TWI427340B - Polarizing plate, liquid crystal panel and liquid crystal display device - Google Patents

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TWI427340B
TWI427340B TW097145517A TW97145517A TWI427340B TW I427340 B TWI427340 B TW I427340B TW 097145517 A TW097145517 A TW 097145517A TW 97145517 A TW97145517 A TW 97145517A TW I427340 B TWI427340 B TW I427340B
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Masatsugu Higashi
Nao Murakami
Kazuki Uwada
Takashi Kumano
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Nitto Denko Corp
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Description

偏光板、液晶面板及液晶顯示裝置
本發明係有關於偏光板、液晶面板及液晶顯示裝置。
液晶顯示裝置(LCD)是一種利用液晶分子之光電特性，顯示文字及影像等之裝置，廣泛普及用在行動電話、個人電腦及液晶電視機等等。對於LCD，通常使用液晶單元兩側設置偏光板之液晶面板。在第4圖之模式剖視圖顯示前述液晶單元之構成例。如圖所示，液晶單元41係於一對基板411a、411b之間配置間隔件412，藉前述間隔件412而形成之前述一對基板411a、411b間之空間夾設有液晶層413之構成。雖未示於圖中，但一邊的基板上設有控制液晶分子之光電特性之開關元件(例如TFT)、朝前述開關元件供給閘極訊號之掃描線及供給源極訊號之訊號線。對於LCD所使用之液晶單元之驅動模式，已知有垂直配向(VA)模式(例如參考專利文獻1)。該VA模式之液晶單元係於非驅動狀態下，液晶分子相對於基板面具有大致垂直的配向，使光線可在其偏光面幾乎沒有變化下通過液晶層。為此，VA模式之液晶單元係於非驅動狀態下可以實施幾近完全之黑顯示。
惟，隨著近年來的LCD(如液晶電視機等)的高精細化，須要減少液晶面板面內之黑亮度。因此，即使有來自偏光板之稍微的漏光，亦已經成為問題所在了。
[專利文獻1]日本國發明申請案公開公報第2004-46065號
在此，本發明之目的係於提供盡可能地抑制來自偏光板的漏光，連發生稍微的亮度不均都防止之偏光板、使用該偏光板之液晶面板及液晶顯示裝置。
為達成前述目的，本發明之偏光板係依序積層有透明保護薄膜、偏光件及光學補償層，且前述透明保護薄膜之透濕度及前述光學補償層之透濕度相異者，前述光學補償層係含有選自由降冰片烯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及丙烯酸系樹脂構成之群中之至少一種樹脂之相位差薄膜，前述偏光板之含水率為3%以下。
本發明之第1液晶面板係包含有液晶單元及偏光板者，前述偏光板係前述本發明之偏光板，前述偏光板係於前述光學補償層位於前述液晶單元側之狀態下配置於前述液晶單元之至少一側。
本發明之第2液晶面板係包含有第1偏光板、第2偏光板及液晶單元者，前述第1偏光板係前述本發明之偏光板，前述第1偏光板中，前述透明保護薄膜為第1透明保護薄膜，前述偏光件為第1偏光件，前述光學補償層為第1光學補償層，前述第2偏光板係依序積層有第2透明保護薄膜、第2偏光件及第2光學補償層者，前述第1偏光板係於前述第1光學補償層位於前述液晶單元側之狀態下配置於前述液晶單元之辨識側，前述第2偏光板係於前述第2光學補償層位於前述液晶單元側之狀態下配置於前述液晶單元之背光單元側。
本發明之液晶顯示裝置係包含有偏光板或液晶面板者，前述偏光板為前述本發明之偏光板，前述液晶面板為前述本發明之第1或第2液晶面板。
本發明人等乃經由一連串之研究，而發現到習知偏光板中亮度不均之發生原因。即，在習知偏光板中，因背光單元點亮時之發熱(約40℃)，造成應變。其次，因前述應變，在偏光件之吸收軸產生偏移，或者是在光學補償層發生軸變化或相位差變化。藉此，使偏光板之顯示特性的均勻性降低，衍生前述亮度不均。對此，本發明人等更進一步反覆研究，且著眼於透明保護薄膜之透濕度及光學補償層之透濕度相異之處，在具有其等作為構成構件之偏光板中，發現令其含水率在3%以下時，可防止前述亮度不均之發生者；而終至完成本發明。本發明之偏光板之含水率在3%以下，因此可抑制背光單元點亮時之發熱所造成之應變。結果，以本發明之偏光板時，可防止前述亮度不均之發生。此種防止亮度不均之發生的機制乃為推測，並不對本發明有任何限定者。
[圖式簡單說明]
第1圖係顯示本發明偏光板之構成例之模式剖視圖。
第2圖係顯示本發明第1液晶面板之構成例之模式剖視圖。
第3圖係顯示本發明第2液晶面板之構成例之模式剖視圖。
第4圖係顯示本發明液晶面板所具有之液晶單元之構成例之模式剖視圖。
第5圖係顯示本發明液晶顯示裝置之構成例之模式剖視圖。
第6圖係顯示本發明實施例中TD方向之偏光板的應變之歷時變化之線圖。
第7圖係顯示本發明實施例中MD方向之偏光板的應變之歷時變化之線圖。
第8圖係顯示本發明另一實施例中TD方向之偏光板的應變之歷時變化之線圖。
第9圖係顯示本發明另一實施例中MD方向之偏光板的應變之歷時變化之線圖。
在本發明之偏光板中，前述光學補償層之Nz係數係1-2之範圍為佳，較佳的是1-1.6之範圍，更佳的是1-1.4之範圍。
在本發明之偏光板中，前述偏光件及前述光學補償層係藉由含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑形成之接著層積層者為佳。
在本發明之偏光板中，前述含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑更含有金屬化合物膠體，前述接著層含有源自前述金屬化合物膠體之金屬化合物微粒子者為佳。
在本發明之偏光板中，前述透明保護薄膜並無特別限制，但可為諸如三乙醯基纖維素(TAC)薄膜。
在本發明之偏光板中，以50℃±3℃施行加熱處理120分鐘後之TD方向之應變(με)為700以下，且MD方向之應變(με)為600以下為佳。前述應變例如可用揭露於後述實施例之方法測定。
在本發明之第2液晶面板中，前述第1光學補償層之折射率具有nx＞ny≧nz之關係，前述第2光學補償層之折射率具有nx=ny＞nz之關係，前述第2偏光板之透射率(T2 )大於前述第1偏光板之透射率(T1 )者為佳。
在本發明之第2液晶面板中，前述第2偏光板之透射率(T2 )與前述第1偏光板之透射率(T1 )間之差(ΔT=T2 -T1 )係0.1-6.0%之範圍為佳。
在本發明之第2液晶面板中，前述第1偏光板之透射率(T1 )係38.3-43.3%之範圍為佳。
在本發明之第2液晶面板中，前述第2偏光板之透射率(T2 )係41.1-44.3%之範圍為佳。
在本發明之第2液晶面板中，前述第2光學補償層係含有選自由聚醯亞胺系樹脂、纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及聚醯胺系樹脂構成之群中之至少一種熱塑性樹脂之相位差薄膜。
在本發明之第2液晶面板中，前述第2光學補償層係含有聚醯亞胺系樹脂之相位差層(B1)、含有纖維素系樹脂之相位差層(B2)、及前述相位差層(B1)與前述相位差層(B2)之積層體(C)之任一者為佳。
在本發明之第1及第2液晶面板中，前述液晶單元係VA模式為佳。
其次，舉例詳細說明本發明之偏光板、液晶面板及液晶顯示裝置。
[A.定義等等]
在本發明中，偏光板之含水率(%)可藉如測定加熱處理前後之偏光板之重量，由下述式(1)算出者。例如，前述偏光板之含水率(%)可以後述實施例所揭示之方法算出者。
含水率(%)={(W0-W1)/W0}×100　(I)
W0：加熱處理前之偏光板的重量
W1：加熱處理後之偏光板之重量
在本發明中，折射率「nx」係位於層(透明保護薄膜、光學補償層、液晶單元等，以下亦同)之面內之折射率為最大之方向(慢軸方向)之折射率。折射率「ny」係位於層之面內與前述nx的方向正交之方向(快軸方向)之折射率。折射率「nz」係相對於前述nx及前述ny之各方向正交之層之厚度方向之折射率。
在本發明中，位於層之面內之相位差值Re[λ]係指藉例如23℃下之波長λ(nm)中之Re[λ]=(nx-ny)×d式所算出之面內相位差值。d是層的厚度(nm)。
在本發明中，位於層之厚度方向之相位差值Rth[λ]係指藉例如23℃下之波長λ(nm)中之Rth[λ]=(nx-nz)×d式所算出之相位差值。d是層的厚度(nm)。
在本發明中，層之厚度方向之雙折射率(Δnxz [λ])係指藉例如Δnxz [λ]=Rth[λ]/d式所算出之值。d是層的厚度(nm)。
在本發明中，Nz係數亦可藉諸如Nz係數=Rth[λ]/Re[λ]式算出之值。前述λ可為諸如590nm。
在本發明中，「nx=ny」或「ny=nz」不只是其等完全一致之型態，亦包含實質同一之型態。因此在記載諸如nx=ny之時，包括Re[590]低於10nm之型態。
在本發明中，「正交」係指：包括實質正交之型態在內，前述實質正交之型態指的是諸如90±2度之範圍，較佳的是90±1度之範圍。又，在本發明中，「平行」係指：包括實質平行之型態在內，前述實質平行之型態指的是諸如0±2度之範圍，較佳的是0±1度之範圍。
在本發明中，偏光板之透射率(T)係藉JIS Z 8701(1982年版)之2度視野(C光源)進行視覺靈敏度補正之Y值。
[B.本發明之偏光板] [B-1.本發明之偏光板之整體構成]
第1圖之模式剖視圖中顯示本發明偏光板之一構成例。在同圖中，為易於瞭解，各構成構件之大小、比例等是與實際相異。如圖所示，偏光板10係依序積層透明保護薄膜11、偏光件12、及光學補償層13。前述透明保護薄膜11之透濕度及前述光學補償層13之透濕度是不同。在此，前述偏光板10之含水率為3%以下。為此，依前述偏光板10，可抑制背光單元點亮時之熱所造成之應變。結果，以前述偏光板10而言，可防止因前述應變所造成之亮度不均之發生。前述偏光板之含水率係以2.5%以下為佳，更以2.0%以下為佳。
在前述偏光板之各構成構件(光學構件)之間亦可配置任意的接著層(未示於圖中)、或任意的光學構件(較佳的是顯示各向同性)。前述「接著層」意指接合相鄰之光學構件之面與面，以實用上足夠的接著力及接著時間一體化者。形成前述接著層之材料係可舉迄今公知之接著劑、黏著劑、打底膠(anchor coat)劑等為例。前述接著層亦可為在接著體之表面形成打底膠層，於其上形成接著劑層般之多層構造。又，亦可為不能由肉眼辨識般之薄層(亦稱為髮線(hairline))。
本發明偏光板之整體厚度係諸如20-300μm之範圍。作成前述範圍之厚度時，可得到機械強度更佳之偏光板。
[B-2.透明保護薄膜]
前述透明保護薄膜以無附色者為佳。前述透明保護薄膜之面內相位差值Re[550]係於諸如0-10nm之範圍，較佳者為0-6nm之範圍，更佳者為0-3nm之範圍。前述透明保護薄膜之厚度方向之相位差值Rth[550]係於諸如0-20nm之範圍，較佳的是0-10nm之範圍，較佳者為0-6nm之範圍，更佳者為0-3nm之範圍。
前述透明保護薄膜之厚度係於諸如20-200μm之範圍，較佳者為30-100μm之範圍，更佳者為35-95μm之範圍。
以前述透明保護薄膜而言，例如使用纖維素系薄膜。一般作為保護薄膜所使用之纖維素系薄膜，例如為三乙醯基纖維素(TAC)薄膜時，在厚度40μm之時，厚度方向之相位差值(Rth)為40nm程度，較大。對於厚度方向之相位差值(Rth)較大之纖維素系薄膜，以施與縮小厚度方向之相位差值(Rth)之適當處理為佳。
用以縮小厚度方向之相位差值(Rth)之前述處理乃可採用任一適當的處理方法。可舉例有如下方法，即，已塗有環戊酮、丁酮等溶劑之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚丙烯、不鏽鋼等之基材貼上一般的纖維素系薄膜，進行加熱乾燥(例如以80-150℃程度加熱3-10分鐘左右)後，再剝離基材薄膜之方法；或，將降冰片烯系樹脂、丙烯酸系樹脂等溶解於環戊酮、丁酮等之溶劑的溶液塗佈於一般的纖維素系薄膜，進行加熱乾燥(例如以80-150℃程度加熱3-10分鐘左右)後，再剝離塗佈薄膜之方法。
構成纖維素系薄膜之材料以二乙醯基纖維素、TAC等之脂肪族取代纖維素系聚合物為佳。對於一般使用之TAC，乙酸取代度為2.8程度，但較佳的是控制乙酸取代度在1.8-2.7之範圍，更佳的是控制丙酸取代度在0.1-1之範圍時，可控制厚度方向之相位差值(Rth)較小。
用以控制如上述般之厚度方向之相位差值(Rth)為小之技術可適當組合使用。
可滿足前述般之光學特性(面內相位差值Re[550]、厚度方向之相位差值Rth[550])之另一較佳具體例亦可舉丙烯酸樹脂薄膜為例。對於丙烯酸樹脂薄膜，較佳的是日本發明申請案公開公報第2005-314534號中所揭示之包含有以含有下述構造式(1)所示之戊二酸酐單位之丙烯酸樹脂(A)為主要成分之丙烯酸樹脂薄膜。藉含有以下述構造式(1)所示之戊二酸酐單位，可提昇耐熱性。在下述構造式(1)中，R1 、R2 各為氫原子或碳原子數1-5之烷基，R1 、R2 可為同一，亦可為不同。R1 、R2 ，較佳的是氫原子或甲基，更佳的是甲基。
前述丙烯酸樹脂(A)中，以前述構造式(1)所示之戊二酸酐單位之含有比例係以20-40重量%之範圍為佳，更以25-35重量%為佳。
前述丙烯酸樹脂(A)係除了前述構造式(1)所示之戊二酸酐單位外，亦可包含1種或2種以上之任一適當的單體單位。如此單體單位係舉乙烯基羧酸烷基酯單位為佳。前述丙烯酸樹脂(A)中，乙烯基羧酸烷基酯單位之含有比例係以60-80重量%之範圍為佳，更以65-75重量%為佳。
前述乙烯基羧酸烷基酯單位，可舉以下述通式(2)所示之單位為例。下述通式(2)中，R3 為氫原子或碳原子數1-5之脂肪族或脂環式碳化氫，R4 為碳原子數1-5之脂肪族碳化氫。
前述丙烯酸樹脂(A)之量均分子量係以80000～150000之範圍為佳。
前述丙烯酸樹脂薄膜中之前述丙烯酸樹脂(A)之含有比例係以60-90重量%之範圍為佳。
前述丙烯酸樹脂薄膜中，除了前述丙烯酸樹脂(A)之外，亦可含有1種或2種以上之任一適當成分。如此成分在無損本發明效果之範圍內可採用任一遇當的成分。例如有前述丙烯酸樹脂(A)以外之樹脂、紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、可塑劑、剝離劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、防靜電劑、顏料、著色劑等等。
前述透明保護薄膜亦可在與前述偏光件側相反之側具有表面處理層。前述表面處理因應目的，可採用適當且適用的處理。前述表面處理層係諸如有硬塗處理、抗靜電處理、反射防止處理(亦稱為抗反射處理)、擴散處理(亦稱為防眩處理)等之處理層。其等表面處理係使用在藉防止畫面之污染或損傷，或防止因室內之螢光燈或太陽光線照在畫面造成顯示畫面難以觀看之目的。一般而言，前述表面處理層係使用基膜之表面上固著有用以形成前述處理層之處理劑者。前述基膜亦可兼為前述透明保護薄膜。進而，前述表面處理層亦可為諸如在抗靜電處理層之上積層有硬塗處理層般之多層構造。
前述透明保護薄膜可使用諸如不經處理之施有表面處理之市售的高分子薄膜。或者是亦可使用在前述市售之高分子薄膜施有任一表面處理使用者。施有前述擴散處理(防眩處理)之市售薄膜諸如有日商日東電工(股)公司製造之商品名稱「AG150」、「AGS1」、「AGS2」等。施有前述反射防止處理(抗反射處理)之市售薄膜諸如有日商日東電工(股)公司製造之商品名稱「ARS」、「ARC」等。施有前述硬塗處理及前述抗靜電處理之市售薄膜諸如有日商CONICA MINOLTA OPTO(股)公司製造之商品名稱「KC8UX-HA」等等。施有前述反射防止處理之市售薄膜諸如有日商日本油脂(股)公司製造之商品名稱「ReoLook」系列等。
[B-3.偏光件]
前述偏光件，例如可將含有聚乙烯醇系樹脂之含碘高分子薄膜延伸而得到者。前述偏光件之含碘量係如後述。前述偏光件更含有鉀為佳。前述鉀之含量係諸如0.2-1.0重量%之範圍，且以0.3-0.9重量%之範圍為佳，更以0.4-0.8重量%之範圍為佳。前述偏光件更含有硼為佳。前述硼之含量係諸如0.5-3.0重量%之範圍，且以1.0-2.8重量%之範圍為佳，更以1.5-2.6重量%之範圍為佳。
前述聚乙烯醇系樹脂係諸如可將乙烯基酯系單體聚合所得到之乙烯基酯系聚合物皂化而得到者。前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度宜為95.0-99.9莫耳%之範圍。使用皂化度在前述範圍之聚乙烯醇系樹脂，即可得到耐久性更佳之偏光件。前述聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度因應目的而可選擇適當且適切的值。前述平均聚合度宜為1200-3600之範圍。前述平均聚合度係例如依據JIS K 6726(1994年版)可求取。
以得到含有前述聚乙烯醇系樹脂之高分子薄膜之方法而言，可採用任一適當的成形加工法。前述成形加工法係諸如有日本國發明專利申請案公開公報第2001-315144號[實施例1]所載之方法。
前述含有聚乙烯醇系樹脂之高分子薄膜係以含有可塑劑或界面活性劑之至少一者為佳。前述可塑劑係諸如有乙二醇或丙三醇等之多元醇等。前述界面活性劑係諸如有非離子界面活性劑等等。前述可塑劑及前述界面活性劑之含量係以相對於前述聚乙烯醇系樹脂100重量份為1-10重量份之範圍為佳。前述可塑劑及前述界面活性劑係例如使偏光件之染色性或延伸性提昇。
前述含有聚乙烯醇系樹脂之高分子薄膜亦可使用不經處理之市售薄膜。前述市售的含有聚乙烯醇系樹脂之高分子薄膜係諸如有日商RURARAY(股)公司製造之商品名稱「KURARAY VINYLON FILM」、日商TOHCELLO(股)公司製造之商品名稱「TOHCELLO VINYLON FILM」、日商日本合成化學工業(股)公司製造之商品名稱「日合VINYLON FILM」等等。
[B-4.光學補償層]
如前述，前述光學補償層係一種包含降冰片烯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及丙烯酸系樹脂之至少一種樹脂之相位差薄膜。
首先，針對含有降冰片烯系樹脂之相位差薄膜進行說明。前述降冰片烯系樹脂具有光彈性係數之絕對值(C[λ]、前述λ可為諸如590nm)小之特徵。前述降冰片烯系樹脂之波長590nm之光彈性係數之絕對值(C[590])係以1×10-12 m2 /N-1×10-11 m2 /N之範圍為佳。在本發明中，「降冰片烯系樹脂」係指：對於起始原料(單體)之一部分或全部使用具有降冰片烯環之降冰片烯系單體而得到之(共)聚合物。前述「(共)聚合物」是表示均聚物或共聚物(copolymer)。
前述降冰片烯系樹脂係使用對於起始原料是使用具有降冰片烯環(在降冰片烷環具有雙鍵者)之降冰片烯系單體。前述降冰片烯系樹脂係於(共)聚合物之狀態中，構成單位可具有降冰片烷環，亦可不具有此環。(共)聚合物之狀態中，構成單位具有降冰片烷環之降冰片烯系樹脂係可舉諸如四環[4.4.12,5 .17,10 .0]十-3-烯、8-甲基四環[4.4.12,5 .17,10 .0]十-3-烯、8-甲氧基羰基四環[4.4.12,5 .17,10 .0]十-3-烯等為例。在(共)聚合物之狀態下，構成單位不具降冰片烷環之降冰片烯系樹脂，例如為使用藉開裂成為5員環之單體而所得到之(共)聚合物。藉前述開裂而成為5員環之單體可為諸如降冰片烯、二環戊二烯、5-苯基降冰片烯等及其等衍生物等等。前述降冰片烯系樹脂為共聚物時，其分子之配列狀態並無特別限定，可為無規共聚物，可為嵌段共聚物，亦可為接枝共聚物。
前述降冰片烯系樹脂，可舉諸如(a)降冰片烯系單體之開環(共)聚合物加氫之樹脂、(b)加成共聚有降冰片烯系單體之樹脂等為例。前述降冰片烯系單體之開環共聚物加氫之樹脂包括在1種以上之降冰片烯系單體與α-烯烴類、環烯類及非共軛二烯類之至少一類之開環共聚物上加氫之樹脂。使前述降冰片烯系單體加成共聚之樹脂包括使1種以上之降冰片烯系單體與α-烯烴類、環烯類及非共軛二烯類中之至少一類加成共聚之樹脂。
在前述降冰片烯系單體之開環(共)聚合物加氫之樹脂，可藉使諸如降冰片烯系單體等進行置換(metathesis)反應，得到開環(共)聚合物，進而，在前述開環(共)聚合物加氫而得到。具體而言，諸如有日本國發明申請案公開公報第H11-116780號之[0059]-[0060]段落所揭示之方法、日本國發明申請案公開公報第2001-350017號之[0035]～[0037]段落所揭示之方法等。使前述降冰片烯系單體加成(共)聚合之樹脂係可藉例如日本國發明申請案公開公報第S61-292601號之實施例1所揭示之方法而得到。
前述降冰片烯系樹脂之量均分子量(Mw)，係藉四氫呋喃溶媒之凝膠滲透色譜法(聚苯乙烯標準)所測定之值，較佳的是在20000-500000之範圍。前述降冰片烯系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)係120-170℃之範圍為佳。只要是前述之樹脂，即可得到具有更佳之熱安定性且延伸性更佳之相位差薄膜。前述玻璃轉移溫度(Tg)是一藉諸如以JIS K 7121(1987年版)為準之微差掃描熱析儀(DSC)法所算出之值。
含有前述降冰片烯系樹脂之相位差薄膜，可將藉諸如溶媒澆塑法或熔融擠壓法而形成薄膜狀之高分子薄膜，以縱向單軸延伸法、橫向單軸延伸法、縱橫同時兩軸延伸法、或縱橫逐次兩軸延伸法進行延伸而製得。前述延伸法，由製造效率的觀點來看，以橫向單軸延伸法為佳。延伸前述高分子薄膜之溫度(延伸溫度)係以120-200℃之範圍為佳。延伸前述高分子薄膜之倍率(延伸倍率)係以超過1倍且4倍以下為佳。前述延伸法可為固定端延伸法，亦可為自由端延伸法。依固定端延伸法時，可製作顯示nx＞ny＞nz關係之相位差薄膜。
含有前述降冰片烯系樹脂之相位差薄膜可使用例如不經處理之市售薄膜。或者是可使用對前述市售之薄膜施有延伸處理或收縮處理中至少一種處理等之二次性加工者。含有前述市售的降冰片烯系樹脂之相位差薄膜可舉外商JSR公司製之商品名稱「ARTON」系列(ARTON F、ARTON FX、ARTON D)、外商OPTES公司製造之商品名稱「ZEONOR」系列(ZEONOR ZF14、ZEONOR ZF15、ZEONOR ZF16)等為例。
其次，針對含有聚乙烯縮醛系樹脂之相位差薄膜進行說明。對於前述聚乙烯縮醛系樹脂，並無特別限定，可使用例如日本發明專利第3984277號公報之[0026]段落之含有下述通式(3)所示之聚合物之樹脂。前述聚合物係藉於分子構造中具有萘基，因此透明性、耐熱性、及加工性優異。
前述聚合物可藉諸如至少2種醛化合物及酮化合物之至少一方化合物和聚乙烯醇系樹脂進行縮合反應而得到。以前述通式(3)所示之聚合物中，1、m、n之各基本單位之配列順序並無特別限制，亦可為交替、無規或嵌段任一者。前述聚合物包括基本單位1、m及n之聚合度的合計為20以上，且量均分子重大之聚合物(即所謂高聚物)，更包括基本單位1、m及n之聚合度的合計為2以上、20以下，且量均分子量數千程度之低聚物(即所謂低聚物)。
前述通式(3)中，R5 及R7 各為氫原子、鹵素原子、碳原子數1-4之直鏈狀或分枝鏈狀之烷基、或取代或非取代之苯基，前述R5 及R7 可為同一，亦可為相異。
前述通式(3)中，R6 、A及B各為氫原子、鹵素原子、碳原子數1-4之直鏈狀或分枝鏈狀之烷基、碳原子數1-4之直鏈狀或分枝鏈狀之鹵化烷基、碳原子數1-4之直鏈狀或分枝鏈狀之烷氧基、烷氧基羰基、醯氧基、胺基、疊氮基、硝基、氰基或羥基，前述R6 、A及B可為同一，亦可為相異。惟，前述R6 不是氫原子。
前述通式(3)中，R8 為氫原子、碳原子數1-4之直鏈狀或分枝鏈狀之烷基、碳原子數5-10之取代或非取代之環烷基、取代或非取代之苯基、取代或非取代之萘基、或者是取代或非取代之雜環基。
前述通式(3)中，R9 為氫原子、碳原子數1-4之直鏈狀或分枝鏈狀之烷基、苯甲基、矽烷基、磷酸基、醯基、苯醯基、或磺醯基。
含有前述聚乙烯縮醛系樹脂之相位差薄膜，藉例如壓縮成形法、傳遞模塑法、射出成形法、擠出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP成形法、溶媒澆塑法等，適當選擇延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向等)、延伸方法等，將成形為薄片狀之高分子薄膜延伸而製作者。
作為前述光學補償層使用之相位差薄膜進而可含有任意適當之添加劑。以前述添加劑而言，例如有可塑劑、熱安定劑、光安定劑、潤滑劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、難燃劑、著色劑、抗靜電劑、相溶劑、交聯劑、增黏劑等。前述添加劑之含量，較佳的是相對於主要成分之樹脂100重量份，為超過0且10重量份以下之範圍。
前述光學補償層之折射率係顯示諸如nx＞ny≧nz之關係。即，前述光學補償層之折射率亦可顯示nx＞ny=nz之關係(正的單軸性)或nx＞ny＞nz之關係(負的二軸性)，又以顯示nx＞ny=nz之關係為佳。前述光學補償層之Nz係數係如前述。
前述光學補償層之Re[590]係諸如10nm以上，且以50-200nm之範圍為較佳。前述光學補償層之折射率顯示為nx＞ny=nz之關係時，Re[590]係諸如90-190nm之範圍，且以110-170nm之範圍為較佳。前述光學補償層之折射率顯示為nx＞ny＞nz之關係(負的二軸性)時，Re[590]係諸如70-170nm之範圍，且以90-150nm之範圍為較佳。
前述光學補償層之折射率顯示為nx＞ny=nz之關係時，Re[590]與Rth[590]大致相等。此時，前述光學補償層係滿足|Rth(590)-Re(590)|＜10nm之式者為佳。
前述光學補償層之折射率顯示nx＞ny＞nz之關係時，Rth[590]大於Re[590]。此時Rth[590]與Re[590]之差(Rth[590]-Re[590])係諸如10-100nm之範圍，且以20-80nm之範圍為較佳。
前述光學補償層之波長590nm之透射率(T[590])係以90%以上為佳。
前述光學補償層可為單層，亦可為由多數之層構成之積層體。前述光學補償層之厚度係諸如0.5-200μm之範圍。
[B-5.偏光件與光學補償層之積層]
前述偏光件與前述光學補償層係以接著層為中介而積層者為佳。以第1圖為例說明時，偏光件12與光學補償層13係以接著層為中介而積層者。
在前述光學補償層之朝前述偏光件之接著面係施有容易接著處理為佳。前述容易接著處理係塗佈樹脂材料之處理為佳。前述樹脂材料係以諸如矽系樹脂、脲酯系樹脂、丙烯酸系樹脂為佳。藉施以前述容易接著處理，在前述接著面上形成容易接著層。前述容易接著層之厚度係以5-100nm之範圍為佳，更以10-80nm之範圍為佳。
前述接著層可設於靠前述偏光件之側，亦可設於靠前述光學補償層之側，亦可設於前述偏光件側與前述光學補償層側雙方。
前述接著層為由黏著劑形成之黏著劑層時，前述黏著劑可採用任意適當的黏著劑。具體而言，前述黏著劑層係可舉溶劑型黏著劑、非水系乳液型黏著劑、水系黏著劑、熱熔型黏著劑等為例。其等之中又以使用丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之溶劑型黏著劑為佳。這是因為對於前述偏光件及前述光學補償層顯示適當的黏著特性(例如，濕潤性、凝聚性及接著性)，且，光學透明性、耐候性及耐熱性優異之緣故。
前述黏著劑層之厚度係因應使用目的或接著力而可適當設定。具體而言，前述黏著劑層之厚度係以1-100μm之範圍為佳，又以3-50μm之範圍為佳，更以5-30μm之範圍為佳，尤以10-25μm之範圍為佳。
前述接著層可為例如將含有接著劑預定比例之塗液塗佈在前述光學補償層或前述偏光件之至少一方的表面且俟其乾燥而形成之接著劑層。前述塗液之調製方法是可採用任意的適當的方法。前述塗液可使用例如市售的溶液或分散液，亦可在市售的溶液或分散液更添加溶劑，亦可將固形物溶解或分散於各種溶劑使用。
前述接著劑係可因應目的而可使用具有任意的適當的性質、形態及接著機構之接著劑。具體而言，前述接著劑可為例如水溶性接著劑、乳液型接著劑、膠乳型接著劑、膠黏型接著劑、複層接著劑、糊狀接著劑、發泡型接著劑、及支撐薄膜接著劑、熱塑性接著劑、熱熔融型接著劑、熱固化接著劑、熱熔型接著劑、熱活性接著劑、熱封型接著劑、熱硬化型接著劑、接觸型接著劑、感壓性接著劑、聚合型接著劑、溶劑型接著劑、溶劑活性接著劑等。其等之中，使用透明性、接著性、作業性、產品的品質及經濟性優異之水溶性接著劑為佳。
前述水溶性接著劑亦可為諸如含有可溶於水之天然高分子或合成高分子之至少一方。前述天然高分子可舉蛋白質或澱粉等為例。前述合成高分子可為諸如甲階粉醛樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、聚環氧乙烷、聚丙烯醯胺、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、聚乙烯醇系樹脂等為例。在其等之中，又可使用含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑為佳，更以使用含有具有乙醯乙醯基之變性聚乙烯醇系樹脂(含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂)之水溶性接著劑為佳。即，如前述，在本發明之偏光板中，前述接著層係含有含聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑為佳。這是因為與前述偏光件間之接著性極優，且，與前述光學補償層間之接著性亦優之緣故。前述含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂可舉日商日本合成化學(股)公司製之商品名稱「GOHSENOL Z」系列、同公司製之商品名稱「GOHSENOL NH」系列、同公司製之商品名稱「GOHSEFIMER Z」系列等為例。
前述聚乙烯醇系樹脂可為諸如聚醋酸乙烯酯之皂化物、前述皂化物之衍生物、和與醋酸乙烯酯有共聚性之單體之共聚物之皂化物、使聚乙烯醇縮醛化、脲酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等之變性聚乙烯醇等。前述單體可為諸如馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、巴豆酸、衣康酸、丙烯酸、甲基丙烯酸等之不飽和羧酸及其酯類、乙烯、丙烯等之α-烯烴、醯基磺酸、甲基醯基磺酸、醯基磺酸鈉、甲基醯基磺酸鈉、磺酸鈉、磺酸鈉單馬來酸烷酯、二磺酸鈉馬來酸烷酯、N-羥甲基丙烯酸醯胺、丙烯酸醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮衍生物等等。其等樹脂可單獨使用，亦可併用二種以上。
前述聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度，由接著性之觀點來看，以100-5000之範圍為較佳，且以1000-4000之範圍為更佳。前述聚乙烯醇系樹脂之平均皂化度，由接著性之觀點來看，是以85-100莫耳%之範圍為較佳，且以90-100莫耳%之範圍為更佳。
前述含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂係可藉諸如將聚乙烯醇系樹脂與乙醯基乙烯酮以任一方法反應而得到者。具體而言，例如在於醋酸等之溶媒中分散有聚乙烯醇系樹脂之分散體中添加乙醯基乙烯酮之方法、在二甲基甲醯胺或二噁烷等之溶媒中使聚乙烯醇系樹脂溶解之溶液中添加乙醯基乙烯酮之方法、及使乙醯基乙烯酮氣體或液狀乙醯基乙烯酮直接接觸聚乙烯醇系樹脂之方法等。
前述含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之乙醯乙醯基變性度，例如在0.1莫耳%以上。令前述乙醯乙醯基變性度為前述範圍時，可得到耐水性更佳之偏光板。前述乙醯乙醯基變性度係以0.1-40莫耳%之範圍為佳，且以1-20莫耳%之範圍更佳，尤以2-7莫耳%之範圍為佳。前述乙醯乙醯基變性度，例如藉核磁共振(NMR)法測定之值。
前述含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑亦可更含有交聯劑為佳。這是因為可使耐水性更進一步提昇之緣故。前述交聯劑可採用任意適當的交聯劑。前述交聯劑，較佳的是具有至少2個可與前述聚乙烯醇系樹脂有反應性之官能基之化合物。前述交聯劑，例如有乙撐二胺、三乙撐二胺、己二胺等之具有2個烷撐基和胺基之烷撐胺類、甲苯撐二異氰酸酯、氫化甲苯撐二異氰酸酯、三羥甲基丙烷甲苯撐二異氰酸酯加合物、三苯基甲烷三異氰酸酯、甲撐二(4-苯基)甲烷三異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯及其等酮肟嵌段物或苯酚嵌段物等之異氰酸酯類、乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油苯胺、二縮水甘油胺等之環氧類、甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等之單醛類、乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、馬來酸酐二醛、富馬二醛等之二醛類、羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基尿素、烷基化羥甲基三聚氰胺、乙酸三聚氰二胺(acetoguanamine)、苯代三聚氰胺(benzoguanamine)與甲醛之縮合物等之胺基-甲醛樹脂、鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等之二價金屬或三價金屬之鹽及其氧化物等。其等之中又以胺基一甲醛樹脂或二醛類為佳。前述胺基-甲醛樹脂係以具有羥甲基之化合物為佳。前述二醛類係以乙二醛為佳。其中又以具有羥甲基之化合物為佳，且以羥甲基三聚氰胺尤佳。前述醛化合物，例如有日商日本合成化學工業公司製造之商品名稱「乙二醛」、美商OMNOVA製造之商品名稱「SEQUAREZ 755」等。前述胺化合物，例如有日商三菱瓦斯化學(股)公司製造之商品名稱「META-XYLENE DIAMINE」等。前述羥甲基化合物例如有日商大日本油墨化學工業(股)公司製造之商品名稱「WATERSOL」系列等。
前述交聯劑之調配量相對於前述聚乙烯醇系樹脂(較佳的是前述含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂)100重量份，為例如1-60重量份之範圍。令前述調配量為前述範圍時，可形成透明性、接著性、耐水性優異之接著層。前述調配量之上限值係以50重量份為佳，又以30重量份為佳，且以15重量份為更佳，又以10重量份尤佳，以7重量份為最佳。前述調配量之下限值係以5重量份為佳，且以10重量份為更佳，又以20重量份尤佳。此外，併用後述之金屬化合物膠體，可更進一步提昇前述交聯劑之調配量多時之安定性。
前述含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑可更含有金屬化合物膠體。這是因為可防止在偏光件與光學補償層之界面所產生之局部的凹凸缺陷之「波紋()」之發生之緣故。對於有沒有前述波紋，可藉諸如後述之實施例所載之方法確認。
如前述，本發明之偏光板，例如可使用接著劑將各構成構件積層而製造，但以本發明之偏光板之製造方法而言，宜於前述偏光件與前述光學補償層之積層上使用含有含前述金屬化合物膠體之前述聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑。
又，由此點可知，本發明之偏光板係使前述偏光件與前述光學補償層使用含有前述金屬化合物膠體之前述聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑積層者為佳。
進而，本發明之偏光板係使前述偏光件與前述光學補償層，以含有前述金屬化合物膠體之前述聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑所形成之接著層為中介而積層，進而，前述接著層含有源自前述金屬化合物膠體之金屬化合物微粒子為佳。
前述金屬化合物膠體可為諸如金屬化合物微粒子分散於分散媒中者，亦可為因微粒子之同種電荷之相斥所引起而呈靜電性的安定，具有永續性的安定性者。形成前述金屬化合物之微粒子之平均粒徑並無特別限制，但以1-100nm之範圍為佳，且以1-50nm之範圍為更佳。這是因為可使前述微粒子均勻地分散在前述接著層中，確保接著性，更適時地防止波紋的發生之緣故。
前述金屬化合物乃可採用任一適當的化合物。前述金屬化合物，例如有氧化鋁、氧化矽、氧化鋯、二氧化鈦等之金屬氧化物、矽酸鋁、碳酸鈣、矽酸鎂、碳酸鋅、碳酸鋇、磷酸鉀等之金屬鹽、C鹽、滑石、黏土、高嶺土等之礦物。其等之中又以氧化鋁為佳。
前述金屬化合物膠體，例如以前述金屬化合物分散於分散媒之膠體溶液之狀態下存在。前述分散媒可為諸如水、醇類等。前述膠體溶液中之固形物濃度係例如1-50重量%之範圍。前述膠體溶液亦可含有硝酸、鹽酸或醋酸等之酸作為安定劑。
前述金屬化合物膠體(固形物)調配量相對於前述聚乙烯醇系樹脂100重量份，以200重量份以下為佳。令前述調配量為前述範圍時，可確保接著性，更適宜地防止波紋之發生。前述調配量，以10-200重量份之範圍為佳，且以20-175重量份之範圍更佳，又以30-150重量份尤佳。
前述接著劑之調製方法可採用任一適當的方法。例如，是含有前述金屬化合物膠體之接著劑時，可採用例如在事先混合前述聚乙烯醇系樹脂與前述交聯劑，調整成適當的濃度之物中調配前述金屬化合物膠體之方法。又，考慮使用時期等，亦可在混合前述聚乙烯醇系樹脂與前述金屬化合物膠體之後，混合前述交聯劑。
前述接著劑中之樹脂濃度係由塗附性及放置安定性等之觀點，以0.1-15重量%之範圍為佳，且以0.5-10重量%之範圍為更佳。
前述接著劑之pH，以2-6之範圍為佳，且以2.5-5之範圍為更佳，又以3-5之範圍為佳，並以3.5-4.5之範圍為尤佳。一般而言，前述金屬化合物膠體之表面電荷可藉調整前述接著劑之pH而控制。前述表面電荷，較佳的是正電荷。令前述表面電荷為正電荷時，例如可更適宜地防止波紋之發生。
前述接著劑之全部固形物濃度係依前述接著劑之溶解性、塗附黏度、濕潤性、前述接著劑層之預期厚度等而相異。前述全部固形物濃度係以相對於溶劑100重量份，為2-100重量份之範圍為佳。令前述全部固形物濃度為前述範圍時，可得到表面均勻性更高之接著劑層。前述固形物濃度，較佳的是10-50重量份之範圍，且以20-40重量份之範圍更佳。
前述接著劑之黏度並無特別限制，但23℃下之剪切速度1000(1/s)所測定之值，較佳的是在1-50mPa‧s之範圍。令前述接著劑之黏度為前述範圍時，便可得到表面均勻性更優異之接著層。前述接著劑之黏度以2-30mPa‧s之範圍為佳，又以4-20mPa‧s之範圍為更佳。
前述接著劑之玻璃轉移溫度(Tg)並無特別限制，但以20-120℃之範圍為佳，以40-100℃之範圍為更佳，又以50-90℃之範圍尤佳。前述玻璃轉移溫度可藉諸如以微差掃描熱析儀(DSC)測定之JIS K 7121(1987年版)為準之方法測定者。
前述接著劑亦可更含有矽烷耦合劑、鈦耦合劑等之耦合劑、各種黏著附與劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑、耐加水分解安定劑等之安定劑等。
前述接著劑之塗附方法可採用任意之適當方法。前述塗附方法，可舉旋塗法、輥塗法、流塗法、浸塗法、桿塗法等為例。
前述接著劑層之厚度並無特別限制，但以0.01-0.15μm之範圍為佳。令前述接著劑層之厚度為前述範圍時，可得到即使曝曬在高溫多濕之環境下亦不產生偏光件之剝落或浮腫般之耐久性優異之偏光板。前述接著劑層之厚度是以0.2-0.12μm範圍更佳，又以0.03-0.09μm之範圍為佳。
[C.第1液晶面板] [C-1.第1液晶面板之整體構成]
如前述，本發明之第1液晶面板係一種包含有液晶單元及偏光板之液晶面板，且前述偏光板為前述本發明之偏光板，前述偏光板係於前述光學補償層位於前述液晶單元側之狀態下，配置於前述液晶單元之至少一側者為特徵。第2圖之模式剖視圖顯示本發明之第1液晶面板之一構造例。在該圖中，對第1圖同一之部分附與同一符號。如圖所示，在本第1液晶面板30中，前述本發明之偏光板10係於前述光學補償層13位於前述液晶單元41側之狀態下，配置於前述液晶單元41之辨識側(在同圖中為上側)及背光單元側(在同圖中為下側)兩邊。又，在本例之第1液晶面板中，在前述液晶單元之辨識側及背光單元側的兩邊配置有前述本發明之偏光板。惟，本發明並不限於此。本發明之第1液晶面板中，前述本發明之偏光板只要配置於前述液晶單元之辨識側及背光單元側中之至少一側即可。
[C-2.液晶單元]
前述液晶單元，例如有使用薄膜電晶體之主動矩陣型液晶單元等。又，前述液晶單元亦可為諸如超扭轉向列液晶顯示裝置所採用之單純矩陣型液晶單元等。
前述液晶單元係藉一對基板而將液晶層夾於其中般之構成乃為一般者。第4圖顯示液晶單元之一構成例。如圖所示，本例之液晶單元41係藉於一對基板411a、411b之間配置間隔件412，形成空間，在前述空間夾設液晶層413。雖未示於圖中，前述一對基板中，一邊的基板(主動矩陣型基板)上設有諸如控制液晶之光電特性之開關元件(例如TFT)、對該主動元件提供閘極信號之掃描線及傳遞源極信號之信號線。前述一對基板中另一邊基板上設有諸如彩色濾波器。
前述彩色濾波器亦可設於前述主動矩陣基板上。或，例如場序型方式般，對於液晶顯示裝置之照明機構是使用RGB之三色光源(進而，亦可含有多色光源)時，前述彩色濾波器亦可省略。前述一對基板之間隔(單元間隙)係藉諸如間隔件而控制。前述單元間隙例如為1.0-7.0μm之範圍。各基板之與前述液晶層相接觸之側設有例如由聚醯亞胺構成之配向膜。或，在利用諸如業經圖案化之透明基板所形成之邊緣電場，控制液晶分子之初期配向時，前述配向膜亦可省略。
前述液晶單元之折射率宜顯示nz＞nx=ny之關係者。以前述折射率顯示nz＞nx=ny之關係之液晶單元而言，依驅動模式之分類時，可舉例有垂直配向(VA)模式、扭轉向列(TN)模式、垂直配向型電場控制雙折射(ECB)模式、光學補償雙折射(OCB)模式等。在本發明中，前述液晶單元之驅動模式以前述VA模式為佳。
沒有電場存在之狀態下之前述液晶單元之Rth[590]，較佳的是-500--200nm之範圍，且以-400--200nm之範圍為佳。前述Rth[590]，例如藉液晶分子之雙折射率及前述單元間隙，而可適度設定。
前述VA模式之液晶單元利用電壓控制雙折射效應，在沒有電場存在之狀態下，使配向為垂直排列之液晶分子，以相對於基板之法線方向之電場響應。具體而言，例如日本發明申請案公開公報第S62-210423號或第H04-153621號公報所揭示者，對於正常黑方式時，在沒有電場存在之狀態下，因為液晶分子配向於相對於基板之法線方向，所以上下的偏光板正交排列時，可得到黑顯示。另一方面，有電場存在之狀態下，藉使液晶分子作動為相對於偏光板之吸收軸傾向45°方位，使透射率變大，可得到白顯示。
前述VA模式之液晶單元，如日本發明申請案公開公報第H11-258605號所揭示者，亦可為藉使用電極形成有電極之物、或藉表面形成有突起之基材而多域化之物。如此液晶單元，可舉例有日商夏普公司製造之商品名稱「ASV(Advanced Super View)模式」、同公司製造之商品名稱「CPA(Continuous Pinwheel Alignment)模式」、日商富士通公司製造之商品名稱「MVA(Multi-domain Vertical Alignment)模式」、韓商三星電子公司製造之商品名稱「PVA(Patterned Vertical Alignment)模式」、同公司製造之商品名稱「EVA(Enhanced Vertical Alignment)模式」、日商三洋電機公司製造之商品名稱「SURVIVAL(Super Ranged Viewing Vertical Alignment)模式」等。
前述液晶單元，亦可使用諸如未經處理之市售之液晶顯示裝置所載設之物。含有前述VA模式之液晶單元之市售之液晶顯示裝置可舉諸如日商夏普(股)公司製造之液晶電視機之商品名稱「AQUOS」系列、日商SONY(股)公司製造之商品名稱「BRAVIA」系列、韓商SAMSUNG公司製造之32V型WIDE式液晶電視機之商品名稱「LN32R51B」、日商NANAO公司製造之液晶電視機之商品名稱「FORIS SC26XD1」、AU Optronics公司製造之液晶電視機之商品名稱「T460HW01」等為例。
[D.第2液晶面板] [D-1.第2液晶面板之整體構成]
在第3圖之模式剖視圖中顯示本發明之第2液晶面板之一構成例。在該圖中，在與第1圖同一之部分附上同一符號。如圖所示，這個第2液晶面板40具有第1偏光板10、第2偏光板20、液晶單元41為主要的構成構件。前述第1偏光板10為前述本發明之偏光板10。前述第1偏光板10中，前述透明保護薄膜11為第1透明保護薄膜11，前述偏光件12為第1偏光件12，前述光學補償層13為第1光學補償層13。前述第2偏光板20是以第2透明保護薄膜21、第2偏光件22及第2光學補償層23之順序積層而成者。前述第1偏光板10係於前述第1光學補償層13位於前述液晶單元41側之狀態下，配置於前述液晶單元41之辨識側(在該圖中為上側)。前述第2偏光板20係於前述第2光學補償層23位於前述液晶單元41側之狀態下，配置於前述液晶單元41之背光單元側(在該圖中為下側)。
如前述，在前述第2液晶面板中，較佳的是，前述第1光學補償層之折射率顯示nx＞ny≧nz之關係，前述第2光學補償層之折射率顯示nx=ny＞nz之關係，前述第2偏光板之透射率(T2 )大於前述第1偏光板之透射率(T1 )。按此進行時，與習知之液晶面板(代表的是配置於液晶單元之兩側之2枚偏光板之透射率為同一者)相比，可得到正面方向之對比率特高之液晶面板。
如前述，在前述第2液晶面板中，較佳的是，前述第2偏光板之透射率(T2 )與前述第1偏光板之透射率(T1 )間之差(ΔT=T2 -T1 )為0.1-6.0%之範圍。藉使用具有前述範圍之透射率之差之2枚偏光板，可得到正面對比率更高之液晶面板。前述差(ΔT=T2 -T1 )是以0.1-5.0%之範圍為佳，又以0.2-4.5%之範圍更佳，且以0.3-4.0%之範圍尤佳。
[D-2.第2透明保護薄膜]
前述第2透明保護薄膜係與前述透明保護薄膜(前述第1透明保護薄膜)同樣。
[D-3.第2偏光件]
前述第2偏光件係除了下列事項外，其餘與前述偏光件(前述第1偏光件)同樣者。
前述第1偏光件之含碘量(I1 )和前述第2偏光件之含碘量(I2 )間之關係宜為I1 ＞I2 。前述第1偏光件之含碘量(I1 )與前述第2偏光件之含碘量(I2 )之差(ΔI=I1 -I2 )以0.1-2.6重量%之範圍為佳。使各偏光件之含碘量之關係為前述範圍時，可得到具有更佳範圍之透射率關係之偏光板，結果可得到正面方向之對比率更高之液晶面板。前述差(ΔI=I1 -I2 )係以0.1-2.0重量%之範圍更佳，又以0.1-1.4重量%之範圍為佳，且以0.15-1.2重量%之範圍尤佳。
前述第1偏光件及前述第2偏光件之含碘量各以1.8-5.0重量%之範圍為佳。各偏光件之含碘量為前述範圍時，可得到具有更佳範圍之透射率之偏光板，結果可得到正面方向之對比率更高之液晶面板。前述第1偏光件及前述第2偏光件之含碘量各以2.0-4.0重量%之範圍更佳。前述第1偏光件之含碘量以2.3-5.0重量%之範圍為佳，且以2.5-4.5重量%之範圍更佳，又以2.5-4.0重量%之範圍尤佳。前述第2偏光件之含碘量以1.8-3.5重量%之範圍為佳，且以1.9-3.2重量%之範圍更佳。
[D-4‧第2光學補償層]
前述第2光學補償層之折射率，例如顯示nx=ny＞nz之關係(負的單軸性)。前述第2光學補償層可為單層，亦可為由多數層構成之積層體。前述第2光學補償層之厚度宜為0.5-200μm之範圍。前述第2光學補償層之波長590nm之透射率(T[590])宜為90%以上。
前述第2光學補償層之Re[590]，例如小於10nm，又以5nm以下為佳，且3nm以下更佳。
前述第2光學補償層之Rth[590]，例如可對應液晶單元之厚度方向之相位差值等而適當設定者。前述Rth[590]例如為100-400nm之範圍，且以120-350nm之範圍為佳，又以150-300nm之範圍更佳。
對於形成前述第2光學補償層之材料，只要顯示折射率nx=ny＞nz之關係(負的單軸性)時，可採用任意的適當之物。前述材料亦可採用例如聚(4,4’-六氟異丙叉-雙酚)對苯二甲酸-共-間苯二甲酸酯、聚(4,4’-六氫-4,7-甲茚滿-5-茚-雙酚)對苯二甲酸酯、聚(4,4’-異丙叉-2,2’,6,6’一四氯雙酚)對苯二甲酸-共-間苯二甲酸酯、聚(4,4’-六氟異丙叉)-雙酚-共-(2-亞降冰片烯)-雙酚對苯二甲酸酯、聚(4,4’-六氫-4,7-甲茚-5-茚)-雙酚-共-(4,4’-異丙叉-2,2’,6,6’-四溴)-雙酚對苯二甲酸酯、聚(4,4’-異丙叉-雙酚-共-4,4’-(2-亞降冰片烯)雙酚)對苯二甲酸-共-間苯二甲酸酯或其等之共聚物。其等可單獨地使用一種，亦可併用2種以上。
又，前述第2光學補償層可使用例如含有聚醯亞胺系樹脂、纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂等之熱塑性樹脂之相位差薄膜。其等相位差薄膜相對於全部固形物100重量份，含有熱塑性樹脂60-100重量份為佳。
前述第2光學補償層，較佳的是含有聚醯亞胺系樹脂之相位差層(B1)、含有纖維素系樹脂之相位差層(B2)、或前述相位差薄膜(B1)與前述相位差薄膜(B2)之積層體。前述積層體(C)，較佳的是使前述相位差薄膜(B1)，以接著層為中介而接合於前述相位差薄膜(B2)之積層體，或者是將前述相位差薄膜(B1)以熔融工程等之方法而直接形成在前述相位差薄膜(B2)之表面之積層體。
[聚醯亞胺系樹脂]
前述聚醯亞胺系樹脂係以溶劑澆注法形成為薄片狀時，在溶劑之蒸發過程中使分子容易自發性地配向，因此可製作顯示nx=ny＞nz之關係(負的單軸性)之相位差薄膜極薄。含有前述聚醯亞胺系樹脂之相位差薄膜(B1)之厚度宜為0.5-10μm之範圍，且以1-5μm之範圍更佳。前述相位差薄膜(B1)之厚度方向之雙折射率(Δnxz [590])宜為0.01-0.12之範圍，且以0.02-0.08之範圍更佳。如此聚醯亞胺系樹脂係可藉例如美國專利公報第5,344,916號所載之方法得到者。
較佳的是，前述聚醯亞胺系樹脂具有六氟異丙叉基及三氟甲基之至少一方基團。更佳的是，前述聚醯亞胺系樹脂至少具有以下述通式(4)所示之重複單位或下述通式(5)所示之重複單位。含有其等重複單位之聚醯亞胺系樹脂對於萬用溶劑之溶解性優異，因可實施溶劑澆注法所進行之薄膜形成。進而，在缺乏TAC薄膜等之耐溶劑性之基材上，亦不會過度侵蝕其表面，可形成前述聚醯亞胺系樹脂之薄層。
前述通式(4)及通式(5)中，G及G’各為自由共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CF3 )2 基、C(CX3 )2 基(在此，X為鹵素)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH2 CH3 )2 基及N(CH3 )基構成之群中選擇之基團。具有以前述通式(4)所示之重複單位之前述聚醯亞胺系樹脂中，各重複單位之G可為同一，亦可為相異。具有以前述通式(5)所示之重複單位之前述聚醯亞胺系樹脂中，各重複單位之G’可為同一，亦可為相異。
前述通式(4)中，L為取代基，e為其取代數。L為諸如鹵素原子、碳原子數1-3之烷基、碳原子數1-3之鹵化烷基、苯基或取代苯基，L為多數時，各L可為同一，亦可為相異。e是0-3之整數。
前述通式(5)中，Q為取代基，f表示其取代數。Q為諸如選自由氫、鹵素、烷基、取代烷基、硝基、氰基、硫烷基、烷氧基、芳基、取代芳基、烷基酯基、及取代烷基酯基構成之群之至少一種原子或基團，Q為多數時，各Q為同一，亦可為相異。f為0-4之整數，g及h各為1-3之整數。
前述聚醯亞胺系樹脂可藉例如四羧酸二酐及二胺之反應而得到者。前述通式(4)之重複單位，例如對於二胺是使用2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基二苯基，使此與至少具有兩個芳香環之四羧酸二酐反應而得到者。前述通式(5)之重複單位，例如對於四羧酸二酐是使用2,2’-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙酸二酐，使用此與至少兩個芳香環之二胺反應而得到者。前述反應例如可為以兩階段進行之化學醯亞胺化，亦可為以一階段進行之化學醯亞胺化。
前述四羧酸二酐可選擇任意適當之物。前述四羧酸二酐為諸如2,2’-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙酸二酐、3,3’,4,4’-二苯甲酮四羧酸二酐、2,3,3’,4-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2’,3,3’-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2’-二溴-4,4’,5,5’-二苯基四羧酸二酐、2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’,5,5’-二苯基四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基四羧酸二酐、4,4’-雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐、4,4’-氧基聯苯二甲酸二酐、4,4’-雙(3,4-二羧基苯基)磺酸二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲酸二酐、雙(3,4-二羧基苯基)二乙基矽烷酸二酐等。
前述二胺係可選擇任意適當之物。前述二胺例如為2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基二苯基、4,4’-二胺基二苯基、4,4’-二胺基苯基甲烷、4,4’-(9-亞芴基)-二苯胺、3,3’-二氯-4,4’-二胺基苯基甲烷、2,2’-二氯-4,4’-二胺基二苯基、4,4’-二胺基苯醚、3,4’-二胺基二苯醚、4,4’-二胺基二苯碸、4,4’-二胺基二苯基硫醚等。
前述聚醯亞胺系樹脂，加入二甲基甲醯胺溶液(10Mm(mmol/L)之溴化鋰及10mM(mmol/L)之磷酸，加到標線後，作成1L之二甲基甲醯胺溶液者)作為顯影溶媒之聚環氧乙烷標準之量均分子量(Mw)宜為20000-180000之範圍。前述聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率以95%以上為佳。前述聚醯亞胺系樹脂之醯亞胺化率例如可由源自聚醯亞胺之先質之醯胺酸之質子尖峰及源自聚醯亞胺之質子尖峰之積分強度求得。
含有前述聚醯亞胺系樹脂之相位差薄膜(B1)可藉任意適當之成形加工法得到者。較佳的是，前述相位差薄膜(B1)，可藉溶劑澆注法成形為薄片狀而製作者。
[纖維素系樹脂]
前述纖維素系樹脂可採用任意適當之物。前述纖維素系樹脂，較佳的是，使纖維素之氫氧基之部分或全部被乙醯基、丙醯基及丁基之至少一基團取代之纖維素有機酸酯或混合纖維素之有機酸酯。前述纖維素有機酸酯例如有纖維素乙酸酯、纖維素丙酸酯、纖維素丁酸酯等。前述混合纖維素之有機酸酯例如有纖維素乙酸丙酸酯、纖維素乙酸丁酸酯等。前述纖維素系樹脂可藉諸如日本國發明申請案公開公報第2001-188128號之[0040]-[0041]段落所載之方法得到。
前述纖維素系樹脂之量均分子量(Mw)之依四氫呋喃溶媒之凝膠滲透色譜法(聚苯乙烯標準)測定之值宜為20000-1000000之範圍。前述纖維素系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)宜為110-185℃之範圍。前述玻璃轉移溫度(Tg)可藉以JIS K 7121(1987年版)為準之DSC法求取者。只要是前述之樹脂時，即可得到具有更優異之熱安定性且機械強度更優之相位差薄膜。
含有前述纖維素系樹脂之相位差薄膜(B2)可藉任意適當之成形加工法得到者。較佳的是，前述相位差薄膜(B2)可藉溶劑澆注法形成為薄片狀而製作者。前述相位差薄膜(B2)，例如可使用不經處理之市售的含有纖維素系樹脂之高分子薄膜。或者是，可使用對前述市售之薄膜施以延伸處理及收縮處理之至少一種處理等之二次加工之物。前述市售之薄膜為諸如日商富士軟片(股)公司製造之商品名稱「FUJITAC」系列(ZRF80S、TD80UF、TDY-80UL)、日商KONICA MINOLTA OPTO(股)公司製造之商品名稱「KC8U X2M」等。
作為前述第2相位差層使用之相位差薄膜係可更含有任意適當之添加劑。前述添加劑可為諸如可塑劑、熱安定劑、光安定劑、潤滑劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、難燃劑、著色劑、抗靜電劑、相溶劑、交聯劑、增黏劑等。前述添加劑之含量，較佳的是相對於主要成分之樹脂100重量份，超過0且10重量份以下。
前述第2相位差層亦可為使用液晶性組成物。使用前述液晶性組成物時，前述第2相位差層包括含有配向成平面排列之棒狀液晶化合物之液晶性組成物之固化層或硬化層、或含有配向成柱狀排列之盤柱狀液晶化合物之液晶性組成物之固化層或硬化層。使用前述液晶化合物時，厚度方向之雙折射率較大，因此可得到薄型的相位差薄膜。
由含有配向成前述平面排列之棒狀液晶化合物之液晶性組成物之固化層或硬化層構成之相位差薄膜，可藉例如日本國發明申請案第2003-287623號所載之方法得到者。又，由含有配向成前述柱狀排列之盤柱狀液晶化合物之液晶性化合物之固化層或硬化層構成之相位差薄膜可藉例如日本國發明申請案公開公報第H09-117983號所載之方法得到者。
[D-5.液晶單元]
前述液晶單元係與前述第1液晶面板之液晶單元同樣。
[D-6.第1偏光板與第2偏光板之關係]
前述第1偏光板及前述第2偏光板係相互以吸收軸為正交之關係配置者佳。前述第2偏光板之厚度係與前述本發明之偏光板(第1偏光板)同樣。
如前述，前述第1偏光板之透射率(T1 )宜為38.3-43.3%之範圍。令前述T1 為前述範圍時，可得到正面方向之對比率更高之液晶面板。前述T1 係以38.6-43.2%之範圍較佳，且以39.9-43.1%之範圍更佳，又以39.2-43.0%之範圍尤佳。
如前述，前述第2偏光板之透射率(T2 )宜為41.1-44.3%之範圍。令前述T2 為前述範圍時，可得到正面方向之對比率高之液晶面板。前述T2 又以41.5-44.3%之範圍為佳，以41.9-44.2%之範圍更佳，且以42.3-44.2%之範圍尤佳。
以使前述第1偏光板及前述第2偏光板之透射率增加乃至於減少之方法而言，例如前述第1偏光板及前述第2偏光板是使用含有含碘之聚乙烯醇系樹脂之偏光件時，可舉調整前述偏光件中之碘的含量之方法為例。具體而言，將前述偏光件中之碘的含量時，即可將前述第1偏光板及前述第2偏光板之透射率提高。此方法不但適用在滾筒狀偏光板之製作，亦適用在葉片狀偏光板之製作。針對前述偏光件之詳細乃如前述。
前述第1偏光板及前述第2偏光板之至少一方的偏光度宜為99%以上。令前述偏光度為99%以上時，可得到正面方向之對比率更高之液晶面板。前述偏光度又以99.5%以上為佳，且以99.8%以上更佳。前述偏光度可使用諸如分光光度計(日商村上色彩技術研究所製之商品名稱「DOT-3」)測定者。前述偏光度之具體的測定方法可測定前述第1偏光板及前述第2偏光板之平行透射率(H0 )及正交透射率(H90 )，由偏光度(%)={(H0 -H90 )/(H0 ＋H90 )}1/2 ×100的式子求得者。前述平行透射率(H0 )係重疊2枚同一偏光板且使相互的吸收軸平行而製作之平行型積層偏光板之透射率之值。前述正交透射率(H90 )係重疊2枚同一偏光板且使相互的吸收軸正交而製作之正交型積層偏光板之透射率之值。又，其等透射率係藉JIS Z 8701(1982年版)之2度視野(C光源)而進行視覺靈敏度補正之Y值。
[E.液晶顯示裝置]
本發明之液晶顯示裝置係以含有前述本發明之偏光板或液晶面板者為特徵。第5圖之概略剖視圖顯示本發明之液晶顯示裝置之一構成例。在同圖中，為了容易了解起見，各構成構件之大小、比例等與實際情形不同。如圖所示，本液晶顯示裝置200至少包含有：液晶面板100、及設於前述面板100一側之直下式背光單元80。前述直下式背光單元80至少包含有光源81、反射薄膜82、擴散板83、聚光薄片84、及亮度提昇薄膜85。又，在本例之液晶顯示裝置200中，以背光單元而言，是顯示採用直下式之型態，但本發明並不限於此，亦可為側光式背光單元。側光式背光單元，除了具有前述直下式之構成外，另至少具有導光板及光線反射器。又，在第5圖中所示之例中的構成元件，只要在可得到本發明之效果時，即可因應液晶顯示裝置之照明方式或液晶單元之驅動模式等及用途，省略其中一部分，或者是以其他光學構件替代。
本發明之液晶顯示裝置可為由液晶面板之背光單元側照射光線來看畫面之透射型，亦可為由液晶面板之辨識側照射光線來看畫面之反射型，亦可為並具透射型及反射型兩者性質之半透射型。
本發明之液晶顯示裝置可使用在任意適當的用途上。其用途例如有個人電腦監視器、筆記型電腦、複印機等之OA機器、行動電話、手錶、數位照相機、可攜式資訊終端機(PDA)、可攜式遊戲機等之行動機器、錄影照相機、電視機、微波爐等之家庭用電氣機器、倒車監視器、汽車導航系統用監視器、車用音響等之車輛用機器、商店用資訊用監視器等之展示用機器、監視用監視器等之警衛用機器、看護用監視器、醫療用監視器等之看護暨醫療用機器等等。
較佳的是，本發明之液晶顯示裝置之用途為電視機。前述電視機之畫面尺寸宜為Wide17型(373mm×224mm)以上，又以Wide23型(499mm×300mm)以上更佳，且以Wide32型(687mm×412mm)以上尤佳。
【實施例】
其次，針對本發明之實施例，連同比較例一併說明。此外，本發明並不因下述實施例及比較例有任何限定，且不受限制。又，各實施例及各比較例中之各種特性及物性之測定及評價係藉下述方法實施者。
(偏光板之含水率)
偏光板之含水率係以下述方法測定。
(1)由偏光板，沿寬度方向(TD方向)以等間隔切出5個10cm×10cm之樣本。測定各樣本之重量，當作為初期之樣本重量(W0)。
(2)將前述各樣本投入120℃之烤箱(日商Espec(股)公司製、商品名稱「Clean Oven PVHC-211」)12小時以上，進行加熱處理。其後，測定由前述烤箱取出後之前述各樣本之重量，作為業經加熱處理後之樣本重量(W1)。
(3)藉下式(II)算出前述各樣本之含水率(%)，使前述5個樣本的含水率之平均值作為其偏光板之含水率。
含水率(%)={(W0-W1)/W0}×100　(II)
W0：初期的樣本重量
W1：業經加熱處理後之樣本重量
(偏光板之應變)
偏光板之應變係以下述方法測定。
(1)使用描圖紙，將液晶面板之辨識側之偏光板的表面粗糙面化(2-4μm程度)。
(2)在前述偏光板之粗糙面化之表面上使用接著劑貼附三軸式應變儀(日商東京測器研究所公司製、儀表型號：FRA-5-11)，使其完全接著者。此時，將前述應變儀之4條儀表之測定部貼在前述偏光板中央部之10cm×10cm正方的頂點。
(3)將前述應變儀安裝在數據記錄器(日商東京測器研究所公司製)，設定在應變測定模式。
(4)利用夾具將液晶面板在常溫(20-25℃)下直立固定後，投入50℃±3℃之烤箱(日商Espec公司製、商品名稱「Clean Oven PVHC-211」)。
(5)令投入前述烤箱時為0分鐘，測定偏光板之應變之歷時變化。在此，前述偏光板之應變(με)是藉下述式子(111)算出之值。
με=ΔL/L　(III)
L：儀表長度
ΔL：儀表變化長度
(黑亮度比)
從背光單元點亮開始經過30分鐘後，進行黑顯示，利用亮度分布測定裝置(日商KONICA MINOLTA公司製、商品名稱「CA-1500」)，藉黑亮度比=最大亮度/最小亮度的式子算出黑亮度比。此時，將液晶面板切成橫向4區塊×縱向4區塊共16分，令中央部4區塊之最小的黑亮度為最小亮度，且前述液晶面板面內之最大的黑亮度為最大亮度。
(波紋)
在23℃之暗室中將背光單元點亮後經過30分鐘後，以目視觀察呈現黑顯示時之顯示面(1m×1m=1m2 )，藉有沒有亮點，判斷有沒有波紋。
A：未觀察到波紋(波紋數：0個)。
B：觀察到波紋，但仍未達到實用上成為問題所在之等級(波紋數：1-5個)。
C：觀察到波紋，且達到實用上成為問題所在之等級(波紋數：6個以上)。
(波長590nm之相位差值(Re[590]、Rth[590])、Nz係數及T[590])
波長590nm之相位差值(Re[590]、Rth[590])、Nz係數及T[590]係使用日商王子計測機器(股)公司製造、商品名稱「KOBRA21-ADH」，以23℃測定者。此外，平均折射率係使用阿貝折射率儀(日商Atago(股)公司製造、產品名稱「DR-M4」)測定之值。
(厚度)
厚度不足10μm時，使用薄膜用分光光度計(日商大塚電子(股)公司製造、商品名稱「瞬間多測光系統MCPD-2000」)測定的。厚度大於10μm以上時，則使用日商Anritsu公司製造、數位測微器「KC-351C型」測定的。
(聚醯亞胺系樹脂之分子量)
聚醯亞胺系樹脂之分子量是藉凝膠滲透色譜(GPC)法而將環氧聚苯乙烯為標準試料而測定。具體而言，是藉下述之裝置、器具及測定條件測定的。
測定樣本：將試料溶解在洗提液，作成0.1重量%之溶液，靜放8小時後，以0.45μm之膜濾器過濾之過濾液作為測定樣本使用。
分析裝置：日商東曹公司製造、商品名稱「HLC-8020GPC」
柱：日商東曹公司製造、商品名「GMHXL ＋GMHxL ＋G2500HXL 」
柱尺寸：各為7.8mmψ×30cm(合計90cm)
洗提液：二甲基甲醯胺(加入10mM之溴化鋰及10mM之磷酸，加到標線成為1L之二甲基甲醯胺溶液者)
流量：0.8mL/分鐘
檢測器：RI(微差折射儀)
柱溫度：40℃
[透明保護薄膜] [參考例1]
準備厚度80μm之TAC薄膜(日商富士軟片(股)公司製造、商品名稱「80UL」)。將此當做透明保護薄膜。
[偏光件] [參考例2]
將厚度75μm之聚乙烯醇系樹脂為主要成分之高分子薄膜(日商KURARAY(股)公司製造、商品名稱「VF-PS# 7500」)，一邊在薄膜之長向附與張力，一邊浸泡在下述[1]-[5]之條件的5浴，延伸成最後的延伸倍率相對於薄膜原本的長度變成6.2倍大者。將這個延伸薄膜放在40℃之空氣循環式烤箱內乾燥1分鐘，製作偏光件。
＜條件＞
[1]膨潤浴：30℃之純水。
[2]染色浴：含有相對於水100重量份為0.032重量份之碘及0.2重量份之碘化鉀之30℃之水溶液。
[3]第1交聯浴：含有3重量%之碘化鉀及3重量%之硼酸之40℃之水溶液。
[4]第2交聯浴：含有5重量%之碘化鉀及4重量%之硼酸之60℃之水溶液。
[5]水洗浴：含有3重量%之碘化鉀之25℃之水溶液。
[第1光學補償層] [參考例3]
將厚度140μm之含有降冰片烯系樹脂之高分子薄膜(日商JSR公司製造、商品名稱「ARTON」)，使用拉幅機，藉固定端橫向單軸延伸法(固定長向且沿寬度方向延伸之方法)，在155℃之空氣循環式恆溫烤箱內延伸到2.8倍，製作了第1光學補償層AR1。這個第1光學補償層AR1之折射率顯示nx＞ny＞nz之關係，厚度40μm、T[590]=91%、Re[590]=120nm、Rth[590]=160nm、波長590nm中之Nz係數=1.33、C[590]=4.0×10-12 m2 /N。
[參考例4]
將8.8g之聚乙烯醇系樹脂(日商日本合成化學(股)公司製造、商品名稱「NH-18」(聚合度=1800、皂化度=99.0%))以105℃乾燥2小時後，溶解在167.2g之二甲基亞碸(DMSO)。在此，加入2.98g之2一甲氧基一1一萘醛及0.80g之對甲苯磺酸.1水合物，以40℃攪拌1小時。在這個反應溶液加入3.18g之苯甲醛，以40℃攪拌1小時後，更加入23.60g之1,1一二乙氧基乙烷(縮醛)，在40℃下攪拌3小時。其後，加入2.13g之三乙胺後結束反應。以1L之甲醇再將如此所得到之粗糙生成物沈澱。將此過濾得到之聚合物溶解在四氫呋喃，再次以甲醇進行沈澱。將此過濾且乾燥，得到11.5g之聚合物。以1 HNMR測定這個聚合物時，如下述，具有下述(6)式表示之重複單位，1:m:n:o(莫耳比)=11:37:45:7。又，藉微差掃描熱析儀測定這個聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)時，得到123℃。又，這個聚合物之光彈性係數之絕對值(C[550])為2.4×10-11 m2 /N。
1 HNMR(DMSO)之測定結果：
0.8-2.3(主鏈甲撐基及縮醛部之甲基)
3.4-4.4(鍵結氧原子之主鏈次甲基、甲氧基之甲基及氫氧基)
4.5-5.1(縮醛部之次甲基)
5.4-5.9(苯部之次甲基)
6.4(2-甲氧基萘部之次甲基)
7.1-7.5(2-甲氧基萘及苯部之芳香族質子)
7.7-8.8(2-甲氧基萘部之芳香族質子)
將前述聚合物溶解在丁酮(MEK)，而澆注在基材(PET)上，使乾燥後之厚度成為110μm，得到聚乙烯縮醛系薄膜。剝離前述基材後，將該薄膜，以延伸機，在140℃下將固定端沿寬度方向延伸2倍，製作第1光學補償層aR1。這個第1光學補償層aR1之折射率顯示nx＞ny＞nz之關係，厚度為50μm、T[590]=92%、Re[590]=140nm、Rth[590]=150nm、波長590nm之Nz係數=1.07。又，這個第1光學補償層aR1顯示反分散之波長依存性。
[第2光學補償層] [參考例5]
在安裝有機械式攪拌裝置、Dean-Stark裝置、氮導入管、溫度計及冷卻管之反應容器(500mL)內加入2,2’-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙酸二酐(日商Clariant(股)公司製造)17.77g(40mmol)及2,2一雙(三氟甲基)一4,4’一二胺基二苯基(日商和歌山精化工業(股)公司製造)12.81g(40mmol)。接著加入將異喹啉2.58g(20mmol)溶解在間甲酚257.21g之溶液，在23℃攪拌1小時(600次/分鐘)，得到均勻的溶液。其次，利用油浴將反應容器加溫，使反應容器內之溫度成為180±3℃，一邊保持溫度，一邊攪拌5小時，得到黃色溶液。進一步進行3小時的攪拌後，停止加熱及攪拌，使其放冷回復到室溫時，聚合物成為凝膠狀而析出。
將前述反應容器內之黃色溶液加入丙酮，使凝膠完全溶解，製作稀釋溶液(7重量%)。在2L之異丙醇中一邊繼續地攪拌，一邊加入這個稀釋溶液時，析出白色粉末。過濾取出這個粉末，投入1.5L之異丙醇中予以洗淨。進一步再重複進行一次同樣的操作並予以洗淨後，再次過濾取出前述粉末。將這粉末在60℃之空氣循環式恆溫烤箱中乾燥48小時後，再以150℃乾燥7小時，以得率85%得到下述構造式(7)之聚醯亞胺粉末。前述聚醯亞胺之聚合平均分子量(Mw)為124000，醯亞胺化率為99.9%。
將前述聚醯亞胺粉末溶解於甲基異丁基甲酮，調製成15重量%之聚醯亞胺溶液。藉狹縫塗佈機，將這個聚醯亞胺溶液流延在TAC薄膜(厚度80μm)之表面上，均勻地形成薄片狀。其次，將前述薄膜投入多室型之空氣循環式乾燥烤箱內，在80℃下花2分鐘、在135℃下花5分鐘、在150℃下花10分鐘，從低溫慢慢地昇溫，使溶劑蒸發，得到具有厚度3.7μm之聚醯亞胺層及TAC薄膜之積層體(C)得。前述積層體(C)之折射率顯示nx=ny＞nz之關係(負的單軸性)，T[590]=90%、Re[590]=1nm、Rth[590]=210nm。此外，前述積層體(C)之聚醯亞胺層部分之光學特性為Rth[590]=150nm、Δnxz =0.04。
[含有金屬化合物膠體之聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑] [參考例6]
將含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂(日商日本合成化學工業(股)公司製造、商品名稱「GOHSEFIMER Z200」、平均聚合度：1200、皂化度：98.5莫耳%、乙醯乙醯基化度：5莫耳%)100重量份與羥甲基三聚氰胺50重量份，在30℃之溫度條件下溶解於純水，得到調整成固形物濃度3.7%之水溶液。相對於這個水溶液100重量份，加入氧化鋁膠體水溶液(平均粒徑15nm、固形物濃度10%、正電荷)18重量份，調製出水溶性接著劑。前述水溶性接著劑之黏度為9.6mPa‧s，pH為4-4.5。
[液晶單元] [參考例7]
由含有VA模式之液晶單元之市售的液晶顯示裝置(SONY(股)公司製、32吋液晶電視機、商品名稱「BRAVIA」)取出液晶面板，將配置於液晶單元上下之偏光板等之光學薄膜全部移除。洗淨這個液晶單元之玻璃板的表面及背面，得到液晶單元。
[實施例1] [第1偏光板]
在前述參考例2之偏光件之一側，以含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑(日商日本合成化學工業(股)公司製、商品名稱「GOHSEFIMER Z200」)為中介，且使前述第1光學補償層AR1之慢軸與前述偏光件之吸收軸正交之狀態下，貼著前述參考例3之第1光學補償層AR1。其次，在前述偏光件之另一側，以前述水溶性接著劑為中介貼著前述參考例1之透明保護薄膜。將如此得到之積層體放在60-90℃之烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製)乾燥5分鐘。
在前述乾燥後，藉將前述積層體花10分鐘通過80℃之烤箱(日商岡崎機械工業公司製造)，進行加熱處理(退火處理)。如此進行之後，製作了第1偏光板AP1。
[第2偏光板]
在前述參考例2之偏光件之兩面各以含有聚乙烯醇系聚合物之水溶性接著劑(日商日本合成化學工業(股)公司製造、商品名稱「GOHSEFIMER Z200」)為中介貼著前述參考例1之透明保護薄膜。如此進行之後製作了第2偏光板AP2。
[第1液晶面板及液晶顯示裝置]
在前述參考例7之液晶單元之辨識側，以丙烯酸系黏著劑(厚度：20μm)為中介貼著前述第1偏光板AP1，且使第1光學補償層AR1側為前述液晶單元側，前述第1偏光板AP1之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向平行者。其次，在前述液晶單元之背光單元側，以丙烯酸系黏著劑(厚度：20μm)為中介貼著前述第2偏光板AP2，且使前述第2偏光板AP2之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向正交，而得到第1液晶面板AL1。此時，使前述第1偏光板AP1之吸收軸與前述第2偏光板AP2之吸收軸正交者。使前述第1液晶面板AL1與原先的液晶顯示裝置之背光單元結合，製作了液晶顯示裝置AD1。
[實施例2]
在第1偏光板之製作中，花10分鐘通過75℃之烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製)內，進而進行加熱處理(退火處理)之外，其餘以與實施例1同樣之方法製作第1偏光板BP1、液晶面板BL1及液晶顯示裝置BD1。
[實施例3]
在第1偏光板之製作中，花8分鐘通過75℃之烤箱(日商岡崎機械工業公司製)內，進而進行加熱處理(退火處理)之外，其餘以與實施例1同樣之方法製作第1偏光板CP1、液晶面板CL1及液晶顯示裝置CD1。
[實施例4]
在第1偏光板之製作中，花23分鐘通過60℃之烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製)內，進而進行加熱處理(退火處理)之外，其餘以與實施例1同樣之方法製作第1偏光板DP1、液晶面板DL1及液晶顯示裝置DD1。
[實施例5]
在第1偏光板之製作中，在前述偏光件與前述第1光學補償層之貼著上使用前述參考例6之水溶性接著劑之外，其餘以與實施例1同樣之方法，製作了第1偏光板FP1、第1液晶面板EL1及液晶顯示裝置ED1。
[實施例6]
在第1偏光板之製作中，在前述偏光件與前述第1光學補償層之貼著上使用前述參考例6之水溶性接著劑之外，其餘以與實施例2同樣之方法，製作了第1偏光板FP1、第1液晶面板FL1及液晶顯示裝置FD1。
[實施例7]
在第1偏光板之製作中，在前述偏光件與前述第1光學補償層之貼著上使用前述參考例6之水溶性接著劑之外，其餘以與實施例3同樣之方法，製作了第1偏光板GP1、第1液晶面板GL1及液晶顯示裝置GD1。
[實施例8]
在第1偏光板之製作中，在前述偏光件與前述第1光學補償層之貼著上使用前述參考例6之水溶性接著劑之外，其餘以與實施例4同樣之方法，製作了第1偏光板HP1、第1液晶面板HL1及液晶顯示裝置HD1。
[實施例9] [第1偏光板]
與實施例1之第1偏光板之製作同樣進行，製作第1偏光板AP1。
[第2偏光板]
在前述參考例2之偏光件之一側，以含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑(日商日本合成化學工業(股)公司製造、商品名稱「GOHSEFIMER Z200」)為中介貼著前述參考例5之積層體(C)，使前述積層體(C)之TAC薄膜側與前述偏光件相對者。其次，在前述偏光件之另一側，以前述水溶性接著劑為中介貼著前述參考例1之透明保護薄膜。如此進行之後，製作了第2偏光板IP2。
[第2液晶面板及液晶顯示裝置]
在前述參考例7之液晶單元之辨識側，以丙烯酸系黏著劑(厚度：20μm)為中介貼著前述第1偏光板AP1，且使第1光學補償層AR1側為前述液晶單元側，前述第1偏光板AP1之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向平行者。其次，在前述液晶單元之背光單元側，以黏著劑(厚度：20μm)為中介貼著前述第2偏光板IP2，且使前述積層體(C)側為前述液晶單元側，前述第2偏光板IP2之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向正交，而得到第2液晶面板IL1。此時，使前述第1偏光板AP1之吸收軸與前述第2偏光板IP2之吸收軸正交者。使前述第2液晶面板IL1與原先的液晶顯示裝置之背光單元結合，製作了液晶顯示裝置ID1。
[實施例10]
除了第1偏光板是使用實施例2所製作之第1偏光板BP1外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板JL1及液晶顯示裝置JD1。
[實施例11]
除了第1偏光板是使用實施例3所製作之第1偏光板CP1外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板KL1及液晶顯示裝置KD1。
[實施例12]
除了第1偏光板是使用實施例4所製作之第1偏光板DP1外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板LL1及液晶顯示裝置LD1。
[實施例13]
除了第1偏光板是使用實施例5所製作之第1偏光板EP1外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板ML1及液晶顯示裝置MD1。
[實施例14]
除了第1偏光板是使用實施例6所製作之第1偏光板FP1外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板NL1及液晶顯示裝置NDI。
[實施例15]
除了第1偏光板是使用實施例7所製作之第1偏光板GP1外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板OL1及液晶顯示裝置OD1。
[實施例16]
除了第1偏光板是使用實施例8所製作之第1偏光板HP1外，其次以與實施例9同樣之方法，製作了第2液晶面板PL1及液晶顯示裝置PD1。
[實施例17] [第1偏光板]
在前述參考例2之偏光件之一側，以含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑(日商日本合成化學工業(股)公司製造、商品名稱「GOHSEFIMER Z200」)為中介，貼著前述參考例4之第1光學補償層aR1，且前述第1光學補償層aR1之慢軸與前述偏光件之吸收軸正交者。其次，以前述水溶性接著劑為中介，將前述參考例1之透明保護薄膜貼在前述偏光件之另一側。將如此得到之積層體在60-90℃之烤箱(日商岡崎機械工業公司製造)乾燥5分鐘。
在前述乾燥後，將前述積層體花9分鐘通過80℃的烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製造)內，進行加熱處理(退火處理)。如此進行之後，製作了第1偏光板aP1。
[第2偏光板]
與實施例1之第2偏光板之製作同樣進行，製作第2偏光板AP2。
[第1液晶面板及液晶顯示裝置]
在前述參考例7之液晶單元之辨識側以丙烯酸系黏著劑(厚度：20μm)為中介而貼著前述第1偏光板aP1，且第1光學補償層aR1側為前述液晶單元側，並使前述第1偏光板aP1之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向平行者。其次，在前述液晶單元之背光單元側以丙烯酸系黏著劑(厚度：20μm)為中介貼著前述第2偏光板AP2，且使前述第2偏光板AP2之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向正交時，得到本實施例之第1液晶面板aL1。此時，前述第1偏光板aP1之吸收軸和前述第2偏光板AP2之吸收軸正交。將前述第1液晶面板aL1與原有的液晶顯示裝置之背光單元結合，製作了液晶顯示裝置aD1。
[實施例18]
在第1偏光板之製作中，花8分鐘通過75℃的烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製)內，進行加熱處理(退火處理)外，其餘以與實施例17同樣之方法，製作第1偏光板bP1、第1液晶面板bL1及液晶顯示裝置bD1。
[實施例19]
在第1偏光板之製作中，花6分鐘通過75℃的烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製)內，進行加熱處理(退火處理)外，其餘以與實施例17同樣之方法，製作第1偏光板cP1、第1液晶面板cL1及液晶顯示裝置cD1。
[實施例20]
在第1偏光板之製作中，花19分鐘通過60℃的烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製)內，進行加熱處理(退火處理)外，其餘以與實施例17同樣之方法，製作第1偏光板dP1、第1液晶面板dL1及液晶顯示裝置dD1。
[實施例21]
在第1偏光板之製作中，對於前述偏光件與前述第1光學補償層aR1之貼著上使用前述參考例6之水溶液接著劑之外，其餘以與實施例17同樣的方法，製作第1偏光板eP1、第1液晶面板eL1及液晶顯示裝置eD1。
[實施例22]
在第1偏光板之製作中，對於前述偏光件與前述第1光學補償層aR1之貼著上使用前述參考例6之水溶液接著劑之外，其餘以與實施例18同樣的方法，製作第1偏光板fP1、第1液晶面板fL1及液晶顯示裝置fD1。
[實施例23]
在第1偏光板之製作中，對於前述偏光件與前述第1光學補償層aR1之貼著上使用前述參考例6之水溶液接著劑之外，其餘以與實施例19同樣的方法，製作第1偏光板gP1、第1液晶面板gL1及液晶顯示裝置gD1。
[實施例24]
在第1偏光板之製作中，對於前述偏光件與前述第1光學補償層aR1之貼著上使用前述參考例6之水溶液接著劑之外，其餘以與實施例20同樣的方法，製作第1偏光板hP1、第1液晶面板hL1及液晶顯示裝置hD1。
[實施例25] [第1偏光板]
與實施例17之第1偏光板之製作同樣進行，製作第1偏光板aP1。
[第2偏光板]
與實施例9之第2偏光板之製作同樣進行，製作第2偏光板IP2。
[第2液晶面板及液晶顯示裝置]
以丙烯酸系黏著劑(厚度：20μm)為中介，在前述參考例7之液晶單元之辨識側，令第1光學補償層aR1側為前述液晶單元側且在前述第1偏光板aP1之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向平行之狀態下貼著前述第1偏光板aP1。接著，以丙烯酸系黏著劑(厚度：20μm)為中介，在前述液晶單元之背光單元側，令積層體(C)側為前述液晶單元側且在前述第2偏光板IP2之吸收軸方向與前述液晶單元之長邊方向正交之狀態下貼著前述第2偏光板IP2，得到第2液晶面板iL1。此時，前述第1偏光板aP1之吸收軸與前述第2偏光板IP2之吸收軸正交。前述第2之液晶面板iL1與原有的液晶顯示裝置之背光單元結合，製作液晶顯示裝置iD1。
[實施例26]
第1偏光板係使用實施例18所製作之第1偏光板bP1之外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板jL1及液晶顯示裝置jD1。
[實施例27]
第1偏光板係使用實施例19所製作之第1偏光板cP1之外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板kL1及液晶顯示裝置kD1。
[實施例28]
第1偏光板係使用實施例20所製作之第1偏光板dP1之外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板lL1及液晶顯示裝置1D1。
[實施例29]
第1偏光板係使用實施例21所製作之第1偏光板eP1之外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板mL1及液晶顯示裝置mD1。
[實施例30]
第1偏光板係使用實施例22所製作之第1偏光板fP1之外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板nL1及液晶顯示裝置nD1。
[實施例31]
第1偏光板係使用實施例23所製作之第1偏光板gP1之外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板oL1及液晶顯示裝置oD1。
[實施例32]
第1偏光板係使用實施例24所製作之第1偏光板hP1之外，其餘以與實施例25同樣之方法製作第2液晶面板pL1及液晶顯示裝置pD1。
[比較例1]
在第1偏光板之製作中，花7分鐘通過70℃之烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製)內，進而進行加熱處理(退火處理)之外，其餘以與實施例1同樣之方法製作第1偏光板QP1、液晶面板QL1及液晶顯示裝置QD1。
[比較例2]
在第1偏光板之製作中，除了不進行加熱處理(退火處理)之外，其餘以與實施例1同樣之方法，製作第1偏光板RP1、液晶面板RL1及液晶顯示裝置RD1。
[比較例3]
在第1偏光板之製作中，花6分鐘通過70℃之烤箱(日商岡崎機械工業(股)公司製)內，進而進行加熱處理(退火處理)之外，其餘以與實施例17同樣之方法製作第1偏光板qP1、液晶面板qL1及液晶顯示裝置qD1。
[比較例4]
在第1偏光板之製作中，除了不進行加熱處理(退火處理)之外，其餘以與實施例17同樣之方法，製作第1偏光板rP1、液晶面板rL1及液晶顯示裝置rD1。
針對如此實施而得到之各實施例及各比較例之第1偏光板、液晶面板及液晶顯示裝置，進行各種特性之測定或評價。又，在偏光板之應變之測定中，使用切割成32吋之1/4大小之偏光板，同時進行4種不同的偏光板之應變的測定。將結果，其中針對實施例1-16及比較例1、2示於下述表1，針對實施例17-32及比較例3、4則示於下述表2。又，將實施例1-4及比較例1、2之縱向(TD方向)之偏光板之應變之歷時變化示於第6圖之線圖，將橫向(MD方向)之偏光板之應變之歷時變化示於第7圖之線圖。進而，將實施例17-20及比較例3、4之縱向(TD方向)之偏光板之應變之歷時變化示於第8圖之線圖，將橫向(MD方向)之偏光板之應變之歷時變化示於第9圖之線圖。又，在下述表1及表2中，TD應變係投入50±3℃之烤箱中120分鐘後之縱向(TD方向)之偏光板之應變，MD應變係投入50±3℃之烤箱120分鐘後之橫向(MD方向)之偏光板之應變。
如前述表1及表2所示，以含水率為3%以下之實施例1-32之第1偏光板而言，抑制了偏光板之應變，使用該偏光板之液晶顯示裝置黑亮度比極低，為1.83以下，防止黑顯示時之亮度不均的發生。此外，對於含水率在3%以上之比較例1-4之第1偏光板，偏光板產生應變，使用該偏光板之液晶顯示裝置之黑亮度比亦高，為2.01以上，黑顯示時亦發生亮度不均。又，對於實施例1-4、9-12、17-20、25-28及比較例1-4之波紋的評價結果為B，對此使用在偏光件與第1光學補償層之積層使用含有含金屬化合物膠體之聚乙烯醇系樹脂之水溶性黏著劑之實施例5-8、13-16、21-24及29-32，波紋之評價結果則為A。
 [產業利用性]
如上，本發明之偏光板係一種連稍微的亮度不均的發生都可防止之偏光板。本發明之偏光板、使用該偏光板之液晶面板及液晶顯示裝置的用途可舉例有諸如桌上式個人電腦、筆記型個人電腦、複印機等之OA機器、行動電話、手錶、數位照相機、行動資訊終端機(PDA)、行動遊戲機等之攜帶式機器、攝影照相機、電視機、電子微波爐等之家用電氣機器、倒車監視器、車用導航系統用監視器、車用音響等之車用機器、商店用資訊用堅稱器等之展示機器、監視用監視器等之警備機器、看護用監視器、醫療用監視器等之看護暨醫療機器等，其用途不受限，可適用於廣泛領域。
10．．．偏光板(第1偏光板)
11．．．透明保護薄膜(第1透明保護薄膜)
12．．．偏光件(第1偏光件)
13．．．光學補償層(第1光學補償層)
20．．．第2偏光板
21．．．第2透明保護薄膜
22．．．第2偏光件
23．．．第2光學補償層
30．．．第1液晶面板
40．．．第2液晶面板
41．．．液晶單元
411a,411b．．．基板
412．．．間隔件
413．．．液晶層
100．．．液晶面板
200．．．液晶顯示裝置
80．．．背光單元
81．．．光源
82．．．反射薄膜
83．．．擴散板
84．．．聚光薄片84
85．．．亮度提昇薄膜
第1圖係顯示本發明偏光板之構成例之模式剖視圖。
第2圖係顯示本發明第1液晶面板之構成例之模式剖視圖。
第3圖係顯示本發明第2液晶面板之構成例之模式剖視圖。
第4圖係顯示本發明液晶面板所具有之液晶單元之構成例之模式剖視圖。
第5圖係顯示本發明液晶顯示裝置之構成例之模式剖視圖。
第6圖係顯示本發明實施例中TD方向之偏光板的應變之歷時變化之線圖。
第7圖係顯示本發明實施例中MD方向之偏光板的應變之歷時變化之線圖。
第8圖係顯示本發明另一實施例中TD方向之偏光板的應變之歷時變化之線圖。
第9圖係顯示本發明另一實施例中MD方向之偏光板的應變之歷時變化之線圖。
10．．．偏光板
11．．．透明保護薄膜
12．．．偏光件
13．．．光學補償層

Claims (17)

  1. 一種偏光板，係依序積層有透明保護薄膜、偏光件及光學補償層，且前述透明保護薄膜之透濕度及前述光學補償層之透濕度相異者，前述光學補償層係一含有選自由降冰片烯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及丙烯酸系樹脂構成之群中之至少一種樹脂之相位差薄膜，前述光學補償層之Nz係數為1-1.6之範圍，前述偏光板之含水率為3%以下，前述偏光板以50℃±3℃施行加熱處理120分鐘後之TD方向之應變(μ ε)為700以下，且MD方向之應變(μ ε)為600以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中前述偏光件及前述光學補償層係藉由含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑形成之接著層積層者。
  3. 如申請專利範圍第2項之偏光板，其中前述含有聚乙烯醇系樹脂之水溶性接著劑更含有金屬化合物膠體，前述接著層含有來自前述金屬化合物膠體之金屬化合物微粒子。
  4. 如申請專利範圍第1項之偏光板，其中前述透明保護薄膜係三乙醯基纖維素薄膜。
  5. 一種液晶面板，包含有液晶單元及偏光板，前述偏光板係申請專利範圍第1項之偏光板，前述偏光板係於前述光學補償層位於前述液晶單元側之狀態下配置於前述液晶單元之至少一側。
  6. 如申請專利範圍第5項之液晶面板，其中前述液晶單元係VA模式。
  7. 一種液晶面板，包含有第1偏光板、第2偏光板及液晶單元，前述第1偏光板係申請專利範圍第1項之偏光板，前述第1偏光板中，前述透明保護薄膜為第1透明保護薄膜，前述偏光件為第1偏光件，前述光學補償層為第1光學補償層，前述第2偏光板係依序積層有第2透明保護薄膜、第2偏光件及第2光學補償層之偏光板，前述第1偏光板係於前述第1光學補償層位於前述液晶單元側之狀態下配置於前述液晶單元之辨識側，前述第2偏光板係於前述第2光學補償層位於前述液晶單元側之狀態下而配置於前述液晶單元之背光單元側。
  8. 如申請專利範圍第7項之液晶面板，其中前述第1光學補償層之折射率具有nx>ny≧nz之關係，前述第2光學補償層之折射率具有nx=ny>nz之關係，前述第2偏光板之透射率(T2 )大於前述第1偏光板之透射率(T1 )。
  9. 如申請專利範圍第8項之液晶面板，其中前述第2偏光板之透射率(T2 )與前述第1偏光板之透射率(T1 )間之差(△T=T2 -T1 )為0.1-6.0%之範圍。
  10. 如申請專利範圍第8項之液晶面板，其中前述第1偏光板之透射率(T1 )為38.3-43.3%之範圍。
  11. 如申請專利範圍第8項之液晶面板，其中前述第2偏光板之透射率(T2 )為41.1-44.3%之範圍。
  12. 如申請專利範圍第7項之液晶面板，其中前述第2光學補償層含有選自由聚醯亞胺系樹脂、纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及聚醯胺系樹脂構成之群中之至少一種熱塑性樹脂之相位差薄膜。
  13. 如申請專利範圍第7項之液晶面板，其中前述第2光學補償層係含有聚醯亞胺系樹脂之相位差層(B1)、含有纖維素系樹脂之相位差層(B2)、及前述相位差層(B1)與前述相位差層(B2)之積層體(C)之任一者。
  14. 如申請專利範圍第7項之液晶面板，其中前述液晶單元係VA模式。
  15. 一種液晶顯示裝置，係含有偏光板之液晶顯示裝置，前述偏光板係申請專利範圍第1項之偏光板。
  16. 一種液晶顯示裝置，係含有液晶面板之液晶顯示裝置，且前述液晶面板係申請專利範圍第5項之液晶面板。
  17. 一種液晶顯示裝置，係含有液晶面板之液晶顯示裝置，且前述液晶面板係申請專利範圍第7項之液晶面板。
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