TW200944847A

TW200944847A - Optical film and method for producing the same

Info

Publication number: TW200944847A
Application number: TW097132931A
Authority: TW
Inventors: Toshiyuki Iida; Tomoyuki Hirayama; Yutaka Ohmori; Miyuki Kurogi; Hisae Shimizu
Original assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2007-09-07
Filing date: 2008-08-28
Publication date: 2009-11-01
Also published as: JP2009080440A; US20100304110A1; CN101542339B; JP5096865B2; KR101029227B1; TWI414832B; KR20090052306A; CN101542339A; US20120263871A1

Description

200944847 九、發明說明：【發明所屬之技術領域】

本發明係關於一種液晶顯示裝置的光學補償等中所使用之光學臈、及含有該光學膜之光學積層體、以及其製造方法。又，本發明係關於一種用以製造該等光學膜及光學積層體之樹脂溶液。進而，本發明係關於一種使用該等光學膜及/或光學積層體之偏光板、以及液晶顯示裝置、有機 EL顯示裝置、電漿顯示器（pDp，piasma 等圖像顯示裝置。【先前技術】先前以來，以液晶顯示裝置的光學補償等為目的，而使用具有雙折射之聚合物材料。作為此種光學補償材料，例如現廣泛使用將塑膠膜加以延伸等而賦予雙折射者。又，近年來開料將料族聚亞胺、或芳㈣聚自旨等的高雙折射表現性聚合物塗佈於基材上之光學補償材料（例如參照專利文獻1、2)。此種方香族聚合物具有耐熱性或機械強度優異之特徵，另—方面，存在對有機溶劑的溶解性不足之傾向。因此，以芳香鉍聚合物為主成分之光學膜一般係以如 > 製膜：將該聚入铷々Λ 卜万式進订成榭η 姉大即溶解性冑的㈣彳中而製帶、或者基材溶液塗佈於金屬滚筒或金屬中，因可溶解” Μ再使其乾燥。然而，此種製膜方法乾燥條件會之溶劑的選擇性受到限制，故有時 J限制或者需要高價的設備。又，因要求塗 134H5.doc 200944847 佈中所使用之基材不溶解於溶劑，故可使用之基材受到限制°就此種觀點而言’業者正謀求開發-種可溶於甲笨等極性低的溶劑、並且可發揮作為光學補償材料之功能的具雙折射表現性之聚合物。專利文獻1 : W〇94/24191國際公開案專利文獻2:日本專利特開2004-070329號公報【發明内容】發明所欲解決之問題本發明之目的係提供一種含有溶解性高的芳香族聚合物之光學膜及其製造方法。進而，本發明之目的係提供一種使用上述光學膜之光學積層體、偏光板以及圖像顯示裝置。 < 解決問題之技術手段本申請案發明者們經過努力研究，結果發現：藉由含有具特定結構的聚酯之光學膜可解決上述課題，且最終完成本發明。即，本發明係關於含有具有以下述通式⑴所表示的重複單元的酯系聚合物之光學膜。 [化1]

(A及B分別表示取代基，a及b表示相對應之a及b之取代數（0〜4之整數）。 A及B分別獨立表示氫、鹵素、碳數1〜6之燒基、或者取 134115.doc 200944847 代或無取代之芳基。 D表示選自由共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、c(CZ3)2基 (其中，Z為鹵素）、CO基、Ο原子、S原子、s〇2基、 Si(CH2CH3)2基、以及N(CH3)基所組成之群之至少1種原子或基團。 R1表示碳數1〜1〇之直鏈或支鍵之烧基、取代或無取代之芳基。

R2表示碳數2〜1〇之直鏈或支鏈之烷基、取代或無取代之芳基。 pl表示0〜3之整數，p2表示1〜3之整數。 η表示2以上之整數。）於本發明之光學膜中’較好的是，上述通式⑴中之Ri 為曱基，並且R2為碳數2〜4之直鏈或支鏈之烷基。進而，於本發明之光學膜中，較好的是，上述醋系聚合物為化學結構中不含函素原子之非_素化醋系聚合物。進而，於本發明之光學膜中，較好的是，上述醋系聚合物可溶解於甲苯或二甲苯。進而，於本發明之光學膜中處之透射率為90%以上。 ’較好的是，於波長4〇〇 nm 進而以下。於本發明之光學膜中 ’較好的是’厚度為20 μηι 於本發明之光學膜中 rfq 校好的是，膜厚度方向之 —π T 权好的是，月、率㈣小於膜面内之折射率的最大值㈣。又，本發明係關於適用於製造上述光學膜之樹脂溶液 134115.d〇c 200944847 本發明之樹脂溶液，較好的是上述酯系聚合物溶解於重量份溶劑中含有50重量份以上的甲苯之溶劑中者。又本發明係關於將上述光學膜與聚合物基材密著積層而成之光學積層體。進而，本發明係關於包含上述光學膜或上述光學積層體、及偏光元件之偏光板。

進而，本發明係關於至少含有上述光學膜、上述光學積層體'上述偏光板中的任意一個之圖像顯示裝置。又，本發明係關於光學膜之製造方法，其包括以下步驟：製備包含以上述通式⑴所表示的醋系聚合物及溶劑之樹脂溶液的步驟；以及將該樹脂溶液塗佈於聚合物基材的表面並使其乾燥而形成被著積層於該聚合物基材上之膜的步驟。進而，本發明係關於光學積層體之製造方法，其包括以下步驟：製備包含以上述通式⑴所表示的醋系聚合物、及溶劑之樹脂溶液的步驟；以及將該樹脂溶液塗佈於聚合物基材的表面再使之乾燥，而形成密著積層於該聚合物基材上之膜的步驟。進而’本發明係關於包括以下步驟之光學積層體之製造方法：製備包含以上述通式⑴所表示的§旨系聚合物、及溶劑之樹脂溶液的步驟； 134115.doc 200944847 將該樹脂溶液塗佈於基材的表面並使之乾燥，而形成密著積層於該基材上之膜的步驟；以及將該膜轉印至其他聚合物基材上的步驟。於上述光學膜、或者上述光學積層體之製造方法中，較好的是，100重量份上述溶劑中含有5 〇重量份以上之曱苯。【實施方式】本發明之光學膜之特徵在於：包含具有以下述通式⑴所表示的重複單元之酯系聚合物。 [化2] ⑴ 於上述通式（I)中’ A及B分別表示取代基，a及b表示相對應之A及B之取代數（〇〜4之整數）。A及B分別獨立表示氫、鹵素、碳數1〜6之烧基、或者取代或無取代之芳基。d 表示選自由共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、C(CZ3)2基（其中’ Z為鹵素）、CO基、Ο原子、S原子、S02基、 Si(CH2CH3)2基、以及N(CH3)基所組成之群的至少1種原子或基團。R1表示碳數1〜1〇之直鏈或支鏈之烷基、取代或無取代之芳基^ R2表示碳數2〜10之直鏈或支鏈之烷基、或者取代或無取代之芳基^ pi表示〇〜3之整數，P2表示1〜3之整數’ η為2以上之整數。於上述A、Β、Rl、R2為無取代芳基之情形時，作為該 134115.doc 200944847 無取代芳基’例如可列舉：苯基、聯苯基、聯三苯基、萘基、聯萘基、三苯基苯基等。又，於上述A、B、R1、R2 為取代芳基之情形時，可列舉：上述無取代芳基之氫原子中的1個以上被取代成碳數1〜10之直鏈或支鏈之烷基、碳數1〜10之直鏈或支鏈之烷氧基、硝基、胺基、矽烷基、鹵素、鹵化烷基、苯基者等。又，至於上述鹵素（z)，可列舉：氟、氣、溴、碘等。於上述通式（I)中，較好的是R1為甲基，並且R2為碳數 2〜4之直鏈或支鏈之烷基，尤其好的是R2為乙基或異丁基。若R1及/或R2之烷基的碳數過多，則雙折射之表現性會降低、或者耐熱性（玻璃轉移溫度）會降低。又，例如如 Rl、R2之兩者為甲基之情形般，於碳數較少之情形時，聚合物對溶劑的溶解性降低，有時難以使用甲苯或二甲苯等低極性溶劑來進行製膜如此，溶解性因取代基的碳數而異之原因並未確定，但推測其原因為：由於起因於^及 R2之立體阻礙，而解除芳香族環彼此之間的堆疊。於本發明中’就減少環境負荷之觀點而言，較好的是，上述酯系聚合物為化學結構中不具有鹵素原子之非鹵素化酯系聚合物。先前，為了賦予芳香族聚合物對溶劑的可溶性等，大多是在聚合物結構中使用函素原子，但具有鹵素原子之聚合物若在燃燒時於低溫下進行處理，則會產生容易產生戴奥辛（dioxin)類等環境負荷上之問題。針對此情形，本發明之光學膜中所使用之酯系聚合物，如上所述，藉由在R1及R2中應用特定的組合，即使化學結構中不含 134115.doc •11- 200944847 南素原子’亦可具有對溶劑的高溶解性。再者，上述酯系聚合物， R2、A、Β、D κ 了為具有於通式（I)中R1、又，二Γ、ρ為不同之單體單元者即共聚物。言，β & 斫往興雙折射表現性之觀點而較好m述通式⑴中，D為共價鍵、_ 即’聚合物具有以下述通式（„)所表示之結構。其 :’較好的是具有以下述通式（m)所表*

酸衍生物作為酸成分者、或里于本一甲 '、有下述通式（IV)所表示之 f本二甲酸魅物與間苯二^酸衍生物之共聚物之結。特別是就對通用溶劑的溶解性之觀點而言，較好的是具有以下述通式（IV)所表示結構之共聚物。 [化3]

“.〇!) [化4] ❹

[化5]

-0+0-^- TD4 8*b· (no 再者’於上述通式（II)〜(IV)中，Aa及Bb以及R1及R2與 134115.doc -12· 200944847 上述通式⑴相同。又，R3、R4分別與R1、R2相同，B，b, 與Bb相同，nq、m均為2以上之整數。又，於上述通式 (IV)中，為方便起見，以嵌段共聚物來表示聚合物，聚合物之順序並無特別限定，可為嵌段共聚物、無規共聚物中之任意者。

於以上述通式（IV)所表示之聚酯中，酸成分中源自對苯二甲酸衍生物之結構的含有㈣，m)之值，較好的是〇.3以上，進而較好的是05以上，更好的是〇6以上1 之值過小，則雖然溶解性優異，但耐熱性會變得不充分、或者雙折射表現性差。、本發明之光學膜中所使用之酯系聚合物，若含有以上述通式（I)〜(IV)所表示之結構，則亦可含有其他重複單元。醋系聚合物中之上述通式⑴〜(IV)的結構之含量，若為可保持成為本發明目的之聚合物的轉性以及雙折射表現性之範圍無特別㈣，但較好的是5()莫耳％以上，進而較好的是7G莫耳％以上，更好的是8()莫耳％以上。丄迎Θ日系聚合物、 77卞主、川~平乂灯的是3,0〇〇以 ^ ^ ^ ^ ^ ^ 5,000^,〇〇〇,〇〇0 , £ ^ , Γ不Γ::〇’_、35〇’_:若分子量過小’則臈強度會變于刀、或者當曝露於高溫環境下時光學特性會發生較 :變化…若分子量過大’則對溶劑的溶解性降低等光 ::r產性會變差。再者，可藉由後述實施例中所= 之测疋方法而求得Mw。就光學臈的耐熱聚合物之玻璃轉移溫度並無特别限定 I34J15.doc •13- 200944847 性之觀點而言，較好的是loot以上，進而較好的是12〇t 以上，更好的是15〇〇c以上。又，就成形性、或延伸等加工性之觀點而言，玻璃轉移溫度較好的是300°C以下，更好的是250.。〇以下。本發明之光學膜中所使用之酯系聚合物之製造方法並無特別限定’可採用公知之方法。通常是由相對應的雙酚化合物與二緩酸化合物或其衍生物進行聚縮合而獲得。通常’作為聚縮合方法’已知有下列各種方法：脫乙酸之溶融聚縮合法、脫苯酚之熔融聚縮合法、將二羧酸化合物製成二酿氣再利用有機鹼於聚合物可溶的有機溶劑系統中進行之脫鹽酸均勻聚合法、使二醯氣與雙酚於鹼性水溶液與水不混溶性有機溶劑之2相系統中進行聚合之界面聚縮合法、直接使用雙酚化合物與二羧酸並利用縮合劑於反應系統中生成活性中間物之直接聚縮合法等。其中，就透明性或财熱性、高分子量化之觀點而言，較好的是藉由界面聚縮合法進行聚合。於藉由界面聚縮合法使酯系聚合物發生聚合之情形時，係使用單體（雙酚以及二醯氯）、有機溶劑、鹼、觸媒等。至於二醯氣’可列舉：對苯二醯氣、間苯二醯氣、鄰苯二醯氣、4,4·-二苯基二酿氣等之無取代芳香族二醯氯，或該等中具有作為上述通式（I)中的A、B之例而例示的取代基等者等。至於雙酚，可列舉：2,2-雙（4-羥基苯基）丁烷、2,2-雙（4-羥基苯基）-4-甲基戊烷、3,3-雙（4-羥基苯基）戊烧、2,2-雙 134115.doc • 14- 200944847 (4-羥基苯基）己烷、u-雙（4_羥基苯基）-^苯基甲烷雙 (4-羥基苯基）二苯基甲烷等。作為聚合反應中所使用之有機溶劑，並無特別限定，但較好的是與水的混溶性低並且可溶解醋系聚合物者，適宜使用二氣甲烷、氯仿、以二氯乙烷等豳素系溶劑，或者苯甲醚等。又，亦可將2種以上該等溶劑混合使用。

至於驗，可使用：氫氧化納、氫氧㈣、氫氧化鍾等。作為驗使用量，通常為雙紛單體的2〜5莫耳倍（Μ」莫耳當量）。、田至於觸媒，較好的是使用相轉移觸媒，例如可使用：溴化四丁基銨、氣化三辛基甲基銨、氯化苄基三乙基銨等之四級鐘鹽；氯化四苯基鱗、氣化三苯基甲基鱗等之四級鱗鹽，聚乙二醇、聚乙二醇單甲醚、聚乙二醇二甲醚、二笨并-18-冠喊 _6 (dibenyr» is (benZ〇-18-crown_6)、二環己基 _18•冠醚 _6 氧化乙烯化合物等。其中’就反應後除去觸媒等操作之容易性方面而言’適宜使用南化四烧基敍類。又另 :卜根據需要’可任意地使用抗氧化劑、或分子量調整劑至於調整g旨系聚人物沾八2 θ ^ ^ 眾口物的刀子置之方法，可列舉：改變羥 =基之官能基比而進行聚合之方法、或在聚合時添加八二之物質作為分子量調整劑之方法。此處所謂可用作 !:整劑之單官能物質’可列舉：苯酚、甲酚、對第 ::笨酚等之一元酚類；笨甲醯氣、甲磺醯氯、氣甲酸元醯氣類；曱醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正 134115.doc -15· 200944847 丁醇戊醇、己醇、十二醇、十八醇、节醇、苯乙醇等之一元醇類箄。7 寺人可在聚合反應後藉由使一元醯氣參加反進行末端笨酚之密封。可藉由進行末端密封而抑制苯紛之氧化著色，從而可較好地使用。又，聚合中亦可併用抗氣化劑。於採用界面聚縮合反應之情形時，聚合反應後呈水相與機相之混合狀態’除聚合物、有機溶劑、水以外，尚含 ❿ H或殘存單體等雜質m實施使用i素溶劑的界八x广σ之清$時’係採用反覆進行將水相分離及除去之 f液操作再進行水洗之方法，作為除去水溶性雜質之方尺洗後，根據需要有時使用丙酮、 ^物的不良溶劑之錢溶性有機溶劑進行再沈截。= 由^水溶性有機溶劑進行再沈㈣進行脫水、脫溶 ’從而可作為粉體形式而將聚合物取出，進而亦可減少如雙酚化合物之疏水性雜質。 ©所謂聚合物的不良溶劑即水不混溶性有機溶劑，較好的t使用與水的相溶性低、並且不溶狀5重量上述Ss系聚合物之溶劑。 . 除去之觀點而私熱乾燥而容易地 ° 而較好的是溶劑沸點為12〇t以下。作為此種溶劑之齡估彳丨 . 溶解性因聚合物種類而異，故不靶一概而論，但可列舉：劑1醇'乙醇、丙醇、：二異佛嗣等之煙類溶醇異丙醇等醇類溶劑等。界面聚縮合反應時的單物濃度較高者，其二;二農度以及後處理時的聚合、生產!·生優異，因而較好。作為界面聚縮 134115.doc -16- 200944847 合反應濃度，即聚合物量相對於亦包含水相與有機相之反應後之總液量，較好的是以上，進而較好的是3重量％以上’更好的是5重量％以上。反應溫度並無特別限定，但較好的是_5<>(：〜5〇它，進而較好的是5°C〜35。(：，尤其好的是1()〜3(rc之室溫附近。若反應溫度為上述範圍，則易於控制反應中的黏度、溫度，水解或氧化著色等副反應亦會減少。 ❹ 又，為了抑制副反應，考慮到聚合反應所伴有之發熱，亦可預先將反應溫度設定為較低溫度；為了緩慢地反應進行，亦T緩慢地添加驗性溶液或二醢氣、$戈者滴加溶液。作為此種鹼性溶液或二醯氣之添加方法，可在分鐘以内等短時間内添加，但為了抑制發熱，較好的是在⑺分鐘〜120分鐘内添加，進而較好的是在15分鐘〜9〇分鐘内添加。又，為了抑制氧化著色，較好的是於氮氣等惰性氣體環境中進行反應。 ❷ 添加鹼性溶液或二醯氯後之反應時間，亦取決於單體之種類、或鹼之使用量或鹼之濃度，因此不能一概而論，通常反應時間為1 〇分鐘〜1 〇小時，較好的是3〇分鐘〜5小時，進而較好的是1〜4小時。如此獲得之酯系聚合物，可在結束界面聚縮合反應後進行分液、水洗而直接作為樹脂溶液形式使用，亦可使用不良溶劑將其粉體化而使用。又，就環境負荷之觀點而言，本發明之聚酯中之鹵素溶劑含量，較好的是1〇〇〇卯爪以下’進而較好的是300 ppm以下’更好的是100 ppm以下， 134115.doc 200944847 尤其好的是50 ppm以下。特別是，上述g旨系聚合物之溶劑溶解性優#，亦可溶解於除㈣系以外的溶劑，因此藉由在聚合時使用除齒素系以外的溶劑（例如曱苯、環己嗣、苯甲醚等），亦可減少聚合物中之画素含量。本發明之光學膜’可使用上述酯系聚合物並藉由自溶液之塗佈法或炼融擠出法等公知之方法而獲得。就光學膜之平滑性、或光學特性之均句纟、或者雙折射表現性之觀點而言，較好的是藉由自溶液之塗佈法進行製膜。於藉由自溶液之塗佈法進行製膜之情形時，其步驟包括：製備含有上述Μ聚合物及溶劑之樹脂溶液的步驟； =及將該樹脂溶液塗佈於基材表面並使之乾燥，而形成密著積層於基材上之膜的步驟。上述樹脂溶液之溶劑，若係溶解上述酯系聚合物者則無特別限定，可根據聚合物種類作適當決定。至於具體例，例如可列舉：氯仿、二氯甲烧、甲苯、二甲苯、環己嗣、環戊酮等。該等溶劑，可為一種亦可併用二種以上◎又，亦可在上述酯系聚合物溶解之範圍内添加不良溶劑。特別是就減少環境負荷之觀點而言，較好的是使用非齒素系作為溶劑，適宜使用芳香族烴類、或酮類、酯類等，其中較好的是使用甲苯、二甲苯、環己_、環戊酮，最好的是使用甲苯。又，亦適宜使用含有該等溶劑之混合溶劑。於使用混合溶劑之情形時，較好的是1〇〇重量份溶劑中含有50重量份以上之上述溶劑，飞好的是含有8〇重量份以上。其中較好的是含有5〇重量份以上甲苯者，更好的是 134115.doc •18- 200944847 含有80重量份以上甲苯者。因上述醋系聚合物之溶解性優異，故可利用該等低極性溶劑來進行製膜。又，於在1〇〇 f量份溶劑中含有50重量份以上甲苯之溶劑中，作為除甲本以外之溶劑，為了調整上述酯系聚合物等溶質的溶解性或乾燥速度，可使用:環戊调、環己酮.、4_甲基·2•戍酮 (甲基異丁基酮，MIBK)、N，N-二甲基乙醯胺（DMAc)、二甲基甲醯胺（DMF)、二甲亞砜（DMS⑺等。

可藉由使用沸點低於極性溶劑之f苯作為樹脂溶液之溶劑，而獲得後述厚度方向之雙折射率較高之光學膜。厚度方向之雙折射率由於使用甲苯而變高之原因並未確疋，但一般推測係由於光學膜的殘存溶劑量減少、或者乾燥速度快於高沸點溶劑從而易於促進分子配向等而引起。 -上通樹月日溶液在光學膜之雙折射表現性或透明性不顯著降低之範圍内，亦可含有與上述酿系聚合物所不同之 ^他樹脂。至於上述其他樹脂，例如可列舉：各種通用樹月曰、工程塑膠、熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂等。於各製備步驟中，可在上述樹脂溶液中添加與用途相對應之各種添加劑（例如抗劣化劑、紫外光抑制劑、 =調^劑、剥離促進劑、增㈣、紅外線吸收劑、填料專)，4可為固體亦可為油狀物。點並無特別限定。八塔點次沸述I::上述酿系聚合物以外的樹脂或添加劑等調配入上曰命液之情料，其調配量並無㈣限定，就獲得溶 134115.doc •19· 200944847 解性以及雙折射表現性優異之光學膜之觀點而言，相對於士述醋系聚合物100重量份，調配量較好的是〇〜ι〇〇重量 ”進而較好的疋0〜5〇重量份，更好的是〇〜25重量份。、樹脂溶液之製備方法並無特別限定，可採用公知之方、例如可採用以下方法：在將上述溶劑攪拌下，緩慢添加並冷解粉末狀或者成形為顆粒狀或鍵劑狀等之上述醋系聚口物直至所期望之漢度。作為獲得粉末狀之醋系聚合物之方法’可藉由以下方法而獲得：將聚合反應結束後之反應=液滴加至不良溶劑中，進行過滤、清洗之方法；或將所付樹月曰塊進行粉碎之方法等。χ，可利用製粒機或鍵劑成形機等而獲得顆粒或錠劑。上述樹脂溶液中之聚合物濃度並無特別限定，例如為了達到適於塗佈之溶液黏度，較好的是1〜3(X重量％，進而較好的是1〜20重量。/(^此處所謂「適於塗佈之溶液黏度」，係指所具有在塗佈時不產生條紋狀的塗佈不均等缺陷程度的流動性之黏度。如此黏度，因塗佈中所使用的基材或塗佈速度、塗佈厚度等而異，因此不能一概而定，通常較好的疋400 mPa.s以下’進而較好的是3〇〇 mPa.s以下。特別是於光學臈之厚度為20 μΓΠ2情形時，有易於產生條紋狀缺陷之傾向，因此較好的是溶液黏度為上述範圍。又，較好的是樹脂溶液之黏度為1 mPa.s以上。若溶液黏度過低則流動性會過高’因此有難以將光學膜調整為所期望厚度之傾向。再者’此處所謂溶液黏度，係指於25它下之測定值0 134I15.doc •20· 200944847 得於基材上再進行適當乾燥而獲袞限定，例如可使用環狀帶或之光學膜具有自持性時，可使用無端=之:材。本發明材中之任意者。所謂具有自持性限長度之基離之狀態下亦可進行操作，通常：:=自基材上剝 • 七^ ± 吊係才日具有15〜500 μηι左 =、進而較好的是20〜扇μηι左右厚度之情形。 ❹=上述範圍之情形時亦具有自持性，但若厚度過大，；獲得厚度之均句性等量產量、或者難以右之光學膜之厚度小於上述範圍即W左作情形時，較好的是使用有限長度之基材乍=材。使用環狀帶或滾筒等無端基材之製法將光學媒自基材剝離後再運送，因此通常不適於製造不具 =二持：之膜。此時’可使用玻璃板、或聚合物膜等有限 ❹ 作：：：材作為基材’將本發明之光學膜而形成於基材上、者，於本申請案說明書及專利請求;tg ψ 所謂「光學联」亦包含具有自持性之媒、:及=持性之塗佈膜中之任意者。 ' 用==度之基材中，就操作性等觀點而言，適宜使 Λ ^ 至於聚合物基材，可列舉：由聚對笨二酸乙二醇醋、聚蔡二尹酸乙二醇醋等之聚醋系聚合物，二酿基纖維素、三乙酿基纖維素等之纖维素系聚合物峡酸醋系聚合物，聚甲基丙稀酸甲輯等之丙烯酸系聚合 134I15.doc 21 200944847 物，聚苯乙烯、丙婦腈-苯乙稀共聚物等之苯乙稀系聚合物，聚乙烯、聚丙烯、環狀或具有降冰片烯結構之聚；烴，乙烯-丙烯共聚物等之烯烴系聚合物，氣乙烯系聚合物’尼龍或芳香族聚酿胺等之酿胺系聚合物，進而可列舉：由醯亞胺系聚合物’硬系聚合物，聚喊硬系聚合物，聚醚醚酮系聚合物，聚苯硫醚系聚合物，乙烯醇系聚合物，偏二氣乙烯系聚合物’乙烯醇縮丁醛系聚合物，丙：酸醋系聚合物，聚甲醛系聚合物’環氧系聚合物等透明聚合物或该等聚合物之混合物所構成之聚合物膜。上述聚合物基材既可為單獨的聚合物膜，亦可為在聚人物膜上料增黏塗層或抗靜電層等者1而，亦可使用藉由電暈處理或電漿處理、或者皂化處理等而提昇接著性之膜。又’亦可將例如日本專利特表平9_5_7號公報等所 δ己載之反射型偏光板等光學功能膜用作基材。於本發明中，因上述酿系聚合物之溶解性優異，可製成甲苯等低極性溶劑之溶液’故通常亦可將耐溶劑性低、以丙烯酸系或稀烴系聚合物為主成分之膜用作基材。至於塗佈方法，例如可列舉：旋塗法、輥塗法、流塗法、印刷法、浸塗法、流延成膜法、棒塗法、凹版印刷法等。又’於塗佈時，根據需要亦可採用多層塗佈。繼而’使塗佈於上述基材之上述樹脂溶液乾燥，從而於上述基材上形成光學膜。至於乾燥方法，例如可列舉自然乾燥或加熱乾燥等。其條件可根據溶劑種類、或聚合物種類、聚合物濃度等作適當決定’例如溫度通常為25。。〜遍 134115.doc 22· 200944847 C ’較好的是5〇〜200 ,, ’尤其好的是601〜180°C。再下進行’亦可—面逐步地提高或降低…面進行乾燥。對於乾燥時間亦無特別限定。通常時間為1G秒〜6G分鐘’較好的是30秒〜3〇分鐘。又，於 ^學膜具有自持性之情形時，亦可在暫時將光學膜自支持體上剝離後，進一步進行乾燥。

發月之光予膜，如上所述可為厚度相對較大從而具有自持性之膜、以及厚度相對較小從而不具有自持性之塗佈膜中之任意者，但特別是由於上述_系化合物的雙折射表現性較高，故適宜用作塗佈膜。此種塗佈膜，如上所述可藉由在基材上塗佈自旨系聚合物之樹脂溶液再進行乾燥，而製成光學膜與基材經密著積層之光學積層體。以下就本發明之光學積層體加以說明。作為用以形成光學積層體之基材，較好的是透明性高者，可使用玻璃、或上述作為有限長度基材之塑膠膜等。又，基材之厚度並無特別限定，但就操作性之觀點而言，較好的是1〇〜5〇〇 pm。又，作為基材，如上所述，雖然亦可直接使用作為塗佈本發明光學膜的支持體而使用之基材，但亦可使用與塗佈光學膜的支持體所不同之其他基材。本發明之光學積層體之製造方法並無特別限定，可採用各種方法’作為其一實施態樣，包括以下步驟：製備含有上述酯系聚合物及溶劑之樹脂溶液的步驟；以及將該樹脂溶液塗佈於基材表面再使其乾燥，而形成密著積層於該基材上之膜的步驟。又，作為其他實施態樣，除上述步驟 134115.doc •23· 200944847 外，進而亦可包括將密著積層於基材上之該光學膜轉印至其他基材上的步驟。所謂轉印至其他基材，係指藉由以下方法形成光學積層體：準備玻璃板或聚合物基材等，將接著齊丨等塗佈於其上 • 面，使基材的接著劑塗佈面與上述光學膜緊密接著，再將塗佈中所使用之支持體自上述光學臈上剝離（將該操作稱為「轉印」）。特別是，於使本發明之光學膜密著積層於 ❹ 耐溶劑性低的基材上而形成光學積層體之情形時，適宜採用以下方法.暫時將樹脂溶液塗佈於耐溶劑性高的支持體上再使其乾燥而形成光學膜後，藉由上述轉印法形成光學積層體。於使用塗佈t料支持㈣基材來料光學積層體的基材之情形時、以及於轉印至其他基材之情形時，均較好的是，光學積層體中所使用的基材之透明性較高，例如總透光率為85%以上’較好的是90%以上。 Q 如此獲得之本發明之光學膜，較好的是透明性高。具體而言，於波長400 nm處之透射率較好的是9〇%以上，進而較好的是92%以上。藉由使用上述醋系聚合物，可實現如 • 此高透明性。 ' 在將本發明之光學膜的面内折射率達到最大之方向即慢抽方向的折射率設為nx、將厚度方向的折射率設為虹時^ 較好的是nx>nz。X，於波長55〇 nm處之厚度方向的雙折射率（ΔηΧΖ=ηΧ-ηΖ)較好的是〇.〇1以上’進而較好的是〇.(Π2〜0.()7,更好的歧G15〜G.G55e該光學膜由於具有如 134115.doc -24 - 200944847 此光學特性’故可用於液晶顯示裝置之光學補償等。本發明之光學膜，由於使用上述酯系聚合物，故可表現出如上述之高雙折射表現性。因&，下文t根據實施例可明瞭：即便是厚度為20 μιη以下之塗佈膜，亦可表現出相當於例如1/2波長或1/4波長之厚度方向相位差（Rth)。此處，厚度方向相位差_)，係以(其巾，_光學膜之厚度）來表示。

本發明之光學膜，除上述厚度方向的雙折射以外，亦可藉由㈣塗佈條件或延伸條件而具有纟種面内雙折射 (△nXy=nX-ny)。此處，所謂ny，係指面内折射率達到最小之方向即快軸方向的折射率。繼而，就本發明之偏光板加以說明。本發明之偏光板係含有上述本發明光學膜之附有光學補償功能之偏光板。若此種偏光板具有上述光學膜及偏光元件，則對其構成並益特別限定。例如可形成以下形態：如圖!所示，具明之光學膜（R)、偏光元件（P)及二層透明保護膜⑺，將透明保護膜⑺分別積層於上述偏光元件的兩面上，在 .一層透明保護膜的表面上進—步積層上述光學膜⑻。、再者，於使料上述群师)與基材⑻密著積層之光層體⑴之情形時，光學_與基材⑻的任—者的表可面向上述透明保護膜，但較好的是，如圖2所示本發明之光學膜（R)側面向透明保護臈（丁）。又，上述透明保護膜可積層於上述偏光元件的兩側可僅積層於任意一面上。又，亦、積層於兩面之情形時，例 134115.doc •25· 200944847 亦可使用不同種類之透如可使用相同種類之透明保護膜，明保護膜。 :’作為本發明之偏光板之其他形態，亦可形成為以下如圖3所示’具有本發明之光學膜⑻、偏光元件（P) 及透明保護膜（T)，將上述光學膜犋（R)積層於上述偏光元件 ⑺之-表面，將上述透明保護膜（T)積層於上述偏光元件之另一表面。

再者，於使縣上述光學师）與基材（s)密著積層之光學積層體⑴之情形時，光學膜（R)與基材⑻之任—者的表面均可面向上述偏光元件(P)，但較好的是如圖4所示以基材⑻側面向偏光元件(P)之方式進行配置。藉由形成如此構成，可將上述基材⑻兼用作附光學補償層之偏光板的透明保護膜。即’以於上述偏光元件(p)的一面上積層透明保護膜（T)、且上述基材（S)面對另一面代替於上述偏光兀件（P)的兩面上積層透明保護膜（τ)之方式，來積層本發明之光學積層體（1)，藉此光學積層體（1)之基材（3)亦發揮透明保護膜之作用。因此，可獲得更薄型化之偏光板0 作為上述偏光元件並無特別限定，可使用各種偏光元件。例如可列舉：於聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯酵系膜、乙烯_乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等之親水性尚分子膜中，吸附碘或二色性染料等二色性物質並進行單轴延伸而成者；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氣乙烯之脫鹽酸處理物等之聚烯系配向膜等。該等之中較好的是由聚 134115.doc • 26 - 200944847 =婦醇系膜與衫二色性物質所構成之偏光層。該等偏光層之厚度並無特別限定，但通常為5〜8〇Mm左右。等偏光等：厚度可適當地決定’通常就強度或操作性 f乍業性、溥層性等方面而言為卜_㈣左右。較好的是卜〜，進而較好的是。透明保護膜之厚度尤其好的是5〜150 。再者’在偏光元件的兩側設有透明保護膜之時，在面及背面上既可使用由相π取人此u '、衣冋聚&物材料所構成之保護膜，亦可使用由不同聚合物材料等所構成之保護膜。、 —本發明之光學膜、光學積層體、偏光板之用途並I限疋，較好的是，適用於液晶顯示裝置、有機此顯示裝置、電聚顯示面板等之圖像顯示裝置。該等圖像顯示裝置例如 ::於.個人電腦顯示器、筆記型電腦、影印機等辦公室 (叫設備’行動電話、鐘錶、數鴻景彡機、個人數里(PDA)、手持式遊戲機等行動機器，視訊攝影機、 ❹ 微!：等家用電器’後台監視器、汽車導航系統用監視裔、汽車音響等車載用機器，商業店舖用資訊用監視器等展示設備’監視用監视器等警戒設備，護理用敗視器、醫療用監視器等護理及醫療設備等。 ^別是，因本發明之光學勝具有較高雙折射表現性，故 :為以補償由於液晶單元所造成的雙折射、或提昇斜視圖像顯示裝置時的對比度、或減少色偏等為目的之光學補償臈’可較好地用於液晶顯示裝置。實施例 134115.doc -27. 200944847 以下’列舉實施例來說明本發明，但本發明並不限定於 X下所不之實施例。再者，實施例及比較例之評價係藉由下述方法而進行。 (玻璃轉移溫度）「使用不差掃描熱分析儀（精工（Seiko)(股）製產品名 • 「DSC_6200」），藉由基於JIS K 7121 (:1987)(塑膠之轉移溫度測定方法）之方法而求得玻璃轉移温度。具體而言， φ 在氮氣環境下（氣體流量：5〇ml/min)，以升溫速度1〇r/ =in將3 mg粉末樣品自室溫升溫至22〇。(：後，以降溫速度ι〇 C/min降溫至3〇c(第1次測定其後，以升溫速度1〇(>c/min 再久升溫至350 C (第2次測定）。採用第2次測定中所獲得之 >料將中間點作為玻璃轉移溫度。再者，使用標準物質 (銦）對熱分析儀進行溫度修正。 (分子量）重量平均分子量（Mw) ’係將各試料製備成〇.1% THI^e 〇液，利用〇·45 薄臈過濾器進行過濾，然後使用東曹 (Tosoh)公司製HLC-8820GPC作為膠體滲透層析儀（gpc) 本體，使用折射率偵測器（RI，内藏於αρ(：本體中）作為偵 . 測器進行測定。具體而言，設定管柱溫度為40。(：、泵流量為〇,35 ml/min，資料處理係利用預先已知分子量的標準聚苯乙烯之校準曲線，根據聚苯乙烯換算分子量而求得分子量再者’所使用之管柱係使用將SuperHZM-M(直徑6.0 _X15 cm)、SuperHZM_M(直徑 6·〇 mmxl5 cm)及 SuperHZ20〇〇(直徑6 〇 mmxl5 cm)串接而成者，流動相係 134115.doc -28 - 200944847 使用THF。 (Δηχζ) 使用王子4測機器（股）製商品名「k〇bra_wpr」，於測定波長550處進行測^^厚度方向雙折射，係根據正面相位延遲以及以4Q度角度傾斜樣品時之相位延遲 (R40)，利用裝置所附屬的程式進行計算。再者，膜厚係使用利用sl〇an製產品名「Dektak」根據聚合物塗佈前後之玻璃的厚度差而求得之值。 (透射率）使用日立製作所（股）製分光光度計「U_41 〇〇」，測定於波長400 nm處之透射率。 (溶解性試驗）將聚合物一點一點地添加至加入有各溶劑之樣品瓶中，以下列標準目視判斷溶解之程度。 ◎ : 20重量％以上溶解、〇：10〜20重量％溶解、 △:雖溶解但稍有白濁、 X :不溶 (溶液黏度）使用Brookfield製黏度計：產品名「HBDV-I」，以測定溫度：251、測定模式：低黏度用轉軸、速度：20~50 rpm進行測定。 (實施例1) (酯系聚合物之合成） 134115.doc -29- 200944847 於具備擾拌裝置之反應容器中，使2,2•雙（4_經基苯基）_ 4-甲基核2.7〇 g、氣化f基三乙基刻別g溶解於上戦氧化鈉溶液25 ml中。一面攪拌一面於愰件面於該溶液中一次性加入30 ml氣仿中溶解有2.03 g對苯二甲酿患 T 氣之溶液，於室溫下攪拌90分鐘。其後，將聚合溶液離，分離出含聚合物之虱仿溶液，繼而用乙酸水溶液 <盯'月洗’再用離子交換水清洗，然後投入至甲醇中佶平入 m“ 物析出。將所析出 ❺ ❷ 之聚合物進行過濾，於減壓下進行封疋叮乾你，藉此而獲得白色聚合物3.41 g(收率92%)。 (光學膜之製作）將所得聚合物（(M g)溶解於環戊酮（G5 g)中藉由旋塗法將該聚合物溶液塗佈力玻璃上，於㈣下乾燥$分鐘後，進而於13〇t下乾燥3〇分鐘，厚度為3.7_。乾無後之 (實施例2) (δ|系聚合物之合成）除使用對苯二甲醯氯mg及間苯二甲酿氣〇2〇§來代替對本-甲醯氣2.03 g之外，其餘以與實施例！相同之方法進仃聚合物之合成、清洗、過渡、子己你’而獲得白声枣物 3.81 g(收率95%)。邑聚口物 (樹脂溶液之製作） ::得聚合物溶解於甲苯’使固形分濃度達到、ι〇重1%，而製作樹脂溶液。 (光學膜之製作） 134115.doc -30· 200944847 吏用上述固形分濃度為ι〇重量％之樹脂溶液，以與實施例1同樣之方式，藉由旋塗法將該樹脂溶液塗佈於破璃上並進行乾燥，而製作光學膜（乾燥後之厚度為37 (實施例3) (樹脂溶液之製作）除使用環戊酮來代替甲苯之外，其餘以與實施例2同樣

之方式獲付固形分濃度為6、8、10重量％之樹脂溶液。 (光學臈之製作）除使用以上述環戊酮為溶劑的固形分濃度為1〇重量％之樹脂溶液之外，其餘以與實施例2同樣之方式製作光學膜。 (實施例4) 除使用對苯二甲醯氣⑸找間苯二甲酿氯〇 51 g來代替對苯二甲醯氣2.03 g之外，其餘以與實施例〗相同之方法進行聚合物之合成及光學膜之製作。 (實施例5) 除使用對苯二甲醯氣1.02 g及間苯二甲酿氯1〇2 g來代替對苯二甲醯氣2.03 g之外，其餘以與實施例丨相同之方法進行聚合物之合成及光學膜之製作。 (實施例6) 除使用2,2-雙（4-經基苯基）丁院2.42 g來代替2,2_雙（4_經基苯基曱基戊烧2.7G g ’並使用對苯二曱醢氣丨〇2 §及間苯二甲醯氣i.Mg來代替對苯二曱醯氣2 〇3g之外，其餘以與實施例丨相同之方法進行聚合物之合成及光學膜之製 134115.doc •31 - 200944847 作。 (比較例1) 於具備攪拌裝置之反應容器中，使2,2_雙（4_羥基苯基）丙院（通稱.雙齡A) 2 28 g、苄基三乙基氣化銨〇〇6 g溶解於1 Μ氫氧化鈉溶液25⑹中。，一面攪拌一面於該溶液中一次性加入30 ml氣仿中溶解有183 g對苯二甲醯氯及〇2〇 g間苯二甲醯氣之溶液’於室溫下授拌9()分鐘。其後，將 ❹ 聚合溶液靜置分離，分離出含聚合物之氣仿溶液，繼而用乙酸水&㈣订清洗’再用離子交換水進行清洗，然後投入至甲醇中使聚合物析出。將所析出之聚合物進行過渡，於減壓下進行乾燥，藉此獲得白色聚合物3.26 g(收率 91%)。丁與：用所得聚合物，以與實施例W同之方法嘗試製作光予膜，但由於樹脂的溶解性差而無法製成膜。 (比較例2) 對氣一苯二甲酿―來代替 Τ酿氣mg及間苯二甲酿氣0.20g之外，其餘以盥 = 目同之方法合成聚合物。使用所得聚合物，以與實施例1相同之方法嘗盤性差而無法製成膜但由於樹脂的溶解 (比較例3) 除使用對苯二甲酿氣1〇2 g及間笨對苯二曱醯μ 乳rWg來代替甲醯氣1.83 g及間苯二曱酿氣㈣g之外比較例1相闾之古、1入 χ 其餘以與之方法合成聚合物。使用所得聚合物，以與 134115.doc -32- 200944847 實施例i相同之方法進行光學祺之製作將實施例1〜6以及比較例1〜3之取 , 』J之聚酯樹脂之結構、特性、 ^及所得光學膜之特性示於表卜又，將實施例2以及實施例3中所得樹脂溶液的溶液黏度相對於固形分濃度之關係進行製圖，並示於圖5。 ❹ 134115.doc -33· 200944847 ο❿ 【I嵴】 134115.doc 光學膜特性透明性透射率(％) 1_ . 1 1 雙折射 ί£1 Ν < 0.028 0.024 0.022 0.025 0.019 0.023 1 1 0.021 樹脂溶液溶劑 CPN 甲苯 CPN CPN CPN | CPN CPN CPN CPN 聚合物特性耐熱性 TgCC) 206 202 os 00 Os 1 205 200 分子量| Mw | 186000 | 97000 288000 278000 | 179000 I 1 142000 155000 溶解性試驗 ◎ ◎ ◎ ◎ <3 X X X 甲苯 ◎ ◎ ◎ ◎ < X X X CHN ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ X X ◎ CPN ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ X X ◎ 取代基 2 s i-Bu | i-Bu i-Bu i-Bu ω (D _«ίΛ· |莫耳比1 | 100/0 90/10 | 75/25 | 50/50 50/50 90/10 1 75/25 J 50/50 |實施例1 | |實施例2 I |實施例3 1 |實施例4 I |實施例5 I |實施例6 j |比較例l 比較例2 比較例3 -34- 200944847 表中，l/m表示酯系共聚物中各重複單元之莫耳比，R2 及R4表示下式（V)中之取代基。又，i-Bu、Et、Me分別表示異丁基、乙基、曱基’ CPN、CHN分別表示環戊酮、環己酮。 [化6] (V)

實施例1〜6中所製作之光學膜均表現出高透明性。再者，除實施例2外，於實施例中，為了樣品製作的簡便化或與比較例作對比，而使用玻璃板作為基材、使用環戊_ 作為溶劑’但因該光學财所使用之g旨系聚合物表現出高溶解性，故即便於使用聚合物基材作為基材、或者使用甲苯或二甲苯作為溶劑之情料亦可進行製膜，可獲得具有與上述實施例同等光學特性之光學膜。八進而’由圖5可明瞭’藉由使用甲苯作為溶劑，即便醋 =合物的固形分漠度變高’亦可將樹脂溶液之黏度保持低水平。又，若將實施例2與實施例3進行比較，則可 ^使用Μ作為樹脂溶液之溶劑與使用環相溶液之溶劑相比，所得光學膜之△㈣大。又’於使用Rl、R2均為甲#认鍤A t 較例中，"雙作為雙紛成分之比酗系聚合物之溶解性不充分。【圖式簡單說明】圖】係表示本申全杳宏益^ 概念圖。 …發月之偏光板之構成剖面之-例的 134115.doc •35爾 200944847 剖面之一例的圖2係表示本申請案發明之偏光板之構成概念圖。圖3係表示本申請案發明之偏光板之構成剖面之一例的概念圖。圖4係表丨本申言f案發明之偏光板之構成剖面之一例的概念圖。圖5係表示實施例2及3中所得樹脂溶液之黏度測定結果。 ❹ 【主要元件符號說明】 p 偏光元件 R 光學膜 τ 透明保護膜 s 基材 1 光學積層體 134115.doc -36 -

Claims

200944847 十、申請專利範圍： l種光學膜，其含有具有以下述通式⑴所表示的重複單元之酯系聚合物， [化1]

(A及B分別表示取代基，a及b表示相對應之A及B之取代數（0〜4之整數）； A及B分別獨立表示氫、鹵素、碳數ι〜6之烷基、或者取代或無取代之芳基； D表示選自由共價鍵、Ch2基、C(CH3)2基、C(CZ3)2基 (此處，Z為鹵素）、c〇基、Ο原子、s原子、s〇2基、 SKCHaCH3)2基、及n(CH3)基所組成之群之至少1種原子或基團.； R1表示碳數1〜1〇之直鏈或支鏈之烷基、取代或無取代之芳基； R2表示碳數2〜1〇之直鏈或支鏈之烷基、取代或無取代之芳基； pi表示0~3之整數，p2表示1~3之整數； η表示2以上之整數）。 2.如請求項1之光學膜，其中上述通式（I)中之…為甲基，並且R2為碳數2〜4之直鍵或支鍵之燒基。 134115.doc 200944847 3. 如請求们之光學膜’其中上述酿系聚合物係化學結構中不含鹵素原子之非鹵化酯系聚合物。 4. 如请求項丨之光學膜，其中上述酯系聚合物可溶於或二曱苯。，、 5. 如請求項1之光學膜，其中於波長4〇〇 nm處之 90%以上。手馬 6'如請求項1之光學膜，其中厚度為20 μπι以下。

7. 如請求項丨之光學膜，其中膜厚度方向之折射率小於膜面内之折射率的最大值（ηχ)。 8. 一種樹脂溶液’其係於在100重量份溶劑中含有5〇重量伤以上甲本之溶劑中’溶解有具有以下述通式（I)所表示的重複單元之酯系聚合物， [化2]

...(I) (Α及Β分別表示取代基，a及b表示相對應Α及Β之取代數（〇〜4之整數）； A及B分別獨立表示氫、鹵素、碳數1〜6之烷基、或者取代或無取代之芳基； D表示選自由共價鍵、Ch2基、C(CH3)2基、C(CZ3)2S (此處’ Z為鹵素）、CO基、Ο原子、S原子、so2基、 Si(CH2CH3)2基、及N(CH3)基所組成之群之至少1種原子 1341I5.doc 200944847 或基團； R1表示碳數1〜10之直鏈率支鏈之烷基、取代或無取代之芳基； R2表示碳數2〜10之直鏈或支鏈之烷基、取代或無取代之芳基； pi表示0~3之整數，p2表示1〜3之整數； η表示2以上之整數）。 ❹ 9. 一種光學積層體’其係將如請求項1至7中任一項之光學膜與聚合物基材密著積層而成。 10. —種偏光板’其含有如請求項1至7中任一項之光學膜及偏光元件。 11. 一種圖像顯示裝置，其含有如請求項丨至7中任一項之光學膜。 12. —種光學膜之製造方法，其係如請求項丨至？中任一項之光學膜之製造方法，且 ❹ &括以下步驟：製備含有以上述通式（I)所表示的醋系聚合物及溶劑之樹脂溶液的步驟， ·以及 • 將該樹脂溶液塗佈於聚合物基材的表面並使其乾燦，而形成密著積層於該聚合物基材上之膜的步驟。 Ϊ3. —種光學積層體之製造方教化万法，其係如請求項9之光學積層體之製造方法，且〇括以下步驟·製備含有以上述通式⑴所表示的醋系聚合物及溶劑之樹脂溶液的步驟；以及將該樹脂溶液塗佈於聚入〇物基材的表面並使之乾燥， 1341I5.doc 200944847 而形成密著積層於該聚合物基材上之骐的步驟。 -種光學積層體之製造方法’其係如請求項9之光學積層體之製造方法，且包括以下步驟：製備含有以上述通式⑴所表示的酿系聚合物及溶劑之樹脂溶液的步驟；將該樹脂溶液塗佈於基材的表面並使之乾燥，而形成密著積層於該基材上之膜的步驟；以及將該光學膜轉印至其他聚合物基材上的步驟。 15·如請求項12之光學膜之製造方法，其中上述溶劑於ι〇〇重量份溶劑中含有50重量份以上之甲苯。 16.如請求項13或14之光學積層體之製造方法，其中上述溶劑於100重量份溶劑中含有50重量份以上之甲苯。

134115.doc