TW200933215A - Polarizing plate, liquid crystal panel and liquid crystal display device - Google Patents

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200933215 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域3 本發明係有關於偏光板、液晶面板及液晶顯示裝置。 t Jl 5 液晶顯示裝置（LCD)是一種利用液晶分子之光電特 性，顯示文字及影像等之裝置，廣泛普及用在行動電話、 個人電腦及液晶電視機等等。對於LCD，通常使用液晶單 元兩側設置偏光板之液晶面板。在第4圖之模式剖視圖顯示 ❹ 前述液晶單元之構成例。如圖所示，液晶單元41係於一對 10 基板411a、411b之間配置間隔件412，藉前述間隔件412而 形成之前述一對基板411a、411b間之空間夾設有液晶層413 之構成。雖未示於圖中，但一邊的基板上設有控制液晶分 子之光電特性之開關元件(例如TFT)、朝前述開關元件供給 閘極訊號之掃描線及供給源極訊號之訊號線。對於LCD所 15使用之液晶單元之驅動模式，已知有垂直配向（VA)模式(例 如參考專利文獻1)。該VA模式之液晶單元係於非驅動狀態 ® 下’液晶分子相對於基板面具有大致垂直的配向，使光線 可在其偏光面幾乎沒有變化下通過液晶層。為此，VA模式 之液晶單元係於非驅動狀態下可以實施幾近完全之黑顯 20 示。 惟’隨著近年來的LCD(如液晶電視機等）的高精細化， 須要減少液晶面板面内之黑亮度。因此，即使有來自偏光 板之稍微的漏光，亦已經成為問題所在了。 [專利文獻1]日本國發明申請案公開公報第2004-46065號 3 200933215 在此’本發明之目的係於提供禽可处认上 、盡可月“也抑制來自偏光 板的漏光，連發生稍微的亮度不均都防止之偏光板、使用 該偏光板之液晶面板及液晶顯示楚置。 I：發明内容3 5 域㈣述目的，本發明之偏光㈣依序積層有透明 保護薄膜、偏光件及光學補償層，且前述透明保護薄膜之 透濕度及前述光學補償層之透濕度相異者，前述光學補償 層係含有選自由降冰片稀系樹脂、聚乙稀縮酸系樹脂、聚 醋系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚碳酸醋系樹脂及丙稀酸系樹 10脂構成之群中之至少一種樹脂之相位差薄膜’前述偏光板 之含水率為3%以下。 本發明之第1液晶面板係包含有液晶單元及偏光板 者，前述偏光板係前述本發明之偏光板，前述偏光板係於 前述光學補償層位於前述液晶單元側之狀態下配置於前述 15 液晶單元之至少一側。 本發明之第2液晶面板係包含有第丨偏光板、第2偏光板 及液晶單元者，前述第1偏光板係前述本發明之偏光板，前 述第1偏光板中，前述透明保護薄膜為第丨透明保護薄膜， 前述偏光件為第丨偏光件，前述光學補償層為第丨光學補償 20層，前述第2偏光板係依序積層有第2透明保護薄膜、第2偏 光件及第2光學補償層者’前述第1偏光板係於前述第1光學 補償層位於前述液晶單元側之狀態下配置於前述液晶單元 之辨識側，前述第2偏光板係於前述第2光學補償層位於前 述液晶單元側之狀態下配置於前述液晶單元之背光單元 200933215 側。 本發明之液晶顯示裝置係包含有偏光板或液晶面板 者，前述偏光板為前述本發明之偏光板，前述液晶面板為 前述本發明之第1或第2液晶面板。 5 本發明人等乃經由一連串之研究，而發現到習知偏光 板中亮度不均之發生原因。即’在習知偏光板中，因背光 單元點亮時之發熱（約4〇°C)’造成應變。其次，因前述應變， 在偏光件之吸收轴產生偏移，或者是在光學補償層發生轴 變化或相位差變化。藉此，使偏光板之顯示特性的均勻性 10 降低’衍生前述亮度不均。對此，本發明人等更進一步反 覆研究，且著眼於透明保護薄膜之透濕度及光學補償層之 透濕度相異之處，在具有其等作為構成構件之偏光板中， 發現令其含水率在3%以下時，可防止前述亮度不均之發生 者，而終至完成本發明。本發明之偏光板之含水率在3%以 15下，因此可抑制背光單元點亮時之發熱所造成之應變。結 果，以本發明之偏光板時，可防止前述亮度不均之發生。 此種防止亮度不均之發生的機制乃為推測，並不對本發明 有任何限定者。 [圖式簡單說明] 20 第1圖軸林發明偏光板之構成例之模式剖視圖。 第2圖係顯示本發明第1液晶面板之構成例之模式剖視 第3圖係顯示本發明第2液晶面板之構成例之模式叫視 5 200933215 第4圖係顯示本發明液晶面板所具有之液晶單元之構 成例之模式剖視圖。 第5圖係顯示本發明液晶顯示裝置之構成例之模式剖 視圖。 5 第6圖係顯示本發明實施例中TD方向之偏光板的應變 之歷時變化之線圖。 第7圖係顯示本發明實施例中MD方向之偏光板的應變 之歷時變化之線圖。 第8圖係顯示本發明另一實施例中TD方向之偏光板的 10 應變之歷時變化之線圖。 第9圖係顯示本發明另一實施例中MD方向之偏光板的 應變之歷時變化之線圖。 t實施方式3 在本發明之偏光板中，前述光學補償層之Nz係數係1-2 15 之範圍為佳，較佳的是1-1.6之範圍，更佳的是1-1.4之範圍。 在本發明之偏光板中，前述偏光件及前述光學補償層 係藉由含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑形成之接著層 積層者為佳。 在本發明之偏光板中，前述含有聚乙烯醇系樹脂之水 20 溶性接著劑更含有金屬化合物膠體，前述接著層含有源自 前述金屬化合物膠體之金屬化合物微粒子者為佳。 在本發明之偏光板中，前述透明保護薄膜並無特別限 制，但可為諸如三乙醯基纖維素(TAC)薄膜。 在本發明之偏光板中，以50°C±3°C施行加熱處理120 200933215 分鐘後之TD方向之應變（// ε)為7〇〇以下，且md方向之應 變（# ε )為6〇〇以下為佳。前述應變例如可用揭露於後述實 施例之方法測定。 5 ❹ 10 15 ❹ 20 在本發明之第2液晶面板中，前述第丨光學補償層之折 射率具有nx>nygnz之關係，前述第2光學補償層之折射率 具有nx—ny>nz之關係，前述第2偏光板之透射率(丁2)大於 前述第1偏光板之透射率(TJ者為佳。 在本發明之第2液晶面板中，前述第2偏光板之透射率 (TV)與前述第1偏光板之透射率(Τι)間之差（ΔΤ = Τ2—Τι)係 0.1-6.0%之範圍為佳。 在本發明之第2液晶面板中，前述第丨偏光板之透射率 (L)係38.3_43.3%之範圍為佳。 在本發明之第2液晶面板中，前述第2偏光板之透 (TV)係4U_44 3%之範圍為佳。 在本發明之第2液晶面板中，前述第2光學補償層係含 有選自由聚酿亞胺系樹脂、纖維素系接m、降冰片 脂、聚碳酸酯系樹脂及聚醯胺系樹脂構成之 ( 種熱塑性樹脂之相位差薄膜。 之至少一 ^發明之第2液晶面板中，前述第2光學補償層係含 =胺系樹脂之相位差層(B1)、含有纖維素系_之 — 差位一 在本發明之第i及第2液晶面板中，前 模式為佳。 7 200933215 液晶面板及液 其次’舉例詳細說明本發明之偏光板、 晶顯不裝置。 1Λ.定義等等] 前後重編:含水率(%)可藉如測定加熱處理 ^偏桃之重1，由下述式⑴算出者。例如，前 先板之含水率(％)可以後述實_所齡之方法算出者。 含水率（％)= {(W〇_ wl)/w〇}xl〇〇 ⑴ w〇 :加熱處理前之偏光板的重量 wi :加熱處理後之偏光板之重量 10 15 在本發明中，折射率「nx」係位於層（透明保護薄膜、 =層、液晶單元等，以下亦同)之面内之折射率為最 大之方向_方向）之折射率。折射率、」係位於 =與前述ηχ的方向正交之方向（快軸方向)之折射率。折射率 「⑽」係相對於前述ηχ及前述町之各方向正交之 方向之折射率。 厚度 在本發明中，位於層之面内之相位差值^⑷係指藉 例如23 °C下之波長又㈣中之ReU ] = (nx — ny)xd式^算 出之面内相位差值。d是層的厚度(nm)。 在本發明中，位於層之厚度方向之相位差值Rth[^]係 20指藉例如231下之波長又（nm)中之Rthu ] = (ηχ — n小d式 所算出之相位差值。d是層的厚度(nm)。 在本發明中，層之厚度方向之雙折射率(Δηχζ[λ])係指 藉例如△i^UhRthUyd式所算出之值。d是層的厚= (nm) ° 200933215 在本發明中，Nz係數亦可藉諸如Nz係數=Rthf入]/ Re[又]式算出之值。前述久可為諸如590nm。 在本發明中，「nx=ny」或「ny=nz」不只是其等完全 一致之型態’亦包含實質同一之型態。因此在記載諸如nx 5 =ny之時，包括Re[590]低於10nm之型態。 在本發明中’「正交」係指：包括實質正交之型態在内， 前述實質正交之型態指的是諸如90土2度之範圍，較佳的是 90±1度之範圍。又，在本發明中，「平行」係指：包括實質 φ 平行之型態在内，前述實質平行之型態指的是諸如〇±2度之 ίο 範圍，較佳的是〇±1度之範圍。 在本發明中，偏光板之透射率（T)係藉JIS Z 8701(1982 年版)之2度視野(C光源）進行視覺靈敏度補正之γ值。 [B.本發明之偏光板] • [B_l.本發明之偏光板之整體構成] 15 第1圖之模式剖視圖中顯示本發明偏光板之一構成 例。在同圖中，為易於瞭解，各構成構件之大小、比例等 ® 是與實際相異。如圖所示，偏光板10係依序積層透明保護 薄膜11、偏光件12、及光學補償層13。前述透明保護薄膜 11之透濕度及前述光學補償層13之透濕度是不同。在此， 20 前述偏光板10之含水率為3%以下。為此，依前述偏光板 1〇 ’可抑制背光單元點亮時之熱所造成之應變。結果，以 前述偏光板10而言，可防止因前述應變所造成之亮度不均 之發生。前述偏光板之含水率係以2 5 %以下為佳，更以2 · 〇 〇/〇 以下為佳。 9 200933215 在刖述偏光板之各構成構件（光學構件)之間亦可配置 任意的接著層（未雜圖巾）、或㈣的光學構件(較佳的是 顯示各向同改）。刖述「接著層」意指接合相鄰之光學構件 之面與面，以實用上足夠的接著力及接著時間一體化者。 5形成前述接著層之材料係可舉迄今公知之接著劑、黏著 劑、打底膠(咖⑽⑽)劑等為例。前述接著層亦可為在接 著體之表面形成打底膠層，於其上形成接著劑層般之多層 構造。又’亦可為不能由肉眼辨識般之薄層（亦稱為髮線 (hairline))。 ❹ 10 本發明偏光板之整體厚度係諸如20_300//m之範圍。作 成前述範圍之厚度時，可得到機械強度更佳之偏光板。 [B —2.透明保護薄膜] 别述透明保護薄膜以無附色者為佳。前述透明保護薄 膜之面内相位差值Re[55〇]係於諸如〇1〇nm之範圍，較佳者 · 15為〇_6nm之範圍，更佳者為〇-3nm之範圍。前述透明保護薄 膜之厚度方向之相位差值Rth[55〇]係於諸如〇_2〇nm之範

圍，較佳的是0-10nm之範圍，較佳者為〇_6nm之範圍，更佳 D 者為0-3nm之範圍。 前述透明保護薄膜之厚度係於諸如2〇_2〇〇以m之範 2〇圍’較佳者為30-100之範圍，更佳者為35-95“爪之範圍。 以前述透明保護薄膜而言，例如使用纖維素系薄膜。 一般作為保護薄膜所使用之纖維素系薄膜，例如為三乙醯 基纖維素(TAC)薄膜時，在厚度4〇之時，厚度方向之相 位差值(Rth)為40nm程度，較大。對於厚度方向之相位差值 10 200933215 大之纖維素系_ ’以施與縮小厚度方向之相位差 值(Rth)之適當處理為佳。 用以縮小厚度方向之相位差值(Rth)之前述處理乃可採 任-適當的處理方法。可舉例有如下方法，即，已塗有 5環戊嗣、頂等溶劑之聚對苯二甲酸乙二醋（pET)、聚丙 #、不鏽鋼等之基材貼上—般的纖維素系薄膜，進行加熱 乾燥(例如以80-15(TC程度加熱31〇分鐘左右)後 ，再剝離基 材薄膜之方法；或’將降冰片烯系樹脂、丙烯酸系樹脂等 /容解於環戊酮、丁嗣等之溶劑的溶液塗佈於一般的纖維素 10系f«’進行加熱乾燥（例如以80_15(rc程度加熱3_1〇分鐘 左右)後，再剝離塗佈薄膜之方法。 構成纖維素系薄膜之材料以二乙醯基纖維素、TAC等 之脂肪族取代纖維素系聚合物為佳。對於一般使用之 TAC，乙酸取代度為2.8程度，但較佳的是控制乙酸取代度 15在丨.8-2.7之範圍，更佳的是控制丙酸取代度在0.M之範圍 時’可控制厚度方向之相位差值(Rth)較小。 用以控制如上述般之厚度方向之相位差值(J^h)為小之 技術可適當組合使用。 可滿足前述般之光學特性（面内相位差值Re[55〇]、厚度 20方向之相位差值Rth[550])之另一較佳具體例亦可舉丙稀酸 樹脂薄膜為例。對於丙烯酸樹脂薄膜，較佳的是日本發明 申請案公開公報第2005-314534號中所揭示之包含有以含 有下述構造式（1)所示之戊二酸酐單位之丙稀酸樹脂(A)為 主要成分之丙烯酸樹脂薄膜。藉含有以下述構造式（1)所示 11 200933215 之戊二酸酐單位，可提昇耐熱性。在下述構造式（1)中，R1、 R2各為氫原子或碳原子數1-5之烷基，R1、R2可為同一，亦 可為不同。R1、R2，較佳的是氫原子或甲基，更佳的是甲 基。 5 【化1】

v 前述丙烯酸樹脂(Α)中，以前述構造式（1)所示之戊二酸 酐單位之含有比例係以20-40重量％之範圍為佳，更以25-35 10 重量％為佳。 前述丙烯酸樹脂(A)係除了前述構造式（1)所示之戊二 酸酐單位外，亦可包含1種或2種以上之任一適當的單體單 位。如此單體單位係舉乙烯基羧酸烷基酯單位為佳。前述 丙烯酸樹脂(A)中，乙烯基羧酸烷基酯單位之含有比例係以 15 60-80重量％之範圍為佳，更以65-75重量％為佳。 前述乙烯基羧酸烷基酯單位，可舉以下述通式(2)所示 之單位為例。下述通式(2)中，R3為氫原子或碳原子數1-5 之脂肪族或脂環式碳化氫，R4為碳原子數1-5之脂肪族碳化 氫。 12 20 (2) 200933215 【化2】

前述丙烯酸樹脂(A)之量均分子量係以80000〜150000 之範圍為佳。 Q 5 前述丙浠酸樹脂薄膜中之前述丙豨酸樹脂（A)之含有 比例係以60-90重量％之範圍為佳。 前述丙烯酸樹脂薄膜中，除了前述丙烯酸樹脂(A)之 外，亦可含有1種或2種以上之任一適當成分。如此成分在 無損本發明效果之範圍内可採用任一適當的成分。例如有 ' 10 前述丙烯酸樹脂(A)以外之樹脂、紫外線吸收劑、抗氧化 劑、潤滑劑、可塑劑、剝離劑、著色防止劑、難燃劑、核 劑、防靜電劑、顏料、著色劑等等。 〇 前述透明保護薄膜亦可在與前述偏光件側相反之側具 有表面處理層。前述表面處理因應目的，可採用適當且適 15 用的處理。前述表面處理層係諸如有硬塗處理、抗靜電處 理、反射防止處理（亦稱為抗反射處理）、擴散處理（亦稱為 防眩處理）等之處理層。其等表面處理係使用在藉防止畫面 之污染或損傷，或防止因室内之螢光燈或太陽光線照在畫 面造成顯示晝面難以觀看之目的。一般而言，前述表面處 20 理層係使用基膜之表面上固著有用以形成前述處理層之處 13 200933215 理劑者。前述基膜亦可兼為前述透明保護薄膜。進而，前 述表面處理層亦可為諸如在抗靜電處理層之上積層有硬塗 處理層般之多層構造。 前述透明保護薄膜可使用諸如不經處理之施有表面處 5理之市售的高分子薄膜。或者是亦可使用在前述市售之高 分子薄膜施有任一表面處理使用者。施有前述擴散處理（防 眩處理）之市售薄膜諸如有日商曰東電工(股)公司製造之商 品名稱「AG150」、「AGS1」、「AGS2」等。施有前述反射 防止處理(抗反射處理）之市售薄膜諸如有日商曰東電工（股） ◎ 10公司製造之商品名稱「ARS」、「ARC」等。施有前述硬塗 處理及前述抗靜電處理之市售薄膜諸如有日商CONICA MINOLTA OPTO(股)公司製造之商品名稱rKC8UX_HA」 等等。施有前述反射防止處理之市售薄膜諸如有曰商曰本 油脂(股）公司製造之商品名稱「ReoLook」系列等。 · 15 [B-3.偏光件] 前述偏光件，例如可將含有聚乙烯醇系樹脂之含碘高 分子薄膜延伸而得到者。前述偏光件之含碘量係如後述。 ◎ 前述偏光件更含有鉀為佳。前述鉀之含量係諸如〇重 量％之範圍，且以0.3-0.9重量％之範圍為佳，更以〇4 〇8重 20量％之範圍為佳。前述偏光件更含有硼為佳。前述硼之含 量係諸如0.5-3.0重量％之範圍，且以丨山。8重量％之範圍為 佳，更以1.5-2.6重量％之範圍為佳。 前述聚乙烯醇系樹脂係諸如可將乙烯基酯系單體聚合 所付到之乙烯基g旨系聚合物名化而得到者。前述聚乙浠醇 14 200933215 系樹脂之皂化度宜為95.0-99.9莫耳％之範圍。使用皂化度在 刖述範圍之聚乙烯醇系樹脂，即可得到耐久性更佳之偏光 件。則述聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度因應目的而可選擇 適當且適切的值。前述平均聚合度宜為12〇〇 36〇〇之範圍。 5前述平均聚合度係例如依據JIS K 6726(1994年版)可求取。 以得到含有前述聚乙烯醇系樹脂之高分子薄膜之方法 而言，可採用任一適當的成形加工法。前述成形加工法係 諸如有日本國發明專利申請案公開公報第2〇〇1_315144號 〇 [實施例1]所載之方法。 10 前述含有聚乙烯醇系樹脂之高分子薄膜係以含有可塑 劑或界面活性劑之至少一者為佳。前述可塑劑係諸如有乙 二酵或丙三醇等之多元醇等。前述界面活性劑係諸如有非 離子界面活性劑等等。前述可塑劑及前述界面活性劑之含 _ 量係以相對於前述聚乙烯醇系樹脂100重量份為1_1〇重量 15份之範圍為佳。前述可塑劑及前述界面活性劑係例如使偏 光件之染色性或延伸性提昇。 Ο 前述含有聚乙烯醇系樹脂之高分子薄膜亦可使用不經 處理之市售薄膜。前述市售的含有聚乙烯醇系樹脂之高分 子薄膜係諸如有日商KURARAY(股）公司製造之商品名稱 20 「KURARAY VINYLON FILM」、日商TOHCELLO(股）公司 製造之商品名稱「TOHCELLO VINYLON FILM」、日商日 本合成化學工業（股）公司製造之商品名稱「日合ViNYLON FILM」等等。 [Β —4·光學補償層] 15 200933215 匕、如前述，前述光學補償層係一種包含降冰片烯系樹 月曰、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚 碳酸知系樹腊及丙婦酸系樹脂之至少-種樹月旨之相位差薄 膜。 5 首先，义 十對含有降冰片稀系樹脂之相位差薄膜進行說 '迷降冰片稀系樹脂具有光彈性係數之絕對值(c[又]、 月』述；1可為諸如590nm)小之特徵。前述降冰片烯系樹脂之 波長59〇nm之光彈性係數之絕對值（C[590])係以丨X10 - u m2/N-lx]〇~ii , , 111 /N之範圍為佳。在本發明中，「降冰片烯系 1〇樹月曰」係指：對於S始原料(單體)之-部分或全部使用具有 「片稀裏之降冰片烯系單體而得到之（共）聚合物。前述 _物」是表示均聚物或共聚物(c〇p〇iymer)。 月丨J述降水片烯系樹脂係使用對於起始原料是使用具有 降冰^稀環（在降冰片烧環具有雙鍵者）之降冰片稀系單 15體。則述降冰片稀系樹脂係於(共)聚合物之狀態巾，構成單 位可具有降冰片烧環，亦可不具有此環。（共)聚合物之狀態 '單仇具有降冰片烧環之降冰片稀系樹脂係可舉諸 如四環[4.4.12,5_17，10〇]十一 3_稀、8_甲基四卵4ι25」7ι〇 〇]十_3 —埽、8〜甲氧基羰基四環[4.4·12,5·ΐ7，ι〇·〇]十〜3一稀 20等為例。在(共)聚合物之狀態下構成單位不具降冰片烧環 之降冰片歸系樹脂’例如為使用制裂成為5員環之單體而 所得到之(共)聚合物。藉前述開裂而成為5員環之單體可為 諸降水片埽、二環戊二烯、5-苯基降冰片烯等及其等： 生物等等。前迷降冰片稀系樹脂為共聚物時，其分子之配 200933215 列狀態並無特職^，可為無規絲物，可為纽共聚物， 亦可為接枝共聚物。 5 ❹ 10 15 ❹ 20 别述降冰片烯純脂’可舉諸如⑷降冰片料單體之 開環（共）聚合物加氫之樹脂、⑼加成共聚有降冰片稀系單 體之樹知等為例。前述降冰片烯系單體之開環共聚物加氣 f月曰匕括在1種以上之降冰片稀系單體與α —稀烴類、環 烯類及非共概二稀類之至少—類之開環共聚物上加氧之樹 脂Μ吏前述降冰㈣系單體加成共聚之樹脂包括使〗種以上 之降冰片烯系單體與α -稀煙類、環烯類及非餘二烯類 中之至少一類加成共聚之樹脂。 在前述降冰片烯系單體之開環（共）聚合物加氯之樹 脂，可藉使諸如降冰片烯系單體等進行置換(metathesis)反 應得到開環(共)聚合物，進而，在前述開環⑻聚合物加 氫而得到。具體而言’諸如有日本國發明中請案公開公報 第HU-H刪號之[祕9]·[()_]鄉所揭示之方法日本國 發明申請案公開公報第2(m_3職7號之_5]〜[觀]段 落所揭示之方法等。使前述降冰片稀系單體加成(共)聚合之 樹脂係可藉例如日本國發明申請案公開公報第灿_29贏 號之實施例1所揭示之方法而得到。 前述降冰片烯系樹脂之量均分子量(Mw)，係藉四氮咬 喃溶媒之凝勝滲透色譜法(聚苯乙烯標準)所_之值，較佳 的是在雇0·咖之範圍。前述降冰片㈣樹脂之玻璃 轉移溫度(Tg)係120-170°c之範圍為佳。只要是前述之樹 脂，即可得到具有更佳之熱安定性且延伸性更佳之相位差 17 200933215 薄族。前述破璃轉移溫度(Tg)是-藉諸如 以 JIS K 7121(1987 年版)為準之微差掃描熱析儀(DSC)法所算出之值。 3有刖述降冰片烯系樹脂之相位差薄膜，可將藉諸如 溶媒洗塑法或溶融擠壓法而形成薄膜狀之高分子薄膜，以 5縱白單軸延伸法、橫向單軸延伸法、縱橫同時兩軸延伸法、 或縱橫逐次兩軸延伸法進行延伸而製得。前述延伸法，由 製造效率的觀點來看，以橫向單軸延伸法為佳。延伸前述 咼分子薄膜之温度（延伸溫度）係以丨2〇 2〇〇它之範圍為佳。 延伸刖述鬲分子薄膜之倍率（延伸倍率）係以超過1倍且4倍 10以下為佳。前述延伸法可為固定端延伸法，亦可為自由端 延神法依固疋端延伸法時，可製作顯示nx > ny > ηζ關係 之相位差薄膜。 含有前述降冰片烯系樹脂之相位差薄膜可使用例如不 經處理之市售薄膜。或者是可使用對前述市售之薄膜施有 15延伸處理或收縮處理中至少一種處理等之二次性加工者。 含有前述市售的降冰片烯系樹脂之相位差薄膜可舉外商 JSR公司製之商品名稱「art〇N」系列(ARTON F、ARTON FX、ARTON D)、外商〇pTEs公司製造之商品名稱 「ZEONOR」系列（ZEONOR ZF14、ZEONOR ZF15、 20 ZEONOR ZF16)等為例。 其次’針對含有聚乙烯縮醛系樹脂之相位差薄膜進行 說明。對於前述聚乙烯縮醛系樹脂，並無特別限定，可使 用例如日本發明專利第3984277號公報之[0〇26]段落之含有 下述通式(3)所示之聚合物之樹脂。前述聚合物係藉於分子 200933215 耐熱性、及加工性優異 構造中具有萘基，因此透明性、 [化3]

(3) 刖述聚备物可藉接t

丨、一 如至少2種醛化合物及酮化合物之 以1 &和聚乙缚醇系樹脂進行縮合反應而得到。 =通式(3)所示之聚合物中，卜m、n之各基本單位之配 列順序並無特別限制 二4取人 方了為交替、無規或嵌段任一老。 則述聚合物包括基本單 旦 平1幻、m及η之聚合度的合計為2〇以 里句刀子置大之聚合物(即所謂高聚物)，更包括基本 1〇單位1、喊η之聚合度的合計為2以上 、20以下，且量均分 子量數千程度之低聚物（即所謂低聚物卜 前述通式(3)中，R5及R7各為氫原子、鹵素原子、破原 子數1-4之直鍵狀或分枝鏈狀之烷基、或取代或非取代之苯 基，前述R_5及R7可為同一，亦可為相異。 15 前述通式(3)中，R6、A及B各為氫原子、鹵素原子、碳 原子數1-4之直鏈狀或分枝鏈狀之烷基、碳原子數丨_4之直鏈 狀或分枝鏈狀之_化烷基、碳原子數1·4之直鏈狀或分枝鏈 狀之烷氧基、烷氧基羰基、醯氧基、胺基、疊氮基、硝基、 氰基或羥基，前述R6、A及B可為同一 ’亦可為相異。惟， 20箣述R6不是氫原子。 19 200933215 分枝mt(r’R8為氫原子、碳原子數M之直鍵狀或 料、碳原子數5]〇之取代或非取代之環P 基、取代或非取代之苯基、取代或非取代之萘基、或者: 取代或非取代之雜環基。 前述通式(3)中，作氫原子、碳原子數m之直鍵狀或 分枝紐之⑥基、苯曱基、雜基、魏基、《、笨醯 基、或項醯基。

3有刖述聚乙烯祕系樹脂之相位差薄膜，藉例如壓 縮成形法、傳遞模塑法、射出成形法、擠出成形法、吹塑 H)成形法、粉末成形法、FRp成形法、溶錢塑法等，適當選 擇延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向等）、延伸 方法等，將成形為薄片狀之高分子薄膜延伸而製作者。 〇 作為前述光學補償層使用之相位差薄膜進而可含有任 意適田之添加劑。以前述添力口劑而言，例如有可塑劑熱 15安定劑、光安定劑、湖滑劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑了 難燃劑、著色劑、抗靜電劑、相溶劑、交聯劑、增黏劑等。 $述添加劑之含量，較佳的是相對於主要成分之樹脂1〇〇重 量份，為超過〇且10重量份以下之範圍。 前述光學補償層之折射率係顯示諸wnx>nygnz之關 2〇係。即，前述光學補償層之折射率亦可顯示nx>ny=nz之 關係（正的單軸性）或nx>ny>nz之關係（負的二轴性），又以 顯示nx>ny=nz之關係為佳。前述光學補償層之Nz係數係 如前述。 前述光學補償層之Re[590]係諸如1〇nm以上，且以5〇 20 200933215 200nm之範圍為較佳。前述光學補償層之折射率顯示為ηχ >ny = nz之關係時，Re[590]係諸如90-190nm之範圍，且以 110-170nm之範圍為較佳。前述光學補償層之折射率顯示為 nx > ny > nz之關係（負的二軸性）時，Re[590]係諸如70-5 170nm之範圍，且以90-150nm之範圍為較佳。 前述光學補償層之折射率顯示為nx > ny = nz之關係 時，Re[590]與Rth[590]大致相等。此時，前述光學補償層 係滿足I Rth(590) —Re(590) | <l〇nm之式者為佳。 ❾ 前述光學補償層之折射率顯示nx > ny > nz之關係時， 10 Rth[590]大於Re[590]。此時Rth[590]與Re[590]之差(Rth[590] — Re[590])係諸如l〇-l〇〇nm之範圍，且以20_8〇11111之範圍為 較佳。 前述光學補償層之波長590nm之透射率（T[590])係以 90%以上為佳。 15 前述光學補償層可為單層，亦可為由多數之層構成之 積層體。前述光學補償層之厚度係諸如〇 5_2〇〇//ηι之範圍。 © [Β_5·偏光件與光學補償層之積層] 前述偏光件與前述光學補償層係以接著層為中介而積 層者為佳。以第1圖為例說明時，偏光件12與光學補償層13 20 係以接著層為中介而積層者。 在前述光學補償層之朝前述偏光件之接著面係施有容 易接著處理為佳。前述容易接著處理係塗佈樹脂材料之處 理為佳。前述樹脂材料係以諸如矽系樹脂、脲酯系樹脂、 丙烯酸系樹脂為佳。藉施以前述容易接著處理，在前述接 21 200933215 著面上形成容易接著層。前述容易接著層之厚度係以 5-100nm之範圍為佳，更以i〇_8〇nm之範圍為佳。 前述接著層可設於靠前述偏光件之側，亦可設於靠前 述光學補償層之側，亦可設於前述偏光件側與前述光學補 5 償層側雙方。 前述接著層為由黏著劑形成之黏著劑層時，前述黏著 劑可採用任意適當的黏著劑。具體而言，前述黏著劑層係 可舉溶劑㈣著劑、非水系乳液型黏著劑、水系黏著劑、 熱炼型黏著劑等為例。其等之中又以使用丙稀酸系聚合％ ^ 作為基底聚合物之溶劑型黏著劑為佳。這是因為對於前述 偏光件及前述光學補償層顯示適當的黏著特性(例如，滿潤 性、凝聚性及接著性）’且，光學透明性、耐候性及耐熱性 優異之緣故。 15 A前述黏著劑層之厚度係因應使用目的或接著力而可適 15當設定。具體而言’前述黏著劑層之厚度係以Ι-ΙΟΟρ之 範圍為佳’又以3-5G/zm之範圍為佳，更以5_、m之範圍 為佳，尤以10-25//m之範圍為佳。 0 前述接著層可為例如將含有接著劑預定比例之塗液塗 佈在前述光學補償層或前述偏光件之至少一方的表面且俟 〇其乾燥而形成之接著劑層。前述塗液之調製方法是可採用 任意的適當的方法。前述塗液可使用例如市售的溶液或分 、亦可在市售的溶液或分散液更添加溶劑，亦可將固 形物溶解或分散於各種溶劑使用。 刚述接者劑係可因應目的而可使用具有任意的適當的 22 200933215 性質、形態及接著機構之接著劑。具體而言，前述接著劑 可為例如水溶性接著劑、乳液型接著劑、膠乳型接著劑、 膠黏型接著劑、複層接著劑、糊狀接著劑、發泡型接著劑、 5 φ 10 15 ❹ 20 及支撐薄難著劑、熱舰接魏、__接著劑、熱 固化接讀、熱熔型接著劑、熱活性接著劑、熱封型接著 劑、熱硬化型接著劑、接觸型接著劑 '感祕接著劑、聚 合型接著劑、溶劑型接著劑、溶劑活性接著劑等。其等之 中’使用透明性、接著性、作業性、產品的品質及經濟性 優異之水溶性接著劑為佳。 前述水溶性接著劑亦可為諸如含有可溶於水之天然高 分子或合成高分子之至少—方。前述天然高分子可舉蛋: ^或殿粉等為例。前述合成高分子可為諸如甲階粉駿樹 脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、聚環氧乙烧、聚丙稀酿胺、 聚乙烯°叫細、丙稀酸醋、甲基丙烯酸醋、聚乙烯醇系 樹脂等為例。在其等之中，又可使用含有聚乙烯醇系樹骑 之水溶性接著劑為佳，更以使用含有具有乙醯乙醯基之變 性聚乙烯醇系樹脂(含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂)之 水♦性接著劑為佳。即’如前述，在本發明之偏光板中， 前述接著層係含有含聚乙烯醇㈣脂之水溶性接著劑為 佳。這是目為與前述偏光件狀接著性滅，1，與前述 光學補償層間之接著性亦優之緣故。前述含有乙醯乙醯基 之聚乙烯醇系樹脂可舉曰商曰本合成化學（股）公司製之商 品名稱「GOHSENOL Ζ」系列、同公司製之商品名稱 GOHSENOL ΝΗ」系列、同公司製之商品名稱 23 200933215 「GOHSEFIMER Z」系列等為例。 前述聚乙烯醇系樹脂可為諸如聚醋酸乙烯酯之皂化 物、前述皂化物之衍生物、和與醋酸乙烯酯有共聚性之單 體之共聚物之皂化物、使聚乙烯醇縮酸化、脲酯化、醚化、 5 接枝化、磷酸酯化等之變性聚乙烯醇等。前述單體可為諸 如馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、巴豆酸、衣康酸、丙烯酸、 甲基丙烯酸等之不飽和羧酸及其醋類、乙烯、丙稀等之α 稀丈£_、酿基％酸、甲基醯基績酸、酿基續酸納、甲基酿 基磺酸鈉、磺酸鈉、磺酸鈉單馬來酸烷酯、二磺酸鈉馬來 10酸烷酯、Ν—羥曱基丙烯酸醯胺、丙烯酸醯胺烷基磺酸鹼金 屬鹽、Ν—乙烯基吡咯烷酮、Ν—乙烯基吡咯烷酮衍生物等 等。其等樹脂可單獨使用，亦可併用二種以上。 前述聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度，由接著性之觀點 來看’以100-5000之範圍為較佳，且以1〇〇〇 4_之範圍為 !5更佳。前述聚乙稀醇系樹脂之平均專化度，由接著性之觀 點來看’是以85·刚莫耳％之範圍為較佳且以9()· %之範圍為更佳。 ' --呷糸樹脂保可藉諸 20

聚乙烯醇錢脂與乙醯基法反應而 者。具體而言，例如在於醋酸等之溶 系樹脂之分散體中添加乙酿基乙_之方法、在:甲 酿胺或一姚等之溶媒中使聚乙歸醇«脂溶解之溶 添加乙酿基乙稀酮之方法、菸社 及使乙醯基乙烯酮氣體或 乙酿基乙_直接接觸聚乙_系樹脂之方法等。 24 200933215 5 ❹ 10 15 ❹ 20 前述含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之乙醯乙醯基 變性度，例如在〇.1莫耳％以上。令前述乙醯乙醢基變性度 為前述範圍時’可得到耐水性更佳之偏光板。前述乙醯乙 醯基變性度係以〇.卜4〇莫耳％之範圍為佳，且以12〇莫耳％ 之範圍更佳，尤以2-7莫耳％之範圍為佳。前述乙醯乙醯基 變性度’例如藉核磁共振(NMR)法測定之值。 月ij述含有聚乙稀醇糸樹脂之水溶性接著劑亦可更含有 交聯劑為佳。這是因為可使耐水性更進一步提昇之緣故。 前述交聯劑可採用任意適當的交聯劑。前述交聯劑，較佳 的是具有至少2個可與前述聚乙稀醇系樹脂有反應性之官 能基之化合物。前述交聯劑，例如有乙撑二胺、三乙樓二 胺、己二胺等之具有2個烷撐基和胺基之烧撑胺類、甲苯樓 二異氣酸酷、氫化曱苯撐二異氰酸酯、三經甲基丙烧甲苯 撐二異氰酸酯加合物、三苯基甲烷三異氰酸酯、甲撐二(4 —苯基）甲烷三異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯及其等酮肟 喪段物或苯紛欲段物等之異氰酸酯類、乙二醇二縮水甘油 醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、甘油三 縮水甘油醚、1，6—己二醇二縮水甘油喊、三經甲基丙院三 縮水甘油醚、二縮水甘油苯胺、二縮水甘油胺等之環氧類、 曱酸、乙搭、丙酸、丁搭等之單搭類、乙二路、丙二酿、 丁二醛、戊二醛、馬來酸酐二醛、富馬二醛等之二醛類、 羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥曱基尿素、烷基 化經甲基三聚氰胺、乙酸三聚氰二胺(acetoguanamine)、苯 代三聚氰胺(benzoguanamine)與曱酸之縮合物等之胺基— 25 200933215 甲醛樹脂、鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等之二價金屬或 三償金屬之鹽及其氧化物等。其等之中又以胺基—甲搭樹 脂或二醛類為佳。前述胺基一甲醛樹脂係以具有羥甲基之 化合物為佳。前述二搭類係以乙二搭為佳。其中又以具有 5羥曱基之化合物為佳，且以羥曱基三聚氰胺尤佳。前述醛 化合物，例如有日商日本合成化學工業公司製造之商品名 稱「乙二醛」、美商OMNOVA製造之商品名稱「SEQUAREZ 755」等。前述胺化合物，例如有日商三菱瓦斯化學（股)公 司製造之商品名稱「META-XYLENE DIAMINE」等。前述 ❹ 10羥甲基化合物例如有日商大日本油墨化學工業（股）公司製 造之商品名稱「WATERSOL·」系列等。 前述交聯劑之調配量相對於前述聚乙烯醇系樹脂（較 佳的疋剛述含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂）1〇〇重量 份，為例如1-60重量份之範圍。令前述調配量為前述範圍 15時’可形成透明性、接著性、耐水性優異之接著層。前述 調配量之上限值係以50重量份為佳，又以30重量份為佳， 且以15重量份為更佳，又以1〇重量份尤佳，以7重量份為帛 ❹ 佳。前述調配量之下限值係以5重量份為佳，且以10重量份 為更佳X以20重量份尤佳。此外，併用後述之金屬化合 20物膠體’可更進_步提昇前述交聯劑之調配量多時之安定 性。 月'J述含有聚己埽醇系樹脂之水溶性接著劑可更含有金 屬化口物膠體。這是因為可防止在偏光件與光學補償層之 界面所產生之局部的凹凸缺陷之「波紋（夕二、y夕）」之發生 26 200933215 5 之緣故。對於有沒有前述波紋， 載之方法確認。 了1叙實施例所 成構’本發明之偏光板，例如可使用接著劑將各構 -—於^製造，但財發明之偏光板之製造方法而 4二件與前述光學補償層之積層上使用含有 著=金屬化合物膠體之前述聚乙稀醇系樹脂之水溶性接 又 Ο 10 15Ο 20 ^ ，由此點可知’本發明之偏光板係使前述偏光件與 刚述光學簡錢料有㈣金屬 牛與 稀醇系樹脂之水溶性接著劑積層者為佳物膠體之則述聚乙 進而，树明之偏絲錢料偏料 =:::述金屬化合物膠體之前述聚乙烯醇： 水4生接著_形成之接著層為中介㈣層， 含有源自前述金屬化合物膠體之金屬化合物^ 前述金屬化合物賴可為諸如金屬化合物微粒子 ^㈣巾者’亦可為@微粒子之同 而呈靜電性的安定，具有永續性的安定性目所引起 屬化合物之微㈣之平均繼_ ^ =金 之範圍為佳’一m之範圍為更佳。這是因= ，教子均勻地分散在前述接著層中，確料=使前 時地防止波紋的發生之緣故。 前述金屬化合物乃可採用任_適當的化合物 屬化合物，例如有氧德、氧切、氧化錯、_ 更適 。前述金 氧化鈦等 27 200933215 之金屬氧化物、矽酸鋁、碳酸鈣、矽酸鎂、碳酸辞、碳酸 鋇、磷酸鉀等之金屬鹽、c鹽、滑石、黏土、高嶺土等之礦 物。其等之中又以氧化鋁為佳。 前述金屬化合物膠體，例如以前述金屬化合物分散於 5 分散媒之膠體溶液之狀態下存在。前述分散媒可為諸如 水、醇類等。前述膠體溶液中之固形物濃度係例如1-50重 量％之範圍。前述膠體溶液亦可含有硝酸、鹽酸或醋酸等 之酸作為安定劑。 前述金屬化合物膠體（固形物）調配量相對於前述聚乙 10 稀醇系樹脂100重量份，以200重量份以下為佳。令前述調 配量為前述範圍時，可確保接著性，更適宜地防止波紋之 發生。前述調配量，以10-200重量份之範圍為佳，且以20-175 重量份之範圍更佳，又以30-150重量份尤佳。 前述接著劑之調製方法可採用任一適當的方法。例 15 如，是含有前述金屬化合物膠體之接著劑時，可採用例如 在事先混合前述聚乙烯醇系樹脂與前述交聯劑，調整成適 當的濃度之物中調配前述金屬化合物膠體之方法。又，考 慮使用時期等，亦可在混合前述聚乙烯醇系樹脂與前述金 屬化合物膠體之後，混合前述交聯劑。 20 前述接著劑中之樹脂濃度係由塗附性及放置安定性等 之觀點，以0.1-15重量％之範圍為佳，且以0.5-10重量％之 範圍為更佳。 前述接著劑之pH，以2-6之範圍為佳，且以2.5-5之範圍 為更佳，又以3-5之範圍為佳，並以3.5-4.5之範圍為尤佳。 28 200933215 j6/L ,χι «α» Λ又向吕 ❹ 10 接著劑之Η㈣金屬化合轉體之細電射藉調整前述 制。前述表面電荷，較佳的是正電荷。令 ^面電何為正電荷時’例如可更適宜地防止波紋之發 前述接著劑之全部固形物濃度係依前述接著劑之溶解 ^ ^附黏度、濕潤性、前述接著嶋之職厚度等而相 、。月|J述全部固形物濃度係以相對於溶劑刚重量份為 2-100重讀之範圍為佳。令前述全部固形物濃度為前述 圍時’可得到表面均勻性更高之接著劑層。前述固形物、曲 度’較佳的是1()·5()重量份之朗，且以2G_4G重量份= 更佳 15 前述接著劑之黏度並無特別限制，但23〇c下之剪士 、 度1000(l/s)所測定之值，較佳的是在UOmPa· s之範:迷 令月’〗述接著劑之黏度為前述範圍時，便可得到表面约 更優異之接著層。前述接著劑之黏度以2_3〇mPa.s<範圍為 /+ 又以4-20mPa.s之範圍為更佳。 ''、 佳 前述接著劑之玻璃轉移溫度(Tg)並無特別限制，佝γ 20-120°C之範圍為佳，以40-10(TC之範圍為更佳， ~ 乂 °C之範圍尤佳。前述玻璃轉移溫度可藉諸如 20 又以50-90 以微差掃描執 析儀（DSC)測定之JIS K 7121(1987年版）為準之方去“'、 者0 測定 前述接著劑亦可更含有矽烷耦合劑、鈦耦合劑等 合劑、各種黏著附與劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、 安定劑、耐加水分解安定劑等之安定劑等。 … 29 200933215 5 10 15 20 前述接著劑之㈣方法可_任意'之適當方法。， 塗附方法，可舉旋塗法、輥塗法、流塗法、* 。前述 法等為例。 / 、《塗法、桿塗 前述接著劑層之厚度並無特別限制，但以〇 〇 14 U 之範圍為佳。令前述接著制之厚度騎述範圍時15_ 到即使曝曬在高溫多濕之環境下,林產生偏光件之制^ 浮腫般之敎性優異之偏光板。前述接伽層之厚度曰:、 0.2-0.12/zm範圍更佳’又以〇〇3-〇〇9"m之範圍為佳疋M 〔C.第1液晶面板〕 … 〔C-1.第1液晶面板之整體構成〕 如前述，本發明之第丨液晶面板係一種包含有液晶單_ 及偏光板之液晶面板，且前述偏光板為前述本發明之偏2 板，前述偏光板係於前述光學補償層位於前 、 <饮日日早几側 之狀態下’配置於前述液晶單元之至少—側者為特徵。第2 圖之模式剖視圖顯示本發明之第〗液晶面板之—構造例。該圖中，對第1圖同-之部分附與同一符號。如圖所示，在 本第1液晶面板30中，前述本發明之偏光板10係於前述光學 =層13位於前魏晶單元侧之狀態下，配置於前述液 晶单元41之辨識侧(在同圖中為上侧)及背光單元側(在同圖 曰為下側）兩邊。又’在本例之第1液晶面板中，在前述液 單元之辨識側及背光單元側的兩邊配置有前述本發明之 ^光板。惟，本發明並不限於此。本發明之第i液晶面板中， 背二發偏光板只要配置於前述液晶單元之辨識側及 #光早7G側中之至少一側即可。

30 200933215 〔C-2.液晶單元〕 前述液晶單元，例如有使用薄膜電晶體之主動矩陣型 液晶單元等。又，前述液晶單元亦可為諸如超扭轉向列液 晶顯示裝置所採用之單純矩陣型液晶單元等。 5 前述液晶單元係藉一對基板而將液晶層夾於其中般之 構成乃為一般者。第4圖顯示液晶單元之一構成例。如圖所 示，本例之液晶單元41係藉於一對基板411a、411b之間配 置間隔件412，形成空間，在前述空間夾設液晶層413。雖 ^ 未示於圖中，前述一對基板中，一邊的基板（主動矩陣型基 10 板）上設有諸如控制液晶之光電特性之開關元件（例如 TFT)、對該主動元件提供閘極信號之掃描線及傳遞源極信 號之信號線。前述一對基板中另一邊基板上設有諸如彩色 濾、波器。 前述彩色濾波器亦可設於前述主動矩陣基板上。或， 15 例如場序型方式般，對於液晶顯示裝置之照明機構是使用 RGB之三色光源（進而，亦可含有多色光源）時，前述彩色濾 〇 波器亦可省略。前述一對基板之間隔（單元間隙）係藉諸如間 隔件而控制。前述單元間隙例如為1.0-7.0/zm之範圍。各基 板之與前述液晶層相接觸之側設有例如由聚醯亞胺構成之 20 配向膜。或，在利用諸如業經圖案化之透明基板所形成之 邊緣電場，控制液晶分子之初期配向時，前述配向膜亦可 省略。 前述液晶單元之折射率宜顯示nz > nx = ny之關係者。 以前述折射率顯示nz > nx = ny之關係之液晶單元而言，依 31 200933215 驅動模式之分類時，可舉例有垂直配向（VA)模式、扭轉向 列(TN)模式、垂直配向型電場控制雙折射(ecb)模式、光學 補償雙折射(OCB)模式等。在本發明中，前述液晶單元之驅 動模式以前述VA模式為佳。 5 沒有電場存在之狀態下之前述液晶單元之Rth[590]，較 佳的是-5()0-勘nm之範圍，且以—伽―細麵之範圍 為佳。前述Rth[590]，例如藉液晶分子之雙折射率及前述單 元間隙，而可適度設定。 前述VA模式之液晶單元利用電壓控制雙折射效應，在 0 10沒有電場存在之狀態下，使配向為垂直排列之液晶分子， 以相對於基板之法線方向之電場響應。具體而言，例如日 本發明申請案公開公報第S62-210423號或第H〇4-153621號 公報所揭示者，對於正常黑方式時，在沒有電場存在之狀 態下’因為液晶分子配向於相對於基板之法線方向，所以 15上下的偏光板正交排列時，可得到黑顯示。另一方面，有 電場存在之狀態下，藉使液晶分子作動為相對於偏光板之 吸收軸傾向45°方位，使透射率變大，可得到白顯示。 〇 刖述VA模式之液晶单元，如曰本發明申請案公開公報 第H11-258605號所揭示者，亦可為藉使用電極形成有電極 2〇 之物、或藉表面形成有突起之基材而多域化之物。如此液 晶單元，可舉例有日商夏普公司製造之商品名稱r ASV (Advanced Super View)模式」、同公司製造之商品名稱「CpA (Continuous Pinwheel Alignment)模式」、日商富士通公司製 造之商品名稱「MVA(Multi-domain Vertical Alignment)模 32 200933215 式」、韓商三星電子公司製造之商品名稱「PVA(Patterned Vertical Alignment)模式」、同公司製造之商品名稱「EVA (Enhanced Vertical Alignment)模式」、日商三洋電機公司製 造之商品名稱「SURVIVAL(Super Ranged Viewing Vertical 5 Alignment)模式」等。 前述液晶單元，亦可使用諸如未經處理之市售之液晶 顯示裝置所載設之物。含有前述VA模式之液晶單元之市售 之液晶顯示裝置可舉諸如日商夏普（股）公司製造之液晶電 〇 視機之商品名稱「AQUOS」系列、曰商SONY(股)公司製造 10之商品名稱「BRAVIA」系列、韓商SAMSUNG公司製造之 32V型WIDE式液晶電視機之商品名稱「LN32R51B」、曰商 NANAO公司製造之液晶電視機之商品名稱「F〇RIS SC26XD1」、AU Optronics公司製造之液晶電視機之商品名 稱「T460HW01」等為例。 15 〔D·第2液晶面板〕 〔D-1.第2液晶面板之整體構成〕 © 在第3圖之模式剖視圖中顯示本發明之第2液晶面板之 一構成例。在該圖中，在與第1圖同—之部分附上同一符 號。如圖所示，這個第2液晶面板40具有第丨偏光板1〇、第2 20偏光板20、液晶單元41為主要的構成構件。前述第1偏光板 10為前述本發明之偏光板10。前述第1偏光板1〇中，前述透 明保護薄膜11為第1透明保護薄膜11，前述偏光件12為第i 偏光件12，前述光學補償層13為第1光學補償層13。前述第 2偏光板20是以第2透明保護薄膜21、第2偏光件22及第2光 33 200933215 學補償層23之順序積層而成者。前述第1偏光板1〇係於前述 第1光學補償層13位於刚述液晶單元41侧之狀態下，配置於 前述液晶單元41之辨識側(在該圖中為上侧）。前述第2偏光 板20係於前述第2光學補償層23位於前述液晶單元41側之 5狀態下，配置於前述液晶單元41之背光單元侧（在該圖中為 下側）。 如前述，在前述第2液晶面板中，較佳的是，前述第1 光學補償層之折射率顯示nx>nygnz之關係，前述第2光學 補償層之折射率顯示nx = ny>nz之關係，前述第2偏光板之 〇 10 透射率（Τ'2)大於前述第1偏光板之透射率（Tl)。按此進行 時，與習知之液晶面板(代表的是配置於液晶單元之兩側之 2枚偏光板之透射率為同一者)相比，可得到正面方向之對 比率特尚之液晶面板。 如前述，在前述第2液晶面板中’較佳的是，前述第2 15 偏光板之透射率(丁2)與前述第1偏光板之透射率(Τι)間之差 (ΔΤ=Τ2 —丁丨)為0.1-6.0%之範圍。藉使用具有前述範圍之透 射率之差之2牧偏光板，可得到正面對比率更高之液晶面 〇 板。前述差（ΔΤ = Τ2 —Τ!)是以〇.1·5.0%之範圍為佳，又以 0.2-4.5%之範圍更佳，且以0.3-4.0%之範圍尤佳。 20 〔D — 2.第2透明保護薄膜〕 前述第2透明保護薄膜係與前述透明保護薄膜（前述第 1透明保護薄膜）同樣。 〔D—3.第2偏光件〕 前述第2偏光件係除了下列事項外，其餘與前述偏光件 34 200933215 (刖述第1偏光件）同樣者。 前述第1偏光件之含碘量(1丨)和前述第2偏光件之含碘 量(l2)間之關係宜為1丨>12。前述第丨偏光件之含碘量(h)與前 述第2偏光件之含碘量⑴)之差（ΔΙ二L — l2)以〗_2 6重量％ 5之範圍為佳。使各偏光件之含碘量之關係為前述範圍時， 可得到具有更佳範圍之透射率關係之偏光板，結果可得到 正面方向之對比率更高之液晶面板。前述差係 以0.1-2.0重量％之範圍更佳，又以〇11·4重4%之範圍為 佳，且以0.15-1.2重量。/0之範圍尤佳。 10 前述第1偏光件及前述第2偏光件之含碘量各以^-5,0 重量％之範圍為佳。各偏光件之含碘量為前述範圍時，可 得到具有更佳範圍之透射率之偏光板，結果可得到正面方 向之對比率更咼之液晶面板。前述第〖偏光件及前述第2偏 光件之含碘量各以2.0-4.0重量％之範圍更佳。前述第丨偏光 15件之含碟量以2.3_5.0重量％之範圍為佳，且以2·5-4.5重量％ 之範圍更佳，又以2.5-4.0重量％之範圍尤佳。前述第2偏光 件之含碘量以丨.8-3·^重量％之範圍為佳，且以m2重量％ 之範圍更佳。 〔D —4 .第2光學補償層〕 2〇 础述第2光學補償層之折射率，例如顯示nx = ny>nZ2 關係（負的單軸性）。前述第2光學補償層可為單層，亦可為 由多數層構成之積層體。前述第2光學補償層之厚度宜為 0.5-20〇etn之範圍。前述第2光學補償層之波長59〇nm之透 射率（T[590])宜為90%以上。 35 200933215 前述第2光學補償層之Re[590]，例如小於l〇nm，又以 5nm以下為佳，且3nm以下更佳。 前述第2光學補償層之Rth[590]，例如可對應液晶單元 之厚度方向之相位差值等而適當設定者。前述Rth[59〇]例如 5 為100_40〇nm之範圍，且以l2〇-350nm之範圍為佳，又以 150-300nm之範圍更佳。 對於形成前述第2光學補償層之材料，只要顯示折射率 nx = ny>nz之關係（負的單軸性）時，可採用任意的適當之 物。前述材料亦可採用例如聚(4,4，_六氟異丙又一雙酚)對 〇 10苯二甲酸一共一間苯二甲酸酯、聚(4,4，_六氫—4,7一甲茚 滿一5 —茚一雙酚）對苯二甲酸酯、聚（4,4, 一異丙叉一 2,2’，6,6’一四氣雙酚)對苯二曱酸〜共一間苯二甲酸酯、聚 (4,4’一六氟異丙又）〜雙酚—共〜（2—亞降冰片烯）—雙酚 對苯二甲酸酯、聚(4,4’〜六氫〜4,7—甲茚一5—茚）一雙酚 15 —共—（4,4’ 一異丙又~ 2,2，，6,6,〜四溴）一雙酚對苯二甲酸 酯、聚(4,4’一異丙又—雙酴—共〜4 4，—（2—亞降冰片烯） 雙紛)對苯m間苯二甲_或其等之共聚物4 〇 等可單獨地使用一種，亦可併用2種以上。 又，前述第2光學補償層可使用例如含有聚醯亞胺系樹 2〇脂、纖維素系樹舳、降冰片烯系樹脂、聚碳酸醋系樹脂、 聚醯胺系樹脂等之熱塑性樹脂之相位差薄膜。其等相位差 薄族相對於全部固形物丨⑻重量份，含有熱塑性樹脂6〇_励 重量份為佳。 前述第2光學補償層，較佳的是含有聚醯亞胺系樹脂之 36 200933215 相位差層(B1)、含有纖維素系樹脂之相位差層㈣、或前述 相位差薄膜(B1)與前述相位差薄膜(B2)之積層體。前述積層 體(c) ’較佳的是使前述相位差薄膜(B1)，以接著層為中介 而接合於前述相位差薄膜(B2)之積層體，或者是將前述相 5位差薄膜(B1)以溶融工程等之方法而直接形成在前述相位 差薄膜(B2)之表面之積層體。 〔聚酿亞胺系樹脂〕 則述聚醯亞胺系樹脂係以溶劑澆注法形成為薄片狀 .時在溶劑之蒸發過程中使分子容易自發性地配向，因此 0可製作顯不nx=ny>nz之關係（負的單轴性）之相位差薄膜 極薄。含有前述聚醯亞胺系樹脂之相位差薄膜(B1)之厚度 、 宜為〇.5-1〇ym之範圍，且以1-5//ΓΠ之範圍更佳。前述相位 差薄骐（B1)之厚度方向之雙折射率（△〜旧卯])宜為〇〇1_ 0.12之範圍，且以〇 〇2_〇 〇8之範圍更佳。如此聚醯亞胺系樹 5赌係可藉例如美國專利公報第5,344,916號所載之方法得到 者。 較佳的是，前述聚醯亞胺系樹脂具有六氟異丙又基及 二氟甲基之至少一方基團。更佳的是，前述聚醢亞胺系樹 月9至少具有以下述通式(4)所示之重複單位或下述通式（5) 〇所不之重複單位。含有其等重複單位之聚醯亞胺系樹脂對 於萬用溶劑之溶解性優異，因可實施溶劑洗注法所進行之 薄膜形成。進而’在缺乏TAC薄膜等之财溶劑性之基材上， 亦不會過度侵蝕其表面’可形成前述聚醯亞胺系樹脂之薄 層。 37 (4)200933215 【化4】

【化5】

(5)

5 '述通式(4)及通式(5)中，G及G，各為自由共價鍵、CH2 二其（CH3)2基、C(CF3)2基、C(CX3)2基(在此，X為函素）、 其;〇原子、S原子、S〇2基、Si(CH2CH3)2基及N(CH3) β、之群中選擇之基團。具有以前述通式(4)所示之重複 單位之前述聚酿亞胺系樹脂中，各重複單位之G可為同-， Ο 亦可為相，、具有以前料式⑺所*之重複單位之前述聚 醯亞胺系樹脂中’各重複單位之G，可為同―，亦可為相異。 前述通式⑷巾，L為取代基，e為其取代數4為諸如 鹵素原子、碳原子數卜3之烧基、碳原子數M之齒化燒基、 苯基或取代笨基，L為多數時，各L可為同一，亦可為相異。 e是0-3之整數。 前述通式(5)巾，Q為取代基，f表邱取代數。Q為諸 如選自由氫、i素、烧基、取代縣、魏、氰基、硫烧 38 15 200933215 基、烧氧基、芳基、取代芳基、烧基s旨基、及取代炫基醋 基構成之群之至少一種原子或基團，Q為多數時，各Q為同 一，亦可為相異。f為0-4之整數，g及h各為1-3之整數。 前述聚醯亞胺系樹脂可藉例如四羧酸二酐及二胺之反 5 應而得到者。前述通式（4)之重複單位，例如對於二胺是使 用2,2’_雙（三氟曱基）_4,4’一二胺基二苯基，使此與至少 具有兩個芳香環之四羧酸二酐反應而得到者。前述通式（5) 之重複單位，例如對於四羧酸二酐是使用2,2’一雙(3,4 一二 〇 羧基苯基)六氟丙酸二酐，使用此與至少兩個芳香環之二胺 10 反應而得到者。前述反應例如可為以兩階段進行之化學醯 亞胺化，亦可為以一階段進行之化學醯亞胺化。 前述四缓酸二酐可選擇任意適當之物。前述四叛酸二 酐為諸如2,2’一雙(3,4_二羧基苯基）六氟丙酸二酐、3,3’, 4,4’一二苯甲酮四羧酸二酐、2,3,3’，4—二苯甲酮四羧酸二 15 酐、2,2’,3,3’一二苯甲酮四羧酸二酐、2,2’一 二溴一4,4’,5,5’ —二苯基四羧酸二酐、2,2’一雙（三氟甲基）一4,4’,5,5’一二 G 苯基四羧酸二酐、3,3’,4,4’_二苯基四羧酸二酐、4,4’_雙 (3,4—二羧基苯基)醚二酐、4,4’一氧基聯苯二甲酸二酐、4,4’ 一雙(3,4 一二羧基苯基)磺酸二酐、雙(2,3—二羧基苯基）曱 20 酸二酐、雙(3,4一二羧基苯基)二乙基矽烷酸二酐等。 前述二胺係可選擇任意適當之物。前述二胺例如為2,2’ 一雙(三亂曱基）一 4,4’一二胺基二苯基、4,4’一二胺基二苯 基、4,4’_二胺基苯基甲烧、4,4’一（9 —亞苟基）_二苯胺、 3,3 ’ 一二氯一4,4’ _ 二胺基苯基甲烧、2,2’一二氯一4,4’一二 39 200933215 胺基二苯基、4,4’一二胺基苯醚、3,4’一二胺基二苯醚、4,4, 一二胺基二苯砜、4,4’一二胺基二苯基硫醚等。 前述聚酿亞胺系樹脂，加入二甲基甲酿胺溶液（l〇Mm (mmol/L)之漠、化鐘及10mM(mmol/L)之麟酸，加到標線後， 5作成1L之二甲基甲醯胺溶液者）作為顯影溶媒之聚環氧乙 烷標準之量均分子量(Mw)宜為20000-180000之範圍。前述 聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率以95%以上為佳。前述聚醯 亞胺系樹脂之醯亞胺化率例如可由源自聚醯亞胺之先質之 醯胺酸之質子尖峰及源自聚醯亞胺之質子尖峰之積分強度 10 求得。 含有前述聚醯亞胺系樹脂之相位差薄膜(B1)可藉任意 適當之成形加工法得到者。較佳的是，前述相位差薄膜 (B1)，可藉溶劑澆注法成形為薄片狀而製作者。 〔纖維素系樹脂〕 15 别述纖維素系樹脂可採用任意適當之物。前述纖維素 系樹脂，較佳的是，使纖維素之氫氧基之部分或全部被乙 醯基丙醯基及丁基之至少一基團取代之纖維素有機酸酯 或混合纖維素之有機酸酯。前述纖維素有機酸酯例如有纖 維素乙酸醋、纖維素丙酸醋、纖維素丁酸醋等。前述混合 2〇纖維素之有機酸醋例如有纖維素乙酸丙酸醋、纖維素乙酸 丁酸Sa等。前述纖維素系樹脂可藉諸如日本國發明申請案 △開公報第2〇〇1_188128號之[〇〇4〇] [〇〇41]段落所載之方法 得到。 )迷纖維素系樹脂之量均分子量(Mw)之依四氫σ夫嚼溶 200933215 媒之凝膠/參透色谱法（聚苯乙稀標準）測定之值宜為2〇〇〇〇_ 1000000之fc®。前述纖維素系樹脂之玻璃轉移溫度⑽宜 為1KM85C之Ιϋ圍。前述破續轉移溫度(Tg)可藉以JIS κ 7121(1987年版）為準之DSC法求取者。只要是前述之樹脂 5時，即可得到具有更優異之熱安定性且機械強度更優之相 位差薄膜。 含有前述纖維素系樹脂之相位差薄膜(B2)可藉任意適 當之成形加工法得到者。較佳的是，前述相位差薄膜(B2) ® 可藉溶劑澆注法形成為薄片狀而製作者。前述相位差薄膜 10 (B2)，例如可使用不經處理之市售的含有纖維素系樹脂之 高分子薄膜。或者是’可使用對前述市售之薄膜施以延伸 處理及收縮處理之至少一種處理等之二次加工之物。前述 市售之薄膜為諸如日商富士軟片（股）公司製造之商品名稱 「FUJITAC」系列（ZRF80S、TD80UF、TDY-80UL)、日商 15 KONICAMINOLTAOPTO(股）公司製造之商品名稱「KC8U X2M」等。 ® 作為前述第2相位差層使用之相位差薄膜係可更含有 任意適當之添加劑。前述添加劑可為諸如可塑劑、熱安定 劑、光安定劑、潤滑劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、難燃 20 劑、著色劑、抗靜電劑、相溶劑、交聯劑、增黏劑等。前 述添加劑之含量，較佳的是相對於主要成分之樹脂100重量 份，超過0且10重量份以下。 前述第2相位差層亦可為使用液晶性組成物。使用前述 液晶性組成物時，前述第2相位差層包括含有配向成平面排 41 200933215 列之棒狀液晶化合物之液晶性組成物之固化層或硬化層、 或含有配向成柱狀排列之盤柱狀液晶化合物之液晶性組成 物之固化層或硬化層。使用前述液晶化合物時，厚度方向 之雙折射率較大，因此可得到薄型的相位差薄膜。 5 由含有配向成前述平面排列之棒狀液晶化合物之液晶 性組成物之固化層或硬化層構成之相位差薄膜，可藉例如 曰本國發明申請案第2003-287623號所載之方法得到者。 又，由含有配向成前述柱狀排列之盤柱狀液晶化合物之液 晶性化合物之固化層或硬化層構成之相位差薄膜可藉例如 10 日本國發明申請案公開公報第H09-117983號所載之方法得 到者。 〔D—5.液晶單元〕 前述液晶單元係與前述第1液晶面板之液晶單元同樣。 〔D_6_第1偏光板與第2偏光板之關係〕 15 前述第1偏光板及前述第2偏光板係相互以吸收軸為正 交之關係配置者佳。前述第2偏光板之厚度係與前述本發明 之偏光板（第1偏光板）同樣。 如前述，前述第1偏光板之透射率(T!)宜為38.3-43.3% 之範圍。令前述丁!為前述範掘時，可得到正面方向之對比 20 率更高之液晶面板。前述丁丨(i係以38.6-43.2%之範圍較佳， 且以39.9-43.1%之範圍更佳，又以39.2-43.0%之範圍尤佳。 如前述，前述第2偏光板之透射率（T2)宜為41.1-44.3% 之範圍。令前述丁2為前述範圍時，可得到正面方向之對比 率高之液晶面板。前述Τ2又以41.5-44.3%之範圍為佳，以 42 200933215 9 44·2/°之範圍更佳，且以42.3-44.2%之範圍尤佳。 、乂使剛述第1偏光板及前述第2偏光板之透射率增加乃 至，減夕之方法而言，例如前述第％光板及前述第2偏光 板^使用含有含峨之聚乙烯醇系樹脂之偏光件時，可舉調 签則述偏光件中之峨的含量之方法為例。具體而言，將前 述偏光件中之峨的含量時，即可將前述第1偏光板及前述第 ，偏光板之透射率提高。此方法不但適用在滾筒狀偏光板之 ，乍亦適用在葉片狀偏光板之製作。針對前述偏光件之 詳細乃如前述。 1〇 前述第1偏光板及前述第2偏光板之至少一方的偏光度 宜為99%以上。令前述偏光度為99%以上時，可得到正面方 向之對比率更高之液晶面板。前述偏光度又以99.5°/❶以上為 佳，且以99.8%以上更佳。前述偏光度可使用諸如分光光度 叶（日商村上色彩技術研究所製之商品名稱rD〇T_3」）測定 15者。前述偏光度之具體的測定方法可測定前述第1偏光板及 _ 前述第2偏光板之平行透射率(H〇)及正交透射率(H9〇)，由偏 光度(％)={(H〇 —H9〇)/(H〇 + H9〇)}1/2xl〇〇的式子求得者。前 述平行透射率(H〇)係重疊2牧同一偏光板且使相互的吸收軸 平行而製作之平行型積層偏光板之透射率之值。前述正交 20 透射率(Η9〇)係重曼2枚同一偏光板且使相互的吸收軸正交 而製作之正交型積層偏光板之透射率之值。又，其等透射 率係藉JIS Ζ 8701(1982年版)之2度視野(C光源）而進行視覺 靈敏度補正之Υ值。 〔Ε.液晶顯示裝置〕 43 200933215 本發明之液晶顯示裝置係以含有前述本發明之偏光板 或液曰曰面板者為特徵。第5圖之概略剖視圖顯示本發明之液 日日“’貝不裝置之—構成例。在同圖中，為了容易了解起見， 各構成構件之大小、比例等與實際情形不同。如圖所示， 5本液晶顯示裝置200至少包含有：液晶面板100、及設於前 C面板100-侧之直下式背光單元8〇。前述直下式背光單元 80至少包含有光源81、反射薄膜82、擴散板83、聚光薄片 84及冗度提昇薄膜85。又，在本例之液晶顯示裝置200中， 以背光單元而言，是顯示採用直下式之型態，但本發明並 ❹ 1〇不限於此，亦可為侧光式背光單元。側光式背光單元除 了具有前述直下式之構成外，另至少具有導光板及光線反 射器。又，在第5圖中所示之例中的構成元件，只要在可得 到本發明之效果時，即可因應液晶顯示裝置之照明方式或 · 液晶單元之驅動模式等及用途，省略其_一部分，或者是 15 以其他光學構件替代。 本發明之液晶顯示裝置可為由液晶面板之背光單元側 照射光線來看畫面之透射型，亦可為由液晶面板之辨識側 〇 照射光線來看畫面之反射型’亦可為並具透射型及反射型 兩者性質之半透射型。 20 树明之液晶顯示裝置可制在任意適當的用途上。 其用途例如有個人電腦監視器、筆記型電腦、複印機等之 OA機器、行動電話、手錶、數位照相機、可攜式資訊終端 機(PDA)、可攜式遊戲機等之行動機器、錄影照相機、電視 機、微波爐等之家庭用電氣機器、倒車監視器、汽車導航 44 200933215 系統用監視器、車用音響等之車輛用機器、商店用資訊用 監視器等之展示用機器、監視用監視器等之警衛用機器、 看護用監視器、醫療用監視器等之看護暨醫療用機器等等。 較佳的是，本發明之液晶顯示裝置之用途為電視機。 5前述電視機之畫面尺寸宜為Widel7型（373mmx224mm)以 上，又以Wide23型（499mmx300mm)以上更佳，且以Wide32 型（687mmx412nim)以上尤佳。 【實施例】 其次，針對本發明之實施例，連同比較例一併說明。 1〇此外，本發明並不因下述實施例及比較例有任何限定，且 不又限制。又，各實施例及各比較例中之各種特性及物性 之測定及評價係藉下述方法實施者。 (偏光板之含水率） 偏光板之含水率係以下述方法測定。 15⑴由偏光板，沿寬度方向（TD方向）以等間隔切出5個1〇咖 ’em之樣本。測定各樣本之重量，#作為初期之樣本重 量(W0)。 (2) 將前述各樣本投入12(rc之烤箱（日商Espec⑻公司製、 商品名稱「ciean0ven PVHC_211j )12小時以上，進行加 2〇熱處理。其後，測定由前述烤箱取出後之前述各樣本之重 量，作為業經加熱處理後之樣本重量(Wl)。 (3) 藉下式(II)算出前述各樣本之含水率㈤，使前述5個樣本 的含水率之平均值作為其偏光板之含水率。 45 200933215 含水率(%)= {(WOsW1)/w〇}xl〇〇 (ιι) W0 :初期的樣本重量 W1 ·業經加熱處理後之樣本重量 5 (偏光板之應變） 偏光板之應變係以下述方法測定。 (1) 使用描圖紙’將液晶面板之辨識侧之偏光板的表面粗糙 面化(2-4/z m程度）。 (2) 在前述偏光板之粗糙面化之表面上使用接著劑貼附三軸 ◎ 10式應變儀（日商東京測器研究所公司製、儀表型號：FRA-5- 11) ’使其完全接著者。此時，將前述應變儀之4條儀表之 測疋部貼在前述偏光板中央部之1〇cinxl〇cin正方的頂點。 (3) 將前述應變儀安裝在數據記錄器（曰商東京測 器研究所 么司製）’权疋在應變測定模式。 15 (4)利用夾具將液晶面板在常溫(20-25。〇下直立固定後，投 入50C土3C之烤箱（日商Espec公司製、商品名稱「aean Oven PVHC-211」）。 ◎ (5)令投入前述烤箱時為〇分鐘，測定偏光板之應變之歷時變 化。在此，别述偏光板之應變（# ε )是藉下述式子(m)算出 20 之值。 β £ = A L/L (III) L:儀表長度 △ L :儀表變化長度 46 200933215 (黑亮度比） 從背光單元點亮開始經過30分鐘後，進行黑顯示，利 用亮度分布測定裝置（曰商KONICAMINOLTA公司製、商品 名稱「CA- 1500」），藉黑亮度比=最大亮度/最小亮度的 5式子算出黑亮度比。此時’將液晶面板切成橫向4區塊X縱 向4區塊共16分，令中央部4區塊之最小的黑亮度為最小亮 度，且前述液晶面板面内之最大的黑亮度為最大亮度。 (波紋） 〇 在23°C之暗室中將背光單元點亮後經過30分鐘後，以 10目視觀察呈現黑顯示時之顯示面（lmxlm=lm2)，藉有沒有 亮點，判斷有沒有波紋。 A :未觀察到波紋(波紋數：〇個）。 B ··觀察到波紋，但仍未達到實用上成為問題所在之等級(波 ' 紋數：1-5個）。 15 C :觀察到波紋，且達到實用上成為問題所在之等級（波紋 數：6個以上）。

G (波長590nm之相位差值（Re[590]、Rth[590])、Nz係數及 T[590]) 2〇 波長590nm之相位差值(Re[590]、Rth[590])、Nz係數及 T[590]係使用日商王子計測機器（股）公司製造、商品名稱 「KOBRA21-ADH」’以23°C測定者。此外，平均折射率係 使用阿貝折射率儀（日商Atago(股）公司製造、產品名稱 「DR-M4」）測定之值。 47 200933215 (厚度） 厚度不足10//m時，使用薄膜用分光光度計（日商大塚 電子（股）公司製造、商品名稱「瞬間多測光系統MCPD-2000」）測定的。厚度大於1 〇 m以上時，則使用日商Anritsu 5 公司製造、數位測微器「KC-351C型」測定的。 (聚醯亞胺系樹脂之分子量） 聚醯亞胺系樹脂之分子量是藉凝膠滲透色譜(GPC)法 而將環氧聚笨乙烯為標準試料而測定。具體而言，是藉下 述之裝置、器具及測定條件測定的。 © 1〇 測定樣本：將試料溶解在洗提液，作成〇.1重量％之溶液， 靜放8小時後，以0.45 μ m之膜濾器過濾之過濾 液作為測定樣本使用。 分析裝置：曰商東曹公司製造、商品名稱「HLC-8020GPC」 柱：曰商東曹公司製造、商品名「GMHXL + GMHXL + 15 G2500Hxl」 柱尺寸：各為+7.8mm0x3〇cm(合計90cm) 洗提液：二甲基甲醯胺（加入10mM之溴化鋰及10mM之磷 ® 酸，加到標線成為1L之二甲基甲醯胺溶液者） 流量：0.8mL/分鐘 20 檢測器：RI(微差折射儀） 柱溫度：40°C 〔透明保護薄膜〕 [參考例1] 準備厚度80之TAC薄膜（日商富士軟片（股）公司製 48 200933215 造、商品名稱「80UL」）。將此當做透明保護薄膜。 〔偏光件〕 [參考例2] 5 ❹ 10 15 Ο 20 將厚度75//m之聚乙烯醇系樹脂為主要成分之高分子 4膜（日商KURARAY(股）公司製造、商品名稱「νρ_ρ§# 7500」)，一邊在薄膜之長向附與張力，一邊浸泡在下述[ι]_[5] 之條件的5浴，延伸成最後的延伸倍率相對於薄膜原本的長 度變成6.2倍大者。將這個延伸薄膜放在仙勺之空氣循環式 烤箱内乾燥1分鐘，製作偏光件。 x <條件> [1] 膨潤浴：30°C之純水。 [2] 染色浴：含有相對於水陶量份躲崎#份之峨及 〇.2重量份之蛾化钾之抓之水溶液。 [3] 第1交聯浴：含有3重晋。 之40 c之水溶液。 [4]第2交聯浴：含有5重 。 °之蛾化鉀及3重量％之侧酸 量/〇之碘化鉀及4重量％之硼酸之6〇 C之水溶液。 [5]水洗浴：含有3重量。/β 化鉀之25°C之水溶液。 〔第1光學補償層〕 [參考例3] 將厚度140#m之含 (日商JSR公司製造、商冰片烯系樹脂之高分子薄膜 藉固定端橫向單軸延伸稱ART〇N」），使用拉幅機， 固定長向且沿寬度方向延伸之 49 200933215 方法），在155°C之空氣循環式恆溫烤箱内延伸到2.8倍，製 作了第1光學補償層AR1。這個第1光學補償層AR1之折射率 顯示nx> ny> nz之關係，厚度40// m、T[590] = 91%、Re[590] =120nm、Rth[590]= 160nm、波長 590nm 中之 Nz係數= 5 1.33、C[590] = 4.〇xl(T12m2/N。 [參考例4] 將8.8g之聚乙烯醇系樹脂（日商日本合成化學（股）公司 製造、商品名稱「NH-18」（聚合度=1800、皂化度= 99.0%)) 以105 °C乾燥2小時後，溶解在167.2g之二甲基亞砜 〇 1〇 (DMSO)。在此，加入2.98g之2 —甲氧基一1 一蔡經及0.80g 之對甲苯磺酸· 1水合物，以40°C攪拌1小時。在這個反應 溶液加入3.18g之苯甲醛，以40°C攪拌1小時後，更加入 23.60g之1，1 —二乙氧基乙烷(縮醛），在40°C下攪拌3小時。 其後，加入2.13g之三乙胺後結束反應。以1L之甲醇再將如 15 此所得到之粗糙生成物沈澱。將此過濾得到之聚合物溶解 在四氫呋喃，再次以曱醇進行沈澱。將此過濾且乾燥，得 到11.5g之聚合物。以1HNMR測定這個聚合物時，如下述， 〇 具有下述(6)式表示之重複單位，1: m : η : 〇(莫耳比）=11 : 37 : 45 : 7。又’藉微差掃描熱析儀測定這個聚合物之玻璃 20 轉移溫度(Tg)時，得到123。(：。又，這個聚合物之光彈性係 數之絕對值(C[550])為2.4x10—"mVN。 iHNMR^DMSO)之測定結果： 0.8-2.3(主鏈甲撐基及縮醛部之甲基） 3.4-4.4(鍵結氧原子之主鏈次甲基、甲氧基之甲基及氫氧基） 50 200933215 4.5-5.1(縮醛部之次甲基） 5.4-5.9(苯部之次甲基） 6.4(2—甲氧基萘部之次甲基） 7.1-7.5(2—甲氧基萘及苯部之芳香族質子) 7.7-8.8(2—甲氧基萘部之芳香族質子） 【化6】

(6 ❹ 10 ❹ 15 將前述聚合物溶解在丁酮(MEK)，而澆注在基材(PET) 上，使乾燥後之厚度成為110/zm，得到聚乙烯縮醛系薄膜。 剝離前述基材後，將該薄膜，以延伸機，在140°C下將固定 端沿寬度方向延伸2倍，製作第1光學補償層aRl。這個第1 光學補償層aRl之折射率顯示nx>ny>nz之關係，厚度為50 Vm、T[590] = 92%、Re[590]=140nm、Rth[590]=150nm、 波長590nm之Nz係數=1·〇7。又，這個第1光學補償層aRl 顯示反分散之波長依存性。 〔第2光學補償層〕 [參考例5] 在安裝有機械式攪拌裝置、Dean-Stark裝置、氮導入 管、溫度計及冷卻管之反應容器（500mL)内加入2,2’一雙 (3,4—二羧基苯基）六氟丙酸二酐（日商Clariant(股）公司製 51 20 200933215 造）17.77g(40mmol)及2,2-雙（三氟曱基）一4,4’一二胺基二 笨基（曰商和歌山精化工業(股）公司製造）12.81§(4〇111111〇1)。 接著加入將異喹啉2.58g(20mmol)溶解在間甲酚257.21g之 溶液’在23°C攪拌1小時(600次/分鐘），得到均勻的溶液。 5其次，利用油浴將反應容器加溫，使反應容器内之溫度成 為180 士 3C，一邊保持溫度，一邊攪拌5小時，得到黃色溶 液。進-步進行3小時的授拌後，停止加熱及授拌，使其放 冷回·復到室溫時，聚合物成為凝膠狀而析出。

將月ίι述反應合器内之黃色溶液加入丙鋼，使凝勝完全 溶解’製作稀釋溶液(7重量％)。在此之異丙酵中一邊繼續 地授拌，一邊加入這個稀釋溶液時，析出白色粉末。過滤 取出這個粉末，投入h5L之異两醇中予以洗淨。進一步再 重複進行一次同樣的操作並予以洗淨後，再次過濾取出前 述粉末。將這粉末在6(rc之空氣循環式怪溫烤箱中乾燥48 15小時後，再以靴乾燥7小時，以得率8爾到下述構造

式⑺之W亞胺粉末。前述㈣亞胺之聚合平均分子量 (Mw)為124000，醯亞胺化率為99 9〇/。。 【化7】

52 200933215 5 ❹ 10 15 ❹ 20 將前述聚醯亞胺粉末溶解於甲基異丁基甲酮，調製成 15重量％之聚醯亞胺溶液。藉狹縫塗佈機，將這個聚醯亞 胺溶液流延在TAC薄膜(厚度80"m)之表面上，均勻地形成 薄片狀。其次，將前述薄膜投入多室型之空氣循環式乾燥 烤箱内，在80°C下花2分鐘、在135°C下花5分鐘、在15〇c>c 下花10分鐘，從低溫慢慢地昇溫，使溶劑蒸發，得到具有 厚度3.7/z m之聚醯亞胺層及taC薄膜之積層體(〇杳得亡。 刖述積層體(C)之折射率顯示nx==ny>nz之關係（負的單軸 性）’ T[590] = 90%、Re[590]= lnm、Rth[590] = 210nm。此 外，剛述積層體(c)之聚醯亞胺層部分之光學特性為Rth[59〇] =150nm、^1^=0.04。 〔含有金屬化合物膠體之聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑〕 [參考例6] 將含有乙醯乙酿基之聚乙烯醇系樹脂（日商曰本合成 化學工業(股）公司製造、商品名稱「GOHSEFIMERZ200」、 平均聚合度：1200、皂化度：98.5莫耳°/〇、乙醯乙醯基化度： 5莫耳％)100重量份與羥甲基三聚氰胺50重量份，在30。(：之 溫度條件下溶解於純水’得到調整成固形物濃度37%之水 溶液。相對於這個水溶液1〇〇重量份，加入氧化鋁膠體水溶 液(平均粒徑I5nm、固形物濃度1〇%、正電荷）18重量份，調 製出水溶性接著劑。前述水溶性接著劑之黏度為9.6mPa· s ’ pH為 4-4.5。 〔液晶卓元〕 [參考例7] 53 200933215 由含有VA模式之液晶單元之市售的液晶顯示裝置 (SONY(股)公司製、32叶液晶電視機、商品名稱「bravia」） 取出液晶面板’將配置於液晶單元上下之偏光板等之光學 薄膜全部移除。洗淨這個液晶單元之玻璃㈣表面及背 5 面，得到液晶單元。 [實施例1] 〔第1偏光板〕 在前述參考例2之偏光件之-側，以含有聚乙稀醇系樹 脂之水溶性接著劑（日商日本合成化學工業(股）公司製、商 Π)品名稱「G〇HSEFIMERZ200」）為中介，且使前述第t光學 Ό 補償層AR1之慢軸與前述偏光件之吸收轴正交之狀態下， 貼著前述參考例3之第！光學補償層姻。其次，在前述偏 光件之另-側，以前述水溶性接著劑為中介貼著前述參考 例1之透明保護薄膜。將如此得到之積層體放在6〇_啊之 15烤箱（日商岡崎機械工業(股)公司製)乾燥$分鐘。 在前述乾燥後，藉將前述積層體花1〇分鐘通過8〇。〇之 烤和（曰商岡崎機械工業公司製造），進行加熱處理(退火處 ◎ 理）。如此進行之後，製作了第1偏光板API。 〔第2偏光板〕 在則述參考例2之偏光件之兩面各以含有聚乙烯醇系 ^合物之水溶性接著劑（日商日本合成化學工業㈤公司製 故、商品名稱「G0HSEFIMER Z2〇〇」）為中介貼著前述參 考例1之透明保護薄膜。如此進行之後製作了第2偏光板 54 200933215 〔第1液晶面板及液晶顯示裝置〕 在前述參考例7之液晶單元之辨識侧，以丙烯酸系黏著 劑(厚度：2〇/zm)為中介貼著前述第丨偏光板趟，且使^ 光學補償層趣側為前述液晶單元側，前述第】偏光板Αρι 5之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向平行者。其次， 在前述液晶單70之背光單兀侧’以㈣酸祕著劑(厚度： 2〇㈣為中介貼著前述第2偏光板奶，且使前述第2偏光 板AP2之吸收轴方向與前述液晶單元之長邊方向正交，而得 〇 到第1液晶面板仏1。此時’使前述第1偏光板API之吸收軸 10與前述第2偏光板AP2之吸收軸正交者。使前述第说晶面板 AL1與原先的液晶顯示裝置之背光單元結合，製作了液晶 顯示裝置AD1。 [實施例2] 在第1偏光板之製作中，花10分鐘通過75〇c之烤箱（日 15商岡崎機械工業(股）公司製）内，進而進行加熱處理(退火處 理）之外，其餘以與實施例1同樣之方法製作第j偏光板 © BP1、液晶面板BL1及液晶顯示裝置BD1。 [實施例3] 在第1偏光板之製作中，花8分鐘通過75。(：之烤箱（日商 20岡崎機械工業公司製）内，進而進行加熱處理（退火處理）之 外，其餘以與實施例1同樣之方法製作第1偏光板CP1、液晶 面板CL1及液晶顯不裝置CD1。 [實施例4] 在第1偏光板之製作中，花23分鐘通過60°C之烤箱（日 55 200933215 商岡崎機械工業(股）公司製）内，進而進行加熱處理(退火處 理）之外，其餘以與實施例丨同樣之方法製作第丨偏光板 DPI、液晶面板DL1及液晶顯示裝置ddi。 [實施例5] 5 在第1偏光板之製作中，在前述偏光件與前述第丨光學 補償層之貼著上使用4述參考例6之水溶性接著劑之外，其 餘以與實施例1同樣之方法，製作了第丨偏光板Fpi '第1液 晶面板ELI及液晶顯示裝置EDI。 [實施例6] 1〇 在第1偏光板之製作巾，在前述偏光件與前述第i光學 補償層之貼著上制前述參相6之水雜接著劑 餘以與實施例2同樣之方法，製作了第丨偏光板pH 访 晶面板FL1及液晶顯示裝置fdi。 、 [實施例7] 15

在第！偏光板之製作中’在前述偏光件與 補償層之㈣上制料參相仏水雜接 =

餘以與實娜同樣之方法，製作了第1偏光板GP1、2 晶面板GL1及液晶顯示裝置gdi。 液 [實施例8] 20 在第1偏光板之製作中，在前述偏光件與 補前述參考例6之水溶性接著;之外，其 餘以與實施剩樣之方法，製作了第丨偏光板HP1、 晶面板HL1及液晶顯示裝置01 月’J述第1光學 十，其 第1液 [實施例9] 56 200933215 〔第1偏光板〕 與實施例1之第1偏光板之製作同樣進行，製作第1偏光 板AP卜 〔第2偏光板〕 5 在前述參考例2之偏光件之一侧，以含有聚乙烯醇系樹 脂之水溶性接著劑（日商曰本合成化學工業(股）公司製造、 商品名稱「GOHSEFIMERZ200」）為中介貼著前述參考例5 之積層體(C)’使前述積層體(C)之TAC薄膜側與前述偏光件 φ 相對者。其次，在前述偏光件之另一側，以前述水溶性接 1〇 著劑為中介貼著前述參考例1之透明保護薄膜。如此進行之 後，製作了第2偏光板IP2。 〔第2液晶面板及液晶顯示裝置〕 在前述參考例7之液晶單元之辨識側，以丙稀酸系黏著 ' 劑(厚度：20em)為中介貼著前述第1偏光板API，且使第1 15光學補償層AR1側為前述液晶單元側，前述第！偏光板API 之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向平行者。其次， Ο 在前述液晶單元之背光單元側，以黏著劑（厚度：20以m) 為中介貼著前述第2偏光板IP2，且使前述積層體(〇侧為前 述液晶單元側’前述第2偏光板IP2之吸收轴方向與前述液 20晶單元之長邊方向正交，而得到第2液晶面板IL1。此時， 使前述第1偏光板API之吸收軸與前述第2偏光板IP2之吸收 轴正交者。使前述第2液晶面板^^與原先的液晶顯示裝置 之背光單元結合’製作了液晶顯示裝置ID卜 [實施例10] 57 200933215 除了第1偏光板是使用實施例2所製作之第丨偏光板BP1 外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板jli 及液晶顯示裝置JD1。 [實施例11] 5 除了第1偏光板是使用實施例3所製作之第丨偏光板cpi 外’其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板kli 及液晶顯示裝置KD1。 [實施例12]

除了第1偏光板是使用實施例4所製作之第1偏光板dp 1 U 10外’其次以與實施例9同樣之方法’製作了第2液晶面板LL1 及液晶顯示裝置LD1。 [實施例13] 除了第1偏光板是使用實施例5所製作之第丨偏光板Ερι * 外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板M L丨 - 15 及液晶顯示裝置MD1。 [實施例14]

除了第1偏光板是使用實施例6所製作之第〗偏光板Fpi Q 外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板NU 及液晶顯示裝置ND1。 20 [實施例15] 除了第1偏光板是使用實施例7所製作之第i偏光板GP1 外’其次以與實施例9同樣之方法，製作了第疏晶面板〇u 及液晶顯示裝置OD1。 [實施例16] 58 200933215 除了第1偏光板是使用實施例8所製作之第1偏光板HP1 外，其-欠以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板pL1 及液晶顯示裝置PDi。 [實施例17] 5 〔第1偏光板〕 在前述參考例2之偏光件之一侧，以含有聚乙烯醇系樹 月曰之水/容性接著劑（日商日本合成化學工業（股）公司製造、

商品名稱「G0HSEFIMER Z200」）為中介，貼著前述參考 例4之第1光學補償層aR1，且前述第丨光學補償層之慢軸 10與前述偏光件之吸收轴正交者。其次，以前述水溶性接著 劑為中介，將前述參考例1之透明保護薄膜貼在前述偏光件 之另-侧。將如此得到之積層體在6⑽〇t之烤箱（日商岡崎 機械工業公司製造)乾燥5分鐘。 在前述乾燥後，將前述積層體花9分鐘通過8〇它的烤箱 15 (日商岡崎機械工業(股)公司製造）内，進行加熱處理(退火$ 理）。如此進行之後，製作了第1偏光板aP1。 〔第2偏光板〕 與實施例1之弟2偏光板之製作同樣進行 板AP2 20 〔第1液晶面板及液晶顯示裝置〕 在前述參考例7之液晶單元之辨識側以两烯酸系黏著 劑(厚度：20/zm)為中介而貼著前述第1偏光板好1 ” 光學補償層aRl側為前述液晶單元側，並使前述第1且第1 aPl之吸收轴方向與前述液晶單元之長邊方向平_者其 59 200933215 次，在前述液晶單元之背光單元側以丙稀酸系黏著劑（厚 度：2〇"m)為中介貼著前述第2偏光板組，且使前述第2 偏光板AP2之吸收轴方向與前述液晶單元之長邊方向正交 時得到本實施例之第1液晶面板aL1。此時，前述第^偏光 5板aPl之吸收軸和前述第2偏光板Ap2之吸錄正交。將前述 第1液晶面板aLl與原有的液晶顯示裝置之背光單元結合， 製作了液晶顯示裝置al^。 [實施例18] 在第1偏光板之製作中，花8分鐘通過乃^的烤箱（日商 10岡崎機械工業（股)公司製）内，進行加熱處理（退火處理）外， 其餘以與實施例17同樣之方法，製作第丨偏光板卯丨、第！ 液晶面板bLl及液晶顯示裝置bDi。 [實施例19] 在第1偏光板之製作中，花6分鐘通過7rc的烤箱（曰商 15岡崎機械工業（股)公司製）内，進行加熱處理（退火處理）外， 其餘以與實施例17同樣之方法，製作第丨偏光板cp卜第1液 晶面板cLl及液晶顯示裝置CD1。 [實施例20] 在第1偏光板之製作中，花19分鐘通過6〇°c的烤箱（日 2〇商岡崎機械工業（股）公司製）内，進行加熱處理（退火處理） 外’其餘以與實施例17同樣之方法，製作第丨偏光板dpi、 第1液晶面板dLl及液晶顯示裝置dD卜 [實施例21] 在第1偏光板之製作中，對於前述偏光件與前述第！光 200933215 學補償層此之貼著上使用前述參考例6之水溶液接著劑之 外，其餘以與實施例17同樣的方法，製作^偏光板奶、 第1液晶面板eLl及液晶顯示裝置6〇1。 [實施例22] 5 在帛1偏歧之製針，料M絲件與前述第❻ 學補償層aRl之貼著上使用前述參考例6之水溶液接著劑之 外，其餘以與實施例18同樣的方法，製作^偏光板奶、 第1液晶面板fLl及液晶顯示裝置江。 0 [實施例23] 10 在帛1偏光板之製作中’ S於前述偏光件與前述第！光 學補償層aRl之貼著上使用前述參考例6之水溶液接著劑之 外，其餘以與實施例19同樣的方法，製作第丨偏光板gpi、 第1液晶面板gLl及液晶顯示裝置。 ' [實施例24] 15 在第1偏光板之製作中，對於前述偏光件與前述第1光 學補償層aRl之貼著上使用前述參考例6之水溶液接著劑之 ® 外，其餘以與實施例20同樣的方法，製作第1偏光板hP1、 第1液晶面板hLl及液晶顯示裝置hD 1。 [實施例25] 20 〔第1偏光板〕 與實施例Π之第1偏光板之製作同樣進行，製作第1偏 光板aPl。 〔第2偏光板〕 與實施例9之第2偏光板之製作同樣進行，製作第2偏光 200933215 板 IP2。 〔第2液晶面板&液晶顯示裝置〕 以丙烯酸系黏著劑(厚度：為中介，在前述參考例 7之液晶早το之辨識側’令第i光學補償層也丄側為前述液晶 5單兀側且在前述第丨偏光板训之吸收轴方向與前述液晶單 兀之長邊方向平行之狀態下貼著前述第丨偏光板apl ^接 著’以丙稀酸系黏著劑(厚度：2〇㈣為中介在前述液晶 單兀之背光單元側，令積層體(c)側為前述液晶單元側且在 岫述第2偏光板IP2之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方 0 10向正交之狀態下貼著前述第2偏光板IP2，得到第2液晶面板 iLl。此時，前述第丨偏光板api之吸收軸與前述第2偏光板 IP2之吸收軸正交。前述第2之液晶面板江丨與原有的液晶顯 示裝置之背光單元結合，製作液晶顯示裝置iD1。 [實施例26] ’ 15 第1偏光板係使用實施例18所製作之第1偏光板bPl之 外’其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板jL1&

液晶顯示裝置jD卜 Q

[實施例27] 第1偏光板係使用實施例19所製作之第1偏光板cPl之 2〇 外’其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板kLl及 液晶顯示裝置kDl。 [實施例28] 第1偏光板係使用實施例20所製作之第1偏光板dPl之 外’其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板1L1及 62 200933215 液晶顯示裝置1D1。 [實施例29] 第1偏光板係使用實施例21所製作之第丨偏光板eP1之 外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板mU及 5 液晶顯示裝置mDl。 [實施例30] 第1偏光板係使用實施例22所製作之第1偏光板fPl之 外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板nLl及 0 液晶顯示裝置nDl。 1〇 [實施例31] 第1偏光板係使用實施例23所製作之第1偏光板gPl之 外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板〇Ll及 " 液晶顯示裝置oDl。 ' [實施例32] 15 第1偏光板係使用實施例2 4所製作之第1偏光板h P丨之 外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板pLl及 Ο 液晶顯示裝置pDl。 [比較例1] 在第1偏光板之製作中，花7分鐘通過70°C之烤箱（日商 2〇岡崎機械工業(股)公司製）内，進而進行加熱處理(退火處理） 之外’其餘以與實施例丨同樣之方法製作第丨偏光板Qpi、液 晶面板QL1及液晶顯示事置qdi。 [比較例2] 在第1偏光板之製作中，除了不進行加熱處理(退火處 63 200933215 理）之外，其餘以與實施例1同樣之方法’製作第1偏光板 RP1、液晶面板RL1及液晶顯示裝置RD1。 [比較例3] 在第1偏光板之製作中，花6分鐘通過70°C之烤箱（日商 5岡崎機械工業(股)公司製）内，進而進行加熱處理（退火處理) 之外，其餘以與實施例17同樣之方法製作第1偏光板qpi、 液晶面板qLl及液晶顯示裝置qDl。 [比較例4] 在第1偏光板之製作中，除了不進行加熱處理（退火處 10 理）之外，其餘以與實施例17同樣之方法，製作第1偏光板 rPl、液晶面板rLl及液晶顯示裝置rDl。 針對如此實施而得到之各實施例及各比較例之第1偏 光板、液晶面板及液晶顯不裝置，進行各種特性之測定或 評價。又，在偏光板之應變之測定中，使用切割成32时之 I5 1/4大小之偏光板’同時進行4種不同的偏光板之應變的測 定。將結果，其中針對實施例1-16及比較例1、2示於下述 表1 ’針對實施例17-32及比較例3、4則示於下述表2 ^又， 將實施例1-4及比較例卜2之縱向（TD方向）之偏光板之應變 之歷時變化示於第6圖之線圖，將橫向（MD方向）之偏光板之 20應變之歷時變化示於第7圖之線圖。進而，將實施例17 2〇 及比較例3、4之縱向（TD方向）之偏光板之應變之歷時變化 示於第8圖之線圖，將橫向（MD方向）之偏光板之應變之歷時 變化示於第9圖之線圖。又，在下述表！及表2中，td應變 係投入5(H3°C之烤箱中12〇分鐘後之縱向（τ〇方向）之偏光 200933215 板之應變，MD應變係投入50±3°C之烤箱120分鐘後之橫向 (MD方向）之偏光板之應變。 [表1]

5 退火處理條件 含水率（％) TD應變 MD應變 黑亮度比 波紋 溫度rc) 時間(分鐘) (β £ ) (β ε) 實施例1 80 10 1.32 379 182 1.49 Β 實施例2 75 10 1.68 431 284 165 Β 實施例3 75 8 1.95 483 283 1.70 Β 實施例4 60 23 2.47 597 438 1.80 Β 實施例5 80 10 1.32 379 182 1.49 A 實施例6 75 10 1.68 431 284 1.65 A 實施例7 75 8 1.95 483 283 1.70 A 實施例8 60 23 2.47 597 438 1.80 A 實施例9 80 10 1.32 379 182 1.49 Β 實施例10 75 10 1.68 431 284 1.65 Β 實施例11 75 8 1.95 483 283 1.70 Β 實施例12 60 23 2.47 597 438 1.80 Β 實施例13 80 10 1.32 379 182 1.49 A 實施例14 75 10 1.68 431 284 1.65 A 實施例15 75 8 1.95 483 283 1.70 A 實施例16 60 23 2.47 597 438 1.80 A 比較例1 70 7 3.29 775 668 2.05 Β 比較例2 — 6.20 1049 1075 2.50 Β 65 200933215 [表2] 退火處理條件 含水率（％) TD應變 MD應變 黑7C度比 波紋 溫度(。〇 時間(分鐘) {β £ ) (β £ ) 實施例17 80 9 1.29 359 165 1.47 Β 實施例18 75 8 1.70 448 278 1.67 Β 實施例19 75 6 1.93 484 289 1.72 Β 實施例20 60 19 2.59 640 463 1.83 Β 實施例21 80 9 1.29 359 165 1.47 A 實施例22 75 8 1.70 448 278 1.67 A 實施例23 75 6 1.93 484 289 1.72 A 實施例24 60 19 2.59 640 463 1.83 A 實施例25 80 9 1.29 359 165 1.47 Β 實施例26 75 8 1.70 448 278 1.67 Β 實施例27 75 6 1.93 484 289 1.72 Β 實施例28 60 19 2.59 640 463 1.83 Β 實施例29 80 9 1.29 359 165 1.47 A 實施例30 75 8 1.70 448 278 1.67 A 實施例31 75 6 1.93 484 289 1.72 A 實施例32 60 19 2.59 640 463 1.83 A 比較例3 70 6 3.26 767 645 2.01 Β 比較例4 — 6.02 1003 1016 2.43 Β 如前述表1及表2所示，以含水率為3%以下之實施例 1-32之第1偏光板而言，抑制了偏光板之應變，使用該偏光 5 板之液晶顯示裝置黑亮度比極低，為1.83以下，防止黑顯 示時之亮度不均的發生。此外，對於含水率在3%以上之比 較例1-4之第1偏光板，偏光板產生應變，使用該偏光板之 液晶顯示裝置之黑亮度比亦高，為2.01以上，黑顯示時亦 發生亮度不均。又，對於實施例1-4、9-12、17-20、25-28 10 及比較例1-4之波紋的評價結果為B，對此使用在偏光件與 第1光學補償層之積層使用含有含金屬化合物膠體之聚乙 66 200933215 稀醇系樹月a之水溶性點著劑之實施例5_8、UK、义24及 29-32,波紋之評價結果則為A。 [產業利用性]

如上’本發明之偏光板係一種連稍微的亮度不均的發 5生者曰阿防止之偏光板。本發明之偏光板、使用該偏光板之 液：面板及液晶顯示裝置的用途可舉例有諸如桌上式個人 $腦筆3己型個人電腦、複印機等之OA機器、行動電話、 2册數位=相機、行動資訊終端機(PDA)、行動遊戲機等 ▼式機器、攝㈣彳目機、電視機、電子微波爐等之家 〇 Z電氣機器、倒車監視器、車用導航系監視器、車用 曰響等之車用機器、商店用資訊用堅稱器等之展示機器、 …見用规視⑦等之警備機器、看護用監視器、醫療用監視 二，看蒦麥醫療機盗等，其用途不受限，可適用於 15【圖式簡竿說明】 第圖係顯不本發明偏光板之構成例之模式剖視圖。 第2圖係顯示本發明第1液晶面板之構成例之模式剖視 第圖係顯不本發明第2液晶面板之構成例之模式剖視 20 圖。 第4圖係顯示本發明液晶面板所具有之液晶單元之構 成例之模式剖视圖。 第5圖係顯示本發明液晶顯示裝置之構成例之模式剖 視圖。 67 200933215 第6圖係顯示本發明實施例中TD方向之偏光板的應變 之歷時變化之線圖。 第7圖係顯示本發明實施例中M D方向之偏光板的應變 之歷時變化之線圖。 5 第8圖係顯示本發明另一實施例中TD方向之偏光板的 應變之歷時變化之線圖。 第9圖係顯示本發明另一實施例中MD方向之偏光板的 應變之歷時變化之線圖。 【主要元件符號說明】 10...偏光板(第1偏光板） 41...液晶早元 11...透明保護薄膜(第1透明保 411a,411b...基板 護薄膜） 412…間隔件 12.··偏光件(第1偏光件） 413...液晶層 13...光學補償層（第1光學補償 100...液晶面板 層） 200...液晶顯不裝置 20...第2偏光板 80…背光單元 21...第2透明保護薄膜 81...光源 22...第2偏光件 82…反射薄膜 23...第2光學補償層 83...擴散板 30…第1液晶面板 84...聚光薄片84 40...第2液晶面板 85...亮度提昇薄膜

Claims (1)

1. 200933215 七、申請專利範圍： 1. 一種偏光板，係依序積層有透明保護薄膜、偏光件及光 學補償層，且前述透明保護薄膜之透濕度及前述光學補 償層之透濕度相異者， 前述光學補償層係一含有選自由降冰片稀系樹脂、 聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚碳 酸酯系樹脂及丙烯酸系樹脂構成之群中之至少一種樹 脂之相位差薄膜，前述偏光板之含水率為3%以下。

   2. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中前述光學補償層 之Nz係數係1-2之範圍。 3. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中前述偏光件及前 述光學補償層係藉由含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接 著劑形成之接著層積層者。 4. 如申請專利範圍第3項之偏光板，其中前述含有聚乙烯 醇系樹脂之水溶性接著劑更含有金屬化合物膠體，前述 接著層含有來自前述金屬化合物膠體之金屬化合物微 粒子。 5·如申請專利範圍第1項之偏光板，其中前述透明保護薄 膜係三乙醯基纖維素薄膜。 6. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中以50°C 士 3°C施行 加熱處理120分鐘後之TD方向之應變（# e)為700以 下，且MD方向之應變（g ε )為600以下。 7. —種液晶面板，包含有液晶單元及偏光板， 前述偏光板係申請專利範圍第1項之偏光板，前述偏 69 200933215 光板係於前述光學補償層位於前述液晶單元側之狀態 下配置於前述液晶單元之至少—側。 8.—種液晶面板’包含有第丨偏讀、第2偏練及液晶單 元， 前述第1偏光板係申請專利範圍第丨項之偏光板， 前述第1偏光板中，前述透明保護薄膜為第i透明保 護薄膜，前述偏光件為第1偏光件，舒、+、L組 ^别述光學補償層為 第1光學補償層， 前述第2偏光板係依序積層有第2透明保護薄膜、第2 ❹ 偏光件及第2光學補償層之偏光板， 前述第1偏光板係於前述第味學補償層位於前述液 晶單元侧之狀態下配置於前述液晶單元之辨識側， 前述第2偏光板係於前述第2光學補償層位於前述液 晶單元侧之狀態下而配置於前述液晶單元之背光單元 ， 側。 •如申请專利範圍第8項之液晶面板，其中前述第i光學補 償層之折射率具有nx>nygnz之關係， ❹ 前述第2光學補償層之折射率具有nx==ny>nz之關 係， 前述第2偏光板之透射率（Τ2)大於前述第丨偏光板之 透射率(TJ。 1〇.如申請專利範圍第9項之液晶面板，其中前述第2偏光板 之透射率（丁2)與前述第1偏光板之透射率0\)間之差（△ 為 0.1-60% 之範圍。 70 200933215 U.如申^利軸9項之液晶面板，其 之透射率㈤為38.3_43·3%之範圍。 第偏先板 12. 如申請專利範圍第9項之液曰 之透射_^u_44 3%二範圍：”中前述第2偏光板 13. 如_«概_8奴㈣料，其中 …少-種熱塑構成-

   ==範圍第8項之液晶面板，其中前述 償層係3有聚酿亞胺系樹月旨之相位 ^ 素系樹脂之相位差層_、及前述相位差層二 相位差層（B2)之積層體(c)之任一者。 15.=利範圍第7項之液晶面板，其中前述液晶單元 .如申晴專利範圍第8項之液晶面板，其中前述液晶單 係VA模式。 ％ 7·、種液晶顯示裝置，係'含有偏妹之液晶顯示裝置，前 述偏光板係申請專利範圍第丨項之偏光板。 J .種液晶顯示裝置，係含有液晶面板之液晶顯示裂置， 且碉述液晶面板係申請專利範圍第7項之液晶面板。 .〜種液晶顯示裝置，係含有液晶面板之液晶顯示裝置， 且則述液晶面板係申請專利範圍第8項之液晶面板。 71