JP2007289825A - 膜形成方法、電気光学基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに機能膜、電気光学基板、及び電気光学装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による膜形成方法は、機能膜を構成する材料を含む液状材料を基板上の機能膜形成領域に配置し、当該液状材料を減圧環境下で乾燥させることで機能膜を形成する膜形成方法であって、液状材料を機能膜形成領域に充填する液状材料配置工程と、機能膜形成領域に対応する位置にマスク穴が形成された乾燥マスクを、基板と隙間を隔てて対向する位置に、マスク穴が機能膜形成領域に対向するように設置するマスク設置工程と、液状材料を減圧環境下で乾燥させて機能膜を形成する乾燥工程と、を有する膜形成方法である。
【選択図】図7
Description
第一の実施形態は、電気光学装置の一例である液晶表示装置を構成する液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を製造する工程において、機能膜の一例であるフィルタ膜としての色要素膜を形成する工程で用いられる膜形成方法を例に説明する。
最初に、液晶表示パネルについて説明する。図1は、液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図1(a)は、液晶表示パネルについて、各構成要素とともにフィルタ基板側から見た平面図であり、図1(b)は図1(a)にA−Aで示した断面における断面形状を示す概略断面図である。なお、以下の説明に用いた各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、それぞれの層や部材毎に縮尺を異ならせてある。
次に、フィルタ基板2に形成されているカラーフィルタ5及びカラーフィルタ5における色要素膜53の配列について説明する。図2(a)はカラーフィルタの一実施形態の平面構造を模式的に示す平面図であり、図2(b),(c)は、3色カラーフィルタの配列例を示す模式平面図である。
次に、液状材料を色要素領域52に充填する際に用いられる液滴吐出法について説明する。液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式等が挙げられる。帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御して吐出ノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に30kg/cm2程度の超高圧を印加して吐出ノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進して吐出ノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散して吐出ノズルから吐出されない。また、電気機械変換方式は、ピエゾ素子(圧電素子)がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。
次に、色要素領域52に充填された液状材料を乾燥させる際に用いられる乾燥マスクについて説明する。図5(a)は、乾燥マスクの概略構成を示す平面図であり、図5(b)は、マスク穴の形状を示す部分平面図であり、図5(c)は、マスク穴の断面形状を色要素領域52の断面形状と共に示す断面図である。
次に、フィルタ基板2の色要素膜形成工程について図6および図7を参照して説明する。図6はフィルタ基板の色要素膜形成工程を示すフローチャートであり、図7(a)〜(d)はフィルタ基板の色要素膜形成工程を示す模式断面図である。
(1)液状材料530が充填された色要素領域52の中央付近にマスク穴83を配置することで、液状材料530から蒸発した溶媒は、マスク穴83を通過して拡散するため中央付近の方が拡散し易くなる。蒸発した溶媒が拡散しやすいことで、液状材料530からの蒸発が起こり易くなる。これにより、色要素領域52に充填された液状材料530の乾燥速度を周辺部に対して中央部の方を速くする方向に調節することができる。
次に、本発明に係る膜形成方法、電気光学基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法の一実施形態である第二の実施形態について図面を参照して、説明する。本実施形態は、電気光学装置の一例である有機EL表示装置を製造する工程において、機能膜の一例である発光層及び正孔輸送層を形成する工程で用いられる膜形成方法を例に説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、第一の実施形態で説明した液滴吐出装置と実質的に同一のものであるため、液滴吐出装置に関する説明は省略する。
最初に、有機EL表示装置の構成について説明する。図8は、有機EL表示装置を示す概略正面図である。図8(a)に示すように、本実施形態の有機EL表示装置100は、発光素子である複数の有機EL素子107を有する素子基板101と、封止基板109とを備えている。有機EL素子107は所謂カラー素子であり、有機EL表示装置100は、赤色素子107R(赤色系)、緑色素子107G(緑色系)、青色素子107B(青色系)の3色の有機EL素子107を有している。有機EL素子107は表示領域106に配置されており、当該表示領域106に画像が表示される。
次に、画素領域121に充填された液状材料を乾燥させる際に用いられる乾燥マスクについて説明する。図10(a)は、乾燥マスクの概略構成を示す平面図であり、図10(b)は、マスク穴の形状を示す部分平面図であり、図10(c)は、マスク穴の断面形状を画素領域121の断面形状と共に示す断面図である。
次に、有機EL表示装置100の素子基板101における有機EL素子107を構成する正孔輸送層116及び発光層117の形成工程について図11および図12を参照して説明する。図11は素子基板の正孔輸送層及び発光層の形成工程を示すフローチャートであり、図12(a)〜(e)は素子基板の正孔輸送層及び発光層の形成工程を示す模式断面図である。
(1)液状材料560又は570が充填された画素領域121の周辺付近にマスク小穴183a〜hを配置することで、液状材料560などから蒸発した溶媒は、マスク小穴183a〜hを通過して拡散するため周辺付近の方が拡散し易くなる。蒸発した溶媒が拡散しやすいことで、液状材料560などからの蒸発が起こり易くなる。これにより、画素領域121に充填された液状材料560又は570の乾燥速度を中央部に対して周辺部の方を速くする方向に調節することができる。
Claims (21)
- 機能膜を構成する材料を含む液状材料を基板上の前記機能膜を構成するべき領域である1以上の機能膜形成領域に配置し、当該液状材料を減圧環境下で乾燥させることで前記機能膜を形成する膜形成方法であって、
前記液状材料を前記機能膜形成領域に充填する液状材料配置工程と、
前記機能膜形成領域に対応する位置にマスク穴が形成された乾燥マスクを、前記基板と隙間を隔てて対向する位置に、前記マスク穴が前記機能膜形成領域に対向するように設置するマスク設置工程と、
前記液状材料を前記減圧環境下で乾燥させて前記機能膜を形成する乾燥工程と、を有することを特徴とする膜形成方法。 - 前記乾燥マスクは、形成されている前記マスク穴の形状が互いに異なる中央乾燥マスク又は周辺乾燥マスクであって、
前記マスク設置工程を実施することなく前記乾燥マスクを用いない状態で前記乾燥工程を実行した場合に得られる前記機能膜の膜厚の状態に応じて、前記マスク設置工程において、前記中央乾燥マスク又は前記周辺乾燥マスクを設置することを特徴とする、請求項1に記載の膜形成方法。 - 前記中央乾燥マスクは、開口面積が前記機能膜形成領域の面積より小さい中央マスク穴を有し、
前記マスク設置工程において、前記中央乾燥マスクを、前記機能膜形成領域の中央と前記中央マスク穴の中央とが略重なる位置に設置することを特徴とする、請求項2に記載の膜形成方法。 - 前記中央マスク穴の平面形状は、前記中央乾燥マスクが前記基板上に設置された状態において、前記中央マスク穴の縁から前記機能膜形成領域の平面形状の外形までの距離が略均一となる形状であることを特徴とする、請求項3に記載の膜形成方法。
- 前記周辺乾燥マスクは、穴配置領域に形成された複数の小穴から成る周辺マスク穴を有し、
前記マスク設置工程において、前記周辺乾燥マスクは、前記穴配置領域が前記機能膜形成領域に対向しており、前記穴配置領域の中央と前記機能膜形成領域の中央とが略重なる位置に設置されることを特徴とする、請求項2に記載の膜形成方法。 - 前記穴配置領域の平面形状は、前記機能膜形成領域の平面形状と略同一であることを特徴とする、請求項5に記載の膜形成方法。
- 前記複数の小穴のそれぞれは、前記穴配置領域の外形形状線に内接する位置に形成されていることを特徴とする、請求項5又は6に記載の膜形成方法。
- 前記マスク設置工程を実施することなく前記乾燥マスクを用いない状態で前記乾燥工程を実行した場合に得られる前記機能膜が周辺側の膜厚が中央側の膜厚より厚い機能膜である場合に、前記マスク設置工程において、前記中央乾燥マスクを設置することを特徴とする、請求項2乃至4のいずれか1項に記載の膜形成方法。
- 前記マスク設置工程を実施することなく前記乾燥マスクを用いない状態で前記乾燥工程を実行した場合に得られる前記機能膜が周辺側の膜厚が中央側の膜厚より薄い機能膜である場合に、前記マスク設置工程において、前記周辺乾燥マスクを設置することを特徴とする、請求項2又は請求項5乃至7のいずれか1項に記載の膜形成方法。
- 機能膜を構成する材料を含む液状材料を基板上の前記機能膜を構成するべき領域である1以上の機能膜形成領域に充填することで前記基板上に配置する液状材料配置工程と、
前記機能膜形成領域に対応する位置に複数のマスク穴が形成された乾燥マスクを、前記基板と隙間を隔てて対向する位置に、前記マスク穴が前記機能膜形成領域に対向するように設置するマスク設置工程と、
前記液状材料を減圧環境下で乾燥させて前記機能膜を形成する乾燥工程と、を有し、
前記乾燥マスクは、形状が異なる複数の種類の前記マスク穴が形成されている混合乾燥マスクであって、
前記機能膜形成領域のそれぞれに対応する前記マスク穴の前記種類は、前記マスク設置工程を実施することなく前記乾燥マスクを用いない状態で前記乾燥工程を実行した場合に得られるそれぞれの前記機能膜形成領域毎の前記機能膜の膜厚の状態に応じて、決定することを特徴とする膜形成方法。 - 前記混合乾燥マスクは、1個の前記機能膜形成領域に対応する前記マスク穴が1個であり、当該マスク穴の開口面積が前記機能膜形成領域の面積より小さい第一のマスク穴と、
穴配置領域に形成された複数の小穴から成る第二のマスク穴と、を有し、
前記マスク設置工程において、前記混合乾燥マスクは、前記機能膜形成領域の中央と前記第一のマスク穴の中央とが略重なり、
前記機能膜形成領域の中央と前記穴配置領域の中央とが略重なる位置に配置されることを特徴とする、請求項10に記載の膜形成方法。 - 前記混合乾燥マスクは、
前記マスク設置工程を実施することなく前記乾燥マスクを用いない状態で前記乾燥工程を実行した場合に得られる前記機能膜の形状が周辺側の膜厚が中央側の膜厚より厚い形状であるような前記機能膜を形成する前記機能膜形成領域に対応する位置には前記第一のマスク穴を配置し、
前記マスク設置工程を実施することなく前記乾燥マスクを用いない状態で前記乾燥工程を実行した場合に得られる前記機能膜の形状が周辺側の膜厚が中央側の膜厚より薄い形状であるような前記機能膜を形成する前記機能膜形成領域に対応する位置には前記第二のマスク穴を配置することを特徴とする、請求項11に記載の膜形成方法。 - 前記第一のマスク穴の平面形状は、前記混合乾燥マスクが前記基板上に設置された状態において、前記第一のマスク穴の縁から前記機能膜形成領域の平面形状の外形までの距離が略均一となる形状であることを特徴とする請求項11又は12に記載の膜形成方法。
- 前記穴配置領域の平面形状は、前記機能膜形成領域の平面形状と略同一の形状であることを特徴とする、請求項11又は12に記載の膜形成方法。
- 前記複数の小穴のそれぞれは前記穴配置領域の外形形状線に内接する位置に形成されていることを特徴とする、請求項11、12、又は14に記載の膜形成方法。
- 前記周辺マスク穴又は前記第二のマスク穴を構成する前記複数の小穴のそれぞれの小穴、前記中央マスク穴、及び前記第一のマスク穴は、複数の微小穴の集合であることを特徴とする、請求項1乃至15の何れか1項に記載の膜形成方法。
- 機能膜を有する電気光学基板の製造方法であって、
少なくとも1種類の前記機能膜を請求項1乃至16の何れか1項に記載の膜形成方法を用いて形成することを特徴とする電気光学基板の製造方法。 - 機能膜を有する電気光学装置の製造方法であって、
少なくとも1種類の前記機能膜を請求項1乃至16の何れか1項に記載の膜形成方法を用いて形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 機能膜を構成する材料を含む液状材料を基板上の前記機能膜を構成するべき領域である1以上の機能膜形成領域に配置し、当該液状材料を減圧環境下で乾燥させることで前記基板上に形成されており、所定の機能を有する機能膜であって、平面形状が略円形であることを特徴とする機能膜。
- 機能膜を構成する材料を含む液状材料を基板上の前記機能膜を構成するべき領域である1以上の機能膜形成領域に配置し、当該液状材料を減圧環境下で乾燥させることで前記基板上に形成されており、所定の機能を有する機能膜を有する電気光学基板であって、
前記機能膜は平面形状が略円形であることを特徴とする電気光学基板。 - 機能膜を構成する材料を含む液状材料を基板上の前記機能膜を構成するべき領域である1以上の機能膜形成領域に配置し、当該液状材料を減圧環境下で乾燥させることで前記基板上に形成されており、所定の機能を有する機能膜を有する電気光学装置であって、
前記機能膜は平面形状が略円形であることを特徴とする電気光学装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8547014B2 (en) | 2008-10-03 | 2013-10-01 | Seiko Epson Corporation | Organic EL device and electronic apparatus |
JP2013225453A (ja) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | Denso Corp | 機能膜を有する構造体の製造方法 |
JP2014011109A (ja) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Denso Corp | 機能膜を有する構造体の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003159558A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-03 | Seiko Epson Corp | 塗布膜の乾燥方法及びその装置 |
JP2006059844A (ja) * | 2004-08-17 | 2006-03-02 | Seiko Epson Corp | 減圧乾燥装置 |
JP2006071185A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Seiko Epson Corp | 減圧乾燥装置 |
-
2006
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003159558A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-03 | Seiko Epson Corp | 塗布膜の乾燥方法及びその装置 |
JP2006059844A (ja) * | 2004-08-17 | 2006-03-02 | Seiko Epson Corp | 減圧乾燥装置 |
JP2006071185A (ja) * | 2004-09-02 | 2006-03-16 | Seiko Epson Corp | 減圧乾燥装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8547014B2 (en) | 2008-10-03 | 2013-10-01 | Seiko Epson Corporation | Organic EL device and electronic apparatus |
JP2013225453A (ja) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | Denso Corp | 機能膜を有する構造体の製造方法 |
JP2014011109A (ja) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Denso Corp | 機能膜を有する構造体の製造方法 |
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