TW200903085A - Reflective display panel and method for manufacturing such a display panel - Google Patents

Description

200903085 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 素本!:：關於—種反射式顯示面板，其包含複數個像 :非調二 =有一可在光調變狀態間控制之調變部分，及 本發：亦關於—種製造此反射式顯示面板的方法。 【先前技術】 各種類之平板顯示器係目前選擇 写'，益岡似λ 矿促题用之顯不 為軏圍攸全尺寸電視螢幕至 盔* 丁付表置肀之诸小顯示器。 為了適應所有此等多樣化應用， 型的平柘強… 展出且正發展各類 二板顯…其係利用各種影像形成技術，例如液曰 技術、電濕潤、電泳及電上色。 液日曰 、子於其中主要關注功率消耗之應用巾t，— 須背光以顯示影像之反射式顯 χ^… 入射在顯示器 。在反射式顯示器中’ 之先係在该顯不器的不同區域中不同地反 、，且影像因而對於使用者係變得可見。 盆2而言，反射式顯示器中之各像素具有一調變部分， 二、可控制方式在反射狀態間切換；及—非調變部 刀，其對於光之調變不構成貢獻。 例如，在主動矩陣反射式液晶顯示 可使各像素個別地定址且透過在夫障况下， 曰 人置於兩電極層間之一液 :層為加㈣來啟動。為了驅動個別像素 典型地係連接至驅動電路，其通常在 象素電極 上實施。 …、像素電極相同平面 129636.doc 200903085 在此咖之情況下，各像素之非調變部分包括驅動電 路，其係在與反射式電極層、像素選擇線及等等相同的平 面中實施。 傳統上，反射式顯示器中之像素的非調變部分係藉由一 黑遮罩遮蔽。入射在黑遮罩部分内之光不能對顯示器3的亮 度及/或對比具有貢獻。此導致在顯示器亮度及/或對比中 之損失其對於低周圍光條件而言尤其嚴重。 美國專利第5500750號中係揭示一種液晶顯示器，其中 此問題之克服係透過形成一反射式光遮蔽層，以遮蔽驅動 :方止進入光，及反射入射在覆蓋像素驅動電路之光遮 蔽層上的光。根據美國專利第55〇〇75〇號之光遮蔽層係佈 置於與反射式f極層相同的平面中，纟凸塊係在該光遮蔽 層上以及反射式f極層上形成’以傾斜地重導引人射光朝 向一垂直於顯示器之方向。 示器的亮度可 影響或甚至受 雖然在美國專利第5500750號中揭示之顯 比傳統黑遮罩技術改進，但對比將似乎不受 負面影響。 【發明内容】 鑑於如上所述先 的係提供一種改進 本發明之進一步 亮度及/或對比。 一般目 中改進 前技術之及其他缺點，本發明之 的反射式顯示面板。 目的係實現在一反射式顯示面板 根據本發明之一第 射 _ 嘘樣，此等及其他目的係藉由一反 式顯示面板達到’其包含複數個像素，各像素具有—可 129636.doc 200903085 在光調變狀態間控制之調變部分，及一非調變部分，其中 該反射式顯示面板包含—重導引片，其具有複數個重導引 結構，其各經組態以將入射在該等非調變部分之一對應部 分上的周圍光，重導引朝向一鄰接調變部分。 應注意的係，根據本發明之反射式顯示面板較佳係薄 (與習知CRT顯示器相反），且可取決於應用的領域而為剛 性或撓性。 康本發月之反射式顯示面板可為任何種類的顯示器， 其中影像係藉由調變周圍光之顯示面板中的反射產生。尤 其係’根據本發明之反射式顯示面板可為—種顯示面板， 其中光冑變部件係提供在像素控制電極之間—種顯示 面板，其中像素控制電極係提供在基本上相同平面中； 其一組合。 5 该重導引片可由任何材料製成，其係至少部分光學透 射尤其係’重導引片可由一剛性材料（例如玻璃），或— 撓性材料製成’例如各種種類的塑膠材料，如聚對苯二甲 文乙一 S曰(PET)、|萘二甲酸乙二酯(刪)或聚 (PES)= 取 ”非調變部分，，係一不能依構造性方法用來調變光之像素 的部分’且可制於像素巾之各種結構，例如像素驅動電 子器件、像素定址線 '像素分離/定義結構等等。 顯示面板之對比可（例如）藉由對比比 根據以下定義： 、係 CR-imax/imin， 129636.doc 200903085 八中max係彳欠在最大反射的狀態中之顯示面板反射的光之 強度且1min係從在最小反射的狀態中之顯示面板反射 光之強度。 本么明係&於反射式顯示面板《亮度及對比可藉由將入 射在-像素之非調變部分上的周圍光，重導引朝向該像素 之鄰接調變部分來改進的認知。 透過本發明，否則將撞擊像素之非調變部分且對於顯示 面板的衫像形成沒有構造性貢獻之光的部分，係被導引朝 向像素的調變部分，且因而可對於反射式顯示面板之亮度 以及對比具有貢獻。 藉由重導引片來提供從非調變部分朝調變部分之此光重 導引，係、利於經改進反射式顯示面板的量i，及很節省成 本之生產方•，如實現以捲盤至捲盤（reel_t〇_re叫方式製 造。 重導引片中之重導引結構可經組態以致重導引結構之延 伸，基本上對應於顯示面板的光學不作用部分之延伸。 為了利於將重導引結構與光學不作用部分對準，各重導 引結構之延伸可（進一步）小於該對應光學不作用部分，其 上應疋位特定重導引結構。 該重導引片可包含-第-組重導引結構，其基本上在一 藉由該重導引片定義之平面中平行延伸。 當該等非調變部分在多於一延伸之主要方向中延伸時， 該等重導引結構之延伸可基本上對應於在此等延伸的主要 方向之一中延伸的光學不作用部分的部分，較佳係該一方 129636.doc 200903085 向對應於更大部分。 雖然此一維重導引I士播& —最俨”及針、。、、' 々(在此等情況下)將無法提供 冗度及對比增強’但由於僅須在-維中使重導引片 對準顯示面板之光學不#\ 尺置导α片 , , ^作㈣分的簡化製造程序，Α仍可

為一具吸引力的選擇。 ^ J 該重導引片可進一步包含一 _ 第一組基本上平行重導弓丨么士 構，其具有一與在藉由 導引、， 至等w片疋義的該平面中之第一 重導引結構不同的延伸方向^ * '-Ά 透過提供此第二組重導引έ士塞 引結構，在多於—延伸的主要方 向中延伸之不作用像素部分可藉由重 m ^ a j* *g- j. 導引、·，口構更有效率地 覆I，且扣擊在光學不作用 刀工幻九因而可更有效率地 貝獻以增加反射式顯示面板的亮度及對比。 此外，該等重導引結構之 ^ 守W、，、σ構可在重導引片的 第一面上七供成為一内縮，且重導彳丨 士分 董導引片可依周圍光係入射 在其一相對第二面上之此方式配置。 因而’實現用於產生重導丨Η 直導引片的很有效率方法，如捲盤 至捲盤方式生產。 根據一具體實施例，該内縮可含 η邡J 3有—具有低於重導引片 :折射率的材料，以實現在一由該内縮定義之材料介面處 全内反射。此材料可為由一固體、—液體或一氣體之任一 者，或其一組合。 依靠全内反射（丁IR)的反射器係很有效率，其對於大於 臨界角之入射角具有100%反射。 臨界角U根據以了關係而取決於重導引片^及鄰 I29636.doc -10- 200903085 接材料（nadjacent)之折射率間的關係： 0Crit=arcsin(nredir/nadjacent) 例如，在玻璃（nglass«;l.5)作為重導引片材料及空氣 (nair-〗）作為鄰接材料之情況下，臨界角成為約。。 根據另一具體實施例，該内縮可含有一反射材料。 内縮可用一反射材料填充，較佳係一鏡面反射材料，或 可在内縮表面上形成反射層。 此外，該内縮可具有一基本上V型斷面。 具有V型斷面或更一般具有一係在光修改層方向中閃光 之斷面之内縮，係易於透過（例如）浮雕（尤其係熱或光浮 雕)、劃線、研磨或銑製來製造，且製成優異之反射器： 此外’ V型斷面藉由伸展重導引片而使内縮相對較容忍變 形如可能發生在根據本發明之反射式顯示面板的製造期 間。 / ’、、而§然可能有其他斷面及可具有用於各種應用之有 利f生貝。例如，該等内縮可具有壁，其係平直或依凸面、 凹面或起伏樣式之曲狀，且内縮的底部可為尖銳、圓或平 較佳係，該V型斷面之一開口角度可小於150。。 進:然實、上所有開口角度’反射式顯示面板之亮度被改 由形對比中之改進係大幅取決於以上所述角度。藉 構，可：有根據以上所述的一斷面開口角度之重導引結 十對大多數照明條件獲得令人滿意的對比比率。 更佳係，V型斷面之開口角度可在〇。及8〇。之間，或 129636.doc 200903085 I 00°及150。之間。 心巷本”斷面，係有兩個開口角度範圍，介於〇。及 約80。之間，及介於約1〇〇。及 、 ^ ^ L t 之間，其令對比調變 只際上係與開口角度無關。 文 此外，該重導引片可進一 遲滯器、一眩光減少部件、 保§蒦部件之至少一者。 步組態以作用為一偏光器、一 一表面反射減少部件及一刮痕 藉由在重導引片中整合一或數個額冰 At *数個額外顯不面板相關功 月匕’用於生產根據本發明之反射式 河J八".貞不面板的製程變得更 有效率’導致減少生產成本。 ，此外，在可應用的情況下’可改進不同功能層間之對 準，實現改進顯示面板性能及/或生產良率。 此外根據本發明之該反射式顯示面板可進一步包含一 覆蓋片’其係配置以覆蓋重導引片，該覆蓋片具有之一折 射率係實質上等於重導引片的折射率。 从因7 ’係避免重導引片及覆蓋片間之—介面處的反射， 藉以最有效率地使用進入光。 根據本發明之反射式顯示面板的—具體實施例，各像素 可包含-液晶層及—對電極，其係依液晶層之一調變部分 可透過在電極間施加—電壓而在光調變狀態間控制之此方 式配置。 在本發明之此具體實施例中，反射式顯示面板因而係液 曰曰顯不面板（LCD)。在匕LCD面板可具有《置在電極層間之 液曰曰層’或具有透過所謂平面内切換的功能，其情況係該 129636.doc ^ 12- 200903085 ==在相同平面内。在LCD，，各像素之非調變部 ::… #應於像素驅動電路及/或像素選擇線之部 素發明之反射式顯示面板的另-具體實施例，各像 ΓίΓ種具有不同光學性質之不互溶流體；及-對電 極於透過在該等電極 流體彼此相對的移動。 電“可控制該等 2發明之此具體實施例中，反射式顯示面板因而係一 電濕潤顯示面板，且久你主^ 且各像素之非調變部分典型包括一對應 於分離壁之部分，其將_ ^ 豕京τ之Μ體與鄰接像素中的流 體分離。 根據本發明之反射式顯示面板的另—具體實施例，各像 素可包含-流體及複數個懸浮在其間之帶電荷粒子，及一 =於透過在電極間施加一電壓而可控制地移動複數個帶 電何粒子的電極。 在本發明之此具體實施例中，反射式顯示面板因而係一 電冰顯示面板。在電泳顯示器中，各像素之非調變部分血 型包括—對應於分離壁之部分’其將—像素中之懸浮粒子 與鄰接像素中的懸浮粒子分離。 根據本發明之一第二態樣，以上所述及其他目的係藉由 一種用於製造-反射式顯示面板之方法達到，該方法包含 提供-包含複數個像素的反射式顯示面板之步驟，該等像 素各具有—可在光調變狀態間控制之調變部分，及一非調 變部分；及將一重導引片附接至該反射式顯示面板，該重 129636.doc 200903085 導引片具有複數個重導引結構，其係組態以依重導引結構 之各者係基本上對準該等非調變部分之一對應部分的此方 式’將入射在其上之周圍光重導引朝向著重導引片之中間 部分。 因而可製造一具有經改進亮度及對比的反射式顯示面 板。 本發明之第二態樣的進一步特徵及有利效應，主要類似 於該等關於以上已關於本發明的第一態樣所討論。 此外，有利地的是，附接之步驟可包含使重導引結構對 準顯示面板中之對應非調變部分，及固定該重導引月至該 顯示面板的步驟。 對準之此步驟可包含監視顯示面板之—反射，及伸展該 重導引片以致評估指示一正確對準的步驟。 藉由在一可伸展材料中製造重導引片及實施監視該反射 及伸展該重導引片之以上步驟，係減少該等重導引結構之 形成中的公差需要。 在固定（可能伸展）重導引片至顯示面板之步驟期間（或之 後），可加熱重導引片以致由於伸展之導出應力被消除。 就此目的而言，該固定可（例如）透過熱層壓實行。 此外，可將重導引片有利地應用於—捲盤至捲盤程 中〇 根據本發明之第三態樣，以上所述及其他目的係 種用於製造一反射式顯示面板之方法達到，該反射式顯示 面板包含複數個像素，其各具有一可在光調變狀態間控制 129636.doc -14- 200903085 。變=刀，及—非調變部分，該方法包含以下步驟：提 供一覆盍片，其包含一光可成像像素定義層，及—重導引 其具有複數個重導引結構，該等結構係組態以將入射 於：上之光重導引至像素定義層的中間部分；及藉由一光 • u —重導引層側照射該覆蓋片，該光源係調適以實現 目案化光可成像像素定義層，因而使對應於該等重導引結 構之像素Μ層的部分實f上未曝光，而曝露其剩料 n ^顯影該像素定義層，因而形成-像素定義壁結構，其 已3硬數個有壁像素内區域；提供一光調變部件於該等有 壁像素内區域之各區域中， 提供-顯示基底載體。⑽覆盍片之像素定義層側 透過此方法’其對於反射式顯示面板係尤其有利，其中 ==一含有一光調變部件之隔室，例如以上討論之 電：』及電冰反射式顯示面 我合1豕京之凋變部分的 延伸之壁係自對準至重導引片中之重導引結構。 出因而’因為非調變部分係將重導引結構用作遮罩而形 序。’故無須進行重導引片相對於非調變部分之對準的程 該光可成像定義層較佳可包含一正光阻。 此外，顯示基底載體可包含_電極圖案， 底載體的步驟可包含依_ f (、硕不基 像素以將顯示基底載體對準覆蓋片之此篆素之各 示基底載體至覆蓋片的步驟。 附接該顯 根據本發明之目則態樣的方法可進一步包含针對各像素 I29636.doc 200903085 在，素疋義壁結構之至少-部分上形成-導電層的步驟。 而定義一像素之壁的至少一部分可作用為—像素控 制電極。可膝、 J析另一像素控制電極定位在此壁之另一部分 y. ， __ / 5 °形成在有壁像素内區域中之基底載體上。當該第 -電極係形成在有壁像素内區域中之基底載體上時，重導 |片可針對各像素包括一對應於第一電極之位置的重導引 結構。 【實施方式】 、下彳田述中，主要係參考一種反射式液晶面板，其具有 一夾置於一第一透明電極層及一第二電極層間之液晶層。 應注意的係此絕不應限制本發明的範疇，其係可同等地應 用於其他類型之反射式顯示面板，例如電濕潤顯示面板、 電泳顯示面板及電上色顯示面板。此外，應注意若干此類 顯示面板類型亦可透過所謂面内切換（在該情況中第一及 第一電極係在相同平面中)而具有作用。此尤其係用於液 晶顯示面板及電泳顯示面板之情況。 圖1係示意性顯示一範例性反射式顯示面板之部分的平 面圖。尤其係，圖1顯示一反射式液晶面板之第二層的一 部分。 在圖1中’—對應⑨-全像素之第二層的區域i係顯示藉 由對應於鄰接像素的區域之部分2&至h圍繞。對應於全像 素之區域1係藉由依一反射式電極層部分3之形式的調變部 分及一非調變部分4(在圖1中之剖面線）佔用。在圖丨中說明 之範例性反射式顯示面板片段中，非調變部分4係主要藉 129636.doc 16- 200903085 由一用於驅動反射式電極3之薄膜電晶體（TFT)5、水平6a 至b及垂直73至b像素選擇線之部分及將反射式電極層部分 3與TFT 5及水平6山與垂直7山像素選擇線分離之絕緣 跡線8a至e構成。當將_控制電麼施加於反射式電極3時， -對應於此反射式電極3的像素區域被切換以允許或 入射光的反射。鈇而 後冬々 ,,+ ^ 一 f …、而，像素之一大小相當的部分（對應於 非調k部分4)保持不受控制電壓之施加的影響。 在本發明之較佳具體實施例的以下描述中，將顯示入射 在此非調變部分之至少一部分上的光，如何可被重導引朝 向础接凋變部分3’且因而貢獻於該反射式顯示面板的亮 在目前描述中，為了清晰之目的，本發明之各種具體實 施例係使用反射式顯示面板的高度簡化說明來描述，其中 在此項技術中為人熟知之各種層(例如對準層、偏光層、 電極層、TFT形成層等等）係不特定地指示。“，對於熟 習相關領域之人士而言’應會瞭解如何將此等各種特徵應 用於所述之具體實施例。 圖2係根據本發明之—S Μ Φ- /Sl. Λ. r- 6,, ^具體Λ轭例之反射式顯示面板9的 一部分之示意性斷面圖。 在圖2中’一全像素1〇係顯示藉由兩個鄰接像素⑴至b 之部分所圍繞。在圖2之簡化及示意性說明中，顯示面板9 係顯示包含一下基板12、一光調變層13及—重導引片Μ。 為了圖式清晰緣故，顯示面板9之電極及其他基本或可選 用組件在圖2中並不特定地指示。 129636.doc •17· 200903085 顯示面板9具有（如藉由圖1中之範例指示）調變部分15、 1 6a至b ’其係可在光調變狀態間控制，及非調變部分17及 18 ° 〆如圖2中指示，重導引片14包括重導引結構19及2〇，且 係配置以致此等重導引結構丨9及2〇係分別對準顯示面板之 對應非調變部分17及18。透過此等重導引結構19及2〇之提 供（在此情況下脊形内縮形成在重導引片14中），撞擊在重 導引結構19及20上之光（其否則將會已撞擊非調變部分17 及18且對顯示面板9的亮度及/或對比沒有貢獻）被重導引朝 向鄰接調變部分1 5、1 6a至b，如由圖2中用於中央調變部 分1 5之箭頭指示。 數個重導引結構組態係可能用於實現有效重導引進入 光。各種不同結構可涉及不同重導引結構斷面（如之後關 於圖4 a至c討論）及/或不同反射器組態，現將持續參考圖2 描述其兩個範例。 在圖2中，所示重導引結構1 9之一係一内縮，其含有一 具有折射率低於重導引片的材料2 1 (如空氣或另一流體）。 此重導引結構19藉由在重導引片14及所包含材料21間之介 面22處的全内反射（TIR)反射。圖2中之其他重導引結構20 包括一可藉由一反射層形成的鏡面反射器23，該反射層係 例如藉由一金屬反射器材料（例如鋁（A1)、銀（Ag)或鋁-鉉 (Al-Nd)合金）形成，其覆蓋在内縮20處之重導引片14，或 者’内縮20可含有一反射材料24/用一反射材料24填充（如 圖2中指示）。 129636.doc -18、 200903085 圖3a係一在圖2中顯示而沒有重導引片μ之反射式顯示 面板9的一部分之示意性平面圖。 如圖3a中說明，在y方向中延伸之非調變部分17及18具 有比在X方向中延伸的非調變部分30及3 1更大之延伸。 為了達到進入光自非調變部分17、18、30及31朝該等鄰 接調變部分15及16a至b之最大重導引，重導引片14應具有 重導引結構，其具有基本上對應於非調變部分丨7、1 8、3 〇 及31且在X及y兩方向中延伸之延伸。 然而’為了在顯示面板9的改進影像品質及可製造性間 達到有利的折衷，可能需要使用一重導引片14，其具有僅 在y方向中延伸之重導引結構19及20。此係在圖补中示意 地說明。 在圖4a至c中，係示意性地說明三個具有不同重導引結 構組態之範例性重導引片部分。 圖4a中之重導引片14具有一重導引結構4〇，其具有一基 本上v型斷面，該斷面具有一開口角度％，其可在1〇。及 150。間，且較佳約1〇〇。。此ν型斷面之適合開口角度的選 擇將會關於圖5更詳細討論如下。 圖4b至c示意性地說明分別具有替代重導引結構“及心 之重導引片14’ s玄等結構具有在圖钓中之ν型斷面的變化 之斷面。如熟習相關技術之人士將會瞭解，各種其他變化 皆可能，且取決於特定應用而可能較有利。 在圖5中，係顯示圖2中之反射式顯示面板的對比調變成 為開口角度θ〇(參見圖4a)之函數，其假設該重導引結構表 129636.doc -19- 200903085 現為用於所有開口角度及進入光之入射角的完美反射器。 對比調變Μ係藉由以下關係給定： M=(CR-1)/(CR+1) 在此’ CR係反射式顯示面板之對比比率。對於電子讀 取及招牌’對比調變Μ較佳係應比〇.8更大，其如圖5中可 見係針對低於約150。之所有開口角度獲得。如從圖5亦可 瞭解，在用於開口角度之曲線中係有兩”平線區”，其一在 〇及約80。間，且另一處在約1〇〇。及約15〇。間，其中對比調 變係實際上與開口角度無關。 如將關於圖6描述於下，重導引片可在顯示面板製造期 間於X方向中伸展（參見圖3b)。此伸展導致開口角度％增 加，其可能導致在顯示面板之不同部分中的不同開口角 度。 因此有利的是製造重導引片，以致其初始具有約1〇〇。之 開口角度，因此若開口角度保持小於丨5〇。時，開口角度可 由於伸展局部地增加而其因此不具有一空間變化對比調 變。 或者，有利的是製造重導引片以致其初始具有一小開口 角度（約1 0。），因此若開口角度保持小於8〇。時，開口角度 可由於伸展局部地增加而#目此不具有—空間變化對比調 變。 現參考圖6，其係一說明根據本發明之第一範例性製造 方法的流程圖，一具有複數個重導引結構丨9及20之重導引 片14係在第—步驟6〇1中提供。在一後續步驟6〇2中，係監 129636.doc -20- 200903085 =示：：9之反射’其中重導引片14定位在光修改層13 ^ -☆未附接至顯示面板9_餘部分。顯示㈣ 反射的此監視將會關於圖7及8進一步描述於下。 之 在下-步驟6G3中’係執行初始對準。在此步驟中 ^4係(藉由反射監視之結果導引)對準，以致獲得一 導1結構19及20與非調變部分17及18間之充分良好或 敢^土可此對應。若判斷兮Γ劈+ j呵°亥對應充分良好，則繞過步驟 604,且執行重導引片14 驟 分的最後步驟605。此"：用 顯不面板9之剩餘部 ..私序亦用於不可伸展（例如玻璃）的重 導引片14材料。另—太品 ^ 々入、 方面，右該對應到達一最大值（局部 3王域）但仍s忍為不足時’會執行伸展重導引片Μ之步驟 604 ’以補償在非調變部分17及18與重導引結構似㈣ 之間距中的差罝。士拙β 伸展可對於整個顯示面板9立即發 生’但較佳係連續執行’以致對準一次係針對少數重導引 結構執行，之後重導引片14對應於此等重導引結構之—區 域係固疋至顯不面板9的剩餘部分。 圖7中係不忍性說明一用於在重導引片〗4之對準及 固定期間監視反射式顯示面板9的一部分之反射的設置。 如圖7中可見，自 , 九/原（未顯示）入射在顯示面板9上之光 係朝-偵測器70反射回。在圖7所示的情況中，重導引片 14係未對準。由於該未對準，-如由圖7之箭頭示意性指 不的反射圖案係藉由偵測器偵測。在目前情況中，假設非 調變部分17及18係不反射，即對於編70係顯現黑。此 僅係一乾例，且—呈 '、有非調變部分（其具有係悝定之另一 129636.doc 200903085 反射）之反射式顯示面板可依類似方式處理。由於在重導 引片1 4中之光展開且反射離開重導引結構丨9，在重導引結 構19上之區域可能不顯現黑’而是如在調變部分丨5及1 & 至b與鄰接非調變部分17及18間具有一亮度’其實際上不 論重導引結構與非調變部分的相對位置。 圖8a至c示意性地顯示偵測器7〇之個別回應，其係用於 重V引結構1 9及2 0相對於非調變部分丨7及丨8之三個不同對 準狀態。 在圖8a中，重導引片14係定位太靠左，在圖处中此等 兩個重導引結構19及20之對準係可接受，及在圖“中，重 導引片係定位得太向右。 假如在圖8b中指示之回應係針對重導引結構19及2〇獲 知·，重V引片14可局部固定至顯示面板之剩餘部分，且程 序之後針對以下重導引結構重複。 對於一些具有全部透明基板之顯示面板，以上描述程序 可易於經調適以在透射中執行，即顯示面板係定位在光源 及偵測器之間。對準原理係相當於以上針對反射式對準方 法之描述。 在圖9中，圖2中之顯示面板9的捲盤至捲盤方式製造係 示意性地顯示，其中重導引片係從圖式中之右至左連續地 附接至顯不面板9。重導引結構1 9及2〇對於非調變部分ρ 及18之對準被連續地監視，且施加於重導引片“的張力被 控制，以致視需要重導引片14可伸展以達到橫跨整個顯示 面板9的對準。 129636.doc •22· 200903085 現將餐考圖1 〇中之流程圖描述根據本發明之第二範例性 製造方法’且根據此方法製造之反射式顯示面板的示意性 描述在跟隨對應方法步驟的狀態中。 根據此第二範例性製造方法’一覆蓋片3 〇係在一第一步 驟1001中提供。覆蓋片30包含一具有重導引結構19及20之 重導引片14;及一像素定義片31，其包括一透光基底層32 及一由一正光阻形成之光可成像定義層33。 例如’覆蓋片30可藉由將一薄透光膜32層壓在重導引片 1 4的重導引結構側3 4上形成。如先前所述，重導引結構工9 及20可包括一反射器，或可用一折射率低於重導引片丨斗之 折射率的物質填充，以致一透過全内反射（TIR)反射之反 射器，係在重導引片14及其鄰接物質之介面處的重導引結 構19及20中形成。 此層壓後，可用具有適合性質之光可成像物質（例如正 光阻3 3)塗布溥膜3 2。應選擇此光阻層之厚度d，以致從光 阻3 3升> 成之經顯影及固化結構的高度h (在圖1 1 ^中）對應於 光修改層之所需厚度。 在下一步驟1002中，覆蓋片係用光照射（如由圖Ub中之 則頭指不），其具有用於活化光阻33之適合特性。由於重 導引結構19及20之光重導引性質’很少光將會曝露對應於 重導引結構19及20的光阻層33之部分35及36。反之，光阻 層33之剩餘部分（其未受到重導引結構19及2〇之遮蔽）將藉 由光曝路。在已顯影及固化光阻層3 3後，將僅保留像素定 義壁結構35及36。此等壁結構35及36將會完美地(及自動 129636.doc 23· 200903085 地）對準對應的重導引結構19及20。 重j二構35及36將包括在完成像素之非調變部分卜 重結構〗9及2〇係因此完美地 的此部分。 A亥像素之非調變部分 在反射式顯示面板之一肚且體會 雷尸” + —、體實％例中，若在像素控制 ^之笔極間的—電極係在像素定義壁35们6上的顯示面 中形成可為有利。為了達到此，可使像素定義壁 及36導電，例如透過後續步驟1〇〇3中的金屬化。此金屬 化可(例如)藉由金屬化該覆蓋片的整個上表面37實行，在 金屬層頂部上施加一新光阻層(未顯示)，曝露及顯影此光 :層，且接著钱刻移除金屬層的不需要部分，之後移除此 光阻層的剩餘部分。如何實行此簡要描述之程序對於熟習 此項技術人士而言係充分瞭解，其典型亦能察覺圖案化金 屬層之其他為人同樣熟知的替代方法。另一選項在未覆蓋 基底層32之上表面37上的所兩/ir $ 厅而位置處微模鍛一導電聚合 物。 由於在步㈣〇3巾實行之處理’薄金屬層取39已在如 圖lie中說明之對應壁結構35及36上形成。 在後續步驟蘭中，藉由壁結構35及36定義之隔室41係 用-光調變部件42填充。在目前範例中，所製造之反射式 顯示面板係電泳顯示器。因此，光調變部件42在此係依一 流體/粒子懸浮形式提供。應易於理解在此說明之流體/粒 子懸浮可用另一光調變部件替換，例如一液晶材料或一組 不互溶流體。在最後步驟咖中，—具有_電極圖案44、 129636.doc -24· 200903085 …6之顯示基底載體43係附接至覆蓋片3〇， 由壁結構35及36定義之隔室。第一像素控制電極44及= 藉此連接至金屬化壁結構35及36，且—第二像素控制電極 仏係提供作為-在藉由壁結構35及36定義之像素隔室内的 中央定位控制電極。應注f結構35及36形成連續封閉辟， 且因此所有像素之所有壁形成—共同電極。心，此:同 電極典型僅需要在橫跨整個顯示面板的—或少數位置中連 接’且應理解在圖lle中顯示之電極44及45係僅用於 目的。 然而，在像素隔室内提供的第二像素控制電極乜應可定 址，例如藉由一 TFT矩陣。 為了將對準公差保持在一合理位準’而仍達到在像素中 之定義明確的第二電極’在像素基底載體43上提供之第二 電極44及45，較佳係應可考慮小於對應壁結構乃及％，且 亦在圖11 e中指示。 在一些應用方面，對於重導引結構丨9及2〇而言，將光自 藉由壁結構35及36構成之非調變部分的部分重導引離間至 像素的剩餘部分可能已足夠，而在其他應用中，較佳係包 括另一重導引結構47(由圖Ue中之重導引片M中的點線指 不）’其基本上對應於像素基底載體43中之第一電極仏。 此另重導引結構4 7可有利地形成為重導引片1 4中之金字 ^狀内縮。 热習此項技術人士應瞭解本發明不受限於該等較佳具體 實施例例如’重導引結構可能並非内縮’而係已插入或 129636.doc -25- 200903085 f 壓入重導引片内之反射結構。此外，重導引結構可組合其 周圍或底下的吸收結構以改進對比_此在重導引結構依靠 全内反射式之情況下尤其有利，因為對於一些角度，一些 光可進入低折射率之空腔。光接著可在重導引結構下之"傳 統”黑遮罩中被吸收。此外，可使重導引結構之部分吸收 光-此在非v型斷面之情況下係、受到關注，例如其中斷面之 平面部分係製成不透明的U型斷面。此外，在反射式顯示 面板中包含之像素可為六角形、蜂巢狀或三角形。 在申請專利範圍巾，字"包含，，不排除其他元件，且不定 =一”或”―個，，不排除複數個。唯-事實為，在彼此不 二:！請求項中所引用的某些方法並不指示不能突顯優 此等方法的組合。專利範圍令 應被視為限制該範订，考付號不 【圖式簡單說明】 佳：:二此等及其他態樣現將參考顯示本發明的目前較 圖1係—範例性反射式顯 圖； 《面板之-部分的示意性平面 -部分的示意性斷面圖； W反射式顯-面板之 圖h示意性說明—具有在兩 軏例性反射式顧_ 心1甲之非凋變部分的 w、貝不面板； 圖3b係-具有對應於圖3a 分之平行延伸 文刀組態的較大部 結構之重導引片的示意性透視圖； i29636.doc •26· 200903085 圖粍至c係說明三個範例性重導引結構組態之示意性斷 面圖； 圖5係-針對圖4a中之組態來示意性說明對比調變成為 重導引結構開口角度之函數的圖式； 圖6係5兒明根據本發明之第一範例性製造方法的流程 圖； 圖示…、丨生D兒明用於監視顯示面板在對準期間之反射 的設置； 圖8 a至C示意性說明在對準期間圖7之設置的範例性回 應； 圖9不思性說明圖2中顯示面板之捲盤至捲盤方式製造； 圖1〇係示意性說明一根據本發明之第二範例性製造方法 的流程圖；及 圖Ha至e示意性說明根據圖1〇之方法製造的反射式顯示 面板在跟隨對應方法步驟之狀態中。 應注意的係此等圖式係概略且未根據比例繪製。為了圖 式中之清晰及便利緣故，此等圖式之部分的相對尺度及比 例已顯示誇大或縮小。 【主要元件符號說明】

1 區域 2a至h 部分 3 反射式電極/反射式電極層部分 4 非调變部分 5 薄膜電晶體/TFT 129636.doc -27- 200903085 6a至b 水平 7a至b 垂直 8a至e 絕緣跡線 9 顯示面板 10 全像素 1 la至 b 鄰接像素 12 下基板 13 光調變層/光修改層 f. ' V 14 重導引片 15 調變部分 1 6a至 b 調變部分 17 非調變部分 18 非調變部分 19 重導引結構/内縮 20 重導引結構/内縮 21 材料 22 介面 23 鏡面反射器 24 反射式材料 . 30 非調變部分/覆蓋片 31 非調變部分/像素定義片/像素定義層 32 透光基底層/薄透光膜 33 可成像定義層/正光阻/光阻層 35 部分/壁結構 129636.doc -28- 200903085 36 37 38 39 . 40 41 42 43 44 45 46 47 70 部分/壁結構 上表面 薄金屬層/導電層/電極對 薄金屬層/導電層/電極對 重導引結構 重導引結構/隔室 重導引結構/光調變部件 顯示基底載體 電極圖案/第一像素控制電極 電極圖案/第一像素控制電極 電極圖案/第二像素控制電極 重導引結構 偵測器 129636.doc -29-

Claims (1)

1. 200903085 申請專利範菌·· 】.一種反射式顯示面板（9)，复勹人、— b) m目* 其包含複數個像素〇0、Ua至 (5 :像素具有一可在光調變狀態間控制之調變部分 Π5、16a至b)，及一非調變邱八^ ^ 射1箱_ 刀（、丨8)，特徵在於該反 導引結構〇9、20)，各二丨片〇4)，其具有複數個重 ^ 二、纟且恶以將入射在其上的周圍光 重導引朝向一鄰接調變部分〇5、】6a至b)。 2· ^求^之反射式顯示面板（9)，其中該重導引片⑽ 3. H组重導引結構(19、20)，其基本上在一藉由 4重導引片（14)定義之平面巾平行延伸。 如请求項2之反射式顯示面板（9)，其令該重導引片⑽ 進一 包含-第：組基本上平行重導引結構，其具有一 與在藉由該重導引Ml4)定義的該平面中之該第一組重 導引結構（19、20)不同的延伸方向。 士 π长項1之反射式顯示面板（9) ’其中 …、取各重導引結構係在該重導引片（14)的導^構 面上提供成為一内縮，且該重導引片（14)係依該周圍光 係入射在與言亥第—面相反之其一第二面上之此方式配 置。 5·如吻求項4之反射式顯示面板（9)，其中該内縮（I”含有 一材料（21)，其具有一低於該重導引片（14)之折射率。 6· 士吻求項4之反射式顯示面板（9)，其中該内縮（2〇)含有 一反射式材料（24)。 7· 士明求項4之反射式顯示面板（9)，其中該内縮Q9、2〇) 129636.doc 200903085 具有〜基本上v型斷面。 用求項7之反射式顯示面板（9)，其中該v型斷面之一開 口角度（Θ。)係小於15〇。。 如明求項1之反射式顯示面板（9)，其中該重導引片（14) 係進一步組態以作用為一偏光器、一遲滯器、一眩光 少 AR ΙΛ 一表面反射減少部件及一刮痕保護部件中至少 一者。 ί r.

   1〇.如叫求項1之反射式顯示面板，其進一步包含一覆蓋 片’其係配置以覆蓋該重導引片〇4)，該覆蓋片具有之 一折射率係實質上等於該重導引片（14)的折射率。 ".如明求項1之反射式顯示面板，其中各像素包含一液晶 層及★對電極’其係依該液晶層之—調變部分係可透過 在該等電極間施加一電壓而在光調變狀態間控制之此方 式配置。 12. ’其中各像素包含兩種不 質；及一對電極，其係用 壓而可控制該等流體彼此 如請求項1之反射式顯示面板 互溶流體’其具有不同光學性 於透過在該等電極間施加一電 相對地移動。 13.如請求们之反射式顯示面板，其卞各像素包含一流體 及複數個懸浮在其間之帶電荷粒子；及—對電極，其係 用於透過在該等電極間施加—電壓而可控制地移動該複 數個帶電荷粒子。 該方法包含以下 I4. 一種製造一反射式顯示面板（9)之方法 步驟： 129636.doc 200903085 提供(601) 一反射式顯示面板’其包含複數個像素 (10、11a至b)，各像素具有一可在光調變狀態間控制之 調變部分（15、16a至b)，及一非調變部分（17、18)，及 將-重導引片（14)附接至該反射式顯示面才反，該重導 引片（14)具有複數個重導引結構（19、2〇)，其係組態以 依該等重導引結構（19、2〇)之各重導引結構係基本上對 準該等非調變部分（17、18)之一對應部分的此方式，將 入射在其上之周圍光重導引朝向該重導引片（14)之中間 部分。 15. 如請求項14之方法，其中附接之該步驟包含以下步驟： 使該等重導引結構（19、20)對準該顯示面板中之對應 非調變部分（17、18),及 固定（605)該重導引片（14)至該顯示面板。 16. 如請求項15之方法，其中對準之該步驟包含以下步驟： 監視（602)該顯示面板之一反射，及 伸展（604)該重導引片（14)以致評估指示一正確對準。 17. 如請求項14至16中任一項之方法，其中該重導引片（14) 係應用於一捲盤至捲盤程序中。 18. —種製造一反射式顯示面板之方法，其包含以下步驟： 提供（1001)—覆蓋片（3〇)，其包含一光可成像像素定 義層（31)，及一重導引層（14)，其具有複數個重導引結 構（19、20)，該等結構（19、2〇)係組態以將入射於其上 之光重導引朝向該像素定義層〗）的中間部分，及 藉由一光源從其—重導引層（14)側照射（1002)該覆蓋 I29636.doc 200903085 片（30) ’該光源係㈣以實現圖案化該光可成像像素定 義層（3 1)，因而使對應於該等重導引結構（丨9、2 〇)之該 像素定義層的部分（35、36)實質上未曝光，而曝露其剩 餘部分， 顯影該像素定義層（31)，因而形成一像素定義壁結構 (3 5 36)，其包含複數個有壁像素内區域， 提供（1 004) 一光調變部件（42)於該等有壁像素内區域 之各區域中，及 在》亥覆蓋片（30)之-像素定義層（31)側上提供（1〇〇5)一 顯示基底載體（43)。 1 9.如μ求項丨8之方法，其中該像素定義層（3丨）包含一正光 阻（33) 〇 2〇.如1求項18或I9之方法，其中該顯示基底載體（叫包含 一電極圖案（44、45、46)，且提供（1005)該顯示基底載 體之該步驟包含以下步驟： 依—電極對（38、39、46)係提供用於該等像素之各像 素的此方式，將該顯示基底載體（43)對準該覆蓋片 (30)，及 附接該顯示基底載體（43)至該覆蓋片（3〇)。 21·如4求項18之方法，其進一步包含針對各像素在該像素 定義壁結構（35、36)之至少一部分上形成（1〇〇3)一導電 層（38、39)的步驟。 129636.doc