TW200944955A - Exposure apparatus and device manufacturing method - Google Patents

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200944955 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種曝光裝置，其將一原片的圖樣投射 到一基質上，藉此將該基質曝光於光線下，及有關一種裝 置製造方法。 ' 【先前技術】 Φ 在製造微細圖案裝置例如半導體裝置、液晶裝置及微 型機械時，是使用曝光裝置以將一原片（標線片：reticle )的圖樣投射到一基質上（例如，晶片或玻璃板），藉此 將該基質曝光於光線下。曝光光的範例是可見光、紫外光 、EUV光、X光、電子束及帶電質點束。用以將一原片的 圖樣投射到一基質上的投影系統範例包括折光系統、反射 系統（catoptric system)、折反射系統及帶電質點透鏡。 曝光裝置需精確的校準固持原片的原片台及固持基質 (§ 的基質台。曝光裝置也需精確的支撐構架如支撐投影系統 ' 的光學系統支座、支撐原片台的原片台表面平板、及支撐 基質台的基質台表面平板。 此外，曝光裝置需要一振動控制裝置，以抑制任何外 部振動，例如自基座，如其上安裝有曝光裝置的地板傳遞 的振動，傳遞至例如平台（台）。 爲符合此需求，構架如曝光裝置內的表面平板一般上 是藉由基礎構架、如安裝有振動控制架的地板所支撐。本 文中，「振動控制」表示減少振動。 -5- 200944955 藉感測器來檢測振動、及依據感測器的輸出信號來作 動一致動器的主動振動控制裝置經被實務性的使用。實務 上普遍使用一可調節氣彈簧內部空間之壓力的空氣壓力致 動器來充當主動振動控制裝置的致動器’藉此主動的控制 由此內部壓力所產生的一推力。 爲了減少振動控制架所支撐的構架的振動’有效的方 法是減少振動控制架的彈簧常數。因此’使用氣彈簧充當 振動控制架是有效的。由於氣彈簧可藉將其壓力接納區域 設定爲足夠的大而簡易的產生一大的推力，故其亦可適當 的被使用爲一支撐繁重構架的支撐機構。因此，使用一空 氣壓力致動器來充當振動控制架的致動器具有一優點，即 其亦可充任支撐機構，進而獲致一具有相當簡單的構架的 振動控制裝置（參見日本第1 1 -294520號專利公開案）。 傳統上，當曝光裝置是在其正常操作狀態（包含曝光 的各種調整程序）時，振動控制架包含一空氣壓力致動器 ，使用一氣彈簧以相對於基礎構架支撐曝光裝置內的一構 架，同時減少該構架在曝光裝置內的振動。然而，在組裝 及調整曝光裝置時，曝光裝置內的構架需相對於基礎構架 以高剛性支撐以確保安全。在此情形中，不只是具有一氣 彈簧的振動控制架，也需藉助一與振動控制架相獨立設置 的止動件或類似物來支撐曝光裝置內的構架。如果曝光裝 置發生異常’導致足量的驅動氣體無法供應至建構在振動 控制架內的空氣壓力致動器，則具有一氣彈簧的振動控制 架難以支撐曝光裝置內的構架。此外，在此情形中，一止 -6- 200944955 動件或類似物如上述情形般支撐曝光裝置內的構架。在傳 輸至空氣壓力致動器的信號失能或需停止的情形中，同樣 的情況發生。 在曝光裝置內的構架的支撐位置（作用點）會在氣彈 簧支撐構架時及止動件支撐構架時改變，故其重力的變位 特性在上述兩情形之間改變。在一範例中，支撐位置在當 * 振動控制架支撐可安裝曝光裝置之干涉儀及投影系統的光 @ 學系統支座，及當止動件或類似物支撐該光學系統支座的 情形之間改變，故光學系統支座的變位特性可能會在數個 微米的等級下改變。 當曝光裝置內的構架在先藉由一止動件來支撐，再藉 由一氣彈簧來支撐的同時安裝兩構件時，該兩構件之間的 位置關係可能會改變。更具體言之，當光學系統支座在先 藉由一止動件來支撐，再藉由一振動控制架來支撐的同時 安裝一投影系統及干涉儀時，投影系統及干涉儀之間的距 Q 離可能會在數個微米的等級下改變。 • 隨著近年來曝光裝置尺寸的加大，曝光裝置內的構架 的尺寸也增加。爲了減少曝光裝置的重量，需將構架的重 量減至最小。爲符合此需求，當曝光裝置在正常狀態時（ 即是當曝光裝置內的構架是藉由振動控制架所支撐時）， 曝光裝置內的構架需具備有最小的必要剛性。由此觀點視 之，由於支撐位置的改變而導致的上述該等構件之間的位 置關係的改變量可能會增加。然而，近年來，考慮到曝光 裝置較高精度的需求，由於支撐位置的改變而導致的構件 -7- 200944955 之間的位置關係的改變是不容忽略的。 當安裝在一構架上的兩構件需被精確的校準時，在安 裝其等於構架上後再次調整該等構件的位置的程序是必要 的。此將增加組裝程序的數量及成本。 曝光裝置內的構架的變位特性，會在當氣彈簧支撐該 構架及當止動件支撐該構架的兩情形之間改變，故在構架 本身或安裝在構架上的構件殘留有應變。例如，既便是當 支撐位置回到原片支撐位置，由於不可逆效應例如摩擦的 關係，該等構件可能不會回到初始狀態（例如初始位置及 變位狀態）。更具體言之，當一光學系統支座先藉由止動 件來支撐，再藉由一氣彈簧來支撐，而後再次藉由止動件 來支撐的同時，安裝一投影光學系統，則投影系統在安裝 時其位置及變位狀態可能會自與初始狀態的有所改變。 隨著近年來曝光裝置精度的提升，曝光裝置內的構件 數量也增加了。有鑑於曝光裝置的安裝空間的限制條件， 故需節省空間以容納諸構件。此使得難以確保有足夠的空 間以容納止動件。 同樣的，隨著近年來曝光裝置精度的提升，而有了潔 淨曝光裝置環境及精確控制曝光裝置內之溫度的需求。爲 了符合此需求，當使用一可驅動的止動件時，由止動件驅 動機構釋放到曝光裝置內的環境的灰塵、廢熱及類似物等 經變得不容忽略。 【發明內容】 -8- 200944955 本發明的目的在於例如減少當藉一氣彈簧來支撐一構 架及當藉一止動件來支撐該構架時，兩種情形之間的支撐 位置的差異。 依據本發明的第一型態，其提供一曝光裝置，該曝光 裝置具有一建構成將一原片的圖樣投射到一基質上的構件 ，藉此將該基質曝光於光線下，及一建構成可支撐該構件 * 的構架，該裝置包含一建構成可支撐該構架的支撐件、一 H 設於該構架及支撐件之間、及建構成可支撐該構架的氣彈 簧，及一止動件容納於該氣彈簧的一內部空間內，以防 止該構架在超過一容許水平（數値）下相對於該支撐件移 動。 依據本發明的第二型態，其提供一製造裝置的方法， 包含藉使用上述曝光裝置來將一基質曝光於光線下，及顯 影該基質的步驟。 本發明的其他特色將在參考下文及各附圖後有進一步 0 的認知。 【實施方式】 下文將藉附圖來說明本發明的較佳具體實施例。 依據本發明一較佳具體實施例的曝光裝置，具有可將 一原片的圖樣投射到一基質上的構件，藉此將該基質曝光 於光線下，及可支撐該等構件的構架。該等構件包括例如 投影系統（光學系統鏡筒）、原片台及基質台。該等構架 包括例如光學系統支座、原片台表面平板及基質台表面平 -9- 200944955 板。 圖2是顯示依據本發明一較佳具體實施例的曝光裝置 的槪意配置之視圖。曝光裝置EX相對於投影系統i 05掃 瞄一原片（標線片：reticle) 1〇7及一基質（例如晶片或 玻璃板）104 ’同時藉投影系統1〇5將原片107的圖樣投 射到基質104上。藉此作業，基質1〇4被曝光於光線下， 而原片107的圖樣被轉移到基質1〇4上。然而，曝光裝置 EX可在原片107及基質1〇4仍然固定不動的情形下，將 基質104曝光於光線下。 曝光裝置EX具有一基部框架116，充當支撐一光學 系統支座112的支撐件，一在固持原片1()7的同時可移動 的原片台（標線片台）106，及一在固持基質104的同時 可移動的基質台（晶片台）103。曝光裝置EX也具有一以 照明光照射原片107的照明系統1〇8、以預定的放大率（ 例如4 : 1 )將原片1 〇7的圖樣投射到基質1 〇4上的投影系 統105、及固持投影系統1〇5的光學系統支座112。曝光 裝置EX也具有一空調室1〇9，可供應溫控的乾淨空氣至 空間如光學路徑（例如照明系統1 08及投影系統1 05的內 部）。 照明系統1 0 8藉在本體內建構一光源（例如超高壓水 銀燈的放電燈）或藉自一設定爲與曝光裝置EX的主體（ 在此情形中爲除了光源之外的部分）間隔開的光源（例如 激元雷射；未示）引導光線，透過一離子束線來導入照明 光。照明系統1 08產生例如狹縫光及照明由原片台1 06所 -10- 200944955 固持的原片107。 基部框架116係安裝於在一半導體製造設備內的乾淨 房間的地板（底座）1 0 1上。基部框架1 1 6係高剛性的固 定在地板101上’故其實際上是與地板101成一體，或實 際上是地板101的延伸部。基部框架116 —般上具有三或 四個高剛性支柱’及藉一振動控制架1 1 3將光學系統支座 * (構架的一範例）112支撐在各支柱的上方部分。振動控 φ 制架113具有例如一氣彈簧、阻尼器及致動器。振動控制 架113防止來自地板ιοί的高頻振動（其頻率爲等於或高 於地板101自然頻率的振動）傳遞至光學系統支座112, 且主動的補償光學系統支座112的傾斜及搖擺。 支撐投影系統105的光學系統支座112藉一支撐框架 ill來支撐一原片台表面平板110。爲了偵測基質台相對 於光學系統支座112的位置，將雷射干涉儀固定在光學系 統支座1 1 2上。雷射干涉儀具有一 z干涉儀1 1 8，可量測 ❿ 基質台1〇3在Z方向（垂直方向）上的位置，及具有一 - X-Y干涉儀114，可量測基質台103在X及γ方向（水平 方向）上的位置。一Z干涉儀鏡117及一 X-Y干涉儀鏡 102配置於基質台103上，充任雷射干涉儀的參考鏡。 原片台106係安裝於原片台表面平板110上，且藉具 有一驅動源（線性馬達）及液體靜壓軸承的驅動機構（未 示）來驅動以在Y方向上掃瞄曝光。此時的驅動型態可具 有如下排序的加速區間、恆定速度運動區間及減速區間。 下文將說明基質台103及其周邊。基質台103固持安 -11 - 200944955 裝其上的基質104，且可在總共六個軸向方向上被校準， 即是，在水平面上的兩個方向（X及γ方向）、垂直方向 (Z方向）、及環繞與各個方向相平行的軸線的旋轉（ωχ ，coy及ωζ)方向。可採用一電磁致動器，例如線性馬達 來充當校準驅動源。一校準基質台103的校準機構包含一 二維（二度空間）平台機構，具有一在X方向上線性移動 的X平台、一可驅動X平台的X線性馬達、一在Υ方向 上線性移動的Υ平台、及一可驅動Υ平台的Υ線性馬達 。校準機構具有一構架，其中可在Ζ方向、傾斜（ωχ及 coy)方向、及旋轉方向上移動的平台係安裝在二維平台機 構上。一液體靜壓軸承被用以充當各方向的導引件。基質 台103的細節配置可參見例如，日本第1 - 1 88241、3-245 93 2及6-267 8 23號等專利公開案。 基質台103藉由一基質台表面平板115所支撐，且在 基質台表面平板115的X-Y導引表面上移動。基質台表面 平板115可透過支撐腳（未示）藉由一基座，例如地板所 支撐，或藉由基部框架（支撐件）116來支撐。 圖3是顯示圖2所示構架的視圖，其中顯示具有振動 控制架的局部構架。支撐投影系統105的光學系統支座 u2是藉通過振動控制架113的基部框架116，及地板（ 底座）1 0 1來支提。 圖1槪意的顯示在依據本發明第一具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架113的構架。振動控制架113具有一 可移動部位11及一固定部位14’固定部位14係固定在一 200944955 用以支撐光學系統支座112的基部框架（支撐件）116上 。可移動部位11在其底部具有一開口，且可以是一盒狀 構件，圍繞至少一部份的固定部位1 4。 參見圖1’ 一可在Z方向上膨脹及收縮的氣彈簧15 係設置於固定部位14的外表面及盒狀可移動部位（盒狀 構件）11的內表面之間，以充當可在Z方向上支撐可移 ’ 動部位Η的配置。氣彈簧15與形成於固定部位14內的 0 一空間19a相配合以在Z方向上支撐光學系統支座112。 氣彈簧15 —般上可以是氣墊（空氣緩衝器）。 再參見圖1，可在Y方向上膨脹及收縮的氣彈簧12 及1 6係設置於可移動部位1 1及固定部位1 4之間，以充 當可在Y方向上支撐可移動部位11的配置。氣彈簧12及 16係配置成將可移動部位11夾持在其等之間。氣彈簧12 及1 6分別與形成於固定部位1 4內的空間1 9c及1 9b相配 合，以在Y方向上支撐光學系統支座112。氣彈簧15、12 φ 及1 6可以由例如橡膠所形成。 ' 空間19a、19b及19c係透過管線連接至一壓力調節 機構（未示）。壓力調節機構各別的控制空間19a、19b 及19c的內部壓力，以減少光學系統支座112的振動。 一用以限制可移動部位11在Z方向上的位置之Z方 向止動件10，係容納於用以在Z方向上支撐可移動部位 11的氣彈簧15內。一用以限制可移動部位11在Y方向 上的位置之Y方向止動件1 3及1 7，係分別容納於用以在 Y方向上支撐可移動部位11的氣彈簧12及16內。止動 -13- 200944955 件10、13及17可防止可移動部位U或光學系統支座n2 (構架）在超過一容許水平（數値）下，相對於固定部位 14或地板（底座）101移動。止動件1〇、13及17也用以 在組裝及調整曝光裝置時，支撐光學系統支座112。 如果氣彈簧15由於其內部壓力受控制爲一預定値或 小於預定値’而無法支撐光學系統支座112時，光學系統 支座112可藉由容納於氣彈簧15內部空間內的z方向止 動件10來支撐。基於此原因，光學系統支座112的支撐 位置在以氣彈簧15來支撐光學系統支座112及以止動件 1〇來支撐光學系統支座112兩種情形之間，沒有大幅的改 變。故光學系統支座112的變位狀態必然的沒有大幅改變 。安裝在光學系統支座112上的複數構件（例如投影系統 1 〇5及干涉儀1 1 4、1 1 8 )之間的位置關係，在以氣彈簧1 5 來支撐光學系統支座112及以Z方向止動件10來支撐光 學系統支座1 1 2兩種情形之間，也沒有大幅的改變。此外 ’安裝在光學系統支座112上的各別構件內的殘留應變得 以減少。 圖4槪意的顯示在依據本發明第二具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架113的結構。依據第二具體實施例的 曝光裝置，其具有一配置，其中在第一具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架113(參圖1)由圖4所示的振動控 制架1 1 3所取代。 振動控制架113包括一在其底部具有一開口的盒狀可 移動部位（盒狀構件）45，及一固定部位492，固定部位 200944955 492固定在一用以支撐一光學系統支座112的基部框架 116上。可移動部位45係固定在光學系統支座112上。 可移動部位45在其內表面中央具有一萬向支架活塞 (gimbal piston)的活塞桿42，充當一機構，可容許可移 動部位45及固定部位492 (在一平行於χ-γ平面的方向 上）之間的相對失準。活塞桿42在Z方向上延伸。活塞 桿42藉一配置於其遠端的金屬滾珠43來支撐在萬向支架 0 活塞的汽缸44的底面上。藉此配置，萬向支架活塞具有 一構架，其在一與X-Y平面相平行的方向上具靈活度。 再參見圖4，可在Z方向上膨脹及收縮的氣彈簧40 係設置於固定部位492及萬向支架活塞P1之間以形成一 封閉空間，以充當可在Z方向上支撐可移動部位11的配 置。氣彈簧40係配置成將可移動部位11夾持在其等之間 。氣彈簧12及16分別與形成於固定部位14內的空間19c 及19b相配合，以在Y方向上支撐光學系統支座112。氣 Φ 彈簧15、12及16可以由例如橡膠所形成。氣彈簧40與 - 形成於固定部位492內的一空間493 a相配合，以在Z方 向上支撐光學系統支座112。氣彈簧40 —般上可以是氣墊 (空氣緩衝器）。氣彈簧40在一平行於χ-γ平面（其垂 直於Z方向）的方向上具有的剛性，比在Z方向上的剛性 爲高。基於此原因，雖然氣彈簧40抑制可移動部位45及 固定部位492之間，在一與X-Y平面相平行的方向上的相 對運動，萬向支架活塞P1允許其等之間，在一與X-Z平 面相平行的方向上的相對運動。 -15- 200944955 可移動部位45在其內側表面的中央具有萬向支架活 塞P2及P3的活塞桿49及149,各充當一機構，可容忍 可移動部位45及固定部位492之間，在一與χ_ζ平面相 平行的方向上的相對失準。活塞桿49及149在Y方向上 延伸。活塞桿49及149藉配置於其遠端的金屬滾珠491 及495而被支撐在萬向支架活塞P2及P3的汽缸47及 147的底面上。藉此配置，萬向支架活塞p2及P3具有— 構架，其在一與X-Z平面相平行的方向上具靈活度。 再參見圖4’可在Y方向上膨脹及收縮的氣彈簧46 及146係設置於固定部位492及萬向支架活塞P2及P3之 間以形成一封閉空間，以充當可在Y方向上支撐可移動部 位11的配置。氣彈簧46及146分別與形成於固定部位 492內的空間493b及493c相配合，以在Y方向上支撐光 學系統支座112。氣彈簧46及146 —般上可以是例如氣墊 (空氣緩衝器）。氣彈簧46及146在一平行於χ-ζ平面 (其垂直於Y方向）的方向上具有的剛性，比在Y方向 上的剛性爲高。基於此原因，雖然氣彈簧46及146抑制 可移動部位45及固定部位492之間，在一與X-Z平面相 平行的方向上的相對運動，萬向支架活塞P2及P3允許其 等之間’在一與X-Z平面相平行的方向上的相對運動。 —萬向支架活塞可在X方向上設置於固定部位492及 可移動部位45之間，且一可在X方向上膨脹及收縮的氣 彈簧可設置於可移動部位45及萬向支架活塞之間以形成 —封閉空間，以充當可在X方向上支撐可移動部位11的 -16- 200944955 配置。 空間493a、493b及493 c係透過管線連接至一 節機構（未示）。壓力調節機構各別的控制空間 493 b及49 3 c的內部壓力，以減少光學系統支座1 動。 一在Z方向上限制可移動部位45的位置之Z 動件41，係容納於在z方向上支撐可移動部位45 0 簧40內。在γ方向上限制可移動部位45的位置 向止動件48及148，係分別容納於在Y方向上支 動部位45的氣彈簧46及146內。止動件41、48 可防止可移動部位11或光學系統支座112(構架） 一容許水平（數値）下，相對於固定部位14或地 座）1 0 1移動。 如果氣彈簧40由於其內部的氣體量（或壓力 等於一預定値或小於預定値，而無法支撐光學系 〇 112時’光學系統支座112即藉由Z方向止動件‘ ' 撐。基於此原因，光學系統支座112的變位狀態在 簧40來支撐光學系統支座112及以z方向止動件 撐光學系統支座1 1 2兩種情形之間，沒有大幅的改 圖5槪意的顯示在依據本發明第三具體實施移 裝置內的振動控制架113的結構。依據第三具體實 曝光裝置’其具有一配置，其中在第一具體實施例 裝置內的振動控制架113(參圖1)由圖5所示 制架1 1 3所取代。 •壓力調 493a、 12的振 方向止 的氣彈 之Y方 撐可移 及148 在超過 板（底 )變成 統支座 4 1來支 以氣彈 41來支 變。 的曝光 施例的 的曝光 振動控 -17- 200944955 在第三具體實施例中，一容納於氣彈簧15內部空間 內的止動件50被一致動器51所驅動。同樣的，一容納於 氣彈簧12內部空間內的止動件56被一致動器57所驅動 。一容納於氣彈簧16內部空間內的止動件66被一致動器 67所驅動。驅動止動件50、56及66的致動器51、57及 67 —般上可分別容納於氣彈簧15、12及16的內部空間內 。此配置可減少致動器51、57及67可能產生的灰塵及熱 對曝光裝置的腔室內的環境所造成的嚴重影響。在Z方向 上的致動器51可驅動止動件50，以防止在以氣彈簧15支 撐光學系統支座112及以止動件50支撐光學系統支座112 之間，光學系統支座1 1 2的水平改變。 致動器5 1、5 7及67可具有，例如壓電元件或磁致伸 縮的元件。可移動部位11或光學系統支座112(構架）相 對於固定部位14或地板（底座）101的可容許水平之移動 ，可依據致動器51、57及67驅動止動件50、56及66的 數量而改變。在圖5所示的範例中，可容許値係是由止動 件5 0、56及66的遠端及接納該等止動件的止動件收容器 71、72及73之間的距離所決定。此外，在圖5所示的範 例中，分別驅動止動件50、56及66的致動器51、57及 67係固定在可移動部位11上，而止動件收容器71、72及 73係形成於固定部位1 4內。然而，分別驅動止動件5 0、 56及66的致動器51、57及67也可固定在固定部位14 上，而止動件收容器71、72及73則可形成於可移動部位 1 1內。 -18- 200944955 在第三具體實施例中，振動控制架113在氣彈簧15、 12及16的內部空間內，分別具有位移感測器52、5 8及 68，用以偵測止動件的遠端及與其等相對的部位之間的間 隙之尺寸。位移感測器52、58及68可視爲是可用以偵測 固定部位14及充當構架的光學系統支座112之間的相對 位置的相對位置感測器。位移感測器52可藉由一支撐構 件53所支撐，且容納於氣彈簧15的內部空間內。位移感 測器58可藉由一支撐構件59所支撐，且容納於氣彈簧12 的內部空間內。位移感測器68可藉由一支撐構件69所支 撐，且容納於氣彈簧1 6的內部空間內。 致動器51、57及67可依據來自位移感測器52、58 及6 8的輸出來加以控制，使得止動件5 0、5 6及66的遠 端及止動件收容器71、72及73之間的距離與該可容許水 平（數値）相對應。 曝光裝置較佳者另具有一振動感測器，用以偵測支撐 曝光裝置的地板（底座）1 0 1的振動。如果振動感測器偵 測到超過一預定値的振動時，可控制致動器5 1、5 7及6 7 ，以減小該可容許水平（數値）。此外，如果振動感測器 偵測到超過一預定値的振動時，可控制致動器5 1、5 7及 67，使得固定部位14係透過止動件50、56及66 (尤其 是Z方向止動件50)來支撐光學系統支座112。 圖6槪意的顯示在依據本發明第四具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架113的結構。依據第四具體實施例的 曝光裝置具有一配置，其中一運動固持機構61被添加至 -19- 200944955 依據第一至第三具體實施例中任一實施例的曝光裝置內的 振動控制架113上。圖6顯示一配置，其中一運動固持機 構61被添加至依據第一具體實施例的振動控制架113 (以 此爲一範例）上。在此情形中，一支撐框架具有三根支柱 〇 運動固持機構61 —般上是形成於一接納Z方向止動 件10的止動件收容器內，且限制一光學系統支座112的 位置，而充當在X及Y方向（水平方向）上藉止動件10 來支撐光學系統支座112的構架。運動固持機構61可以 是例如V形槽、平坦表面或錐形槽，及其等的組合。然而 ，本發明並不侷限於此等結構，一習知的運動固持機構也 可被採用。 圖7槪意的顯示在依據本發明第五具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架113的結構。依據第五具體實施例的 曝光裝置具有一配置，其中減震構件81、82及83被添 加至在依據第一至第四具體實施例中任一實施例的曝光裝 置內的振動控制架113。圖7顯示一配置，其中減震構件 81、82及83被添加至依據第三具體實施例的振動控制架 1 1 3，以此爲一範例。 當止動件限制光學系統支座1 1 2的位置時，減震構件 81、82及83減少止動件50、56、66及接納其等的止動件 收容器71、72及73之間的碰撞的震動。減震構件81、82 及83可配置於止動件50、56及66的遠端（與止動件收 容器71、72及73相對的部位）或設於止動件收容器71、 -20- 200944955 72及73內。雖然較佳者是採用例如橡膠來當減震構件的 材料，本發明並不特別侷限於此，因此也可採用陶瓷或金 屬。 依據本發明較佳具體實施例的裝置製造方法適於製造 裝置（例如半導體裝置及液晶裝置）。此方法可包含：藉 使用上述曝光裝置將一塗佈有光阻劑（photoresist)的基 質曝光於光線下的步驟，及將在曝光步驟中曝光的基質加 以顯影的步驟。除了上述步驟之外，該裝置製造方法可具 有其他習知步驟（例如氧化、薄膜形成、蒸發、摻雜〔 doping〕、磨平〔pianarization〕、浸蝕、光阻去除、晶 粒化〔dicing〕、黏結及封裝步驟等）。 雖然本發明是在參考一些具體實施例的情形下加以敘 述’但應瞭解本發明並不侷限於該等揭示的具體實施例。 下列申請專利範圍的範疇應廣義的闡述，以涵蓋所有的修 飾例、等效結構及功能。 【圖式簡單說明】 圖1槪意的顯示在依據本發明第一具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架的構架。 圖2是顯示依據本發明一較佳具體實施例的曝光裝置 的槪意配置之視圖。 圖3是顯示圖2所示構架的視圖，其中顯示具有—振 動控制架的局部構架。 圖4槪意的顯示在依據本發明第二具體實施例的曝光 -21 - 200944955 裝置內的振動控制架的結構。 圖5槪意的顯示在依據本發明第三具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架的結構。 圖6槪意的顯示在依據本發明第四具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架的結構。 圖7槪意的顯示在依據本發明第五具體實施例的曝光 裝置內的振動控制架的結構。 【主要元件符號說明】 1 〇 : Z方向止動件 1 1 :可移動部位 12 :氣彈簧 1 3 : Y方向止動件 1 4 :固定部位 15 :氣彈簧 16 :氣彈簧 1 7 : Y方向止動件 1 9 a :空間 1 9 b :空間 1 9 c :空間 40 :氣彈簧 4 1 : Z方向止動件 42 :活塞桿 43 :金屬滾珠 -22- 200944955 =汽缸 :可移動部位 :氣彈簧 :汽缸 :γ方向止動件 :活塞桿 :Z方向止動件 :致動器 •’位移感測器 =支撐構件 :止動件 :致動器 ·_位移感測器 =支撐構件 :運動固持機構 :止動件 :致動器 :位移感測器 =支撐構件 :止動件收容器 :止動件收容器 :止動件收容器 =減震構件 =減震構件 -23 200944955 83 :減震構件 101 :地板（底座） 102 : X-Y干涉儀鏡 103 :基質台（晶片台） 104 :基質 1 〇 5 :投影系統 106:原片台（標線片台） 107 :原片（標線片） 1 〇 8 :照明系統 1 09 :空調室 110:原片台表面平板 111 :支撐框架 1 1 2 :光學系統支座 1 1 3 :振動控制架 1 14 : X-Y干涉儀 115 :基質台表面平板 116 :基部框架 1 1 7 : Z干涉儀鏡 1 1 8 : Z干涉儀 146 :氣彈簧 147 :汽缸 148: Y方向止動件 149 :活塞桿 491 :金屬滾珠 -24- 200944955 492 :固定部位 493a :空間 493b ：空間 493c :空間 495 :金屬滾珠 P 1 :萬向支架活塞 P2 :萬向支架活塞 P3 :萬向支架活塞 EX :曝光裝置

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Claims (1)

1. 200944955 七、申請專利範圍： 1· 一種曝光裝置，具有一建構成將一原片的圖樣投 射到一基質上的構件，藉此將該基質曝光於光線下，及一 建構成可支撐該構件的構架，該曝光裝置包含： 一建構成可支撐該構架的支撐件； 一設於該構架及該支撐件之間、且建構成可支撐該構 架的氣彈簧；及 一止動件，容納於該氣彈簧的一內部空間內，以防止 該構架在超過一容許水平下相對於該支撐件移動。 2. 根據申請專利範圍第1項之裝置，另包含一萬向 支架活塞，其中該氣彈簧藉該萬向支架活塞來支撐該構架 〇 3. 根據申請專利範圍第1項之裝置，另包含一減震 構件，建構成在當該止動件限制該構架的一位置時，可減 少該止動件及一接納該止動件的止動件收容器之間的碰撞 的震動。 4. 根據申請專利範圍第1項之裝置，其中接納該止 動件的止動件收容器具有一運動固持機構。 5. 根據申請專利範圍第4項之裝置，其中該運動固 持機構係建構以界定該構架在一水平方向上的位置。 6 ·根據申請專利範圍第1項之裝置，另包含一建構 以驅動該止動件的致動器，其中該容許水平係依據該致動 器驅動該止動件的量而改變。 7.根據申請專利範圍第6項之裝置，另包含一相對 -26- 200944955 位置感測器，建構成可偵測該構架及該支撐件之間的相對 位置； 其中該致動器係依據來自該相對位置感測器的輸出來 控制。 8_根據申請專利範圍第7項之裝置，另包含一振動 感測器，建構成可檢測用以支撐該曝光裝置的一底座的振 動， φ 其中如果該振動感測器偵測到超過一預定値的振動時 ’可控制該致動器以減小該可容許水平，使得該支撐件藉 該止動件來支撐該構架。 9. 一種製造裝置的方法，包含下列步驟： 藉使用申請專利範圍第丨項所述的曝光裝置來將一基 質曝光於光線下，及 顯影該基質。 〇 -27-