雜至該投練面80上。示範性 "期性相位料6〇可包含透鏡_，全縣束分割器正弦 201028735 光栅等。此外，吵後謂述，可在該姆魏之後藉由第 二相位遮罩72，或是藉由經併入於該第二透鏡7〇之内的去 焦或像差構件以引人相位變異H相位遮罩π可 曈相位遮罩。 如圖1所示之實施例的週期性相位遮罩6〇係連同於其 ，系統構件触置將光束賴射於峨射表面8G上而當 橫越該遮罩6G上掃_輸岐束22時，該等光點係逐一田圖 ❿ θ 素漸進地跳躍。當該輸出光束22通過該遮罩6〇時該週期 性相位遮罩60產生多倾鑛。雖希望操作靜態相位遮罩 60,然-些實關可能賴條向移域震_週期性相 位遮罩60。該週期性相位遮翠6〇可為任何類型的遮罩該 者具有類餅雜餘麵罩上之光総从的週期。… 圖2a-2e說明其中該週期性相位遮罩6(H系經配置如二 維親陣列的實施例。該等特定圖式描繪聚焦於該透鏡陣 列60之不同位置處的輪出光束22。該第一透鏡锻如圖^所 不）以及該透辦列6G係麵計麟辦列6{)内之透鏡的 直徑在該陣列60之層級處（即如在該中間雷射影像50處)是 類似於或大於該腰部直徑。 在圖2a裡，該輸出光束22位於透鏡65b中央，而該透鏡 為該陣列60之内的特定透鏡。如圖式所示，在經該第二透 鏡70㈣1 重新戦縣之後，財光_會聚焦於 該投射表面上的單-光點9〇a處。在此位置處， 度為入射的垂直角度。 月 參考圖％當該輸出光束22向下掃瞒該週期性相位遮 201028735 罩6〇(亦即所述實施例的透鏡陣列6〇)時該輪出光束Μ移 動至位在透鏡65b與65c之間的位置。由於該輪出光束^係 經聚焦於兩個透鏡之間，因此該輸出光束22被 ，、 聚焦於該投射表面8〇上的次光束，_触_二= 小糾特定人射歧照射的光點_及伽。圖&裡的光點 90a為圖2b裡的較小照射光點9〇b，因為部份 會在進行光束掃猫時跳躍到該光點92a。換句話說，^輸 H 出光束22位在兩個透鏡之間時，可照射出兩個較小光點。 當該輸出光束22繼續掃瞄時，光點9〇b變得較小且光點 92a變得較大，直到該輸出光束22在透鏡咖與65c之間被相 等地分裂為止如圖2c所示，而產生兩個相等大小的光點9〇c 及92b。當該輸出光束22進-步向下掃晦該週期性相位遮 罩6〇時，會以特定入射角度照射出兩個光點_及咖（圖況 該光點90d小於該光點92c，而同時該光點92c又大於該 光.’έ 92b最後，圖2e說明當該輸出光束22居中於透鏡65c Ο 之上時，輸出光束22聚焦於光點92d及90(亦即光點90a-d) 上的所有光線會被消除。 在該情況下，該透鏡陣列的週期以及該第一透鏡4〇的 性質係為使得該掃猫輸出光束22的投射能夠逐一圖素漸進 地跳躍。在勞幕上照射&各個光點的人射肖度是時間的函 數持續地改變，藉此獲以顯著地減少斑點。圖2a_d雖說明 透鏡陣列實施例，然其他擁有該必要週期性的週期性相位 遮罩都能夠產生相同或類似的結果。 根據一些實施例，圖3說明在時間間隔Ti_T5處週期性 201028735 相位遮罩6〇在兩個圖素之照射上的漸進效應。不以僅將單 一光束點投射於該投射表面8〇上並予線性掃瞄該週期性 相位遮罩60可供該光束點逐一圖素漸進地海〖躍。注意圖3 僅說明5個時間週期，並且特定實施例可在當該輸出光束22 橫越該週期性相位遮罩60上掃瞄時擁有或較多或較少的時 間週期。圖素區域82和84為投射表面8〇上之多個所照射圖 ’ 素11軸示紐樣本，紐躲Φ可騎幕，魅或其他表 ❹面。該方形圖素區域82及84僅係圖形表現，因為該投射表 面80可或無須具有所界定的圖素區域。此外，該投射表面 80可包含例如顯示螢幕或牆壁的平坦或大致平坦表面，或 者該投射表面可包含輪絲面。該等光束點雖為按固定， 靜態位置所說明，然在真正操作裡，當該輸出光束四橫越該 =期性相位遮罩60上掃瞒時，有些實施例的光點可出現一 在1處，該光點90a照射整個圖素區域犯，因為該輸a ，束22居中於該週期性相位遮罩6()的單—週期上，她 f可為透辦列，全像絲分觀正弦光鱗。圖素區域 84在T,處並未受到該輸㈣束烈照射。在τ2處該輸出光 =既已機，故而該者係部份地位於卿獅位遽罩6〇 ，之被分裂成義次光束。所以，部份 雨出先束22已跳躍而照射該圖素區域⑽作為該光束點必 r?=90a(於T2處現為_比起在Tl處會略微地較 二和92a是按特定入射角度照射該湖 。根也、他實施例，該週期性相位遮罩60亦可經配 201028735 置將該輸出光束22分裂成兩個以上的次光束，藉以在該投 射表面80上照射出兩個以上光束點。 在T3處該輪出光束22係相等地位於該週期性相位遮罩 60的兩個週期之間並因此光束點9〇c及娜具有相等大小 。在T4處，隨著光點9〇繼續變型成光點犯，光點g〇d小於光 ‘點92c，直到最後在T5處光點92d完全照射該圖素區域84並 且消除掉光束點9〇為止。 φ 參相丨，根據—些實施例，在該投射透鏡70之後 引入有第一相位遮罩72以供進一步減少斑點出現。此第二 相位遮罩含有多個圖素，並可為相對於該週期性相位遮罩 60的光瞳相位遮罩72。該光曈相位遮罩72係經配置以藉由 引入相位調變來改變該週期性相位遮罩60形成影像於該螢 幕80上的方式。該光曈相位遮罩72的理想位置是位在該第 1透鏡的傅黎葉平面内，在此該週期性相位遮罩60的繞射 1¾係空間分隔，即如圖丨所示。該光瞳她遮罩72係經有利 ⑩地配置而使得該繞射階的相位為相等，藉此獲以縮減該螢 幕上的光點餘。轉—些實酬，該級她遮罩72可 為時間之函數所調變的靜態或動態相位遮罩。 二根據另一實施例，亦可藉由將像差或相位變異引入至 f第二透鏡7G㈣達賴光曈她遮罩的肖色。這可例如 藉由略微地不對準該第二透鏡7〇的焦點（即如將該投射影 像去焦)，或者是藉由在該透鏡設計裡引入，即如去焦或球 开v像差的受控像差所操作^根據此實施例，經修改第二透 鏡70可藉由改變由該週期性相位遮罩6〇所產生之繞射階的 11 201028735 相對相位來執行該光瞳相位遮罩72的功能。 像^限於圖1所示之祕，並且可包含額外元件 ，像疋可驗輪岐束22 H妓加倍 喝於烟、== 心，可儀鱗與由縣_位遮罩72或·二透鏡7〇所 提供之繞射階數量一樣多的相位調變器（未予圖示）以動態 地改變該等繞射階的相位。如此可在螢幕上獲以產生高空 間頻率光柵，而其形狀是以時間為函數而改變。 二 在該投射表面上照射不同的區域，改變光束點大小或 形狀以及變更照射的人㈣度可供產生獨的斑點圖案而 被眼睛或感測器所平均化。為獲得有效的斑點減少社果 該週期性她料60應提供大於㈣糊（亦即眼睛瞳孔 直徑除以觀_離）軌㈣度。此外，若該週期性相 位遮罩60係經配置如透鏡陣列，則該透鏡陣列的間距乘以 4第一透鏡7G的放大率應小於人眼（亦g卩人眼解析度單元 藝）的騎度，使得酬者在當觀看該触雷㈣糾無法摘 測出個別圖素。 該雷射掃瞄投射器的一些實施例可包含橫越該投射表 面上以產生影像線的快速掃瞄方向（如水平方向），以及產 生多條直線的較緩掃瞄方向（如垂直方向）。作為範例一 旦s亥雷射完成橫越該快速掃猫方向上的掃瞒後即可關閉 3亥雷射以供重设該掃瞒鏡子3〇的位置❶一般說來，該輸出 光束22在該緩慢抽線方向上的位置係按逐一視框方式在視 框上保持為固疋，藉以維持該所欲影像解析度。其結果為 12 201028735 可逐—視框地在該緩慢軸線上的姻位置處 與===她料6G被。該抛鏡子度在該緩 k轴線方向上可按逐—視㈣方式略微地 ===對於該週期性相位遮罩6G的位置。，^^像 轉潭的振W補她料6G的職财進―步降低斑 點對比而不致造形成影像像解析度的顯著劣化。例如可 將該掃猫鏡子位移該週期性相位遮罩60的四分之一或半週 ❹ Ο 期。 ，應該要注意的是，”共同地"，"通常"和"一般"這些用詞 假使使用在其中不應該被解讀成限制本發明申請專利範圍 ，或是暗示針對本發财請專利範_結構或功能而言一 些特性是迫切的，基本的，或是重要的。而是，這些詞只是 用來強調選擇性或是額外的特徵，可以或不可以使用在本 發明的特定實施例。 應該要注意的是，"大約"―詞在其中用來表示來自於 任何量化比較，值，測量或其他表示法的不破定性。"大約" Θ在其中也絲代表量化表示法的程度可峨陳述的參 考改變，而不會造成討論主題基本功能的變化。 "應該要注意的是，其中本發明元件以特定方式”程式控 制的列舉，以特定方式，，設計”或”程式控制"具體化特定性 質或功能都是結構性的解，而不是職使關列舉。更 明確地說，射元倾”料"或"程式_"的參考方式是 指元件目前的物理情況，可拿來作為此元件結構化特性明 確的列舉。 13 201028735 ”中已、找特定的實施例詳細說明了本發明很顯然地 —Η可以不悖離本發明界定於申請專聰圍巾的範脅來做 二修改和變化。更明確地說，雖然本發明的—些特點在 被〜、為是最佳的或特财用的，但細認為本發明不 一定要被_在這些本㈣崎佳特性中。 【圖式簡單說明】 本發明下列特定實施例之詳細說明當隨同下列附圖一

起閱讀時將能夠最佳地了解，其中相同的結構以相同的參 考數字表示。 圖1不意性地顯示出依據本發明一個或多個實施例之 範例性雷射投射系統。 ^圖2a_e不意性地顯示出依據本發明一個或多個實施例 祀例性雷射輸出光絲焦於聊性她遮單上。 圖3a-e示意性地顯示出依據本發明一個或多個實施例 可見光光源輸出光束之範例性光束點掃瞄通過投射表面。 範例性雷射輸出光束聚焦於週期性相位遮罩上。 【主要元件符號說明】 系統控制器1〇;可見光光源20;光束22;掃猫構件 30;第-透鏡40;中間雷射影像5〇;週期性相位遮罩6〇; 透鏡65a，65b，65C，65d，65e;t透鏡70;光瞳相位遮罩 72;投射表面80;圖素區域82, 84;光點90, 90a，90b, 90c ，90d, 92a，92b，92c, 92d;投射系統 100。

Claims (1)

1. 201028735 七、申請專利範圍 1. 一種雷射投射系統，其包含： 可見光光源，其包含至少一個雷射； 系統控制器，其加以程式化以產生掃瞄雷射影像,其係藉 由操作編瑪影像資料之光學發射的雷射以及控制掃瞄元件 在多個影像圖素上掃猫可見光源之輸出光束而產生； ’ 第一透鏡，配置成將掃瞄的輸出光束聚焦以形成中間雷 射影像； 第二透鏡，配置成投射中間雷射影像到投射表面； 週期性相位遮罩置於比第一透鏡及第二透鏡更靠近中間 雷射影像以及包含週期約等於或大於中間雷射影像處掃瞄 輸出光束的光束腰部直徑；其中週期性相位遮罩產生多階 繞射；以及 光瞳相位遮罩，其包含多個圖素位於第二透鏡後之光學 路徑_以及配置成改變由週期性相位遮罩產生多階繞射之 ^ 相對相位， 、 其中掃瞄輸出光束之投射逐一圖素漸進地跳躍，因而減 小投射於投射表面上掃瞄雷射影像中斑點對比。 2·依據申請專利範圍第！項之雷射投射系統，其中週期性相 位遮罩產生單-次光束於掃猫輸出光束聚焦於週期性相位 遮罩各別週期中央部份之時，及產生至少兩個次光束於掃 猫輸出光束聚焦在週期性相位遮罩至少兩個週期間之時。 3.依射請專利範圍第丨項之雷射投射系統，其中投射於投 射表面上之平均入射角度隨著掃猫輸出光束掃猫週期性相 J5 201028735 位遮罩而變化。 4. 依據申請專利範圍第1項之雷射投射系統，其中第一透鏡 配置成聚焦掃瞄輪出光束，使得光束腰部直徑為小於或等兄 於在中間雷射影像處週期性相位遮罩之週期。 5. 依據申請專利範圍第1項之雷射投射系統，其中週期性相 位遮罩包含透鏡陣列，每一透鏡具有直徑為等於或大於在 中間雷射影像處掃瞄輸出光束之光束腰部直徑。 〇 6.依據申請專利範圍第5項之雷射投射系統，其中透鏡陣列 的間距乘以該第二透鏡的放大率應小於人眼解析度。 7. 依據申請專利範圍第1項之雷射投射系統，其中週期性相 位遮罩包含至少一個全像光束分裂器。 8. 依據申請專利範圍第1項之雷射投射系統，其中週期性相 位遮罩包含正弦光栅。 9·依據申請專利範圍第1項之雷射投射系統，其中光曈相位 遮罩包含靜態相位遮罩位於第二透鏡的傅黎葉平面内以及 Q 改變由週期性相位遮罩產生繞射階之相對相位，使得繞射 階之相位為相等的。 10.依據申請專利範圍第1項之雷射投射系統，其中光瞳相 位遮罩包含動態相位遮罩位於第二透鏡的傅黎葉平面内以 及加以調變，使得動態相位遮罩之圖素改變每一繞射階之 相位為時間之函數。 1L依據申請專利範圍第1項之雷射投射系統，其中光瞳相 位遮罩併入於第二透鏡内。 12·依據申請專利範圍第11項之雷射投射系統，其中第二透 201028735 鏡配置成改變週期性相位遮罩產生繞射階之相對相位。 13. 依據申請專利範圍第丨項之雷射投射系統其中系統控 制器加以程式化以： 控制掃瞄元件，使得掃瞄元件操作在快速掃瞄方向產生 掃瞄雷射影像線以及在緩慢掃瞄方向產生掃瞄雷射影像 多條線；以及 以逐一視框頻率不對準掃瞄元件之角度，在緩慢軸方向 之掃瞄雷射影像偏移振幅小於週期性相位遮罩之週期。 14. 一種雷射投射系統，其包含： 可見光光源，其包含至少一個雷射； 系統控制器，其加以程式化以產生中間雷射影像於中間 平面處，其係藉由操作編碼影像資料之光學發射的雷射以 及控嚮_元件以在彡轉細素上触可見光源之輸 忠击·丨、，a ❿ 週雛她遮罩位於巾間平面處，其包含週躺等於或 大於中間f射雜處細輸出光束的光束腰部直徑。 15. 依據申請專利範圍第14項之雷射投射系統其中週期性 相位遮罩產生單—錢束於掃_出光絲餘週期性相 位，罩各別週期中央部份之時，以及產生至少兩個次光束 於掃聪輸出光束聚焦在週期性相位遮罩至少兩個週期間之 時0 16. 依據申凊專利範圍第丨4項之雷射投射 相位遮罩包含全像縣分_駐弦光栅。、中週雜 π.依據申請專利範圍第14項之雷射投射系統其中雷射投 17 201028735 射系統更進一步包含： 第一透鏡，配置成將掃瞄的輸出光束聚焦以形成中間雷 射影像； 第二透鏡’配置成投射中間雷射影像到投射表面。 18. 依據申請專利範圍第π項之雷射投射系統，其中掃瞄輸 出光束之投射逐一圖素漸進地跳躍，因而產生多個斑點圖 ^ 案。 19. 依據申請專利範圍第Π項之雷射投射系統，其中第二透 鏡配置成改變由週期性相位遮罩產生繞射階之相對相位。 20. 依據申請專利範圍第19項之雷射投射系統，其中第二透 鏡配置成將投射於投射表面上之掃瞄雷射影像失焦。 21. —種雷射投射系統，其包含： 可見光光源，其包含至少一個雷射； 系統控制器，其加以程式化以產生中間雷射影像於中間 平面處，其係藉由操作編碼影像資料之光學發射的雷射以 φ 及控制掃瞄元件以在多個影像圖素上掃瞄可見光源之輸出 光束而產生；以及 週期性相位遮罩位於中間平面處，其配置成產生單一次 光束於掃瞄輸出光束聚焦於週期性相位遮罩各別週期中央 4份之時，以及產生至少兩個次光束於掃猫輸出光束聚焦 在週期性相位遮罩至少兩個週期間之時。 22.種在雷射掃瞄器投射系統投射影像中減少斑點之方 法，该方法包含： 將包含編碼影像資料之掃瞄雷射光束通過第一透鏡其 18 201028735 聚焦雷射光束以形成中間雷射影像； 將包含中間雷射影像資料之掃瞄雷射光束通過週期性相 位遮罩，其具有週期等於或大於中間雷射影像處掃瞄輸出 光束的光束腰部直徑； 產生掃瞄雷射光束之多階繞射； *· 投射中間雷射影像經由第二透鏡以及再經由光瞳相位遮 * 罩以形成投射影像於表面上，其中 投射中間雷射影像包含投射掃猫輸出光束，其逐一圖素 ® 漸進地跳躍以減小投射影像中斑點對比。 、