TW200838816A - A crucible having a doped upper wall portion and method for making the same - Google Patents

Description

200838816 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域3 發明領域 本發明係有關石英坩鍋之領域，更詳細地說，係有關 - 5 鍋壁中形成了摻雜層的一個石英坩鍋。 Γ 發明背景

Czochralski(CZ)法於單晶石夕之晶棒生產技術中廣為所 φ 知，矽晶圓即由晶棒製成，而用於半導體業中。 10 在CZ法中，係將金屬矽裝入位於承座内部的一個矽玻 璃坩堝中，接著利用一個環繞此承座之加熱器將裝載物加 - 熱以熔化所裝填之矽，從等於或接近矽石熔化溫度時所熔 _ 化之矽石拉出一個單晶矽。 除了 CZ法之外，熔融石英坩鍋係用以熔化金屬矽，接 15 著將其自坩堝内所形成的一個噴嘴倒進一個鑄模中，以製 作一根用以製備太陽能電池之多晶矽晶棒。如同CZ坩堝 • 般，有一個加熱器環繞著固定坩堝的承座。 - 當如此使用熔融玻璃坩堝時，坩堝中的金屬矽由於加 熱器經由承座及掛锅發出的輻射熱而溶化（至少部分地溶 20 化）。輻射熱會熔化坩鍋中的矽而非坩鍋，其熔點大約1410 度C，然而一旦坩鍋中的矽被熔化，則由於熔化矽之熱傳導 作用，位於熔化矽表面下的坩鍋内表面會被加熱至相同溫 度，此高溫足夠使坩鍋壁變形，而坩鍋壁被熔化物的重量 壓進承座中。 5 200838816 炫接線乃炼化石夕表面與掛銷壁的交接處，由於炼接線 上方的坩鍋壁並不會被熔化物之重量壓進承座中，亦即維 持原狀，故其可能會變形。吾人很難控制熱度以將雜化 並維持熔紐n，同時防歧躲±方騎_下垂、彎 曲或者變形，轉精確的熱度㈣會減緩cz|^，因而減 緩碎晶棒產量。 在已知技術中，係形成外層中具有經摻雜石英的-個 熔融賴，當掛鋼被加熱時，用以摻雜石英者係能促進結 晶的-個元素，例如銘。結晶石夕較熔融玻璃更堅固，且不 10會因cz法及類似方法中使用的熔爐内部溫度而變形。 其中一個這種已知方法係以範圍50-120 ppm的銘摻雜 於掛銷外層’早期在耗時之cz法過程中，外壁會由於紹之 掺雜而結晶，結晶部分比掛鋼其他部分更剛硬，因而支樓 著熔接線上方的上壁。 15 20 習知記憶方法產生了至少兩種問題，視摻雜濃度而 定。百先’摻雜濃度必須夠高才能製作剛硬之外壁以支擇 溶接線上方的上壁，若找吨、曲由 摻‘》辰度過低，則壁面會和未摻雜 时鋼時一樣發生變形，而當掺雜濃度高至足以支撲壁面 時’位於熔接線下方的壁面部分會在CZ法期間承受非常高 之溫f、，而於_線下方形成非常厚的結晶層。由於長時 間之南溫及厚結晶層，、吟 总接線下方的壁面可能會破裂。 t發明内容】 依據本發明之一訾^^ /, y

、也例，係特地提出一種用於製備一 溶融玻璃掛銷之方法，甘A /、包括有：轉動一個具一用於形成 6 200838816 掛锅底部之大體上水平表面與一用於形成掛鋼壁面部分之 大體上直立表面的掛锅模；於該旋轉掛鍋模之直立表面的 一個上方部分上面沈積經摻雜石英晶粒；於該直立表面之 下方部分上面及經摻雜石英晶粒上面沈積塊狀石英晶粒； 5於該鑄模之大體上水平表面上沈積塊狀石英晶粒以形成該 坩鍋之底部；以及基本上將所有晶粒熔化。 依據本發明之一實施例，係特地提出一種用於製備一 熔融玻璃坩鍋之方法，其包括有：

沈積-層經摻雜石英晶粒，以形成一個界定了一掛鋼 〇壁之上方部分的-個外側部分之環圈；於該環圈上面沈積 -層塊狀石英晶粒’以形成該⑽壁之其餘部分；沈積一 層塊狀石英晶粒，以形成該稿之底部；以及基本上將所 有晶粒溶化。 15 20 種熔融玻璃坩 鋼，其包括有：—個由縣塊m日日粒所形成之大體上 直立的圓柱形祕壁；-個由炫融塊狀石英晶粒所形成之 大體上水平的祕底部，該底部倾該料壁 接；-個由該壁内所含之熔融經摻雜石 體上圓柱形的環圈，該環圈位於該形成之大 以及-個於底部與不含轉雜石英t目上方分處， 壁面下方部分。 * 一之«之間延伸的 圖式簡單說明 第K3圖相當簡略地繪示了形成_個在复山 斗之掛鋼的連續階段之鑄模橫截面侧_側'。、下端具一漏 7 200838816 弟Θ為所开》成之掛锅的橫截面圖。 # 為在〜cz法期間利用本發明所形成的另一種財 鍋橫截面圖。 裡 第6圖為第4圖中使用之_於一製備太陽能電池方法 5期間的一個横戴面圖。 【實】 較佳實施例之詳細說明 第1圖中的10 一般係指用於製備熔融玻璃坩鍋的系 統，系統包括一個可繞一根垂直軸14旋轉之堆鋼模12，掛 1〇銷模12包括-個大體上水平之表面15，其上形成了堆鍋之 氐Ρ由圖中可清楚看出。掛銷模亦包括一個大體上直立 之表面16。於第1圖中，系統10乃裝配為在其之下端具有一 個喷嘴的购類型，有鑑於此，將一根石墨柱塞18配置在 坩鍋模下端，以形成一條與熔化後接於坩鍋上之噴嘴（未示 15出）連接的通道。關於製造具有這種噴嘴之坩鍋的細節，請 參看2005年11月9日所提申、標題為“具喷嘴之石夕管及製造 方法”之美國專利申請案第11/271，491號，茲將在此列為參 考。 糸統10包含一個大容篁晶粒料斗20和一個經摻雜晶粒 2〇料斗22 ’自各料斗流出之晶粒乃分別利用調節閥24、26加 以控制’有一根供料管28自其中一個料斗或兩個料斗將石 英晶粒注入掛鋼模12中’其取決於調節閥24、26如何設定。 供料管28可垂哀地移動而進出坩鋼模12，此有助於選擇性 地將晶粒沈積在直立表面16及大體上水平之表面1 $上，稍 8 200838816 後將進-步說明。有-個到刀3〇可垂直地移動，亦可 地移動以將模12内之晶粒隨著旋轉㈣以塑形。 現在將考慮如何利用系統1〇製備一個掛鋼。首先將 狀石英晶粒32裝入料斗2〇，並將銘推雜石英晶粒料裝入料 5斗22，石英晶粒34可摻雜範圍大約85_5〇〇鹏的銘。 其次，以大約1〇〇 rpm的速度轉動掛銷模^，如第斶 中所不將供料吕28定位，打開閥26，開始繞著掛鶴模η週 j將經掺雜晶粒34沈積成條帶或環圈36。如_示，、供料 s係垂直地移動以沈積轉雜晶粒，_模轉速相當高， !〇使環圈36中的經摻雜晶粒維持在大體上直立之表面上的某 個預定高度之上。若轉速過低，經摻雜晶粒會落在掛鋼模 的下方部分，並非所樂見。於本實施例中，環圈％的捏向 外表面包括掛鋼壁最上部分之最外側部分，形成環圈之經 摻雜晶粒係沈積在一層厚度(沿掛鋼模j 2之輻射轴測量）由 15刮刀30位置所界定的層内，在完全成形的掛銷中，此厚度 靶圍可能大約0.7〜2.0 mm。如圖所示，最外層的石英晶粒 亚未熔化，此防止坩鍋模燃燒，並使其較易從模中取出坩 鋼。此未溶融晶粒之厚度必須納入考量，以提供最終產品 0.7-2.0 mm的厚度。 2〇 如第2圖中所示，當環圈36如上文所述配置之後，將閥 26關閉’而閥24開啟。此外，將坩鍋模12轉速降至75 rpm， 讓其中一些塊狀晶粒32落至坩鍋模12下方部分。隨著塊狀 晶粒從料斗20流出供料管28，供料管會垂直地移動而將坩 鋼模侧面及底面塗覆一層38如圖所示之塊狀晶粒。刮刀 200838816 * 將塊狀脉層塑造絲娜狀，由®巾可;，層38大體 上覆蓋了整個環圈，石墨柱塞18穿過層38而界定了 一個柱 塞形狀的開口。 參看第3圖，當石英晶粒掛銷於第2圖中所示之掛鋼模 ·，5 12内定型之後，將彻3G及供料管28取出。電極4〇、42可 - 垂直地移動而進出賴模12内部，電極係接至—部DC電源 供應器46 ’其可提供選擇範圍介於大約300 KVA和1200 KVA之間的電力給電極。當足夠之電力供應至電極上時， _ t極周圍會有-個極熱的電漿球形成，所產生的熱形成了 1〇 :娜化物前部，從已成形之祕内表面處開赠解石英 曰曰粒並進行到外表面。此熔化物前部熔解了大部分的層 3曰8及經摻雜石英晶粒的環圈％，但在其將包含了塊狀石^ 日日粒3 8及經掺雜石英晶粒3 6的最外側未溶融晶粒層* 9炫解 之前即停止(停止供電給電極4〇、42)。如前所述，沈積於模 15 12内之晶粒深度必須將此未㈣層49納人考量，而使未溶 融經摻雜晶粒36之深度範圍介於0.7-2.0 mm，如第4圖中所 _ 不。第4圖中繪示了自掛鋼模12中取出且石墨柱塞18已經移 ' 除之後的單一熔融玻璃坩鍋50。 、，可X看出，坩銷5〇的上方部分已經切除，以形成一個 20 j平上緣52，此提供了一個具有預定高度之掛鋼，同時亦 提供了一個扁平上緣。由第4圖中可以看出，環圈36提供了 掛^〇之最外側及最上侧部分，在本實施例中，當切除上 方邛刀之後，環圈36從上緣52往下延伸大約5〇瓜瓜。然而 應該理解的是，所形成之環圈36可進-步往下延伸多達2/3 10 200838816 - 或1/3，而提供較高的一個環圈。較短的環圈較佳，稍後將 說明。 現在翻閱第5圖，54所示通常乃用於€2法中的一個坩 鍋除了在其之下方部分無開口之外，坩銷54大體上係以 ' 5和坩鍋5〇相同方式製成，此可利用具有連續平滑下表面且 - 不使用類似柱塞18之石墨柱塞的一個鑄模完成。坩鍋54包 含一個鋁摻雜環圈56，環圈係以上述和坩鍋50相關之方式 形成。類似於坩鍋50，坩鍋54已經沿著和其縱軸垂直的一 • 個平面切除，此形成了大體上扁平的邊緣58。 10 坩鍋54係支撐於熔爐(未示出）内部的一個承座6〇中，承 座60被-個加熱器62包圍，由於炼爐内部之加熱器^所產 - 纟的熱，賴54已經裝了純的金財(現在稱之為溶化物 64)。根據CZ法’有-個單晶石夕種晶61由支架63固定著，支 架自熔化矽緩緩抽出種晶61，並且根據C/法，有一根晶棒 15 65於種晶61下端形成。熔接線66繞著坩鍋54週長形成，熔 接線隨著晶棒65之形成逐漸地降低且從熔化物料拉串。 • 熔化物64之溫度大約為1彻度C，因此，位於、熔接線下 - #的_54表面亦為該溫度。即使來自熔化物之熱度使低 於溶接線66之掛鋼變軟，溶化物之重量仍可將掛鋼壓進承 20座60中，因此防止熔接線66下方的坩鍋54產生任何變形。 隨著金屬石夕熔解，由於環圈内的銘捧雜石夕，熱開始將祕 54結晶成環圈56。_的結晶部分會硬化，繞著㈣形成 較剛硬的結晶環或環圈’而使未結晶之_壁部分變穩 定。換言之’即使熔接祕降騎鋼底部，雖環圈仍能 11 200838816 ，接、、泉上方|續未結晶之^^壁塌陷或變形。 最後帛5圖中!會示了使用中的義5〇。其亦固定在一 個承座68巾，同樣亦有—個加熱㈣包圍著承細，將第6 圖中繪示之所有結構裝在—個_(未示出）中。利贿爐中 的加熱副將_5G内之金屬贿化而形成㈣化物η， 田石夕被’熔化時，將购解方部分與石墨柱塞Μ —起形成 之噴嘴74插人’―旦完姻卜縣柱塞取出，並透過如 電池的鑄模 圖所示之噴嘴74將溶化物倒人用以製備太陽能 (未示出）中。 士如同第5圖之掛銷，當環圈从於⑺去早期開始結晶 時，第6圖之坩鍋壁由於結晶環之形成而獲得支撐。於是， 甜鍋壁被支撐於熔接線上方。 應該理解的是，當使用魏時，崎雜如環圈％、 56可做成使其之下方部分大體上位於或略高於溶接線，或 I5令其等略低於溶接線(至少在Cz法開始時）。環圈下方部分

的一個較佳位置乃小於大約5%熔接線下方的坩鍋高度。 範例A 形成一個高度為400 mm、内徑為270 mm而壁厚為1〇 mm之坩鍋(類似坩鍋50)，在此範例中，坩鍋摻雜了 1〇〇卯茁 20的鋁而形成一個環圈（類似環圈36)，其自邊緣52往下延伸 150 mm。如圖所示，環圈厚度為L4mm，並界定了坩鍋的 最外表面及最上表面。將120 kg載量之金屬矽裝入坩鍋中 維持120小時並不會有問題。

範例B 12 200838816 .〆成個鬲度為400 mm、内徑為270 mm而壁厚為i〇 mm之贿（類似_5G)，於範例B中，掛鋼摻雜了 鹏 的銘而形成—個環圈（類似環圈36)，其自邊緣52往下延伸5〇 mm。如圖所示，觀厚度為1 6麵，並界定了掛銷的最外 5表面及最上表面。將120 kg載量之金屬石夕裝入賴中維持 120小時並不會有問題。

範例C 形成一個高度為400 mm、内徑為27〇 mm而壁厚為1〇 _之掛鋼(類似掛鋼5〇)，在此範例中，掛鋼接雜了刚啊 1〇的銘而形成一個環圈（類似環圈36)，其自邊緣52(大體上為 2鋼的所有直立外壁)往下延伸31〇醜。如圖所示，環圈界 2 了掛銷的最外表面及最上表面。將12G kg載量之金屬石夕 裝入坩鍋中。在此範例中，熔化物大體上會和環圈重疊， 不同的疋，熔接線大體上位於環圈的下緣。將熔化物維持 15 5〇小％之後，坩鍋在大體上直立之壁面部分及大體上水平 之底部會出現裂痕，此裂痕起因於溶化物非常接近經摻雜 之已結晶圈。 雖然每個範例都以鋁作為摻雜劑，應該理解的是，可 利用任何能夠促進結晶之摻雜劑（例如鋇）實施本發明。 2〇 可以看出，當經摻雜部分不與熔化物重疊或僅稍微重 ®時’可避免習知技藝中完全經掺雜的外掛鋼壁之相關問 題，此外，當使用方法係已知時、亦即有多少石夕將裝入掛 鍋中及溶化物多快會被拉下，可將掛鋼設計成在該方法早 期階段中環圈和溶化物會重疊，但僅持續數小時，因此不 13 200838816 . 足以損壞坩鍋。於是，即使在該方法早期階段中熔化物和 經摻雜環圈會重疊，仍可避免習知記憶的相關問題。 雖然已經說明了本發明之較佳形式，然而此處揭示及 例示之特定實施例不應具有限制，事實上，那些熟悉技術 • 5 者應該容易瞭解，本發明可以極多方式予以變更，發明者 - 認為本發明之主題必須包含此處揭示之各種不同要素、特 色及（或）性質的所有組合和次組合。 I：圖式簡單說明3 # 第1-3圖相當簡略地繪示了形成一個在其下端具一漏 10 斗之坩鍋的連續階段之鑄模橫截面側視圖側。 第4圖為所形成之坩鍋的橫截面圖。 ' 第5圖為在一 CZ法期間利用本發明所形成的另一種坩 一 锅橫截面圖。 第6圖為第4圖中使用之坩鍋於一製備太陽能電池方法 15 期間的一個橫截面圖。 【主要元件符號說明】 10…系統 30…刮刀 12...坩鍋模 32、34...石英晶粒 14...垂直軸 36、56...環圈 16···表面 38、49…層 18...柱塞 40、42...電極 20、22…料斗 46...電源供應 24、26·.·調節閥 50、54...坩鍋 28...供料管 52、58··.上緣 14 200838816 . 60、68...承座 61.. .種晶 62、70...加熱器 63.. .支架 64、72…熔化物 65…晶棒 66...熔接線 74…噴嘴

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Claims (1)

1. 200838816 -、申請專利範園·· 一種用於__賴__之方法，龙 轉動-個具一用於形成掛銷底部之大匕· 面與一用於形絲㈣面部分之 > 水平表 鍋模； 上直立表面的坩 之直立表面的—個上方部分上面 於该旋轉掛鋼模 沈積經摻雜石英晶粒； Φ 上面===^衫峰雜石英晶粒 10 於該鎢模 15 以<大體上水平表面上沈積塊狀石英晶粒 I成δ亥掛銷之底部；以及 基本上將所有晶粒熔化。 2·如申請專利範圍第！項之方法，其中該方法更包括 塊狀石英晶粒沈積於該經摻雜石英晶粒上方的直 面上 防止 立表

   3.如申請專利範圍第1 、 項之方法，其中將經摻雜石英_ 沈積於该直立表面之上方立 上万。卩分上面包括沈積鋁摻雜 晶粒 央晶粒 石 4.如申請專利範圍第3項之方法，其中沈積输摻雜石英 晶粒包括沈積摻雜了大約5到5〇〇 pm銘的石英晶粒。 5·如申請專利範圍第1項之方法，其中該方法更包括切除 該炼融玻璃義之最外侧部分，且其中將經摻雜石英晶 粒沈積於該旋轉掛鋼模之直立表面的一個上方部分上 面包括將該經摻雜石英晶粒沈積於該直立表面上，以在 16 200838816 切除之坩鍋上面形成一層經摻雜外層，從該坩鍋邊緣順 著坩鍋壁部分往下延伸至上方大約2/3的一個高产。 6·如申請專利範圍第5項之方法，其中該切除之掛銷上面 的經摻雜外層係從該坩鍋邊緣順著坩鍋壁部分往下延 \ 5 伸至上方大約1/3的一個高度。 ‘ 7·如巾請專職圍第1項之方法，其巾該方法更包括切除 該熔融玻璃賴之最相部分，且其中將轉雜石英晶 粒沈積於該旋轉坩鍋模之直立表面的一個上方部分2 籲 面包括將該經掺雜石英晶粒沈積於該直立表面上，以在 1〇 切除之_上面形成—層經摻雜外層，從觸鋼邊緣順 著坩鍋壁部分往下延伸大約5〇mm。 、、 - 8.如申請專利範圍第!項之方法，其中將該經摻雜石英晶 - 粒沈積於該旋轉掛鋼模之直立表面的-個上方部分上 面包括沈積經摻雜石英晶粒至大約〇 7職到2 〇酿的 15 一個深度。 9.如申請專利第1項之方法，其中該賴係用以容納 炫切，熔化料度相—條崎切之上表㈣ 之壁面科較錢所衫之轉線，且其巾該;法更 切除溶融玻璃掛鋼之最上面部分；以及 其中將賴摻雜石英晶粒沈積於該旋轉_模之 直立表面&冑上方部分上面包括將該經摻雜石 粒沈積於該直立表面上，LV 、曰曰 一 ^在切除之坩鍋上面形成一岸 經摻雜外層，從該掛鋼曰 門逯緣順者坩鍋壁部分往下延伸至 17 200838816 熔接線。 10.如申請專利範圍第9項之方法，其中該切除之掛鋼上面 的經摻雜外層係從該掛銷邊緣順著掛鋼壁部分往下延 伸至略低於熔接線的一個高度。 5 11·如中凊專利範圍第10項之方法，其中該切除之 的經摻雜外層係從該掛鋼邊緣順著掛鋼壁部分往下延 伸至溶接線下方小於大約5%之掛鋼高度的一個高度。 12·如申請專利範圍第9項之方法，其中該切除之掛銷上面 的、二摻雜外層係從該掛銷邊緣順著掛鋼壁部分往下延 〇 伸至略高於熔接線的一個高度。 13.種用於製備—溶融玻璃掛鋼之方法，其包括有： 沈積-層經摻雜石英晶粒，以形成—個界定了一掛 Μ壁之上方部分的一個外侧部分之環圈； 於該環圈上面沈積-層塊狀石英晶粒，以形成該掛 5 鍋壁之其餘部分； 沈積-層塊狀料晶粒，㈣成該_之底部；以 及 一 基本上將所有晶粒熔化。 20 14.=請專利範圍第13項之方法，其中沈積-層經摻雜石 央晶粒以形成一個界定了朗鋼壁之上方部分的一個 外侧部分之環圈包括沈積一層經接雜石英晶粒以 該坩鍋壁之最外側部分。 15· =請專利範圍第1項之方法，其中沈積一層_雜石 央日日粒以形成—個界定了該掛鋼壁之上方部分的—個 18 200838816 外側部分之環圈包括沈積一層經摻雜石英晶粒以形成 該坩鍋壁之最上面部分。

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   20 16. 如申請專利範圍第13項之方法，其中該方法更包括當使 用該坩鍋時，利用一個在CZ法早期階段中有助於結晶的 摻雜劑摻入經摻雜石英晶粒。 17. —種熔融玻璃坩鍋，其包括有： 一個由熔融塊狀石英晶粒所形成之大體上直立的 圓柱形坩鍋壁； 一個由熔融塊狀石英晶粒所形成之大體上水平的 坩鍋底部，該底部係與該坩鍋壁之下端連接； 一個由該壁内所含之熔融經摻雜石英晶粒所形成 之大體上圓柱形的環圈，該環圈位於該壁的一個上方部 分處；以及 一個於底部與不含經摻雜石英晶粒之環圈之間延 伸的壁面下方部分。 其中該環圈内 其中該環圈内 其中該環圈之 其中該環圈係 其中該環圈係 18. 如申請專利範圍第17項之熔融玻璃坩鍋， 含於該壁之最外側部分中。 19. 如申請專利範圍第18項之熔融玻璃坩鍋， 含於該壁之最上面部分内。 20. 如申請專利範圍第19項之熔融玻璃坩鍋， 高度大約為50 mm。 21. 如申請專利範圍第17項之熔融玻璃坩鍋， 從該坩鍋邊緣順著壁面往下延伸大約2/3 22. 如申請專利範圍第17項之熔融玻璃坩鍋， 19 200838816 - 從該坩鍋邊緣順著壁面往下延伸大約1/3。 23. 如申請專利範圍第17項之熔融玻璃坩鍋，其中該經摻雜 石央晶粒包括銘換雜石央晶粒。 24. 如申請專利範圍第23項之熔融玻璃坩鍋，其中該經摻雜 ' 5 石英晶粒摻雜了範圍大約85 ppm到500 ppm的銘。 ^ 25·如申請專利範圍第17項之熔融玻璃坩鍋，其中該環圈之 徑向深度大約0.7到大約2.0 mm。 26.如申請專利範圍第25項之熔融玻璃坩鍋，其中該環圈之 參 高度大約為50 mm。 20