JP5668717B2 - シリコン単結晶の製造方法 - Google Patents
シリコン単結晶の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5668717B2 JP5668717B2 JP2012095912A JP2012095912A JP5668717B2 JP 5668717 B2 JP5668717 B2 JP 5668717B2 JP 2012095912 A JP2012095912 A JP 2012095912A JP 2012095912 A JP2012095912 A JP 2012095912A JP 5668717 B2 JP5668717 B2 JP 5668717B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- silicon
- quartz glass
- single crystal
- pulling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 142
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 142
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 142
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 117
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 178
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 129
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 66
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 62
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 40
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 39
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 16
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 13
- 239000004071 soot Substances 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 37
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 28
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 11
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 9
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 silane compound Chemical class 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
[0029]段落には、3本目以降の原料融液の初期の液面位置を、直前に行った単結晶引き上げにおける原料融液の初期の液面位置よりも低い位置に変更するとあり、[0030]−[0032]、[0039]段落には、原料融液の初期の液面位置を順次低い位置に変更すると記載されている。
これは、それぞれの単結晶育成時に、それぞれの原料融液の初期の液面位置で石英ルツボ内表面に局部的な損傷が生じても、その損傷が以降の単結晶育成時に進展せず、原料融液の初期の液面位置による石英ルツボ内表面の損傷の進展を効果的に抑制することができるためである([0022]段落)。
更には、原料融液の液面位置で石英ルツボに含まれる不純物が原料融液中に溶出したり、石英(Si酸化物)が剥離することにより、単結晶の有転位化が顕著に発生するため([0017]段落)、この回避方法として上記方法が開示されている。
以上より、本発明によれば、高品質なシリコン単結晶を歩留まりよく製造することができる。
このように加工することで、実質的に気泡を含まず、また、不純物濃度も極めて低いままルツボ形状を有する合成石英ガラス材とすることができる。
このように、2本目以降のシリコン単結晶の引き上げにおいてシリコン融液の液面をそれぞれ等しくすることで、同じ品質、直径のシリコン単結晶を同じ条件で効率的に引き上げることができ、生産性をより向上できる。
このような合成石英ガラス材を用いることで、複数本のシリコン単結晶の引き上げの後半においても、クリストバライトの剥離によりシリコン単結晶の有転位化が発生することを確実に防止できる。
このようにシリコン融液の液面が初期の液面より5mm以上低ければ、ルツボ上部の合成石英ガラス材の溶着が不完全な部分から十分に液面が離れているため、引き上げ開始からシリコン単結晶の有転位化を確実に防止することができる。
このように一旦シリコン融液の液面を5mm以上下げることで、ルツボ上部の合成石英ガラス材の溶着が不完全な部分から十分に液面を離すことができるため、最初のシリコン単結晶の引き上げ開始から有転位化を確実に防止することができる。また、最初の引き上げにおけるシリコン融液の初期の液面をできるだけ高くして、ルツボの上端付近まで確実に合成石英ガラス材を溶着でき、さらに、その後液面を下げて標準の融液量でシリコン単結晶を引き上げることができるため生産性も良い。
このようなマルチプリング法によれば、コストを低減でき、操業効率が良いが、石英ガラスルツボが長時間使用されることでルツボ起因の有転位化が発生しやすくなってしまう。本発明では、このようなルツボ起因の有転位化を効果的に防止できる。
本発明におけるルツボ基材20と合成石英ガラス材30は例えば以下のように準備することができる。
直接法又はスート法により作製された合成石英ガラス材を粉砕することなく加工することで、実質的に気泡を含まず、また、不純物濃度も極めて低いまま、ルツボ形状の合成石英ガラス材30とすることができる。また、工程数も減少することから、安価に準備することができる。
複数の合成石英ガラス材は、R加工等や酸水素炎バーナー等を用いた溶接により、複数の合成石英ガラス材からルツボ形状を構成するようにすることができる。このような加工及び溶接等は、後述のルツボ基材に溶着する工程よりも前に行えばよい。また、複数の合成石英ガラス材が、全体としてルツボ形状を構成し、そのルツボ形状のままルツボ基材に溶着されればよく、必ずしも複数の合成石英ガラス片を予め溶接等により一体化する必要はない。
水酸基含有量が例えば200ppm以上と高い場合、粘度が低く、合成石英ガラス材が変形しやすいため、ルツボ基材とより密着するが、一方、結晶化(クリストバライト化)が起きやすく、ルツボの耐久性に問題が生じる場合があった。合成石英ガラス材の水酸基含有量は100ppm以下であれば、マルチ次数を重ねても(引上本数が増えても)、上記のようなクリストバライトの剥離に伴うシリコン単結晶の有転位化を効果的に抑制できる。これにより、合成石英ガラス材とルツボ基材の密着性は低くなるが、本発明では、多結晶シリコンを充填して溶融の際に溶着するため密着性の問題は発生しない。
次に、合成石英ガラス材30の内部に多結晶シリコンを充填する。次に、多結晶シリコンをシリコン単結晶引上機内で溶融し、この際の加熱により、ルツボ基材20と合成石英ガラス材30との溶着を行う。パワー(加熱のための投入電力)や加熱時間は任意であり、シリコン多結晶原料を溶融することができればよく、通常の多結晶シリコンの溶融と同様に、引上機、ルツボのサイズ等に依存して決定することができる。
最初の引き上げにおける多結晶シリコンの溶融によって生じた初期のシリコン融液の液面(図2のML1)付近までは合成石英ガラス材は十分に溶着されているため、当該液面付近より下方はルツボ内径が一定となる。このため、2本目以降の引き上げのシリコン融液の液面(図2のML2〜)が最初の液面(ML1)より低ければ、引き上げ初期から終了までルツボ内径が一定の状態で引き上げが可能であり、上記した有転位化を防止できる。
本発明では、ルツボの内面に合成石英ガラス材が貼り付けられているため、不純物は極めて低濃度で、シリコン単結晶が有転位化する程不純物が融液に溶出することは無く、またクリストバライト化も起きないために、これが剥離する問題も生じない。従って、上記のように溶融された融液の液面を引き上げの2本目と3本目以降で同じにしても、特許文献9に記載されているような損傷等が生じて、これがシリコン単結晶の有転位化を招くことはない。このため、引き上げの2本目以降で同じ液面の高さとすることができるため、特許文献9のような引き上げ毎に複雑な融液の液面変更は不要で、同じ条件で2本目以降の引き上げを実施でき、生産性が向上し、容易に有転位化を抑制できる。
図1のように、最初の引き上げにおける融液の初期液面ML1と2本目以降の引き上げのシリコン融液の液面ML2の差dが5mm以上であれば、合成石英ガラス材の未溶着部分の段差の影響を確実に抑制することができ、効率的に有転位化を防止することができる。
多結晶シリコンの溶融によって生じたシリコン融液の液面(ML1)、すなわち最初の多結晶シリコンの溶融が終了した段階のシリコン融液の初期液面の位置より引き上げ開始の位置が5mm以上低ければ、最初のシリコン単結晶を引き上げる時にもルツボ内径の段差の影響は確実に避けることができる。従って、最初の引き上げにおける有転位化も防止するために、最初の引き上げ前に液面を下げて、その後引き上げを開始することが好ましい。具体的には、例えば、口径が32インチ(800mm)の石英ルツボを用いた場合は最初の多結晶シリコンの溶融が終了した後、シリコン融液から5kg程度のダミー結晶(多結晶又は単結晶)を育成して、当該ダミー結晶を炉外へ一旦取り出すことで、液面を5mm下げることができる。これにより、最初の単結晶引き上げの開始時点から、ルツボ内径の変化(段差)の影響を確実に回避することができ、歩留まりをより向上できる。また、このような液面を下げる工程を行うことで、最初の溶融後の初期液面の位置を可能な限りルツボ上端に近い位置まで高くすることができ、合成石英ガラス材の十分な溶着をより確実に達成できる。
上記のような液面の位置は、多結晶シリコンの充填量で容易に調整することができる。
(実施例1−3、比較例1,2)
口径32インチ(800mm)の石英ガラスルツボを用いて、直径300mmのシリコン単結晶をマルチプリングで3本引き上げた。この3本引きのマルチプリングを10回繰り返した。実施例1−3、比較例1,2におけるルツボ種類、原料重量、引上重量、有転位化回数を表1に示す。
具体的には、スート法により厚さ5mmの合成石英ガラス材の板材を作製し、この合成石英ガラス材を、アーク溶融法で作製した口径32インチ(800mm)の石英ガラスからなるルツボ基材(水酸基含有量は150ppm)の内面形状に合わせて、切り出し、R加工し、溶接し、ルツボ形状とした。ルツボ形状に加工した合成石英ガラス材30をルツボ基材20内に配置し(図1参照)、その中に原料として多結晶シリコンを充填し、多結晶シリコンの溶融において合成石英ガラス材をルツボ基材に溶着した。
2本目、3本目の原料重量は標準条件の400kgとした。即ち、2本目、3本目の原料融液の液面位置は1本目の原料融液の初期液面位置より約10mm下がっている。これにより、ルツボ内径が変化しているエリアは融液に触れず、1回も有転位化することなくシリコン単結晶を製造できた。
30…合成石英ガラス材、 40…溶接部。
Claims (6)
- 石英ガラスルツボに多結晶シリコンを充填する工程と、前記石英ガラスルツボ内で前記シリコン多結晶を溶融してシリコン融液とする工程と、前記シリコン融液からチョクラルスキー法によりシリコン単結晶を引き上げる工程とを繰り返し、同一の石英ガラスルツボを用いて複数本のシリコン単結晶を製造する方法であって、
前記シリコン単結晶の最初の引き上げにおいて、ルツボ形状を有するルツボ基材の内部にルツボ形状に加工した合成石英ガラス材を配置し、該合成石英ガラス材の内部に多結晶シリコンを充填して溶融するとともに、前記合成石英ガラス材を前記ルツボ基材の内面に溶着させて前記石英ガラスルツボを製造し、引き続き、前記多結晶シリコンの溶融によって生じたシリコン融液から最初のシリコン単結晶を引き上げ、その後、2本目以降のシリコン単結晶の引き上げにおいては、前記最初の引き上げにおける前記多結晶シリコンの溶融によって生じた初期のシリコン融液の液面よりもシリコン融液の液面が低くなるように前記石英ガラスルツボに多結晶シリコンを充填して、シリコン単結晶を引き上げることを特徴とするシリコン単結晶の製造方法。 - 前記合成石英ガラス材を、直接法又はスート法により作製され、粉砕することなくルツボ形状に加工されたものとすることを特徴とする請求項1に記載のシリコン単結晶の製造方法。
- 前記2本目以降のシリコン単結晶の引き上げにおいては、前記多結晶シリコンの溶融によって生じるシリコン融液の液面がそれぞれ等しくなるように前記石英ガラスルツボに多結晶シリコンを充填することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のシリコン単結晶の製造方法。
- 前記合成石英ガラス材を、水酸基含有量が100ppm以下のものとすることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のシリコン単結晶の製造方法。
- 前記2本目以降のシリコン単結晶の引き上げにおいて、前記最初の引き上げにおける前記多結晶シリコンの溶融によって生じた初期のシリコン融液の液面よりもシリコン融液の液面が5mm以上低くなるように前記石英ガラスルツボに多結晶シリコンを充填して、シリコン単結晶を引き上げることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のシリコン単結晶の製造方法。
- 前記最初のシリコン単結晶を引き上げる前に、前記多結晶シリコンの溶融によって生じた初期のシリコン融液の液面より5mm以上液面を下げてから、前記最初のシリコン単結晶を引き上げることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のシリコン単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012095912A JP5668717B2 (ja) | 2012-04-19 | 2012-04-19 | シリコン単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012095912A JP5668717B2 (ja) | 2012-04-19 | 2012-04-19 | シリコン単結晶の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013224224A JP2013224224A (ja) | 2013-10-31 |
JP5668717B2 true JP5668717B2 (ja) | 2015-02-12 |
Family
ID=49594574
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012095912A Active JP5668717B2 (ja) | 2012-04-19 | 2012-04-19 | シリコン単結晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5668717B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59213697A (ja) * | 1983-05-20 | 1984-12-03 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 単結晶半導体引上装置 |
JPH0431254Y2 (ja) * | 1986-04-28 | 1992-07-28 | ||
JP2933404B2 (ja) * | 1990-06-25 | 1999-08-16 | 信越石英 株式会社 | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボとその製造方法 |
JPH09175898A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-08 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造法 |
JP4221797B2 (ja) * | 1999-01-21 | 2009-02-12 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶育成前の多結晶シリコンの融解方法 |
US6228165B1 (en) * | 1999-07-28 | 2001-05-08 | Seh America, Inc. | Method of manufacturing crystal of silicon using an electric potential |
JP4788444B2 (ja) * | 2006-04-04 | 2011-10-05 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶の製造方法 |
JP5051033B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2012-10-17 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶の製造方法 |
-
2012
- 2012-04-19 JP JP2012095912A patent/JP5668717B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013224224A (ja) | 2013-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4166241B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP4702898B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボの製造方法 | |
US8163083B2 (en) | Silica glass crucible and method for pulling up silicon single crystal using the same | |
JP5741163B2 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法、並びにシリコン単結晶の製造方法 | |
JP4161296B2 (ja) | 石英ガラスルツボの製造方法 | |
JP2018104248A (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ | |
JP5685894B2 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法、並びにシリコン単結晶の製造方法 | |
JP2010280567A (ja) | シリカガラスルツボの製造方法 | |
JP4931106B2 (ja) | シリカガラスルツボ | |
KR20100016435A (ko) | 실리콘 단결정 인상용 석영유리 도가니 및 그 제조방법 | |
JP6681303B2 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP3672460B2 (ja) | シリコン単結晶引上用石英ガラスルツボの製造方法 | |
JP6855358B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ | |
CN108977879B (zh) | 一种单晶用高纯石英坩埚及其制备方法 | |
JP5668717B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JP7280160B2 (ja) | シリカガラスルツボ | |
JP5488519B2 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法、並びにシリコン単結晶の製造方法 | |
JP4874888B2 (ja) | シリコン単結晶引上用石英ガラスルツボおよびその製造方法 | |
TWI568898B (zh) | Silicon single crystal manufacturing method | |
JP2019048730A (ja) | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ | |
JP4807130B2 (ja) | シリコン単結晶の引上げ方法 | |
JP6070528B2 (ja) | 石英ルツボの改質方法及びシリコン単結晶の製造方法 | |
JP2022093544A (ja) | シリカガラスルツボ | |
EP2143831A1 (en) | Silica glass crucible and method for pulling up silicon single crystal using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140417 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141118 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5668717 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |