TW200903404A - Display apparatus and method for manufacturing substrate for display apparatus - Google Patents

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200903404 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於液晶顯示裝置及電致發光 (electroluminescence)顯示裝置等的顯示裝置、還有上述 顯示裝置所具有的基板的製造方法。 【先前技術】 為了提升液晶顯示裝置的顯示品質，對施加至液晶的 電壓的控制是一項重要因素。特別是，若液晶顯示面板的 顯示區内的液晶的間隔（gap)不平均，會發生液晶的相位變 化的差異。其結果，會發生顯示影像的明暗不均的問題。 因此’使液晶顯示面板的顯示區内的線路、絕緣層等 膜層的厚度均一化是很重要的。上述線路、絕緣膜等是形 成於主動矩陣（activematrix)基板上，在上述主動矩陣基 板上形成有TFTCthin film transistor;薄膜電晶體）等 的切換元件。 液晶顯示裝置的顯示面板具有上述主動矩陣基板及與 其對向設置的對向基板。在液晶顯示裝置的顯示面板的製 造步驟中，係將樹脂絕緣膜、彩色濾光片（c〇1〇r fUte幻、 樹脂黑矩陣、與保護層（overcoat)塗佈於主動矩陣基板與 對向基板等。另外，亦塗佈阻劑（resist)等的有機膜，上 述阻劑會在使用微影法而形成圖形之後被移除。在塗佈上 述阻劑之時，多數會使用旋塗法（spin coating)。在使用 旋塗法的習知的液晶顯示裝置的製造步驟中，會有以旋塗 2185^9409-PF;Dwwang 5 200903404 法塗佈的有機膜的厚度不均的情形。因此在已塗佈的有機 膜膜厚:會遭遇到空間上的塗佈不均之類的問題的發生。 其原因是：若有機層的下層的線路或絕緣膜圖形具有較大 的尺寸’會受到該圖形形狀的影響。具體而言，由於具有 大型的圖形階差，旋塗時受到離心力的作用，有機膜溶液 會沿著圖形流動。然後，沿著上述圖形流動的有機膜溶液 會由於離〜力的作用，從圖形的角落或端點向外側流動。 因此’在有機膜溶液的溶劑揮發之後，會在有機膜發生以 圖形的角落或端點為起點的大型條紋狀的塗佈不均。此問 題解決對策的-例係揭示於專利文獻i中。專利文獻i所 揭示的液晶顯示裝晋县蚀却& h ^ 衮置疋使δ又置於主動矩陣基板的顯示區的 周圍的線路’成為如第7圖所示的形狀…叮元件是形 f於上述主動矩陣基板，也就是在線路8形成複數個小型 突起9。帛7圖的箭頭是顯示進行旋塗法時，作為迴轉轴 的基板中央方向U。藉由如第7圖所示的構成，藉由旋塗 法塗佈的有機膜溶液會因離心力，向基板中央方向U的反 方向流動之時，τ防止其沿著線路8流動。 【專利文獻1】 特開第2002-350820號公報 【發明内容】 【發明所欲解決的問題】 然而， 層的線路8 專利文獻1中所記載的顯示裝置中，會因在下 所形成複數個小型突起9，反而會妨礙有機膜 2l85-9409^pp；Dwwang 6 200903404 溶液的流動。因此，會發生有機膜的膜厚不均之複數個小 型條紋狀的塗佈不均10。上述的塗佈不均1〇會以小型突 起9的角落為起點，發生於基板中央方向u的相反側。因 此，仍留下導致顯示品質惡化之類的問題。 另外’為了提升顯示品質，不僅僅是主動矩陣基板上， 是有必要使層積於對向基板上的膜層不發生厚度上的不 均。具體而言，是有必要使形成於對向基板上的彩色滤光 片、樹脂黑矩陣、保護層、與柱狀間隔物等不發生厚度上 的不均。然而’仍有因為下層的其他臈層(例如彩色渡光片） 的形狀，而使其後以旋塗法塗佈的膜層產生塗佈不均的情 況。 還有，上述的問題不僅僅只在以旋塗法在液晶顯示裂 置用基板形成膜層的情況中發生。亦即，纟電致發光顯示 裝置等的其他的顯示裝置中，在 罝丫在以旋金法形成膜層的情況 中’亦會發生上述問題。 有鑑於此，本發明的目的在於以旋塗法在顯示裝置用 基板之上形成薄膜圖形時’抑制因為下層的其他薄膜圖形 的形狀的影響而發生的塗佈不均 的問>4。因此，本發明的 目的是提供-種顯示品質優異的顯示裝置、以及可提升顯 不裝置的顯示品質的顯示裝置用基板的製造方法。 【用以解決問題的手段】 關於本發明的第-型態的顯示裝置，是包含―基板， 具有略矩形的一顯示區；另外，並具有以下之構成··至少 一薄膜圖形’形成於上述基板上、且延伸至上述顯示區的 21B5-9409-PF;Dwwang 7 200903404 外側為止，其外緣端在上述顯示區的至少一角落部的附近 具有平滑的曲線形狀。 關於本發明的第二型態的顯示裝置，是包含一基板， 具有一顯示區；另外，並具有以下之構成··至少一薄膜圖 形，形成於上述基板上、且延伸至上述顯示區的外側為止， 其全體外緣具有平滑、連續的形狀。 關於本發明的第三型態的顯示裝置用基板的製造方 法，是包含形成一第一薄膜圖形於一基板上，上述第一薄 膜圖形延伸至上述基板中的顯示區的區劃的外部為止，且 上述第一薄膜圖形外緣端在上述顯示區的至少一角落部的 附近具有平滑的曲線形狀；以及以旋塗法（spin coating) 在上述第一薄膜圖形上塗佈一第二薄膜圖形。 關於本發明的第四型態的顯示裝置用基板的製造方 法，是包含形成一第一薄膜圖形於一基板上，上述第一薄 膜圖形延伸至上述基板中的顯示區的區劃的外部為止，且 上述第-薄膜圖形的全體外緣具有平滑、連續的形狀；以 及以旋塗法(spin coating)在上述第-薄膜圖形上塗佈一 第二薄膜圖形。 【發明效果】 藉由本發明’於以旋塗 薄膜圖形時，抑制因為下層 而發生的塗佈不均的問題， 顯示裝置、另外亦可提升顯 用基板的製造方法。 法在顯示裝置用基板之上形成 的其他薄膜圖形的形狀的影響 而可提供一種顯*品質優異的 示裝置的冑示品質的顯示裝置 2185-9409-PF;Dwwang 8 200903404 【實施方式】 為讓本發明；^ μ j # ^ 迷和其他目的、特徵、和優點能更明 顯易Μ，下文特舉出較 平乂佳貫施例，並配合所附圖式，作詳 細說明如下： 【實施發明的最佳型態】 以下針對本發明之可以適用的實施例進行說明。以下 内今疋4明本發明的實施例，但本發明並不受限於以下 的實施例為了使說明能夠明確，對以下的記載進行適當 省略簡略化。又，只*是本發明所屬$支術領域中具有 、常去識者，其可以在本發明的範圍内，輕易地變更、追 加、或置換以下的實施例所示的各個組成元件。而在各個 圖式中所不的相同元件賦予相同的元件符號，以適當地省 略說明的篇幅。 第一實施例 本實施例是將本發明應用於液晶顯示裝置。首先，使 用第1及2圖來說明本實施例之液晶顯示裝置1 〇〇。第1 圖為一剖面圖，係顯示液晶顯示裝置100的構成；而第2 圖則為一平面圖，係顯示液晶顯示裝置100的構成。 液晶顯示裝置1〇〇具有一液晶顯示面板1〇1與一背光 源102 °液晶顯示面板ι〇1是基於所輸入的顯示信號，來 進行影像的顯示。背光源102是配置於液晶顯示面板101 的影像觀賞側的相反側，從液晶顯示面板1 〇 1的背面側提 供光線的照射。液晶顯示面板1 〇 1具有一薄膜電晶體陣列 2lB5-9409-PF;Dwwang 9 200903404 • (thin film transistor array)基板 103、一對向基板 1〇4、 一密封（seal)材105、一液晶106、一柱狀間隔物i〇7、_ 閘極（gate)線（掃猫線）1 〇8、—源極（source)線（信號 線）1 09、一配向膜11 〇、對向電極1 i丨、偏向板u 2、閘極 驅動（driver)IC 113、源極驅動 1C 114。 在液晶顯示面板101中’薄膜電晶體陣列基板1 〇3及 對向基板104是對向配置。另外，上述二個基板是藉由密 封材1 05而接著，而將液晶1 〇6封入上述二基板與密封材 € 1 0 5之間的空間中。在上述二基板之間’是形成有柱狀間 隔物10 7，而藉由柱狀間隔物1 〇 7，而使上述二基板之間維 持著既定的間隔。關於薄膜電晶體陣列基板丨〇3及對向基 板104，可使用例如具透光性的玻璃、聚碳酸酯 (polycarbonate)、壓克力樹脂（acrylic resin)等的絕緣 性基板。 另外’在液晶顯示面板101的背面，具有背光源1 〇 2。 / 背光源102是從液晶顯示面板101的影像觀賞側的相反 侧，對此一液晶顯示面板1 〇 1進行光的照射。例如具有光 源、導光板、反射片（sheet)、擴散片、稜鏡（prism)片、 反射偏向片等的一般的構成可用來作為背光源1 〇2。 如第2圖所示，在薄膜電晶體陣列基板丨〇3係設置有 顯示區115與設置用來圍繞顯示區115的周邊區116。在 此顯示區115中，係形成有複數個閘極線丨〇8與複數個源 極線1 09。複數個閘極線108係平行設置；同樣地-複數 個源極線109也是平行設置。而閘極線丨〇8與源極線1 〇9 2185-9409'PF;Dwwang 10 200903404 是以交互交叉的方式而形成。 另外，在閘極線1 08與源極線1 09的交又點附近，則 〇又置有薄膜電晶體（thin film transistor ; TFT)118。而 在由鄰接的閘極線1 〇 8與鄰接的源極線1 〇 9所圍成的區域 中則形成有一畫素電極117。因此，由鄰接的閘極線1〇8 與鄰接的源極線109所圍成的區域，則成為畫素。在薄膜 電晶體陣列基板103上，畫素是成矩陣狀的配置。而形成 有上述複數個矩陣狀配置的畫素的區域，即為顯示區115。 如第1圖所示，在薄膜電晶體陣列基板1〇3，係形成 有薄膜電晶體118及畫素電⑯n7，其上則形成有配向膜 11〇。更詳細來說，薄膜電晶體118的閘極121是連接於閘 極線1 08 ’而薄膜電晶體j j 8的源極j 23則連接於源極線 ，薄膜電晶體118的汲極124是連接於畫素電極ip。 畫素電極117是由例如氧化銦錫（indium tin〇xide; ιτ〇) 等的透明導電性薄膜所形成。而在第i圖中，元件符號 「122」為閘絕緣膜，亦可是設置於構成畫素電容的電容電 極125與畫素電極117之間的絕緣膜。另外，元件符號「126」 是形成於薄膜電…18 Λ、由有機樹脂所構成的絕緣 膜，其形成是為了使薄膜電晶體i 18等的圖形平坦化。 薄膜電晶體陣列基板103上的上述各電極及線路等， 疋藉由施以微影處理及蝕刻處理所形成。具體而言，首先， 在已形成的金屬膜上塗佈阻劑而形成阻劑的塗層。然後， 藉由微影處理將上述阻劑的塗層圖形化，而形成阻劑圖 形。之後，以上述阻劑圖形為罩幕，對上述金屬膜施以蝕 2185-9409-pf；Dwwang 11 200903404 刻處理。藉此，而形成上述各電極及線路等β 另一方面’在對向基板丨0 4之與薄膜電晶體陣列基板 103對向的表面上，形成一彩色濾光片127、一樹脂黑矩陣 128、一保護層129、對向電極！丨丨、配向膜i丨〇等。而亦 有將對向電極111配置於薄膜電晶體陣列基板i 〇3這一側 的情況。另外，分別在薄膜電晶體陣列基板1〇3及對向基 板1 04的外側表面’貼附有偏向板丨丨2。 在薄膜電晶體陣列基板丨〇3的周邊區丨丨6，係設置有 閘極驅動1C 113及源極驅動ic丨14。閘極線1〇8是從顯 不區115延伸至周邊區116為止；而源極線1〇9同樣也是 從顯示區115延伸至周邊區116為止。而源極線1〇9是在 薄膜電晶體陣列基板103的端部與源極驅動IC 114連接。 在閘極驅動1C 113、源極驅動IC 114的附近，連接外部 線路119、120。外部線路i丨9、i 2〇外部線路丨丨9、丨2〇例 如為軟式印刷電路板（flexible pHnted circuit ; Fpc) 等的線路基板。 經由外部線路119、120，將來自外界的各種信號供應 至閘極驅動1C 113、源極驅動Ic 114。閘極驅動IC 113 是基於來自外界的控制信號’將閘信號（掃瞒信號）供應至 閘極線108。藉由此一閘信號，依序選擇閘極線丨。源極 驅動1C 114疋基於來自外界的控制信號或顯示資料 (data)，將顯示信號供應至源極線1〇9。藉此，可以將對 應於顯示資料的顯示電壓供應至各個晝素電極丄丨7。 在此處，針對上述的液晶顯示裴置1〇〇的驅動方法提 2185-9409-PF;Dwwang 12 200903404 出說明。來自閘極驅動IC 113的掃瞄信號是供應至各閘極 線1 08。藉由各掃瞄信號，同時使所有分別與一個閘極線 108連接的薄膜電晶體U8成為開啟（〇n)的狀態。然後從 源極驅動1C 114將顯示信號供應至各源極線1〇9。藉此， 在畫素電極117儲存對應於顯示信號的電荷。畫素電極117 與對向電極111之間的液晶的排列，是對應於已寫入顯示 信號的晝素電極117與對向電極1U之間的電位差而變 化。藉此，會改變穿透顯示面板1〇1的光線的穿透量。藉 由改變每個晝素電極117的顯示電壓，液晶1〇6的分子排 列會發生變化’而可以顯示出所要的影像。 接下來在後文中，是使用第3圖來針對形成於薄膜電 晶體陣列基板103上及對向基板丨〇4上的各膜層的外緣形 狀、與藉由旋塗法將膜層塗佈於上述基板上的步驟進行詳 細說明。第3圖是從已形成薄膜圖形2及3的基板1的基 板面的上方向下俯視的平面圖。另外，第3圖係顯示矩形 的基板1的角落5的附近。而第3圖的基板！並非顯示形 成於薄膜電晶體陣列基板1 〇3或對向基板1 〇4的全部的必 要膜層的完成圖，而是僅顯示全部的必要膜層中的—部分 的製造過程中的狀態的示意圖。 在第3圖中’薄膜圖形3是形成於基板丨上，且位於 基板1與薄膜圖形2之間。薄膜圖形2是形成於薄膜圖形 3之上。薄膜圖形2及3的形成，是將基板1的顯示區jig 所在的矩形的區劃6覆蓋。另外，薄膜圖形2及3的形成 並延伸至區劃6的外側為止。具體而言，從基板i的中央 2185-9409-PF；Dwwang 13 200903404 來看，薄膜圖形2及3的外緣是位於區劃6的外側、且位 於設置有密封材105的基板！的角落5的内側。另外，在 基板1的角落5的附近、即是在矩形的區劃6的角落部與 角落5之間的區域中，薄膜圖形2及3係具有平滑的曲線 形狀。更具體而言，薄膜圖形2及3是位於角落5的附近， 具有複數個角落5圓弧狀或橢圓弧狀之平滑且連續的外緣 端42及43 ^另外雖然第3圖中並未繪示，但在具有上述 外緣端42及43的形狀的薄膜圖形2及3之上，還具有以 旋塗法所形成的有機膜層。 在上述的薄膜圖形2及3為感光性有機膜的情況中， 例如塗佈感光性有機膜之後，可藉由施以一貫連續的預烘 烤（Pre_bake)、曝光、顯影、及曝光後烘烤（post bake) 的步驟來形成薄膜圖形2及3。另外，在薄膜圖形2及3 為金屬膜或絕緣膜的情況中，纟成膜後可藉由施以一貫連 續的阻劑塗佈、職烤、曝光、顯影、㈣、及移除阻劑 的步驟來形成薄臈圖形2及3。 如上述專利文件1所揭露的液晶顯示裝置中，以旋塗 法=成的膜層的下層，是存在具有直角的外緣形狀的複數 個大起9。因此’會以突起9的角為起點而對有機膜溶液 的流動造成妨礙。故在基板中央方向11的相反側，會遭遇 到平坦化材料的厚度不均而產生複數個塗佈不均之類 的問題。相對於此’在本實施例中’作為以旋塗法所形成 的有機膜層的下層的薄膜圖形2及3的外緣端42及43， ，、幵/狀不存在青折的角’而是平滑的曲線形狀。藉此，因 2185-9409-PF;Dwwang 14 200903404 為下層的薄膜圖形2及3的外緣形狀，而對旋轉塗佈時的 有機膜溶液的流動造成顯著妨礙的情況就可以受到抑制。 因此’可抑制塗佈不均的產生，並可達成以旋塗法所形成 的有機膜層的厚度的均一化。更者，亦可達成液晶顯示農 置1 〇〇的顯示品質的提升。另外，在本實施例中，外緣端 42及43的形狀為複數個圓弧狀或橢圓弧狀之平滑且連續 的波形。因此’旋轉塗佈時的有機膜溶液的流動會在波形 的各部分向各種不同方向分散，而得以進一步地提升有機 膜的分佈的均一度。 還有如第3圖所示，基板1為上述的薄膜電晶體陣列 基板1 03的情況中，例如以旋塗法最後塗上的有機膜層是 用於形成作為反射電極的畫素電極117的阻劑，位於其下 的薄膜圖形2A 3是作為畫素電極m的下層的有機膜層 (例如為絕緣膜126)。另外，以旋塗法最後塗上的有機膜 層，亦可以是用於形成作為φ ITQ所形成的透明電極的晝 素電極U7的阻劑。如此一來，在薄膜圖形之及3之上以 旋塗法所塗佈的膜層為阻劑的情況中，以旋塗法所塗佈的 膜層會在液晶顯示面板101的製造步驟中被移除。亦即， 此-膜層並不存在於完成後的液晶顯示裝置1〇〇中。 另一方面如第3圖所示，其妃1达， 土板1為上述的對向基板104 :情況中，例如以旋塗法最後塗上的有機膜層是柱狀間隔 物1〇7’而位於其下的薄膜圖形2及3為保護層129。另外， :旋塗法最後塗上的有機膜層亦可以是保護層129。在此 情況中，位於保護層下的薄膜圖形2及3為 光片12? 2185-9409-PF;Dwwang 15 200903404 的RGB三色的任一色的著色層。 還有，形成於基板1、 亦即薄膜電晶體陣列基板103 及對向基板104的薄膜圖形2 Ζ及3的外緣端42及43的位 置’亦可以位於作為顯示區的 妁&劃6的外側、且位於基板 1的内側。在此情況中’薄Μ 浔犋圖形2及3的任一個延伸至 從區劃6看的更外側為止。另 另外，薄膜圖形2及3的外緣 端42及43的形狀亦可不同。 』另外，位於以旋塗法形成的

膜層的下層的膜層數並不限於薄 %溥膜圖形2及3的二層，而 亦可以是至少一層。 另外，位於基板1的所古沾兮 所有的角洛5的附近的薄膜圖形 及3的外緣端42及43,並不-定要都是波形。例如對以 旋塗法形成的制的厚度的區劃6内的均_性不會造成影 響的角落5的附近，外緣端4?芨μ沾 %喁42及43的形狀就可以不是波 形。 第一實施例 第二實施例是對第—實施例的薄膜圖形2及3的外緣 形狀進行變更。第4圖是顯示本實施例的基板1的平面概 略圖。如帛4圖所示，作為以旋塗法形成的膜層的下層的 薄膜圖形2及3’其全體外緣為平滑、連續的形狀。亦即， 以覆盒作為矩形的顯示區的區劃6的方式而形成的薄膜圖 形2及3的外緣的四個邊的形狀為平滑、連續的波形。'另 外，在角落5的附近，相接的邊是以相互平滑、連續的方 式形成。另外雖然第4圖中並未繪示，但在具有上述外緣 形狀的薄膜圖形2及3之上，還具有以旋塗法所形成的有 2185-9409-PF;Dwwang 16 200903404 機膜層。 藉由上述的構成，因為下層的薄膜圖形3的外緣 形狀’而對旋轉塗佈時的有機膜溶液的流動造成妨礙的情 況就可以受到抑制，匕’可抑制塗佈不均的產生，並可 達成以旋塗法所形成的有機膜層的厚度的均一化。更者， 亦可達成液晶顯示裝置iQQ的顯示品f的提升。另外，在 本實施例中’薄膜圖形2及3的全體外緣形狀為波形。因 此’旋轉塗佈時的有機媒溶液的流動會在波形的各部分向 各種不同方向分散 均一度。還有，薄 ，而得以進一步地提升有機臈的分佈的 膜圖形2 & 3的四個邊並不要都是 波形。例如對位於作為顯千fS· M P查,丨。 卞馬顯不&的區劃6的以旋塗法所形成 的膜層的均一性不會造成影響的邊亦可以是直線。 第4圖的基板i與薄膜電晶體陣列基板1〇3及對向基 板104的對應關係、薄膜圖形2及3的形成方法、關於薄 膜圖形2纟3的配置與層積數的制約條件等等，則鱼上述 第-實施例相肖。因此，其相關的敘述的詳細說明便予以 省略。 第三實施例 第三實施例是對第一眘办丨丨Μ _ 第實施例的溥膜圖形2及3的外緣 端42及43的形狀進行變更。第5圖 疋顯不本實施例的基 板1的平面概略圖。如第5圖所示M乍為以旋塗法形成的 有機膜層的下層的薄膜圖形2及3,是延伸至作為顯示區 的區劃6的外側為止。另外，位於薄犋圖形…的角落 5附近的外緣端42及43的形狀與第3圖所示的第—實施 2185-9409-PF;Dwwang 17 200903404 例相同，是以去除角落為前提，而為階梯狀的圓弧平滑連 接而成的波狀。另外，相對於第一實施例的薄膜圖形2及 3的四個邊的形狀為直線’本實施例的薄膜圖形2及3的 四個邊為平滑、連續的波狀。另外雖然第5圖中並未緣示， 但在上述具有外緣端42及43的形狀的薄膜圖形2及3之 上，還具有以旋塗法所形成的有機膜層。 藉由上述的構成，因為下層的薄膜圖形2及3的外緣 端42及43的形狀，而對旋轉塗佈時的有機膜溶液的流動 造成妨礙的情況就可以受到抑制…，可抑制塗佈不均 的產生ϋ可達成以方疋塗法所形成的有機膜層的厚度的均 更者亦可達成液晶顯示裝置i 〇 〇的顯示品質的提 升、。另外，在本實施例中，薄膜圖形2及3的全體外緣形 狀為波形。因此，旋棘發蚀生 金佈時的有機膜溶液的流動會在波 形的各部分向各種不同方向 门刀政，而得以進一步地提升有 機膜的分佈的均一度。摄右 還有，薄臈圖形2及3的全體外緣 的形狀並不一定要都是油带 7 °例如對位於作為顯示區的區 一1J 6的以旋塗法所形成的 联層的均一性不會造成影響的邊 亦可以是直線。 第5圖的基板j與薄膜蕾曰μ 土 #膜電日日體陣列基板103及對向基 板104的對應關係、薄膜 时回〃。 Ζ及3的形成方法、關於薄 膜圖形2及3的配置與層藉杯μ 、積數的制約條件等等，則與上述 第一實施例相同。因此，其 少^ 、相關的敘述的詳細說明便予以 嗜略。 第四實施例 2185-9409-PF；Dwwang 18 200903404 第四實施例是對第一實施例的薄膜圖形2及3的外緣 狀進行變更。第6圖是顯示第四實施例的基板1的平面 概略圖。如第6圖所示，作為以旋塗法形成的膜層的下層 的薄膜圖形2及3，是延伸至作為顯示區的區劃6的外側 為止。另外，位於薄膜圖形2及3的角落5附近的外緣端 42及43的形狀是帶有弧形的平滑曲線。另外雖然第6圖 中並未、.會示但在上述具有外緣端42及43的形狀的薄膜 圖形2及3之上，還具有以旋塗法所形成的有機膜。、 藉由上述的構成，因為下層的薄膜圖形2&3的外緣 形狀，而對旋轉塗佈時的有機膜溶液的流動造成妨礙的情 況就可以受到抑制。因Λ ’可抑制塗佈不均的產生，並可 達成以旋塗法所形成的有機膜層的厚&的均一化。更者， 亦可達成液晶顯示裝置1〇〇的顯示品質的提升。還有在基 板1的全部的角落5的附近，薄膜圖形2及3的外緣端42 及43的形狀並不—定# m ' 疋要都疋帶有弧形的平滑曲線。例如對 位於以旋塗法所形成的臈層在作為 糊不匕的區劃6内的均 一性不會造成影響的角落5的附 狀亦可以不是曲線形狀。 卜緣、42及43的形 J6圖的基板1與薄膜電晶體陣列基板103及對向基 板104的對應關係、薄膜圖形2及3 膜圖形2 & 3的配置與層積數的 等法 第-實施例相同。因此，其相關的敛述=等’則與上述 省略。 k的禅細說明便予以 還有，上述本發明的第一至 實知例是以將本發明適 2185-9409-PF;Dwwang 19 200903404 用於液晶顯示裝置為例而提出說明，

置並不限於液晶顯示裝置 了明的I 電致發光顯示裝置等的其他的顯示裝；。亦可適用於例如 雖然本發明已以較佳實施㈣hi 限定本發明，任何本發明所屬技 …、並非用以 者’在不脫離本發明之精神 _具有通常知識 與潤飾，因此本發明之佯内’當可作些許之更動 所界定者為準。’、n現後附之巾請專利範圍 【圖式簡單說明】 實施例之液晶顯示 裝 第1圖為一剖面圖，係顯示 置的構成。 之液晶顯示裝 第2圖為一平面圖’係顯示第一實施例 置的構成。

V 第3圖第-實施例之液晶顯示袭置所具有的基板的平 面概略圖。 第4圖第一實施例之液晶顯示裝置所具有的基板的平 面概略圖。 具有的基板的平 第5圖第三實施例 面概略圖。 第6圖第四實施例之液晶顯示裴置所具有的基板的平 面概略圖。 第7圖為一平面概略圖，係顯示形成於習知的液晶顯 示裝置所具有的基板上的線路形狀。 2185-9409-PF;Dwwang 20

200903404 【主要元件符號說明】 1 ~基板； 3 ~薄膜圖形； 6〜區劃； 9〜小型突起； 11〜基板中央方向； 4 3〜外緣端； 1 01〜液晶顯不面板， 103〜薄膜電晶體陣列基板； I 0 5〜密封材； 107〜柱狀間隔物； 109〜源極線； 111〜對向電極， II 3〜閘極驅動IC ; 11 5〜顯示區； 117〜畫素電極； 11 9〜外部線路； 121〜閘極； 123〜源極； 125〜電容電極； 127〜彩色濾光片； 129〜保護層。 2〜薄膜圖形； 5〜角落； 8〜線路； 1 0〜塗佈不均； 42〜外緣端； 10 0〜液晶顯示裝置； 102〜背光源； 104〜對向基板； 106〜液晶； 1 0 8〜閘極線； 11 0〜配向膜； 112 ~偏向板； 114〜源極驅動IC ; 116〜周邊區； 118〜薄膜電晶體； 1 2 0〜外部線路； 122〜閘絕緣膜； 124〜汲極； 126〜絕緣膜； 128〜樹脂黑矩陣； 2185-9409-PF;Dwwang 21

Claims (1)

1. 200903404 十、申請專利範圍： ι_ 一種顯示裝置，包含： 一基板，具有略矩形的一顯示區；以及 、且延伸至該顯示 至少一角落部的附 至少一薄膜圖形，形成於該基板上 區的外側為止，其外緣端在該顯示區的 近具有平滑的曲線形狀。 2.如申請專利範圍第丨項所述之顯示裝置，其中 膜圖形的料緣端在該肖落部的附近具有波狀形狀。 3.如申請專利範圍第1《2項所述之顯示裝置，其中 該薄膜圖形係覆蓋該顯示區，該薄膜圖形的外緣的四邊中 的至少-邊具有波狀形狀，該至少一邊在該角落部的附近 是以與其他邊以平滑、連續地形成。 /如中請專利範圍第i或2項所述之顯示裝置，其中 該薄膜圖形的全體外緣具有平滑、連續的形狀。

   5·如申請專利範圍第3項所述之顯示裝置，其中該薄 膜圖形的全體外緣具有平滑、連續的形狀。 6· —種顯示裝置，包含： 一基板，具有一顯示區；以及 至少一薄膜圖形’形成於該基板上、且延伸至該顯示 區的外側為止，其全體外緣具有平滑、連續的形狀。 7.種顯示裝置用基板的製造方法，包含·· 形成一第一薄膜圖形於一基板上，該第一薄膜圖形延 伸至該基板令的顯示區的區劃的外部為止，且該第一薄膜 圖形外緣端在該顯示區的至少—角落部的附近具有平滑的 2185-9409-PF;Dwwang 22 200903404 . 曲線形狀；以及 以旋塗法（spin coat ing)在該第一薄膜圖形上塗佈 第二薄膜圖形。 8. 如申請專利範圍第7項所述之顯示裴置用基板的製 造方法’其中該第一薄膜圖形的該外緣端在該角落部的附 近具有波狀形狀。 9. 如申請專利範圍第7或8項所述之顯示裝置用基板 f 的製造方法，其中該第一薄膜圖形係覆蓋該顯示區，該第 \ 一薄膜圖形的外緣的四邊中的至少一邊具有波狀形狀，該 至少一邊在該角洛部的附近是以與其他邊以平滑、連續地 形成。 10. 如申請專利範圍第7或8項所述之顯示裝置用基板 的製造方法’其中該第一薄膜圖形的全體外緣具有平滑、 連續的形狀。 11 ·如申請專利範圍第9項所述之顯示裝置用基板的 〔製造方法，其中該第一薄膜圖形的全體外緣具有平滑、連 續的形狀。 12.—種顯示裝置用基板的製造方法，包含： 形成一第一薄膜圖形於一基板上，該第一薄膜圖形延 伸至該基板中的顯不區的區劃的外部為止，且該第一薄膜 圖形的全體外緣具有平滑、連續的形狀；以及 以旋塗法（spin coating)在該第一薄膜圖形上塗佈〆 第二薄膜圖形。 2185-9409-PF;Dwwang 23