200832549 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於以處理液移除光阻，且係關於適合於使該 處理液再循環之處理液之加工處理。 【先前技術】 在製造諸如液晶顯示器（LCD)、有機發光顯示器（〇leD) 及電漿顯示器（PDP)之平板顯示器（FPD)中，通常使用光阻 在玻璃基板上實現各層的光微影圖案化。當該等層已被圖 案化時’將基板以水平位置插入腔室中，且將處理液自喷 嘴喷射於該基板上以移除光阻。隨後將該處理液回收、過 濾，且至少部分地再使用。 然而近年來，顯示器尺寸增加且因此基板尺寸增加。因 此’有時將玻璃基板彎曲以裝入用於光阻移除之腔室。因 此，向基板均勻塗覆處理液與處理液回收均變得更加複 雜。 此外，對處理液之實體過濾不能有效移除溶解於該處理 液中之雜質（與固體雜質相對照）。 因此’需要改良之回收技術來回收用於光阻移除之處理 液’且需要改良之自基板移除光阻之均勻性。 【發明内容】 本部分概括本發明之一些特徵及優點。其他特徵及優點 於後績部分中描述。本發明係由隨附申請專利範圍界定。 本發明之一些實施例提供可有效噴射處理液且將處理液 保持於基板上且有效地回收所用之處理液的裝置。在一些 125810.doc 200832549 實施例中，所回收之處理液可被再使用。在一些實施例 中，使基板在該裝置中傾斜以使處理液流出基板表面且被 收集在基板下。基板可為一平板，但此並非必需。可以臭 氧加工處理該處理液，隨後再使用。臭氧可移除除固體雜 貝（諸如可以過濾器移除者）之外的溶解於處理液中之雜 質。 ’、 一些實施例包括用於移除光阻之裝置，該裝置包含：一
腔室，其包含一用於將處理液喷射於位於該腔室中之一基 板上之噴嘴，一輸送设備，其用於穿過該腔室輸送基板， 該基板在腔室中傾斜；及一用於向噴射於基板上之處理液 提供臭氧之臭氧反應器。 一些實施例包括用於自基板移除光阻之方法，該方法包 含：穿過-腔室輸送該基板且噴射自該腔室内之該基板移 除光阻之處理液；使腔室中正在輸送之基板傾斜；及向與 基板接觸之處理液提供臭氧。 其他實施例及變化係如下描述。本發明係由隨附申請專 利範圍界定。 【實施方式】 本發明之優點及特徵及實現其之方法可藉由來考以下一 些實施例之詳細描述及隨附圖示而更易於理解。然而本發 明可以不同形式進行實施且不應視為限於本文中所闡述之 =施例。相反地’描述該等實施例以使得本揭示内容為徹 底的且完整的’且向熟習此項技術者全面地傳達本發明之 概念。本發明係由隨附申請專利範圍界定。在整個說明書 125810.doc 200832549 中相同元件符號係指相同元件。 現將參考圖1至圖3描述本發明之一第一實施例。圖1為 根據第一實施例之用於移除光阻之裝置的示意性橫截面 圖，且圖2為圖1所示之腔室的透視圖。圖3為說明根據第 • 一實施例的處理液之再循環之流程圖； 根據第一實施例之裝置1 〇可自諸如液晶顯示器（Lcd)、 有機發光顯示器（OLED)或電漿顯示器（PDP)之平板顯示器 (FPD)之玻璃或半導體基板移除光阻。該光阻可用於光微 ’ 影製程。下文描述玻璃基板之情況以用於說明且並非將本 發明限於玻璃。 參看圖1及圖2，裝置1〇包括一腔室100，一輥式輸送機 17，一第一貯槽11〇，一第二貯槽12〇，一第三貯槽13〇， 一臭氧反應器14 0 ’ 一除氣單元1 5 0，及一新鮮液體貯槽 160 〇 當於其上具有光阻之玻璃基板p進入腔室10()中時，在腔 ^ 室1 00中處理液自喷嘴噴射以移除該光阻。腔室1 〇〇由第一 障壁肋狀物107及第二障壁肋狀物1〇8分割成一第一槽 102’ 一第二槽104，及一第三槽i 〇6。腔室1〇〇包括用於輸 - 送玻璃基板P之輸送機17，及噴射處理液之第一至第六喷 嘴115、 116、 124、 126、 132及134。 該輸送機17將玻璃基板p輸送至腔室1〇〇，且以預定傾斜 角將玻璃基板p輸送穿過腔室100。在一裝載部分20處將基 板P置於輸送機17上，且該輸送機將玻璃基板p穿過腔室 100輸送至一卸載部分30。自該卸載部分30移除玻璃基板 125810.doc 200832549 輸送機17沿自裝載部分20至卸載部分3〇之整個路徑傾斜 以使得自噴嘴噴射之處理液於玻璃基板p上保留所要時 段。因此，處理液可均勻地施用於整個玻璃基板p上。 此外，因為玻璃基板P沿穿過腔室1〇〇的整個路徑傾斜， 所以可分別在沿玻璃基板p之路徑的不同位置處收集處理 液之不同部分’且可考慮到在該路徑之不同區段收集之處
理液所含之光阻殘餘物之濃度而進行不同之加工處理。 輸送機17不必為輥式。輥式輸送機有利地使處理液易於 收集。然而，亦可使用其他類型的輸送機。 如以上所述及圖2中所說明，輸送機丨7可傾斜預定角度 以使玻璃基板P以預定傾斜角穿過腔室1〇〇。輸送機以在^ 整個長度上傾斜，就似乎其繞玻璃基板？之運動軸線旋轉 樣玻璃基板P以與輸送機1 7相同之角度傾斜。無需另 :設備來使玻璃基板傾斜。因此該裝置之結構得以：利地 簡化哀載部分2〇或卸載部分30可以與輸送機17相同之角 度傾斜，此允許去除在裝載部分、卸載部分及腔室ι〇〇内 之輸送機之間改變玻璃基板?之傾斜角之任何設備。在並 他實施例中，輸送機17在裝載部分及卸載部分處不傾斜了 或在裝載部分及卸載部分處以不同於腔室100内之角度的 角度傾斜。 台板（未展示）安 台板之下表面為 板之上表面以預 在其他實施例中，輪送機17為水平的。 置於該輸送機上以使破璃基板傾斜。每一 水平的，且置於該水平輸送機上。每一台 1258l0.doc 200832549 定角度傾斜，且玻璃基板置於該上表面上。以下詳細描述 具有台板之裝置。 當玻璃基板P穿過腔室100時，藉由處理液自玻璃基板移 除（剝離）光阻。該處理液因此在本實施例中用作剝離劑。 腔室100由第一障壁肋狀物1〇7及第二障壁肋狀物1〇8分 割成一第一槽102，一第二槽1〇4，及一第三槽1〇6。在一 些實施例中’玻璃基板P係連續地移動穿過該等槽。在其 他實施例中，玻璃基板p在每一槽中停頓預定時段，處理 液被噴射於該玻璃基板P上，接著玻璃基板p繼續移動。自 該等槽之每一者中所設之喷嘴喷射處理液，且喷射於玻璃 基板P上之處理液流出玻璃基板至每一槽之底部。 更詳細地，將玻璃基板P自裝載部分2〇輸送至腔室1〇〇 中，且首先將玻璃基板P置於第一槽102中。第一槽1〇2係 由腔室100之壁與第一障壁肋狀物1〇7界定。於第一槽1〇2 中設有第一及第二喷嘴115及116以將處理液喷射於玻璃基 板P上。 第一喷嘴115將處理液以直角或按需要的某些其他預定 角度喷射於玻璃基板P之上表面上以實現光阻移除。 第二噴嘴116自下方喷射處理液以便移除自玻璃基板p之 上表面向下流到玻璃基板P之下表面的光阻。在某些情況 下，自第二噴嘴116喷射的處理液的量少於自第一喷嘴115 喷射的處理液的量。 自第一及第二喷嘴115及116噴射之處理液移除玻璃基板 P上之光阻之主要部分，接著向下流到第一槽102之底部。 125810.doc -11- 200832549 在此處，處理液由一第一排出管線丨12收集，該排出管線 將處理液引入第一貯槽110中。 儲存於第一貯槽110中之處理液與自第二貯槽12〇提供之 處理液混合，且隨後再次經由第一及第二喷嘴115及116喷 射於第一槽102中之玻璃基板P上。 在自第一槽1 02中之玻璃基板P移除光阻之主要部分後， 玻璃基板P被移動至第二槽1〇4中。在第二槽1〇4中，玻璃 基板P暴露於自第二貯槽120提供且經由第二槽1〇4中所設 之第二及第四喷嘴124及126喷射於基板p上之處理液。第 一及第四喷噶124及126以與第一及第二喷嘴lls及116相同 之方式操作。然而，因為經由第三及第四嘴嘴124及126喷 射之處理液係自第二貯槽丨2〇提供，所以該處理液含有比 第一貯槽110中之處理液少之雜質（諸如光阻）之量。 喷射於第二槽1〇4中之玻璃基板p上之處理液在第二槽 104底部收集於一第二排出管線114中，該排出管線將處理 液引入第一貯槽11〇中。 在第二槽1〇4中移除光阻後，將玻璃基板p輸送至第三槽 106中。在第三槽丨〇6中，玻璃基板p暴露於自第三貯槽13〇 提供之處理液。第五及第六噴嘴132及Π4設置於第三槽 106中。自第三貯槽13〇提供之處理液經由第五及第六喷嘴 132及134喷射於該玻璃基板p上。第五及第六喷嘴132及 134以與第一及第二噴嘴1丨5及1丨6相同之方式操作。然 而’自第三貯槽13〇提供之處理液與儲存於第一及第二貯 槽110及120中之處理液相比不含雜質或含有極少量雜質 125810.doc -12- 200832549 (諸如光阻）。此係因為第三貯槽13〇除自第二貯槽12〇接收 之處理液之外，還接收來自新鮮液體貯槽16〇之新鮮處理 液。
本發明並不限於如上所述之具有由兩個障壁肋狀物分割 成二個槽之腔室100且每一槽中具有不同雜質濃度之處理 液的實施例。根據需要，槽之數目可更大或更小。此外， 本發明並不限於在任何特殊槽中使用來自任何特殊貯槽之 處理液或並不限於儲存處理液之貯槽之任何配置。可使用 其他種使用處理液及配置貯槽的方案。 又，玻璃基板P當被處理液濕潤時可連續地移動穿過該 等槽或可在每-槽中停頓預定時段。其他移動模式亦為可 能的。 提供給第一槽102之處理液係儲存於第一貯槽11〇中。因 為噴射於玻璃基板P上之處理液最初收集於第一貯槽11〇 中，所以第一貯槽110接收在腔室100中溶解於處理液中之 大部分光阻。此外，第一貯槽110係連接至第二排出管線 U4以接收在第二槽104中喷射之處理液。自第二貯槽12〇 提供額外處理液給第一貯槽110。帛—貯槽11〇中所收集之 一部分處理液在第一槽102中被再使用，且另一部分被排 至臭氧反應器140中。由此再循環該處理液。 一些處理液可能不適合於再循環，且將其自第一貯槽 110經由廢液出口 147排出。 曰 自第二貯槽120提供用於第二槽104中之處理液。儲存於 第二貯槽12〇中之處理液係在第三槽1〇6中嘴射於玻璃基板 125810.doc -13- 200832549 p上之處理液與自第三貯槽130提供之處理液的混合物。因 此，第二貯槽120中之光阻雜質之濃度比第一貯槽11〇低。 用於第二槽106中之處理液係自第三貯槽13〇提供。儲存 於第三貯槽130中之處理液係由臭氧反應器14〇及除氣單元 150再循環之處理液與自新鮮液體貯槽16〇提供之處理液的 此合物。因此，第三貯槽丨3〇中之處理液與第一及第二貯 槽110及120中之處理液相比，無或幾乎無光阻雜質。 即使經使用之處理液含有光阻雜質，但經使用之處理液 仍可移除光阻。然而，因為雜質污染玻璃基板p，所以光 阻移除變得較低效。臭氧反應器14〇自所使用處理液移除 光阻雜質以使得可再循環該處理液。光阻為有機組合物， 且由處理液在一種化學濕式過程中移除，在該過程中光阻 之有機成份溶解於處理液中。如上所述，經使用之處理液 係儲存於第一及第二貯槽110及12〇中。隨後儲存於第一及 第二貯槽110及12〇中之一部分處理液在第一槽1〇2或第二 槽104中被再使用，且儲存於第一貯槽110中之一部分處理 液被排至臭氧反應器140。 臭氧反應器140提供臭氧氣體以自經使用之處理液移除 有機材料。臭氧為比過氧化氫強之氧化劑，且其有利之處 在於並不在處理液中形成新污染物。 臭氧反應器140包括用於儲存經使用處理液之儲集器且 亦包括臭氧氣體喷嘴145以向處理液提供臭氧氣體。當臭 氧氣體流入含有光阻雜質之處理液時，光阻雜質分解成為 有機酸。此外，一部分光阻雜質轉化為二氧化碳（c〇2)及 125810.doc • 14- 200832549 水（出〇)且排出。在臭氧處理之後留存於處理液中之有機 酸充當再使用處理料改良處職之光阻移除效率的有用 之添加劑。
U 除氣單元150移除留存於以臭氧處理之處理液中之臭 氧。臭氧為-種強氧化劑。因此1臭氧留存於處理= 中，則臭乳可能損傷玻璃基板p。臭氧可溶解有機材料且 由此可改良移除光阻之效率。然@，因為臭氧具有極強氧 化能力，所以臭氧可損傷玻璃基板ρ上之其他薄膜。因此 需要自再循環的處理液移除臭氧。 除氣單元150包括一用於儲存已在臭氧反應器14〇中以臭 氧處理之處理液的儲集器，且亦包括氮氣喷嘴155來提供 用於移除臭氧之氮氣。當將氮氣提供給含有臭氧之處理液 時，亂氣溶解於該處理液中，且處理液中剩餘之溶解臭氧 (〇3)被從處理液除氣。 ' 自除氣單元150經由回收管線17〇將如上所述再循環之處 理液提t、給第二貯槽13()。若需要’在第三貯槽咖處經再 循衣處理液與自新鮮液體貯槽丨6〇提供之新鮮處理液混 °將第—射槽130中之高純度處理液喷射於第三槽106中 之玻璃基板Ρ上以進行最終的光阻移除。隨後將玻璃基板ρ 卸至卸載部分30。 圖中況明再循壤處理液之方法。首先，將經使用之處 理液提供給臭氧反應器（s⑽）。該處理液含有可能為光阻 成份之有機材料。含有超過某臨限量之雜質的處理液不被 提供給臭氧反應器14〇而是自第—貯…馳由廢液出口 125810.doc -15- 200832549 147排出。 將臭氧氣體提供給含有光阻雜質之處理液（SU0)。臭氧 之溶解度比氧氣高很多倍。因此，若#自翁A $ # t c # 右使臭虱流至臭氧反應 裔140之下側，則臭氧可易於與處理液反應。 臭氧與處理液中所令之^P日^^ 〒所3之先阻雜質反應（S120)以形成二氧 化碳、水及有機酸。當在腔室100中喷射處理液時，二氧 化碳及水自然地自處理液經ψ 、 夜釋出。然而，有機酸留存於處理 液中且充當有助於移除光阻之添加劑。 在S120之後’將氮氣提供給含有臭氧之處理液阳〇)。 因為留存於再循環之處理液中之臭氧具有強氧化性，所以 臭氧可損傷玻璃基板P。因此，應移除留存於再循環之處 理液中之臭氧，且將氮氣提供給處理液以移除臭氧。臭氧 之溶解度在―下較高。因此，將一加熱器(:： 不>提供給除氣單元15〇且“調整溫度以有效移除臭氧。 隨後，經由一回收營繞排φ老 队B深辨出處理液以用於再使用 (S140) 〇 現將參考圖i及圖4描述根據本發明之第二實施例之用於 移除光阻之裝置。圖4為該裝置之腔室之透視圖。為便於 描述’與第-實施例之元件具有相同功能之元件具有相同 元件符號’且其詳細描述將省略。第二實施例之裝置基本 上與第一實施例之裝置具有相同結構，除以下内容。 在第二實施例之裝置10中，輸送機包括在各別槽中之輸 送機區段2H、212、213，且每一輸送機2ii、2i2、213具 有獨立可調的傾斜角。 125810.doc -16- 200832549 第一至第二輸送機211、212及213之每一者之傾斜角可 用裝設於各別的第一至第三槽1〇2、1〇4及1〇6中之各別的 第一至第三致動器221、222及223調整。經由裝載部分“ 提供至腔室之玻璃基板p係置於第一槽1〇2之第一輸送機 2!1上。隨後第一致動器操作以使第一輸送機211傾斜所要 角度。該角度可基於包括（例如）玻璃基板p之尺寸及狀 態，光阻厚度及處理液中之活性成份及/或雜質之濃度之 各種因素加以選擇。每一輸送機之角度可在製程中連續改 變。舉例而言，第一輸送機211可繞玻璃基板p之運動中心 軸線來回連續旋轉，相對於水平位置轉動正的角度，接著 返回水平位置，接著相對於水平位置轉動負的角度等等， 以將處理液均勻地施用於玻璃基板P之整個表面。類似旋 轉可應用於第二及/或第三輸送機212、213。 此外，當玻璃基板P朝第二輸送機212及第三輸送機213 輸送時，加工處理條件（包括（例如）處理液中之活性成份及/ 或雜質之濃度或留存於玻璃基板p上之光阻之狀態）可改 文。第一、第二及第三輸送機以丨、212及2丨3之每一者之 角度可經調整以最佳地滿足加工處理條件。當在槽中喷射 處理液的同時，玻璃基板P可連續移動或可在該等槽之每 一者中停頓預定時段。 本發明並不限於任何特定傾斜角。在一些實施例中，第 一輸送機2Π相對於水平面傾斜正的角度，第二輸送機212 相對於該水平面傾斜負的角度，且第三輸送機213相對於 忒水平面傾斜正的角度，此使得可能在整個玻璃基板^上 125810.doc -17- 200832549 均勻地施用該處理液，且使得可能改良處理液之回收效 0 第一至第三致動器221、222及223用以調整第一至第三 輸送機2U、212及213之角度。各種馬達、空氣缸或液壓 红可用於第一至第三致動器221、222及223。致動器並不 限於馬達或氣缸。 現將參考圖1及圖5描述根據本發明之第三實施例之用於 、 移除光阻之裝置。圖5為說明該裝置之腔室之透視圖。為 ( ' 便於描述，與第一實施例之圖式之元件具有相同功能之元 件具有相同元件符號，且其詳細描述將省略。第三實施例 之裝置基本上與第一實施例之裝置具有相同結構，除以下 内容。 第三實施例之裝置10可藉由使用傾斜台板31〇而使玻璃 基板P保持在預定傾斜角。 根據第三實施例之傾斜台板310具有在與玻璃基板p之運 動方向相反之方向上向下傾斜之上部面。當在第一至第三 ^ 槽102、1〇4及106中喷射處理液時，玻璃基板p在與運動方 向相反之方向上向下傾斜。因此處理液可均句地施用於玻 璃基板P之整個表面，且當輸送玻璃基板p時可易於流下。 由此，處理液收集於每—财且有效地健存於每一貯槽 中〇 當使用上述傾斜台板31G時，有可能獲得與藉由使用輕 式輸送機使玻璃基板保持在預定傾斜角之輸送機相同之效 應。此外，在傾斜台板310之在破璃基板P下方之表面中可 125810.doc -18- 200832549 形成通孔，或該等表面iw μ τ由、、、罔格形成，以使自第二喷嘴 116、第四喷嘴126及笫丄哈成b 10/| a 、 /、贺鳴13 4噴射之處理液到達玻璃 基板P之下部表面。 現將參考圖1及圖6据试括诚士找n 口 〇彻述根據本發明之第四實施例之用於 移除光阻之裝置。圖6為筮TO杳—/ , 马弟四實轭例之裝置之腔室的透視 圖。為便於描述，與第一音#合 ^ 實加例之圖式之元件具有相同功 能之元件具有相同元件符號，且其詳細描述將省略。第四 Ο Ο 實施例之裝置基本上盥第一者竑点丨—# -、弟只加例之裝置具有相同結構， 除以下内容。 第四實施例之裝置1 〇可蕤ώ你 罝糟由使用傾斜台板41〇使玻璃基 板Ρ保持在預定傾斜角。圖6之裝置因此類似於圖5之裝 置’但圖6之傾斜台板410在玻璃基板ρ之運動方向上向下 傾斜。當傾斜台板41〇在傳送玻 t、敬與暴板之方向上傾斜時， 有可能調整處理液保持於玻璃基板 之時間量及喷射於 玻璃基板P上之處理液之壓力。因此， 』降低加工處理時 間0 本發明並不限於如上所述之實施例。舉例而言， 5及圖ό，台板可沿其他方向向 "θ ^ 斜亦即不僅沿如圖5 之反向方向或如圖6之"正向"方向， «之運動方向之”向右"或"向左，，方向:^垂直於玻璃基 向。傾斜方向及角度可基於許多因素進行選二某：：他方 包括（例如）處理液應保持於玻璃基板上之 ，Μ因素 回收位置及其類似因素。、&，處理液之 如以上可知，本發明之一些實施例 枯用於移除光阻之 1258l0.doc • 19- 200832549 裝置’該裝置包含一腔室，該腔室包含用於將處理液噴射 到位於腔室内之基板上之喷嘴。提供一輸送設備以將該基 板輸送穿過該腔室。該輸送設備可包括輸送機17或輸送機 211、212、213(有或無台板310)。該基板在該腔室中傾 斜。該裝置亦包含一臭氧反應器來向喷射於基板上之處理 液提供臭氧。 一些實施例包括一除氣單元以用於自該處理液移除臭 氧。 ^
在一些實施例中，輸送設備在該等槽之每一者中包含至 少一輸送機（例如參見圖4)，每一輸送機控制基板之傾斜角 以在該等槽之一者中使基板傾斜未於該等槽之另一者中獲 得之角度。 當輸送設備包括一輸送機及一用於在該腔室中在輸送機 上方支撐基板的台板時（例如參見圖5、圖6)，該台板可具 有一非水平上表面（例如以使基板傾斜）。在一些實施例 中’台板之上表面在基板之運動方向上（如圖6)或在與運動 方向相反之方向上（如圖5)向下傾斜。 -些實施例包含-回收路徑以再使用以臭氧加工處理之 處理液’該再㈣包含噴射該處縣以自㈣基板或自另 一基板移除光阻。 該方法包 之基板移 ;及將臭 含··將該基板輸送穿過—腔室且噴射自該避 除光阻之處理液；心空室中正在輸送之基板 氧提供給與基板接觸之處理液。 125810.doc -20. 200832549 ^# 了者顯而易見，在不背離本發明之範痛& 精神的情況下可推γ甘 < 乾$及 哭仃其他修改。因此，應瞭解每 之所有態樣不是限制“ 鮮乂上““列 疋限制性的而是例示性的。 【圖式簡單說明】 〇 =1 一為根據本發明之一第一實施例之用於移除光阻之裝 的示意性橫截面圖； 圖2為圖1所示之腔室之透視圖； 圖3為說明根據本發明之第一實施例的處理液之再循产 之流程圖； 衣 ϋ 圖4為根據本發明之一第二實施例之用於移除光阻之妒 置中之腔室的透視圖；； 、 圖5為根據本發明之一第三實施例之用於移除光阻之裝 置中之腔室的透視圖；且 圖6為根據本發明之一第四實施例之用於移除光阻之麥 置中之腔室的透視圖。 【主要元件符號說明】 10 17 20 30 100 102 104 106 裝置 輥式輸送機 裝載部分 卸載部分 腔室 第一槽 第二槽 第三槽 125810.doc -21 - 200832549 107 第一障壁肋狀物 108 第二障壁肋狀物 110 第一貯槽 112 第一排出管線 114 第二排出管線 115 、 116 、 124 、 126 、 ^ 132及 134 第一至第六喷嘴 120 第二貯槽 Γ 130 第三貯槽 140 臭氧反應器 145 臭氧氣體喷嘴 147 廢液出口 150 除氣單元 155 氮氣喷嘴 160 新鮮液體貯槽 170 回收管線 211 、 212 、 213 輸送機區段 221 ^ 222 > 223 第一至第三致動器 . 310 傾斜台板 410 傾斜台板 P 玻璃基板 125810.doc -22-