KR20080082913A - 표시장치 및 표시장치용 기판의 제조방법 - Google Patents

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KR20080082913A
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미쓰비시덴키 가부시키가이샤
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Abstract

표시 품위가 우수한 표시장치, 및 표시장치의 표시 품위를 향상시키는 것이 가능한 표시장치용 기판의 제조 방법을 제공한다. 표시장치(100)는, 대략 사각형의 표시 영역을 가지는 TFT 기판(103) 및 대향기판(104)을 구비한다. TFT 기판(103) 또는 대향기판(104)이 되는 기판(1) 위에는 표시 영역인 구획(6)에 막 패턴 2 및 3이 적층되어 있고, 막 패턴 2 및 3은, 표시 영역인 구획(6)의 외측까지 연장되는 동시에, 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43이 구획(6)의 코너부, 즉 기판(1)의 코너(5)의 근방에서 매끄러운 곡선 형상을 가진다.
액정표시장치, 표시 얼룩, 코너부, 곡선 형상

Description

표시장치 및 표시장치용 기판의 제조방법{DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE}
본 발명은, 액정표시장치 및 일렉트로루미네센스(electroluminescence) 표시장치 등의 표시장치, 및 이들 표시장치가 가지는 기판의 제조 방법에 관한 것이다.
액정표시장치의 표시 품질을 향상시키기 위해서는, 액정에의 인가전압의 제어가 중요해진다. 특히, 액정 표시패널의 표시 영역 내에서 액정의 갭이 균일화되지 않으면, 액정에 의한 위상변화에 차이가 생긴다. 그 결과로서, 표시 화상에 명암 얼룩이 생겨버리는 일이 있다.
이 때문에, 배선, 절연막 등의 막층의 두께를 액정표시 패널의 표시 영역 내에 있어서 균일화시키는 것이 중요하다. 이들 배선, 절연막 등은, TFT(Thin Film Transistor) 등의 스위칭 소자가 형성되는 액티브 매트릭스 기판 위에 형성된다.
액정표시장치의 표시 패널은, 전술한 액티브 매트릭스 기판이나 이것에 대향시켜서 설치되는 대향기판을 가진다. 액정표시장치의 표시 패널의 제조공정에서는, 액티브 매트릭스 기판이나 대향기판 등에, 수지절연막, 칼라필터, 수지 블랙 매트릭스(수지 BM)나, 오버코트(overcoat)층이 도포된다. 또한 사진제판에 사용되고, 패턴 형성후에는 제거되는 레지스트 등의 유기막도 도포된다. 이것들을 도포할 때에는, 스핀코트법이 사용되는 일이 많다. 스핀코트법을 사용하는 종래의 액정표시장치의 제조공정에서는 스핀코트법에 의해 도포되는 유기막의 두께가 불균일하게 되는 경우가 있다. 그리고, 도포된 유기막의 두께에 공간적인 도포 얼룩이 발생한다고 하는 문제가 있었다. 이것은, 유기막의 하지가 되는 배선이나 절연막 패턴의 사이즈가 크면, 그것의 패턴 형상의 영향을 받기 때문이다. 구체적으로는, 큰 패턴 단차가 있기 때문에, 스핀코트시의 원심력에 의해, 유기막 용액이 패턴을 따라 흐른다. 그리고, 패턴의 모서리나 단부에서는, 이 패턴을 따라 흐른 유기막 용액이 원심력으로 외측으로 흐른다. 이 때문에, 유기막 용액의 용제가 휘발한 후에는, 유기막에 패턴의 모서리나 단부를 기점으로 하는 큰 줄무늬 형태의 도포 얼룩이 생겼다. 이 문제의 해결책의 일례가 특허문헌 1에 개시되어 있다. 특허문헌1에 개시된 액정표시장치는, TFT 소자가 형성되는 액티브 매트릭스 기판의 표시 영역의 주위에 설치되는 배선을 도7에 도시된 것과 같은 형상으로 하고 있다. 즉, 다수의 작은 돌기(9)가 배선(8)에 형성되어 있다. 도7의 화살표는, 스핀코트시의 회전축이 되는 기판 중앙 방향(11)을 나타내고 있다. 도7과 같은 구성에 의해, 스핀코트법에 의해 도포되는 유기막 용액이 원심력에 의해 기판 중앙 방향(11)과 역방향으로 흐를 때에, 배선(8)을 따라 흐르는 것을 방지할 수 있다.
[특허문헌 1] 일본국 특개2002-350820호 공보
그렇지만, 특허문헌1에 기재된 표시장치에서는, 하지가 되는 배선(8)에 형성된 다수의 작은 돌기(9)에 의해 반대로 유기막 용액의 흐름이 방해받는다. 이 때문에, 유기막의 두께가 불균일한 다수의 작은 줄무늬 형태의 도포 얼룩(10)이 발생해 버렸다. 이들 도포 얼룩(10)은, 돌기(9)의 모서리를 기점으로 하여 기판 중앙 방향(11)의 반대측으로 발생한다. 따라서, 표시 품질의 열화를 초래한다고 하는 문제가 남아 있었다.
또한 표시 품질을 향상시키기 위해서는, 액티브 매트릭스 기판 위 뿐만 아니라, 대향기판 위에 적층되는 막층을 두께에 불균일이 생기지 않도록 형성할 필요가 있다. 구체적으로는, 대향기판 위에, 칼라필터, 수지 BM, 오버코트층이나, 기둥 모양 스페이서 등을 두께에 불균일이 생기지 않도록 형성할 필요가 있다. 그러나, 하지가 되는 것 이외의 막층(예를 들면 칼라필터)의 형상에 기인하여, 그 후에 스핀코트법에 의해 도포되는 유기막에 도포 얼룩이 발생하는 경우가 있다.
더욱이, 전술한 문제는 액정표시장치용의 기판에 스핀코트법에 의해 막층을 형성하는 경우에 한정되지 않고 발생한다. 즉, 일렉트로루미네센스 표시장치 등의 다른 표시장치에 있어서도 스핀코트에 의해 막층을 형성하는 경우에 발생하는 문제이다.
본 발명은 전술한 문제점을 감안해서 이루어진 것으로서, 스핀코트법에 의해 표시장치용 기판 위에 막 패턴을 형성할 때에, 하지가 되는 것 이외의 막 패턴의 형상에 기인하는 도포 얼룩의 발생을 억제하는 것을 목적으로 한다. 이에 따라, 표시 품위가 우수한 표시장치를 제공하는 것, 및, 표시장치의 표시 품질을 향상시키는 것이 가능한 표시장치용 기판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 제1의 태양에 관한 표시장치는, 대략 사각형의 표시 영역을 가지는 기판을 구비한다. 더구나, 상기 기판 위에는 상기 표시 영역에 적어도 1개의 막 패턴이 형성되어 있고, 상기 막 패턴은, 상기 표시 영역의 외측까지 연장되는 동시에, 상기 막 패턴의 외주 단부가, 상기 표시 영역의 적어도 1개의 코너부의 근방에서 매끄러운 곡선 형상을 가지도록 구성되어 있다.
본 발명의 제2의 태양에 관한 표시장치는, 표시 영역을 가지는 기판을 구비하고, 상기 기판 위에는 상기 표시 영역에 적어도 1개의 막 패턴이 형성되어 있고, 상기 막 패턴은, 상기 표시 영역의 외측까지 연장되는 동시에, 상기 막 패턴의 외주 전체가 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제3의 태양에 관한 표시장치용 기판의 제조 방법은, 제1의 막 패턴을, 상기 기판에 있어서 표시 영역으로 되는 구획의 외부까지 연장시키고, 또한, 상기 제1의 막 패턴의 외주 단부 형상이 상기 표시 영역의 적어도 1개의 코너부의 근방에서 매끄러운 곡선이 되도록 상기 기판 위에 형성하는 공정과, 상기 제1의 막 패턴 위에 제2의 막 패턴을 스핀코트법에 의해 도포하는 공정을 포함한다.
본 발명의 제4의 태양에 관한 표시장치용 기판의 제조방법은, 제1의 막 패턴을, 상기 기판에 있어서 표시 영역으도 되는 구획의 외측까지 연장시키는 동시에, 상기 제1의 막 패턴의 외주 전체가 매끄럽게 연속되도록 상기 기판 위에 형성하는 공정과, 상기 제1의 막 패턴 위에 제2의 막 패턴을 스핀코트법에 의해 도포하는 공정을 포함한다.
본 발명에 의해, 표시장치용 기판 위에 스핀코트법에 의해 막 패턴을 형성할 때에, 하지가 되는 것 이외의 막 패턴의 형상에 기인하는 도포 얼룩의 발생이 억제되고, 표시 품위가 우수한 표시장치를 제공할 수 있다. 또한 표시장치의 표시 품위를 향상시키는 것이 가능한 표시장치용 기판의 제조 방법을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명을 적용가능한 실시예에 관하여 설명한다. 이하의 설명은, 본 발명의 실시예를 설명하는 것으로, 본 발명이 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 설명의 명확화를 위해, 이하의 기재는, 적당하게, 생략 및 간략화를 행할 수 있다. 또한 당업자라면 이하의 실시예에 표시되는 각 구성요소를, 본 발명의 범위에 있어서 용이하게 변경, 추가 또는 변환하는 것이 가능하다. 이때, 각 도면에 있어서 동일한 부호를 붙인 것은 동일한 요소를 나타내고 있고, 적당하게, 설명이 생략된다.
실시예 1
본 실시예는, 본 발명을 액정표시장치에 적용한 것이다. 처음에, 본 실시예에 관한 액정표시장치(100)의 구성을 도1 및 2를 사용하여 설명한다. 도1은, 액정표시장치(100)의 구성을 나타내는 단면도이다. 또한 도2는, 액정표시장치(100)의 구성을 나타내는 평면도이다.
액정표시장치(100)는, 액정표시 패널(101)과 백라이트(102)를 구비하고 있다. 액정표시 패널(101)은, 입력되는 표시 신호에 근거하여 화상표시를 행한다. 백라이트(102)는, 액정표시 패널(101)의 반시인측에 배치되어 있고, 액정표시 패널(101)의 배면측에서 빛을 조사한다. 액정표시 패널(101)은, 박막 트랜지스터 어레이 기판(TFT 어레이 기판)(103), 대향기판(104), 씰재(105), 액정(106), 기둥 모양 스페이서(107), 게이트선(주사선)(108), 소스선(신호선)(109), 배향막(110), 대향전극(111), 편향판(112), 게이트 드라이버 IC(l13), 소스 드라이버 IC(l14)를 구비하고 있다.
액정 표시패널(101)에는, TFT 어레이 기판(103) 및 대향기판(104)이 대향배치된다. 또한 양 기판은, 씰재(105)에 의해 접착된다. 그리고, 양 기판과 씰재(105) 사이의 공간에, 액정(106)이 봉입된다. 양 기판 사이에는, 스페이서(107)가 형성된다. 스페이서(107)에 의해, 양 기판은, 소정의 간격이 되도록 유지되어 있다. TFT 어레이 기판(103) 및 대향기판(104)으로서는, 예를 들면 광투과성이 있는 유리, 폴리카보네이트, 아크릴수지 등의 절연성 기판을 사용할 수 있다.
또한 액정표시 패널(101)의 배면에는, 백라이트(102)가 구비되어 있다. 백라이트(102)는, 액정 표시패널(101)의 반시인측으로부터 해당 액정표시 패널(101)에 대하여 빛을 조사한다. 백라이트(102)로서는, 예를 들면 광원, 도광판, 반사 시이트, 확산 시이트, 프리즘 시이트, 반사 편향 시이트 등을 구비한 일반적인 구성을 사용할 수 있다.
도2에 도시된 것과 같이 TFT 어레이 기판(103)에는, 표시 영역(115)과 표시 영역(115)을 둘러싸도록 설치된 주변영역(116)이 설치되어 있다. 이 표시 영역(115)에는, 복수의 게이트 선(108)과 복수의 소스선(109)이 형성되어 있다. 복수의 게이트 선(108)은 평행하게 설치되어 있다. 마찬가지로, 복수의 소스선(109)은 평행하게 설치되어 있다. 게이트 선(108)과, 소스선(109)은, 서로 교차하도록 형성되어 있다.
또한 게이트 선(108)과 소스선(109)의 교차점 부근에는 박막 트랜지스터(118)가 설치되어 있다. 그리고, 인접하는 게이트 선(108)과, 인접하는 소스선(109)으로 둘러싸여진 영역에는, 화소전극(117)이 형성되어 있다. 따라서, 인접하는 게이트 선(108)과, 인접하는 소스선(109)으로 둘러싸여지는 영역이 화소가 된다. TFT 어레이 기판(103) 위에로는, 화소가 매트릭스 모양으로 배치된다. 이 복수의 화소(117)가 매트릭스 모양으로 형성되어 있는 영역이, 표시 영역(115)이다.
도1에 도시된 것과 같이, TFT 어레이 기판(103)에는, TFT(l18) 및 화소전극(117)이 형성된다. 그리고, 이들 위에는, 배향막(110)이 형성되어 있다. 더욱 상세하게 서술하면, TFT(l18)의 게이트 전극(121)이 게이트 선(108)에 접속된다. TFT(l18)의 소스 전극(123)이 소스선(109)에 접속된다. TFT(l18)의 드레인 전극(124)이 화소전극(117)에 접속된다. 화소전극(117)은, 예를 들면 ITO(Indium Tin Oxide) 등의 투명 도전성 박막으로 형성된다. 이때, 도1에 있어서, 122는 게이트 절연막으로, 화소용량을 구성하는 용량전극(125)과 화소전극(117) 사이에 설치되는 절연막이기도 한다. 또한 126은, TFT(l18) 위에 형성된 유기수지로 이루어진 절연막이다. 126은, TFT(l18) 등의 패턴을 평탄화하기 위해서 형성된다.
TFT 어레이 기판(103) 상의 전술한 각 전극 및 배선 등은, 예를 들면 사진제판처리 및 에칭 처리를 함으로써 형성된다. 구체적으로는, 우선, 성막한 금속막 위에 레지스트를 도포해서 레지스트의 막층을 형성한다. 그리고, 사진제판처리에 의해 레지스트의 막층을 패터닝하여, 레지스트 패턴을 형성한다. 그 후에 레지스트 패턴을 마스크로 하여, 금속막에 대한 에칭 처리를 실시한다. 이에 따라 각 전극 및 배선 등이 형성된다.
한편, 대향기판(104)의 TFT 어레이 기판(103)에 대향하는 면에는, 칼라필터(127), 수지 BM(Black Matrix)(128), 오버코트층(129), 대향전극(111), 배향막(110) 등이 형성된다. 이때, 대향전극(111)은, TFT 어레이 기판(103)측에 배치되는 경우도 있다. 또한 TFT 어레이 기판(103) 및 대향기판(104)의 외측의 면에는 각각, 편향판(112)이 부착되어 있다.
TFT 어레이 기판(103)의 주변영역(116)에는, 게이트 드라이버 IC(l13) 및 소스 드라이버 IC(l14)가 설치되어 있다. 게이트 선(108)은, 표시 영역(115)으로부터 주변영역(116)까지 연장설치되어 있다. 그리고, 게이트 선(108)은, TFT 어레이 기 판(103)의 단부에서, 게이트 드라이버 IC(l13)에 접속된다. 소스선(109)도 마찬가지로 표시 영역(115)으로부터 주변영역(116)까지 연장 설치된다. 그리고, 소스선(109)은, TFT 어레이 기판(103)의 단부에서, 소스 드라이버 IC(l14)와 접속된다. 게이트 드라이버 IC(l13), 소스 드라이버 IC(l14)의 근방에는, 외부배선(119, 120)이 접속되어 있다. 외부배선(119, 120)은, 예를 들면 FPC(Flexible Printed Circuit) 등의 배선 기판이다.
외부배선(119, 120)을 거쳐서, 게이트 드라이버 IC(l13) 및 소스 드라이버 IC(l14)에 외부에서 각종 신호가 공급된다. 게이트 드라이버 IC(l13)는 외부에서의 제어신호에 의거하여 게이트 신호(주사 신호)를 게이트 선(118)에 공급한다. 이 게이트 신호에 의해, 게이트 선(108)이 순차 선택된다. 소스 드라이버 IC(114)는 외부에서의 제어신호나, 표시 데이터에 의거하여 표시 신호를 소스선(109)에 공급한다. 이에 따라 표시 데이터에 따른 표시 전압을 각 화소전극(117)에 공급할 수 있다.
여기에서, 상기한 액정표시장치(100)의 구동방법에 관하여 설명한다. 각 게이트 선(108)에는, 게이트 드라이버 IC(l13)로부터 주사 신호가 공급된다. 각 주사 신호에 의해, 1개의 게이트 선(108)에 접속되어 있는 모든 TFT(l18)가 동시에 온이 된다. 그리고, 소스 드라이버 IC(l14)에서 각 소스선(109)에 표시 신호가 공급된다. 이에 따라 화소전극(117)에 표시 신호에 따른 전하가 축적된다. 표시 신호가 기록된 화소전극(117)과 대향전극(111)의 전위차에 따라, 화소전극(117)과 대향전극(111) 사이의 액정의 배열이 변화한다. 이에 따라 액정표시 패널(101)을 투과하 는 빛의 투과량이 변화한다. 화소(117)마다 표시 전압을 바꿈으로써, 액정(106)의 분자배열이 변화하여, 원하는 화상을 표시할 수 있다.
이어서, 이하에서는, 도3을 사용하여, TFT 어레이 기판(103) 위 및 대향기판(104) 위에 형성되는 각 막층의 외주 형상과, 이들 기판 위에 스핀코트법에 의해 막층을 도포하는 공정에 대해서 자세하게 설명한다. 도3은, 막 패턴 2 및 3이 형성된 기판(1)의 기판면을 상부에서 본 평면도이다. 또한 도3은, 사각형의 기판(1)의 코너(5)의 근방을 보이고 있다. 이때, 도3의 기판(1)은, TFT 어레이 기판(103) 또는 대향기판(104)에 필요한 모든 막층이 형성된 완성도를 나타낸 것이 아니다. 즉, 필요한 모든 막층 중에서 일부만을 나타낸 제조 도중의 상태를 도시한 개념도이다.
도3에 있어서, 막 패턴 3은, 기판(1) 위에 형성되어 있고, 기판(1)과 막 패턴 2의 사이에 위치하고 있다. 막 패턴 2는, 막 패턴 3 위에 형성되어 있다. 막 패턴 2 및 3은, 기판(1)의 표시 영역(115)인 사각형의 구획(6)을 덮도록 형성되어 있다. 또한 막 패턴 2 및 3은, 구획(6)의 외측까지 연장하도록 형성되어 있다. 구체적으로는, 막 패턴 2 및 3의 외주는, 기판(1)의 중앙에서 볼 때, 구획(6)의 외측 또한 씰재(105)가 설치되는 기판(1)의 코너(5)의 내측에 위치한다. 더구나, 기판(1)의 코너(5)의 근방, 즉, 사각형의 구획(6)의 코너부와 코너(5) 사이의 영역에 있어서, 막 패턴 2 및 3은 매끄러운 곡선 형상을 가진다. 더욱 구체적으로 서술하면, 막 패턴 2 및 3은, 코너(5)의 근방에서, 복수의 원호 또는 타원호가 매끄럽게 연속되는 형상의 외주 단부 42 및 43을 가지고 있다. 더구나, 도3에서는 생략되어 있지만, 이러한 외주 단부 42 및 43의 형상을 가지는 막 패턴 2 및 3 위에, 유기막 층이 스핀코트법에 의해 더 형성된다.
전술한 막 패턴 2 및 3은, 이것들이 감광성 유기막인 경우에는, 예를 들면 감광성 유기막을 도포한 후에, 프리베이크, 노광, 현상 및 포스트 베이크를 실행하는 일련의 공정에 의해 형성가능하다. 또한 막 패턴 2 및 3이 금속막 또는 절연막인 경우에는, 성막후에, 레지스트 도포, 프리 베이크, 노광, 현상, 에칭 및 레지스트 제거를 실행하는 일련의 공정에 의해 형성가능하다.
상기한 바와 같이 특허문헌1에 개시된 액정표시장치에는, 스핀코트되는 막층의 하지에, 직각의 외주 형상을 가지는 다수의 돌기(9)가 존재하고 있다. 이 때문에, 돌기(9)의 모서리를 기점으로 하여 유기막 용액의 흐름을 방해할 수 있다. 따라서, 기판 중앙 방향(11)의 반대측에, 평탄화재의 두께가 불균일한 다수의 도포 얼룩(10)이 발생해 버린다고 하는 문제가 있었다. 이에 대하여, 본 실시예에서는, 스핀코트법에 의해 형성되는 유기막층의 하지가 되는 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43의 형상을 절곡된 모서리가 존재하지 않는 매끄러운 곡선 형상으로 하고 있다. 이에 따라 스핀코트시의 유기막 용액의 흐름이, 하지가 되는 막 패턴 2 및 3의 외주 형상에 기인해서 현저하게 방해받는 것을 억제할 수 있다. 이 때문에, 도포 얼룩의 발생이 억제되어, 스핀코트법에 의해 형성되는 유기막층의 두께의 균일화를 꾀할 수 있다. 더욱이, 액정표시장치(100)의 표시 품질을 향상시키는 것이 가능해진다. 또한 본 실시예에서는, 외주 단부 42 및 43의 형상을 복수의 원호 또는 타원호가 매끄럽게 연속되는 파 형상으로 하고 있다. 이 때문에, 스핀코트시의 유기막 용액의 흐름이 파 형상인 각 부분에 있어서 여러가지 방향으로 분산된다. 그 리고, 유기막의 분포의 균일도를 더욱 향상시킬 수 있다.
이때, 도3에 나타낸 기판(1)이 전술한 TFT 어레이 기판(103)인 경우, 예를 들면 스핀코트법에 의해 최후에 도포되는 유기막층은, 반사 전극인 화소전극(117)의 형성용 레지스트이다. 그 아래에 위치하는 막 패턴 2 또는 3은, 화소전극(117)의 하지가 되는 유기막층(예를 들면 절연막(126))이다. 또한 스핀코트법에 의해 최후에 도포되는 유기막은, ITO에 의해 형성되는 투과 전극인 화소전극(117)의 형성용 레지스트이어도 된다. 이렇게, 막 패턴 2 및 3 위에 스핀코트법에 의해 도포되는 막층이 레지스트인 경우, 스핀코트법에 의해 도포되는 막층은 액정표시 패널(101)의 제조 공정에서 제거된다. 즉, 이 막층은, 완성후의 액정표시장치(100)에 있어서는 존재하지 않는다.
한편, 도3에 나타낸 기판(1)이 전술한 대향기판(104)인 경우, 예를 들면 스핀코트법에 의해 최후에 도포되는 유기막은 기둥 모양 스페이서(107)이다. 그 아래에 위치하는 막 패턴 2 또는 3은 오버코트층(129)이다. 또한, 스핀코트법에 의해 최후에 도포되는 유기막은 오버코트층(129)이어도 된다. 이 경우에, 오버코트층 아래에 위치하는 막 패턴 2 또는 3은, 칼라필터(127)의 RGB3색 중에서 어느 한가지의 착색층이다.
이때, 기판(1), 즉 TFT기판(103) 및 대향기판(104)에 형성되는 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43의 위치는, 표시 영역으로 되는 구획(6)의 외측 또한 기판(1)의 내측이면 된다. 이 경우, 막 패턴 2 및 3의 어느 쪽이 구획(6)에서 볼 때보다 외측까지 연장되고 있어도 상관없다. 또한 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43의 형상이 달라도 상관없다. 또한 스핀코트되는 유기막층의 하층에 위치하는 막층 수는, 막 패턴 2 및 3의 2층에 한정되지 않는 것은 물론이며, 적어도 1층이면 된다.
또한, 반드시, 기판(1)이 가지는 모든 코너(5)의 근방에서 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43을 파 형상으로 할 필요는 없다. 예를 들면 스핀코트되는 막층의 두께의 구획(6) 내부에 있어서의 균일성에 영향을 주지 않는 코너(5)의 근방에서는, 외주 단부 42 및 43의 형상을 파 형상으로 하지 않아도 된다.
실시예 2
실시예 2는, 실시예1에 있어서의 막 패턴 2 및 3의 외주 형상을 변경한 것이다. 도 4는, 본 실시예에 있어서의 기판(1)의 평면 개략도를 나타내고 있다. 도4에 도시된 것과 같이 스핀코트되는 유기막층의 하지가 되는 막 패턴 2 및 3은, 그것의 외주 전체가 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있다. 즉, 사각형 형태의 표시 영역이 되는 구획(6)을 덮도록 형성된 막 패턴 2 및 3의 외주의 4개의 변의 형상이, 매끄럽게 연속되는 파형이다. 또한, 코너(5)의 근방에서는, 근접하는 변이 서로 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있다. 더구나, 도4에서는 생략되어 있지만, 이러한 외주 형상을 가지는 막 패턴 2 및 3 위에 유기막층이 스핀코트법에 의해 더 형성된다.
이러한 구성에 의해, 스핀코트시의 유기막 용액의 흐름이 하지가 되는 막 패턴 2 및 3의 외주 형상에 기인해서 방해받는 것을 억제할 수 있다. 이 때문에, 도포 얼룩의 발생이 억제되어, 스핀코트법에 의해 형성되는 막층의 두께의 균일화를 꾀할 수 있다. 더구나, 액정 표시장치(100)의 표시 품질을 향상시키는 것이 가능해 진다. 또한 본 실시예에서는, 막 패턴 2 및 3의 외주 전체를 파 형상으로 하고 있다. 이 때문에, 스핀코트시의 유기막 용액의 흐름이 파 형상의 각 부분에 있어서 여러가지 방향으로 분산되어진다. 따라서, 유기막의 분포의 균일도를 한층 더 향상시킬 수 있다. 이때, 반드시 막 패턴 2 및 3의 4변의 전부를 파형으로 할 필요는 없다. 예를 들면 표시 영역이 되는 구획(6)에 있어서의 스핀코트되는 막층의 두께의 균일성에 영향을 주지 않는 변을 직선으로 해도 된다.
도4의 기판(1)과 TFT기판(103) 및 대향기판(104)과의 대응관계, 막 패턴 2 및 3의 형성 방법, 막 패턴 2 및 3의 배치와 적층수에 관한 제약조건 등은, 전술한 실시예1과 같다. 이 때문에, 이들에 관한 상세한 설명을 생략한다.
실시예 3
실시예3은, 실시예1에 있어서의 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43의 형상을 변경한 것이다. 도5는, 본 실시예에 있어서의 기판(1)의 평면 개략도를 나타내고 있다. 도5에 도시된 것과 같이, 스핀코트되는 유기막층의 하지가 되는 막 패턴 2 및 3은, 표시 영역으로 되는 구획(6)의 외측까지 연장되어 있다. 더구나, 막 패턴 2 및 3의 코너(5) 근방에 있어서의 외주 단부 42 및 43의 형상은, 도3에 나타낸 실시예 1과 마찬가지로, 코너커트된 후, 계단 모양으로 원호가 매끄럽게 이어진 파 형상이다. 더구나, 막 패턴 2 및 3의 4개의 변은, 실시예1의 그것들이 직선이었던 것에 대해서, 매끄럽게 연속되는 파 형상으로 되어 있다. 더구나, 도5에서는 생 략되어 있지만, 이러한 외주 단부 42 및 43의 형상을 가지는 막 패턴 2 및 3 위에 유기막이 스핀코트법에 의해 더 형성된다.
이러한 구성에 의해, 스핀코트시의 유기막 용액의 흐름이 하지가 되는 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43의 형상에 기인해서 방해받는 것을 억제할 수 있다. 이 때문에, 도포 얼룩의 발생이 억제되어, 스핀코트법에 의해 형성되는 막층의 두께의 균일화를 꾀할 수 있다. 더구나, 액정표시장치(100)의 표시 품질을 향상시키는 것이 가능해진다. 또한 본 실시예에서는, 막 패턴 2 및 3의 외주 전체를 파 형상으로 하고 있다. 이 때문에, 스핀코트시의 유기막 용액의 흐름이 파 형상의 각 부분에 있어서 여러가지 방향으로 분산되어진다. 따라서, 유기막의 분포의 균일도를 한층 더 향상시킬 수 있다. 이때, 반드시 막 패턴 2 및 3의 외주 전체의 형상을 파형으로 할 필요는 없다. 예를 들면 표시 영역이 되는 구획(6)에 있어서의 스핀코트되는 막층의 두께의 균일성에 영향을 주지 않는 변을 직선으로 해도 된다.
도5의 기판(1)과 TFT 기판(103) 및 대향기판(104)의 대응관계, 막 패턴 2 및 3의 형성 방법, 막 패턴 2 및 3의 배치와 적층수에 관한 제약조건 등은, 전술한 실시예 1과 같다. 이 때문에, 이것들에 관한 상세한 설명을 생략한다.
실시예 4
실시예4는, 실시예1에 있어서의 막 패턴 2 및 3의 외주 형상을 변경한 것이다. 도6은, 실시예4에 있어서의 기판(1)의 평면 개략도를 보이고 있다. 도6에 도시된 것과 같이 스핀코트되는 유기막층의 하지가 되는 막 패턴 2 및 3은, 표시 영역 이 되는 구획(6)의 외측까지 연장되어 있다. 더구나, 막 패턴 2 및 3의 코너부(5) 근방에 있어서의 외주 단부 42 및 43의 형상은, 둥그스름한 매끄러운 곡선으로 되어 있다. 더구나, 도6에서는 생략되어 있지만, 이러한 외주 단부 42 및 43의 형상을 가지는 막 패턴 2 및 3 위에 유기막이 스핀코트법에 의해 더 형성된다.
이러한 구성에 의해서도, 스핀코트시의 유기막 용액의 흐름이 하지가 되는 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43의 형상에 기인해서 방해받는 것을 억제할 수 있다. 이 때문에, 도포 얼룩의 발생이 억제되어, 스핀코트법에 의해 형성되는 막층의 두께의 균일화를 꾀할 수 있다. 더구나, 액정표시장치(100)의 표시 품질을 향상시키는 것이 가능해 진다. 이때, 반드시, 기판(1)이 가지는 모든 코너부(5)의 근방에서, 막 패턴 2 및 3의 외주 단부 42 및 43의 형상을 둥그스름한 매끄러운 곡선으로 할 필요는 없다. 예를 들면, 스핀코트되는 막층의 구획(6) 안에 있어서의 두께의 균일성에 영향을 주지 않는 코너(5)의 근방에서는, 외주 단부 42 및 43의 형상을 곡선 형상으로 하지 않아도 된다.
도6의 기판(1)과 TFT기판(103) 및 대향기판(104)의 대응관계, 막 패턴 2 및 3의 형성 방법, 막 패턴 2 및 3의 배치와 적층수에 관한 제약조건 등은, 전술한 실시예1과 같다. 이 때문에, 이것들에 관한 상세한 설명을 생략한다.
이때, 전술한 발명의 실시예 1 내지 4는, 액정표시장치에 본 발명을 적용했을 경우를 예로 들어 설명하였지만, 본 발명의 적용처는 액정표시장치에 한정되지 않는다. 예를 들면 일렉트로루미네센스 표시장치 등의 다른 표시장치에 적용 가능한 것은 물론이다.
도1은 본 발명의 실시예1에 관한 액정표시장치의 구성을 나타내는 단면도이다.
도2는 본 발명의 실시예1에 관한 액정표시장치의 구성을 나타내는 평면도이다.
도3은 본 발명의 실시예1에 관한 액정표시장치가 가지는 기판의 평면 개략도이다.
도4는 본 발명의 실시예2에 관한 액정표시장치가 가지는 기판의 평면 개략도이다.
도5는 본 발명의 실시예3에 관한 액정표시장치가 가지는 기판의 평면 개략도이다.
도6은 본 발명의 실시예4에 관한 액정표시장치가 가지는 기판의 평면 개략도이다.
도7은 종래의 액정표시장치가 가지는 기판 위에 형성된 배선 형상을 나타내는 평면 개략도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1: 기판 2, 3: 막 패턴
42, 43: 막 패턴의 외주 단부
5: 기판 코너 6: 표시영역이 되는 구획
100: 액정표시장치 101: 액정 표시패널
102: 백라이트 103: TFT 어레이 기판
104: 대향기판 105: 실재
106: 액정 107: 기둥 모양 스페이서
108: 게이트선 109: 소스선
110: 배향막 111: 대향전극
112: 편향판 113: 게이트 드라이버 IC
114: 게이트 드라이버 IC 115: 표시영역
116: 주변영역 117: 화소전극
118: TFT 119:, 120: 외부배선
121: 게이트 전극 122: 게이트 절연막
123: 소스 전극 124: 드레인 전극
125: 용량전극 126: 절연막
127: 칼라 필터
128: 수지 블랙 매트릭스(수지 BM)
129: 오버코트층

Claims (12)

  1. 대략 사각형의 표시 영역을 가지는 기판과,
    상기 기판 위에 형성되고, 상기 표시 영역의 외측까지 연장되며, 외주 단부가 상기 표시 영역의 적어도 1개의 코너부의 근방에서 매끄러운 곡선 형상을 가지는 적어도 1개의 막 패턴을 가지는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 막 패턴의 외주 단부가, 상기 코너부의 근방에서 파 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 막 패턴은 상기 표시 영역을 덮도록 형성되고, 상기 막 패턴의 외주의 4변 중 적어도 1변이 파 형상을 가지고, 상기 적어도 1변은 상기 코너부의 근방에서 다른 변과 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 막 패턴의 외주 전체가 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  5. 제 3항에 있어서,
    상기 막 패턴의 외주 전체가 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  6. 표시 영역을 가지는 기판과,
    상기 기판 위에 형성되고, 상기 표시 영역의 외측까지 연장되며, 외주 전체가 매끄럽게 연속되는 적어도 1개의 막 패턴을 가지는 것을 특징으로 하는 표시장치.
  7. 제1의 막 패턴을, 기판에 있어서 표시 영역이 되는 구획의 외부까지 연장시키고, 또한, 상기 제1의 막 패턴의 외주 단부 형상이 상기 표시 영역의 적어도 1개의 코너부의 근방에서 매끄러운 곡선이 되도록 상기 기판 위에 형성하는 공정과,
    상기 제1의 막 패턴 위에 제2의 막 패턴을 스핀코트법에 의해 도포하는 공정을 포함하는 표시장치용 기판의 제조방법.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 제1의 막 패턴의 외주 단부가, 상기 코너부의 근방에서 파 형상을 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 기판의 제조방법.
  9. 제 7항 또는 제 8항에 있어서,
    상기 막 패턴은 상기 표시 영역을 덮도록 형성되고, 상기 제1의 막 패턴의 외주의 4변 중 적어도 1변이 파 형상을 가지고, 상기 적어도 1변은 상기 코너부의 근방에서 다른 변과 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치용 기판의 제조방법.
  10. 제 7항 또는 제 8항에 있어서,
    상기 제1의 막 패턴의 외주 전체가 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 표시장치용 기판의 제조방법.
  11. 제 9항에 있어서,
    상기 제1의 막 패턴의 외주 전체가 매끄럽게 연속되도록 형성되어 있는 것을 특징 으로 하는 표시장치용 기판의 제조방법.
  12. 제1의 막 패턴을, 기판에 있어서 표시 영역으로 되는 구획의 외측까지 연장시키는 동시에, 상기 제1의 막 패턴의 외주 전체가 매끄럽게 연속되도록 상기 기판 위에 형성하는 공정과,
    상기 제1의 막 패턴 위에 제2의 막 패턴을 스핀코트법에 의해 도포하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치용 기판의 제조방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110038986A (ko) * 2009-10-09 2011-04-15 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조방법

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102023405B (zh) * 2009-09-11 2012-12-12 北京京东方光电科技有限公司 液晶显示基板及液晶面板
TWI408468B (zh) * 2010-06-18 2013-09-11 Au Optronics Corp 顯示面板及其製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10333150A (ja) * 1997-05-28 1998-12-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置とその製造方法
TWI224221B (en) * 1998-01-30 2004-11-21 Seiko Epson Corp Electro-optic apparatus, electronic apparatus using the same, and its manufacturing method
KR100628259B1 (ko) * 2000-11-22 2006-09-27 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 디스플레이 패널
JP2002328377A (ja) * 2001-04-18 2002-11-15 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 表示パネル、基板積層体、液晶セルおよび基板積層体の製造方法
JP2002350820A (ja) 2001-05-29 2002-12-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置
CN1564961A (zh) * 2001-10-03 2005-01-12 松下电器产业株式会社 液晶显示面板
JP3964710B2 (ja) * 2002-03-29 2007-08-22 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 液晶表示用基板及びそれを用いた液晶表示装置
TWI243939B (en) * 2003-09-26 2005-11-21 Toshiba Matsushita Display Tec Liquid crystal display panel

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110038986A (ko) * 2009-10-09 2011-04-15 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조방법

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