TW200911015A - Coating method and pattern forming method - Google Patents

Description

200911015 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於在製造彩色濾光片或有機 EL ( EleCtr〇luminescent :電激發光）顯示裝置等之製造中， 藉由噴墨在基板上塗佈塗佈液之塗佈方法及使用此之圖案 形成方法。 【先前技術】 例如，在彩色濾光片之製造中，係將紅、綠、藍之3 色或是該些加上黑之4色的彩色光阻塗佈成特定圖案，最 近則硏究出噴墨塗佈以作爲將如此之多數材料塗佈於相同 基板之技術（例如專利文獻1、2、3 )。噴墨塗佈是將於 彩色印刷廣泛所使用之噴墨印刷之原理應用於彩色濾光片 等之塗佈，由於每噴嘴噴出不同顏色之彩色光阻液，故有 可以同時執行形成3色或4色之彩色濾光薄膜的優點。 於使用噴墨塗佈而塗佈多色之彩色光阻液之時，有產 生如塗佈於某區域之彩色光阻流出至鄰接之區域之問題， 爲了解決如此之問題，採用設置用以區隔不同區域之被稱 爲堤壁的區隔構件，將彩色光阻液塗佈至堤壁所包圍之區 域之手法（專利文獻4 )。 然而，原理上噴墨塗佈無法以充分良好精度噴出彩色 光阻液至所欲之位置上。因此，由將彩色光阻液正確供給 至堤壁所包圍之區域之觀點來看，提案有於藉由CF4氣體 所產生之電漿處理’使全面施予撥水處理之後，藉由〇 2 -4 - 200911015 氣體電漿使基板面施予親水處理而選擇性僅使堤壁表面施 予撥水性處理，補正彩色光阻液之滴下位置的技術（專利 文獻5 )。 但是，即使藉由如此之撥水處理也無法充分補正彩色 光阻液之滴下位置，當將彩色光阻液塡充於提壁所包圍之 區域全體之時，則產生如彩色光阻液體越過堤壁而流出至 鄰接之區域的不當事態。再者，當藉由撥液處理使堤壁側 面成爲撥水性時，彩色光阻被彈起而無法充分塡充彩色光 阻，有產生漏光之虞。 〔專利文獻1〕日本特開平1-217302號公報 〔專利文獻2〕日本特開平7-72325號公報 〔專利文獻3〕日本特開平7-146406號公報 〔專利文獻4〕日本特開平10-133194號公報 〔專利文獻5〕日本特開平2002-372921號公報 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 本發明是鑒於如此之事態所創作出者，其目的在於提 供藉由噴墨塗佈精度佳使塗佈膜塡充於形成在基板上之堤 壁內之塗佈方法及圖案形成方法。 〔用以解決課題之手段〕 爲了解決上述課題’在本發明之第1觀點中，提供一 種塗佈方法，其特徵爲：藉由噴墨方式供給塗佈液至基板 200911015 上堤壁所包圍之區域而形成塗佈膜’之後使其塗 而予以流動，依此使該塗佈膜塡充於上述堤壁所 域。 在上述第1觀點中，即使藉由上述噴墨方式 液之後使塗佈膜固化亦可。再者’可以使上述堤 有撥液處理，藉由噴墨供給塗佈液至上述堤壁所 域之後，使塗佈膜軟化、流動之前’上述堤壁表 親液處理。並且，上述塗佈膜之軟化是藉由將上 曝露於有機溶劑氛圍而執行爲佳。並且，上述堤 之區域，可以多數被形成在應形成多數彩色塗佈 的位置上。此時，上述塗佈液可以設爲彩色光阻 塗佈膜可以設爲成爲彩色濾光片層之彩色光阻薄 爲有機電激發光層之彩色光阻薄膜。又，可以將 膜適用於各種有機膜或是無機膜。 上述回流處理爲補正集中形成於上述堤壁所 域的塗佈膜之位置者即可，再者’於在上述堤壁 區域具有角部之時，即使上述塗佈膜遍及其角部 於上述塗佈液爲高黏度之時，即使塗佈膜遍及上 包圍之區域之外周部亦可。 在本發明之第2觀點中，提供一種圖案形成 基板上形成藉由塗佈膜所產生之薄膜圖案，其特 有在基板上以包圍薄膜形成預定區域之方式形成 程；藉由噴墨供給塗佈液至上述堤壁所包圍之薄 定區域，形成由塗佈膜所構成之薄膜之工程；和 佈膜軟化 包圍之區 供給塗佈 壁表面施 包圍之區 面被執行 述塗佈膜 壁所包圍 膜之各個 液，上述 膜或是成 上述塗佈 包圍之區 所包圍之 亦可，又 述堤壁所 方法，在 徵爲：具 堤壁之工 膜形成預 藉由使上 -6- 200911015 述薄膜軟化而予以流動，使該薄膜塡充於上述堤壁所包圍 之區域之工程。 在上述第2觀點中’即使又具有形成由上述塗佈膜所 構成之薄膜之後，使薄膜固化之工程亦可。再者，可以使 上述堤壁表面施有撥液處理，藉由噴墨供給塗佈液至上述 堤壁所包圍之薄膜形成預定區域之後，使薄膜軟化、流動 之前，上述堤壁表面被執行親液處理。又，上述薄膜之軟 化是藉由將上述薄膜曝露於有機溶劑氛圍而執行爲佳。再 者，上述堤壁所包圍之薄膜形成預定區域，可以多數被形 成在應形成多數彩色薄膜之各個的位置上。此時，上述塗 佈液可以爲彩色光阻液，上述薄膜可以爲彩色光阻薄膜， 依此形成彩色濾光片層之圖案或有機電激發光層之圖案。 再者，可以使上述塗佈膜適用於有機膜或是無機膜。 上述回流處理爲補正集中形成於上述堤壁所包圍之薄 膜形成預定區域的薄膜之位置者即可。再者’於在上述堤 壁所包圍之薄膜形成預定區域具有角部之時’即使上述薄 膜遍及其角部亦可，又於上述塗佈液爲高黏度之時’即使 薄膜遍及上述堤壁所包圍之薄膜形成預定區域之外周部亦 可。 在本發明之第3觀點中，提供一種記憶媒體’記憶有 在電腦上動作，並且控制處理系統之程式’其特徵爲：上 述程式於實行時是以執行第1觀點所記載之塗佈方法之方 式，使電腦控制上述處理系統。 在本發明之第4觀點中’提供一種記憶媒體’記憶有 200911015 在電腦上動作’並且控制處理系統之程式，其特徵爲：上 述程式於實行時是以執行第2觀點所記載之圖案形成方法 之方式，使電腦控制上述處理系統。 〔發明效果〕 若藉由本發明’於藉由噴墨塗佈形成塗佈膜之後，因 藉由回流處理使塗佈膜蔓延，故可以精度佳使塗佈膜塡充 於提壁內之區域。 【實施方式】 以下，一面參照附件圖面，一面針對本發明之實施形 態予以說明。 在此，舉例針對在液晶顯示裝置之彩色濾光片中塗佈 彩色光阻，形成彩色光阻圖案之方法予以說明。 第1圖爲表示本發明之一實施形態所涉及之彩色光阻 圖案之形成方法的流程圖，第2圖爲用以說明各工程之工 程剖面圖。 首先，如第2圖（a)所示般’在玻璃基板1上藉由 光刻形成樹脂製之堤壁2 ’規定多數薄膜形成預定區域3 (步驟1 )。該薄膜形成預定區域3是被形成在應形成紅 、綠、藍之3色或該些加上黑之4色的彩色光阻之薄膜之 各個的位置上。 接著，藉由使用例如CF4氣體般之含氟氣體的常壓電 漿，在玻璃基板1之全面施予對彩色光阻液體的撥液處理 -8- 200911015 (撥水處理），形成疏水面4 (步驟2，第2圖（b ))。 之後，藉由〇2氣體電漿，予以處理，使玻璃基板1表面 之氟飛散，予以親水化（步驟3，第2圖（c ))。 在該狀態下，藉由噴墨塗佈，將當作塗佈液之特定顏 色的彩色光阻液自噴嘴噴出至薄膜形成預定區域3，形成 將成爲彩色濾光層之彩色光阻薄膜7 (步驟4，第2圖（d ))如上述般，噴墨塗佈爲將彩色印刷廣泛使用之噴墨印 刷之原理應用於彩色瀘光片等之塗佈者，使用不同噴嘴執 行噴出紅、綠、藍之3色或該些加上黑之4色彩色光阻， 鄰接之薄膜形成預定區域3則被滴下互相不同顏色之彩色 光阻液。依此，可以同時形成3色或4色之彩色濾光片層 〇 此時，因對堤壁2施予撥水處理，而形成疏水面4， 故藉由噴墨方式即使自噴嘴5噴出之彩色光阻液6之滴下 位置多少有偏移，亦傳達堤壁2之側面而位置補正至中心 位置。在此，以使彩色光阻液6之供給量不自薄膜形成預 定區域3溢流之方式，停止於少量。在該階段，由於在疏 水面4彈起等，使得彩色光阻液6不在薄膜形成預定區域 3之全面蔓延，形成有間隙。 接著，藉由在堤壁2表面塗佈親水化液，或施予UV 照射處理等，除去堤壁2表面之疏水部而使全面親水化（ 步驟5，第2圖（e))。 之後，因應所需以適當之方法使所形成之彩色光阻薄 膜7予以固化（步驟6，第2圖（f))。此時不管固化 -9- 200911015 之手法，即使執行不施加減壓乾燥等之熱的乾燥而予以固 化亦可，或即使加熱予以固化亦可。該固化工程於不造成 搬運中之彩色薄膜7之變形等之問題時，不一定需要。 在該狀態下，使彩色光阻薄膜7曝露於稀釋劑等之有 機溶劑之氛圍而使軟化，並使流動（回流）（步驟7，第 2圖（g))。依此，彩色光阻薄膜7在薄膜形成預定區 域3之全面蔓延，成爲平坦化，被埋入形成於薄膜形成預 定區域3之間隙。該回流處理是如日本特開2002-3 3 4 8 3 0 號公報所揭示般，爲了省略用以光刻之圖案之形成工程， 開發有使光阻之形狀變化之技術。該回流處理是在將玻璃 基板1載置於腔室內之狀態下，可以藉由蒸發等將溶劑蒸 氣導入至腔室內而執行。 如此一來，於執行噴墨塗佈之後，於執行回流處理之 時，即使彩色光阻液之量少因亦可以在薄膜形成預定區域 3之全面蔓延，故可以減少噴墨塗佈之時之彩色光阻之供 給量。此時，雖然彩色光阻薄膜7之膜厚變薄，但是可以 藉由將初期時之光阻濃度設定成高濃度，或增加色濃度來 對應。於回流處理之後，因應所需執行加熱處理。依此’ 形成由彩色光阻所形成之薄膜的所欲圖案。 如此一來，藉由組合噴墨塗佈和回流處理，可以取得 以下之極大優點。 (1)噴墨塗佈由於不一定可以充分對應於本質爲微 細之圖案，故如第3圖（a )所示般’彩色光阻液6之滴 下位置在薄膜形成預定區域3之中偏離’此時如第3圖（ -10- 200911015 b)所示般，所形成之顏色光阻薄膜7之位置也偏離產生 顏色變淺之部份9 (淺色部份）。再者，如第4圖（a ) 所示般，又產生滴下位置偏離而一部份擱在堤壁2之情形 ’此時如第4圖（b)所示般，存在彩色光阻薄膜7之位 置又偏離’因退色之部份（退色部份）10而產生漏光之 部份。對此，藉由適用回流處理使彩色光阻薄膜7流動， 則可以將如第3圖（b)或第4圖（b)所示般之薄膜7之 偏離修正成第5圖（a )、（ b )而防止色薄部份或退色部 份之發生。 (2 )在以往之噴墨塗佈中，彩色光阻之滴下位置多 少偏離，因以彩色光阻遍及薄膜形成預定區域3之全面之 方式，而使得彩色光阻液之噴出量增加，故彩色光阻液超 越堤壁2而流出，有產生混色之虞但是於使用回流處理之 時，於噴出時彩色光阻液在薄膜不需要在形成預定區域3 之全面蔓延，因此可以減少彩色光阻液之噴出量難以產生 其流出。 (3)噴墨塗佈因爲滴下液體而使液體塡充於堤壁2 所包圍之區域者，故容易藉由液體之表面張力噴出形狀成 爲圓形。因此，於堤壁2所包圍之區域之形狀爲存在有角 部之時，則如第6圖（a )所示般，彩色光阻液6不遍及 角部12，其部份容易成爲退色。對此，藉由適用回流處 理而使彩色光阻薄膜7流動，如第6圖（b )所示般，可 以使薄膜7遍及角部1 2，並可以成爲難以產生退色部份 -11 - 200911015 (4 )於使用高黏度光阻之時，因噴墨塗佈之時之光 阻噴出量少量即可，故可以刪減光阻使用量，抑制越過堤 壁2，雖然難以產生混色，但是高黏度光阻流動性少，並 且少量滴下，故彩色光阻難以遍及薄膜形成預定區域3之 外周部，如第7圖（a)所示般，容易產生外周部13之退 色。對此，藉由適用回流處理，即使於使用如此高黏度光 阻之時，亦可以使彩色光阻薄膜7流動，如第7圖（b ) 所示般，可以使薄膜7遍及薄膜形成預定區域3之外周部 而蔓延於全體。 並且，不需要形成步驟2之形成疏水面4及步驟3之 玻璃基板1表面之親水化處理。於不執行該些工程之時， 則也不需要步驟5之親水化處理。 步驟6之薄膜7之固化於執行步驟7之回流處理之時 ，可藉由於回流處理之前在回流處理腔室內執行減壓乾燥 ，或藉由埋設於載置台之加熱器等所執行之加熱乾燥來執 行。但是’於設置於噴墨塗佈裝置和回流處理裝置分開之 位置之時，執行噴墨塗佈後玻璃基板被搬入至回流處理裝 置之腔室的玻璃基板搬運時，則有藉由噴墨塗佈所形成之 薄膜圖案損壞之虞。此時，於執行噴墨塗佈之後，馬上藉 由個別設置之裝置，執行減壓乾燥或加熱乾燥而予以固化 爲佳。 由極力使藉由噴墨塗佈所形成薄膜圖案不損壞之觀點 來看，以執行噴墨塗佈之後迅速執行回流處理爲佳，由如 此之觀點來看’以使用噴墨塗佈裝置和回流裝置成爲一體 -12- 200911015 之裝置爲佳。作爲如此之裝置，即使爲在鄰接不同 內各執行噴墨塗佈和回流處理者，或在相同腔室執 塗佈和回流處理者亦可。再者，於執行噴墨塗佈之 執行回流處理之期間，即使執行加熱處理等，適當 處理亦可。 接著，針對執行如此之圖案形成方法之處理系 控制系統之例予以說明。 第8圖爲表示如此之處理系統之方塊圖。該處 1 〇〇是如上述般，具備有藉由例如光刻技術形成堤 壁形成裝置1 〇 1、執行例如CF4氣體之電漿而執行 理，藉由 〇2氣體之電漿執行親水化處理之電漿處 1 02、自噴嘴供給彩色光阻而形成彩色光阻薄膜之 佈裝置103、藉由減壓乾燥或加熱乾燥等使噴墨塗 彩色光阻薄膜固化之固化裝置1 〇4、在執行撥水處 爲疏水面之堤壁表面，執行親水液塗佈或UV照射 化裝置1 〇 5、對彩色光阻薄膜執行回流處理之回流 置106等，並且在該些之間搬運基板1之搬運機構 再者，具有由控制處理裝置101〜106及搬運機構 微處理器（電腦）所構成之製程控制器1 〇 8。在製 器1 〇 8，操作者爲了管理處理系統1 〇 〇連接有執行 輸入操作等之鍵盤，或由將電漿處理裝置之運轉狀 化而予以顯示之顯示器等所構成之使用者介面1 09 再者，於製程控制器108連接有記憶部110 ’ 部儲存有用以在製程控制器10 8之控制下實現在處 之腔室 行噴墨 後，至 之其他 統及其 理系統 壁之堤 撥水處 理裝置 噴墨塗 佈後之 理而成 之親水 處理裝 107° 107之 程控制 指令之 況可視 〇 該記憶 理系統 -13- 200911015 1 〇〇所實行之各種處理之控制程式，或因應處理條件用以 使處理系統1 0 0之各構成裝置實行處理之程式即是處理程 式。處理程式被記憶於記憶部1 1 0之中之記憶媒體。記憶 媒體即使爲硬碟或半導體記憶體亦可，即使爲CDROM、 DVD、快閃記憶體等之可搬運性者亦可。再者，即使自其 他裝置經由例如專用迴路而適當傳送處理程式亦可。 然後，因應所需，利用來自使用者介面109之指示等 自記憶部1 1 〇叫出任意之處理程式而使製程控制器1 0 8實 行’依此在製程控制器1 0 8之控制下，執行處理系統1 〇 〇 之所欲處理。 構成處理系統1 〇 0之各處理裝置即使爲全部獨立之各 別裝置亦可，即使一部份或全部爲一體化者亦可。作爲一 體化之例可以舉出將噴墨塗佈裝置103和固化裝置104 — 體化，將噴墨塗佈裝置1 03和固化裝置1 04和回流處理裝 置1 06 —體化’將固化裝置1 04和回流處理裝置1 06 —體 化等。 藉由上述之裝置構成’根據記憶於記憶媒體之處理程 式，使處理系統實行上述第1圖所示之工程，可以執行彩 色光阻之塗佈處理及彩色光阻薄膜圖案之形成。 並且，本發明並不限定於上述實施形態，可作各種變 形。例如’在上述實施形態中’雖然本發明適用於形成彩 色光阻薄膜圖案，該彩色薄膜圖案爲使用於液晶顯示裝置 等所使用之彩色濾光片之濾光片層，但是亦可以適用於形 成使用有機半導體膜之EL元件用之彩色光阻薄膜圖案， -14- 200911015 再者，亦可以適用於形成LED (發光二極體）元件等之顯 示裝置中的薄膜，還有形成各種有機膜護無機膜，例如形 成氧化銦錫（ITO )膜或絕緣膜等之薄膜。 再者，雖然回流處理以使用有機溶劑之例予以表示， 但是並不限定於此，若爲對所形成之薄膜賦予流動性者， 即使爲藉由熱所產生之處理等，或其他處理亦可。 【圖式簡單說明】 第1圖爲表示本發明之一實施形態所涉及之彩色光阻 圖案之形成方法之流程圖。 第2圖爲用以說明本發明之一實施形態所涉及之彩色 光阻圖案之形成方法之各工程的工程剖面圖。 第3圖爲表示噴墨塗佈中之彩色光阻液之滴下位置及 所形成之薄膜之偏離的圖式。 第4圖爲表示噴墨塗佈中之彩色光阻液之滴下位置之 偏離及所形成之薄膜之偏離之圖式。 第5圖爲表示以回流處理補正噴墨圖佈中之薄膜偏離 之狀態的圖式。 第6圖爲表示以回流處理補正噴墨圖佈中之薄膜偏離 的狀態圖。 第7圖爲表示以噴墨塗佈在具有角部之區域形成薄膜 之狀態，和將藉由回流處理塗佈高黏度光阻而所形成之薄 膜遍及於薄膜形成預定區域之外周部的狀態圖。 第8圖爲表示執行本發明之一實施形態所涉及之圖案 -15- 200911015 形成方法之處理系統及其控制系統之例的方塊圖。 【主要元件符號說明】 1 :玻璃基板 2 :堤壁 3 :薄膜形成預定區域 4 :疏水面 5 :噴嘴 6 :彩色光阻液 7 :彩色光阻薄膜 9 :淺色部份 1 〇 :退色部份 1 2 :角部 1 3 :外周部 1 〇 〇 :處理系統 103 :噴墨塗佈裝置 104 :固化裝置 1 〇 6 :回流處理裝置 1 0 8 :製程控制器 1 1 〇 :記憶部 -16-

Claims (1)

1. 200911015 十、申請專利範圍 1.一種塗佈方法，其特徵爲：藉由噴墨方式供給塗佈 液至基板上堤壁所包圍之區域而形成塗佈膜，之後使其塗 佈膜軟化而予以流動，依此使該塗佈膜塡充於上述堤壁所 包圍之區域。 2 ·如申請專利範圍第1項所記載之塗佈方法，其中， 藉由上述噴墨方式供給塗佈液之後使塗佈膜固化。 3 ·如申請範圍第1或2項所記載之塗佈方法，其中， 上述堤壁表面施有撥液處理，藉由噴墨供給塗佈液至上述 堤壁所包圍之區域之後，使塗佈膜軟化、流動之前，上述 堤壁表面被執行親液處理。 4.如申請專利範圍第1或2項所記載之塗佈方法，其 中，上述塗佈膜之軟化是藉由將上述塗佈膜曝露於有機溶 劑氛圍而執行。 5 .如申請專利範圍第1或2項所記載之塗佈方法，其 中，上述堤壁所包圍之區域，是多數被形成在應形成多數 彩色塗佈膜之各個的位置上。 6.如申請專利範圍第5項所記載之塗佈方法’其中， 上述塗佈液爲彩色光阻液，上述塗佈膜爲成爲彩色濾光片 層之彩色光阻薄膜或是成爲有機電激發光層之彩色光阻薄 膜。 7 .如申請專利範圍第1或2項所記載之塗佈方法’其 中，上述塗佈膜爲有機膜或是無機膜。 8 ·如申請專利範圍第1或2項所記載之塗佈方法，其 -17- 200911015 中’上述回流處理係補正集中形成於上述堤壁所包圍之區 域的塗佈膜之位置。 9.如申請專利範圍第丨或2項所記載之塗佈方法，其 中’上述回流處理於在上述堤壁所包圍之區域具有角部之 時，使上述塗佈膜遍及其角部。 1 0 .如申請專利範圍第1或2項所記載之塗佈方法， 其中’上述回流處理於上述塗佈液爲高黏度之時，使塗佈 膜遍及上述堤壁所包圍之區域之外周部。 1 1 · 一種圖案形成方法，在基板上形成藉由塗佈膜所 產生之薄膜圖案，其特徵爲：具有 在基板上以包圍薄膜形成預定區域之方式形成堤壁之 工程； 藉由噴墨供給塗佈液至上述堤壁所包圍之薄膜形成預 定區域，形成由塗佈膜所構成之薄膜之工程·，和 藉由使上述薄膜軟化而予以流動，使該薄膜塡充於上 述堤壁所包圍之區域之工程。 1 2 .如申請專利範圍第1 1項所記載之圖案形成方法， 其中，又具有形成由上述塗佈膜所構成之薄膜之後，使薄 膜固化之工程。 1 3 _如申請專利範圍第1 1或1 2項所記載之圖案形成 方法，其中，上述堤壁表面施有撥液處理，藉由噴墨供給 塗佈液至上述堤壁所包圍之薄膜形成預定區域之後’使薄 膜軟化、流動之前，上述堤壁表面被執行親液處理。 1 4 .如申請專利範圍第1 1或1 2項所記載之圖案形成 -18- 200911015 方法，其中，上述薄膜之軟化是藉由將上述薄膜曝露於有 機溶劑氛圍而執行。 1 5 .如申請專利範圍第1 1或1 2項所記載之圖案形成 方法’其中’上述堤壁所包圍之薄膜形成預定區域，是多 數被形成在應形成多數彩色薄膜之各個的位置上。 1 6 如申請專利範圍第1 5項所記載之圖案形成方法， 其中’上述塗佈液爲彩色光阻液，上述薄膜爲彩色光阻薄 膜，依此形成彩色濾光片層之圖案或有機電激發光層之圖 案。 1 7 _如申請專利範圍第1 1或1 2項所記載之圖案形成 方法’其中，上述薄膜爲有機膜或是無機膜。 1 8 ·如申請專利範圍第1 1或1 2項所記載之圖案形成 方法’其中，上述回流處理係補正集中形成於上述堤壁所 包圍之薄膜形成預定區域的薄膜之位置。 1 9 .如申請專利範圍第1 1或1 2項所記載之圖案形成 方法’其中’上述回流處理於在上述堤壁所包圍之薄膜形 成預定區域具有角部之時，使上述薄膜遍及其角部。 2 0 .如申請專利範圍第1 1至1 7項中之任一項所記載 之圖案形成方法’其中’上述回流處理於上述塗佈液爲高 黏度之時’使薄膜遍及上述堤壁所包圍之薄膜形成預定區 域之外周部。 2 1 . —種記憶媒體’記憶有在電腦上動作，並且控制 處理系統之程式’其特徵爲：上述程式於實行時是以執行 申請專利範圍第1或2項所記載之塗佈方法之方式，使電 -19- 200911015 腦控制上述處理系統。 22 . —種記憶媒體，記憶有在電腦上動作，並且控制 處理系統之程式，其特徵爲：上述程式於實行時是以執行 申請專利範圍第1 1或1 2項所記載之圖案形成方法之方式 ，使電腦控制上述處理系統。 -20-