KR20080036441A - 포토레지스트 제거 장치 - Google Patents

포토레지스트 제거 장치 Download PDF

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KR20080036441A
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treatment liquid
photoresist
chamber
ozone
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KR1020060103036A
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홍선영
박홍식
정종현
김봉균
신원석
이병진
임태빈
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삼성전자주식회사
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Abstract

포토레지스트의 제거 효율을 높이고, 약액 속의 불순물을 제거하여 재사용 효율을 높이기 위한 포토레지스트 제거 장치가 제공된다. 포토레지스트 제거 장치는 내부에 유리 기판이 위치하는 공간과 상기 유리 기판에 처리액을 분사하는 노즐을 포함하는 챔버와, 챔버를 관통하여 유리 기판을 이동시키며, 이동 방향과 수직 방향으로 경사를 형성하는 이동수단과, 유리 기판으로 분사된 처리액을 모아 저장하는 탱크와, 탱크에 저장되는 처리액에 오존을 분사하는 오존 반응기를 포함한다.
포토레지스트, 처리액 재생, 경사

Description

포토레지스트 제거 장치{Apparatus for stripping photoresist}
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치의 개략 단면도이다.
도 2는 도 1의 챔버를 설명하기 위한 절개 사시도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 처리액 재생을 설명하기 위한 순서도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치의 챔버를 설명하기 위한 절개 사시도이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치의 챔버를 설명하기 위한 절개 사시도이다.
도 6은 본 발며의 제4 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치의 챔버를 설명하기 위한 절개 사시도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10: 포토레지스트 제거 장치 17: 컨베이어
20: 로드부 30: 언로드부
100: 챔버 102: 제1 배스
104: 제2 배스 106: 제3 배스
107: 제1 배스 108: 제2 격벽
110: 제1 탱크 112: 제1 배출 라인
114: 제2 배출 라인 115: 제1 노즐
116: 제2 노즐 120: 제2 탱크
122: 제3 배출 라인 124: 제3 노즐
126: 제4 노즐 130: 제3 탱크
132: 제5 노즐 134: 제6 노즐
140: 오존 반응기 145: 오존 가스 분사구
147: 폐액 배출구 150: 탈기 장치
155: 질소 가스 분사구 160: 신액 탱크
211: 제1 콘베이어 212: 제2 콘베이어
213: 제3 콘베이어 221: 제1 액츄에이터
222: 제2 액츄에이터 223: 제3 액츄에이터
310: 경사 받침 410: 경사 받침
본 발명은 포토레지스트 제거 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포토레지스트의 제거 효율을 높이고, 처리액 속의 불순물을 제거하여 재사용 효율을 높이기 위한 포토레지스트 제거 장치에 관한 것이다.
최근에 널리 사용되는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display: LCD), OLED(Organic Light Emitting Display), 및 플라즈마 표시 장치(Plasma Display: PDP) 등과 같은 평판 디스플레이(Flat Pannel Display: FPD)는 제조 과정에서 FDP 유리 기판(glass)을 세정, 에칭, 현상 또는 스트립핑(stripping)하는 습윤 공정(wet process)을 포함하게 된다.
이와 같은 습윤 공정은 유리 기판이 콘베이어에 의하여 챔버 안으로 일정하게 이동되면서, 노즐을 통하여 유리 기판에 액상의 처리액을 분사시켜 유리 기판의 표면을 세정, 에칭, 현상 또는 포토레지스트를 제거(stripping) 하는 공정이다.
이 중에서 종래의 포토레지스트를 제거하는 공정은 포토레지스트가 피막된 유리 기판이 평판 형태로 공급되면, 포토레지스트를 제거하는 처리액이 분사되어 유리 기판의 포토레지스트를 제거하고, 그 처리액은 수거되어 필터로 걸러 일부 재사용을 할 수 있도록 하고 있다.
그러나, 최근에 표시 장치의 대형화로 인하여 유리 기판이 점차 대형화됨에 따라, 기존의 방식과 같이 수평 방향으로 유리 기판을 이동시키는 경우 유리 기판의 중앙부가 중력에 의해 아래로 처지게 되었으며, 이로 인해 처리액이 유리 기판 전체에 골고루 도달되지 않고, 처리액의 회수율도 낮아진다는 문제점이 발생하였다.
또한, 처리액을 재사용하기 위한 재처리 방식도 종래의 필터에 의한 방식은 처리액 내부의 불순물을 물리적으로 분리하는 기능만을 하게 되어, 처리액에 녹아 있는 포토레지스트리 잔유물을 분리해 낼 수 없었다.
따라서, 포토레지스트를 제거하는 과정에서 처리액의 손실을 최소화하고, 사용후의 처리액을 효과적으로 재생할 필요가 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 유리 기판에 처리액이 효과적으로 분사·유지되며, 사용된 처리액이 효율적으로 회수될 수 있는 포토레지스트 제거 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 과제는 회수된 처리액을 재사용 가능하도록 재생하는 포토레지스트 제거 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치는, 내부에 유리 기판이 위치하는 공간과 상기 유리 기판에 처리액을 분사하는 노즐을 포함하는 챔버와, 상기 챔버를 관통하여 상기 유리 기판을 이동시키며, 이동 방향과 수직 방향으로 경사를 형성하는 이동수단과, 상기 유리 기판으로 분사된 상기 처리액을 모아 저장하는 탱크와, 상기 탱크에 저장되는 상기 처리액에 오존을 분사하는 오존 반응기를 포함한다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치는, 내부에 유리 기판이 위치하는 공간과 상기 유리 기판에 처리 액을 분사하는 노즐을 포함하는 챔버와, 상기 챔버를 관통하여 상기 유리 기판을 이동시키는 이동수단과, 상기 이동수단에 안착되며, 상부에는 상기 유리 기판이 안착되고 상기 유리 기판이 기울어지도록 경사를 형성하는 경사 받침과, 상기 유리 기판으로 분사된 상기 처리액을 모아 저장하는 탱크와, 상기 탱크에 저장되는 상기 처리액에 오존을 분사하는 오존 반응기를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치에 대하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치의 개략 단면도이고, 도 2는 도 1의 챔버를 설명하기 위한 절개 사시도이고, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 처리액 재생을 설명하기 위한 순서도이다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치(10)는 액정 표시 장 치(Liquid Crystal Display: LCD), OLED(Organic Light Emitting Display: OLED), 및 플라즈마 표시 장치(Plasma Display: PDP) 등과 같은 평판 디스플레이(Flat Pannel Display: FPD)의 유리 기판이나 반도체 기판의 사진공정에서 도포된 포토레지스트를 제거 하는 장치를 말한다. 따라서, 본 명세서에서 설명하는 포토레지스트 제거 장치(10)는 FPD 유리 기판이나 반도체 기판의 공정과정에서 모두 사용될 수 있는 장치이나, 설명의 편의상 본 명세서에서는 FPD 유리 기판에 한정하여 기술한다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 포토레지스트 제거 장치(10)는 챔버(100), 컨베이어(17), 제1 탱크(110), 제2 탱크(120), 제3 탱크(130), 오존 반응기(140), 탈기 장치(150) 및 신액 탱크(160)를 포함한다.
챔버(100)는 포토레지스트가 피막된 유리 기판(P)이 투입되면, 노즐을 통해 처리액을 분사하여 포토레지스트를 제거할 수 있는 공간을 제공하는 역할을 한다. 이러한 챔버(100)는 내부가 제1 격벽(107)과 제2 격벽(108)으로 분리되어, 제1 배스(bath)(102), 제2 배스(104) 및 제3 배스(106)를 형성하고 있으며, 유리 기판(P)을 이동하는 컨베이어(17), 처리액을 분사하는 제1 내지 제6 노즐(115, 116, 124, 126, 132, 134)을 포함한다.
컨베이어(17)는 챔버(100) 내부로 유리 기판(P)을 공급하는 역할을 하는 것으로서, 유리 기판(P)이 일정한 경사를 갖고 챔버(100) 내부를 통과하도록 한다. 이러한 컨베이어(17)는 챔버(100)에 공급되는 유리 기판(P)이 최초 안착되는 로드부(20)부터 챔버(100)를 통과하여 유리 기판(P)이 배출되는 언로드부(30)까지 연속 적인 동작으로 유리 기판(P)을 이동시킨다.
컨베이어(17)는 로드부(20)부터 언로드부(30)까지 일정한 경사를 갖도록 하여, 노즐을 통해 분사된 처리액이 유리 기판(P)에 필요한 시간 만큼만 유리 기판(P)에 잔류하도록 하며, 전체 유리 기판(P)에 균일하게 도포가 가능하도록 한다.
또한, 유리 기판(P)이 경사를 갖고 챔버(100) 내부를 이동함에 따라 처리액의 회수율이 높아질 뿐만 아니라, 처리액 속의 포토레지스트리 잔유물의 농도에 따라 분류하여 처리액을 회수하는 것이 가능하다.
이와 같은 컨베이어(17)는 액체의 처리액이 용이하게 배출될 수 있도록 롤러형의 컨베이어(17)를 사용하는 것이 바람직하나, 이 밖에 유리 기판(P)을 챔버(100) 내부에서 이동 시킬 수 있는 다른 어떠한 이동 수단도 가능할 것이다.
유리 기판(P)이 일정한 경사를 유지하여 챔버(100) 내부를 이동하도록 하는 방법으로는 도 2에 도시된 바와 같이 컨베이어(17) 자체를 일정 각도를 유지하도록 설치하는 방법이 있다. 즉, 컨베이어(17) 이동 방향과 수직 방향인 좌측 또는 우측 방향으로 기울여서 일정한 각도를 갖도록 설치한다. 이와 같이 컨베이어(17)가 일정 각도로 기울어져 설치되는 경우, 챔버(100) 내에서 일정한 각도를 유지시키기 위한 별도의 장치가 불필요하기 때문에 간단한 구조로 큰 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 로드부(20) 또는 언로드부(30)에서도 같은 경사도를 유지하여, 챔버(100) 내부와 경사를 맞추기 위한 별도의 장치가 필요하지 않도록 하는 것이 바람직하다.
또 다른 방법으로는 평행 컨베이어의 위에 일정한 경사각을 갖는 받침대(미도시)를 사용할 수 있다. 받침대는 하면이 평평하여 평행 컨베이어에 접하며, 상면 은 유리 기판이 안착될 수 있도록 경사를 갖고 기울어지도록 한다. 받침대를 이용한 방법은 후술할 다른 실시예에서 상세히 기술한다.
유리 기판(P)은 챔버(100) 내부를 통과하면서 처리액에 의해 포토레지스트가 제거된다. 다시 말해, 본 명세서에서 처리액은 포토레지스트를 제거 하는 스트리퍼에 한정하여 기술한다.
챔버(100)는 내부가 제1 격벽(107) 및 제2 격벽(108)으로 분리되어, 제1 배스(bath: 102), 제2 배스(104) 및 제3 배스(106)를 포함하게 된다. 유리 기판(P)은 각각의 배스 위를 연속적으로 이동하거나, 각 배스 단위로 일정 시간 정지하여 처리액이 분사된 후 다시 이동하게 되며, 각 배스에는 처리액을 분사하는 노즐이 설치되어, 유리 기판(P)으로 분사된 처리액은 각 배스의 하부로 흘러내리게 된다.
더욱 구체적으로 설명하면, 유리 기판(P)은 로드부(20)를 통하여 챔버(100) 내부로 이동되며, 최초로 제1 배스(102)로 이동하게 된다. 제1 배스(102)는 챔버(100) 벽과 제1 격벽(107)에 의해서 형성되며, 제1 노즐(115)과 제2 노즐(116)이 설치되어, 유리 기판(P)으로 처리액을 분사한다.
제1 노즐(115)은 유리 기판(P)의 포토레지스트를 제거하기 위한 처리액을 분사하는 역할을 하며, 유리 기판(P)에 수직하게 또는 일정 각도로 처리액을 분사한다.
제2 노즐(116)은 유리 기판(P)의 하면에 흘러내린 포토레지스트를 제거하기 위하여, 유리 기판(P)의 하면에 처리액을 분사하는 역할을 하며, 이 경우 제1 노즐(115)에 비해 적은 양의 처리액을 분사하도록 조절할 수 있다.
제1 노즐(115)과 제2 노즐(116)을 통해 분사한 처리액은 유리 기판(P)에 1차로 포토레지스트를 용해하여 제1 배스(102)로 흘러내리며, 제1 배스(102)로 흘러내린 처리액은 제1 배출 라인(112)을 통하여 제1 탱크(110)로 저장된다.
제1 탱크(110)로 저장된 처리액은 제2 탱크(120)에서 공급되는 처리액과 혼합되며, 다시 제1 노즐(115)과 제2 노즐(116)을 통해 제1 배스(102)에서 유리 기판(P)으로 분사된다.
유리 기판(P)은 제1 배스(102)에서 1차로 포토레지스트가 제거된 후, 제2 배스(104)로 이동하게 된다. 이렇게 이동된 유리 기판(P)은 제2 배스(104)에서 제2 탱크(120)로부터 공급받은 처리액에 노출된다. 제2 배스(104)에는 제2 탱크(120)로부터 공급받은 처리액을 유리 기판(P)에 분사하는 제3 노즐(124) 및 제4 노즐(126)이 형성되어 있으며, 작동 방식은 제1 노즐(115) 및 제2 노즐(116)과 같다. 다만, 분사되는 처리액은 제2 탱크(120)에서 공급받기 때문에 제1 탱크(110)에 저장된 처리액보다 포토레지스트 등의 불순물이 적게 함유되어 있다.
또한, 제2 배스(104) 상부에서 유리 기판(P)으로 분사된 처리액은 제2 배스(104)에 포집되어 제2 배출 라인을 통하여 제1 탱크로 저장된다.
유리 기판(P)은 제2 배스(104) 상부에서 2차로 포토레지스트가 제거된 후, 연속적 또는 단속적인 이동에 의해 제3 배스(106) 상부로 이동하게 된다. 이렇게 이동된 유리 기판(P)은 제3 배스(106) 상부에서 제3 탱크(130)로부터 공급받은 처리액에 노출된다. 제3 배스(106)의 상부에는 제3 탱크(130)로부터 공급받은 처리액을 유리 기판(P)에 분사하는 제5 노즐(132)과 제6 노즐(134)이 형성되어 있으며, 작동 방식은 상술된 제1 노즐(115) 및 제2 노즐(116)과 같다. 다만, 분사되는 처리액은 제3 탱크(130)에서 공급 받기 때문에 제1 탱크(110)와 제2 탱크(120)에 저장된 처리액과 달리 포토레지스트 등의 불순물을 거의 포함하고 있지 않다. 이와 같은 이유는 제3 탱크(130)는 후술할 처리액의 재처리 과정을 통해 재처리된 처리액과 신액 탱크(160)에서 공급된 새로운 처리액을 혼합한 처리액을 저장하기 때문이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 챔버(100) 내부를 두 개의 격벽으로 나누어 세 개의 배스를 형성하여, 각 단계에 따라 불순물의 농도가 다른 처리액을 사용하는 방식은 본 발명의 일 실시예에 불과한 것이다. 따라서, 배스의 수는 필요에 따라 더 늘일 수도 있으며, 더 줄일 수도 있을 것이다. 배스에 사용되는 처리액 및 처리액을 저장하는 저장 탱크의 배열에 관해서도 상술한 방식은 본 발명의 일 실시예에 불과하여, 필요에 따라 다양한 방식이 가능하다.
또한, 챔버(100) 내부를 이동하는 컨베이어(17)는 각 배스를 연속적인 일련의 과정으로 이동할 수도 있으며, 각 배스 단위로 일정 시간 정지하여 처리액이 분사된 후 다시 이동하게 될 수 있다. 이밖에 다양한 방식으로 작동될 수 있을 것이다.
제1 탱크(110)는 제1 배스(102)로 공급되는 처리액을 저장한다. 제1 탱크(110)에 저장되는 처리액은 유리 기판(P)에 최초 분사되는 처리액이 제1 배출 라인(112)을 통하여 저장되기 때문에 포토레지스트가 가장 많이 용해되어 있다. 또한 제1 탱크(110)는 제2 배스(104)에서 분사된 처리액이 배출되는 제2 배출 라인(114) 이 연결되어 있으며, 제2 탱크(120)로부터도 처리액을 공급 받는다. 이렇게 저장된 처리액은 일부가 제1 배스(102)로 분사되며, 나머지는 오존 반응기(140)로 배출되어 처리액을 재생한다.
또한, 더 이상 재생하기에 적합하지 않은 처리액은 폐액 배출구(147)를 통하여 제1 탱크(110) 외부로 배출시킨다.
제2 탱크(120)는 제2 배스(104)로 공급되는 처리액을 저장한다. 제2 탱크(120)에 저장되는 처리액은 제3 배스(106)에서 유리 기판(P)에 분사되어 배출된 것과 제3 탱크(130)로부터 공급받은 처리액이 혼합된 것이다. 따라서, 제1 탱크(110)에 저장되는 처리액보다는 포토레지스트 잔유물의 농도가 낮게 된다.
제3 탱크(130)는 제3 배스(106)로 공급되는 처리액을 저장한다. 제3 탱크(130)에 저장되는 처리액은 오존 반응기(140)와 탈기 장치(150)를 거쳐 완전 재생된 처리액과 신액 탱크(160)로부터 공급되는 새로운 처리액이 혼합된 것이다. 따라서, 제1 탱크(110) 및 제2 탱크(120)에 저장되는 처리액에 비해 포토레지스트 잔유물이 거의 없게된다.
오존 반응기(140)는 이미 사용된 처리액에서 포토레지스트 잔유물을 제거하여 처리액을 재생시키는 역할을 한다. 포토레지스트는 유기 피막으로서, 처리액에 의하여 화학적 습식 과정을 통하여 제거된다. 이와 같은 포토레지스트 제거 과정에서 사용된 처리액에는 포토레지스트 성분인 유기물들이 용해되어 있다. 상술한 바와 같이, 사용된 처리액은 제1 탱크(110)와 제2 탱크(120)에 저장되었다가 일부는 다시 제1 배스(102) 또는 제2 배스(104)를 통하여 다시 재사용되어지며, 일부는 오 존 반응기(140)로 배출된다. 사용된 처리액 속에 일정량의 포토레지스트 잔유물을 포함하고 있을지라도 다시 포토레지스트 막을 제거하는 기능을 수행하는 것은 가능하다. 다만, 처리액 속에 포함된 불순물에 의하여 유리 기판(P)이 오염되어, 포토레지스트 막을 제거하는데 효율성이 낮아지게 된다.
따라서, 본 발명에서는 사용된 처리액 속의 유기물들을 제거하기 위하여, 오존 가스를 사용한다. 오존은 과산화수소 보다 더 강력한 산화제로서, 용액 내에서 새로운 반응물을 생성하지 않는다는 장점이 있다.
오존 반응기(140)는 내부에 사용된 처리액을 저장하는 공간을 포함하고 있으며, 오존 가스 분사구(145)를 포함하여 처리액에 오존 가스를 공급한다. 포토레지스트가 용해된 처리액에 오존 가스를 분사하면, 처리액 속에 잔류해있던 포토레지스트 잔류물들이 유기산으로 분해되며, 일부는 이산화탄소(CO₂)와 물(H2O)로 변화되어 배출된다. 오존 처리 후의 처리액 속에 잔류하는 유기산들은 처리액 속에서 첨가제 역할을 하여 향후 재사용시에 포토레지스트 제거에 효율을 높일 수 있다.
탈기 장치(150)는 오존 처리된 처리액 속에 잔류한 오존을 제거하는 역할을 한다. 오존은 강력한 산화제로서 작용하기 때문에 처리액 속에 잔류 오존이 존재하게 될 경우, 재사용시 유리 기판(P)에 영향을 줄 수 있다. 즉, 잔류 오존은 유기 피막을 용해할 수 있으므로 포토레지스트 제거시 효율을 높일 수도 있으나, 오존 자체가 갖고 있는 산화력이 매우 강하기 때문에 유리 기판(P)의 다른 피막에 손상을 줄 우려가 있다. 따라서, 재생된 처리액에는 잔류 오존을 제거해야 할 필요가 있다.
탈기 장치(150)는 오존 반응기(140)에서 오존 처리된 처리액을 저장하는 공간을 포함하고 있으며, 오존을 제거하기 위한 질소 가스를 공급하는 질소 가스 분사구(155)를 포함하고 있다. 오존을 포함하는 처리액 속에 질소 가스를 공급하면, 질소는 산소(O2)와 물로 분해되어 배출된다.
이렇게 재생된 처리액은 회수 라인(170)을 통하여, 제3 탱크(130)로 공급되며, 필요에 따라 신액 탱크(160)에서 공급되는 새로운 처리액과 혼합되어 제3 배스(106)로 분사된다. 이러한 과정을 통하여 유리 기판(P)은 언로드부(30)로 배출되기 전에 최종적으로 순도 높은 처리액에 의하여 포토레지스트가 제거된다.
도 3을 참조하여 사용된 처리액의 재생과정을 설명하면, 우선 유리 기판(P)의 포토레지스트를 제거하기 위해 사용된 처리액이 오존 반응기로 공급된다.(S100) 오존 반응기(140) 내부로 공급되는 처리액은 포토레지스트의 성분이 되는 유기물을 함유하고 있으며, 내부 불순물이 기준 이상으로 함유된 경우에는 오존 반응기(140)로 공급하지 않고 제1 탱크(110)에서 폐액 배출구(147)를 통해 배출시킨다.
다음으로, 포토레지스트가 포함된 처리액에 오존 가스를 공급한다.(S110) 오존 가스는 산소에 비해 용해도가 수배에서 수십배 크기 때문에 기체 상태로 오존 반응기(140)의 하부에 분사하면, 처리액과 쉽게 반응할 수 있다.
다음으로, 처리액 속에 포함되어 있는 포토레지스트와 오존이 반응을 한다.(S120) 오존 반응기(140) 내부로 분사된 오존 가스와 포토레지스트 잔유물이 반 응을 하여, 이산화탄소, 물 및 유기산 등으로 분해가 된다. 이중에서 이산화탄소와 물은 챔버(100) 내에서 분사과정 등의 경우에 자연적으로 배출되며, 유기산은 처리액 내부에 잔류하여 포토레지스트를 제거하는데 첨가제 역할을 수행할 수 있다.
다음으로, 오존 가스가 포함된 처리액에 질소 가스를 공급한다.(S130) 재생된 처리액 속에 잔류되어 있는 오존은 강력한 산화력을 지니고 있어, 유리 기판(P)에 손상을 줄 우려가 있다. 따라서, 재생된 처리액 속에 남아 있는 오존을 제거해야 하며, 잔류 오존을 제거하기 위해서 처리액 속에 질소 가스를 공급한다. 이때, 오존의 용해도는 높은 압력, 낮은 온도에서 높기 때문에 탈기 장치(150)에 가열기(미도시) 등을 이용하여 온도를 조절하여 효율적으로 오존을 제거할 수 있다.
다음으로, 재생된 처리액을 재사용하기 위해 회수 라인을 통하여 처리액을 배출한다.(S140)
이하 도 4를 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치를 설명한다. 여기서 도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치의 챔버를 설명하기 위한 절개 사시도이다. 설명의 편의상 상기 제1 실시예의 도면에 나타낸 각 부재와 동일 기능을 갖는 부재는 동일 부호로 나타내고, 따라서 그 설명은 생략한다. 본 실시예의 포토레지스트 제거 장치는, 이전 실시예의 포토레지스트 제거 장치와 다음을 제외하고는 기본적으로 동일한 구조를 갖는다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치(10)는 각 배스를 이동하는 컨베이어의 각도를 독립적으로 조절할 수 있다.
제 1 내지 제3 배스(102, 104, 106)에는 제1 내지 제3 콘베이어(211, 212, 213)와 각 콘베이어의 각도를 조절하는 제1 내지 제3 액츄에이터(221, 222, 223)를 포함한다. 로드부(20)를 통하여 투입되는 유리 기판(P)은 제1 배스(102)의 제1 콘베이어(211)에 안착된다. 제1 콘베이어(211)에 유리 기판(P)이 안착되면, 제1 액츄에이터가 작동하여 필요한 각도로 제1 콘베이어(211)를 기울이게 된다. 이 때 필요한 각도는 유리 기판(P)의 크기 및 상태, 포토레지스트 막의 두께, 처리액의 농도 등의 상황에 맞추어 설정할 수 있으며, 각도는 처리 과정에서 연속적으로 변화가 가능하다. 예를 들면, 유리 기판(P) 전체 표면에 처리액을 고르게 접촉시키기 위하여, 제1 콘베이어(211)의 각도를 수평면을 기준으로 양의 각도 또는 음의 각도로 계속 변화시킬 수도 있다.
또한, 제2 콘베이어(212)와 제3 콘베이어(213)로 이동하게 됨에 따라 처리액의 농도나 유리 기판(P)의 포토레지스트 막의 두께 등 상황이 변하게 되며, 이에 따라 최적의 조건으로 제2 콘베이어(212)와 제3 콘베이어(213)의 각도를 조절할 수 있다. 이때에도 제1 콘베이어(211)의 경우와 같이 수평면을 기준으로 양의 각도와 음의 각도로 모두 조절이 가능하며, 각 콘베이어는 연속적 이동도 가능하나, 각 배스 단위로 일정 시간 정지하여 처리액이 분사된 후 다시 이동하게 할 수 있다.
예를 들어, 제1 콘베이어(211)는 수평면을 기준으로 하여 양의 각도로 기울이고, 제2 콘베이어(212)는 음의 각도로 기울이고, 제3 콘베이어(213)는 다시 양의 각도로 기울이는 방식으로 하면, 유리 기판(P) 전체에 균일하게 처리액이 도포되고 처리액의 회수에 있어서 높은 효율을 보일 수 있다.
제1 내제 제3 액츄에이터(221, 222, 223)는 제1 내지 제3 콘베이어(211, 212, 213)의 수평 각도를 조절하는 역할을 하는 것으로서, 각종 모터나 유공압 실린더 등을 이용할 수 있다. 다만, 이는 제1 내지 제3 콘베이어(211, 212, 213)의 수평 각도를 변화시키기 위한 수단으로서 일실시예에 불과한 것이므로, 콘베이어의 각도 변화를 위하여 다양한 수단이 가능할 것이다.
이하 도 5를 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치를 설명한다. 여기서 도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치의 챔버를 설명하기 위한 절개 사시도이다. 설명의 편의상 상기 제1 실시예의 도면에 나타낸 각 부재와 동일 기능을 갖는 부재는 동일 부호로 나타내고, 따라서 그 설명은 생략한다. 본 실시예의 포토레지스트 제거 장치는, 이전 실시예의 포토레지스트 제거 장치와 다음을 제외하고는 기본적으로 동일한 구조를 갖는다.
본 발명의 제3 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치(10)는 유리 기판(P)이 안착되는 경사 받침(310)을 이용하여, 유리 기판(P)이 일정한 각도를 유지할 수 있도록 한다.
본 발명의 제3 실시예에 따른 경사 받침(310)은 유리 기판(P)이 진행 방향과 반대 방향으로 기울어져 있다. 유리 기판(P)이 진행 방향과 반대 방향으로 기울어진 상태로 이동되며, 제1 내지 제3 배스(102, 104, 106)에서 처리액이 분사될 경우, 처리액은 유리 기판(P)의 전체부분에 골고루 도달하게 될 뿐만 아니라, 이동중에 아래로 쉽게 흘러내릴 수 있어 처리액을 각 배스 단위로 모아서 각 탱크로 저장하기에 효율적이다.
이와 같은 경사 받침(310)을 사용하면, 평행 컨베이어를 이용하여 경사를 유 지하는 컨베이어와 같은 효과를 얻을 수 있다. 또한, 제1 내지 제3 배스(102, 104, 106)의 제2 노즐(116), 제4 노즐(126) 및 제6 노즐(134)에서 유리 기판(P)의 하면을 향하여 분사하는 처리액이 유리 기판(P)에 용이하게 분사되기 위해서, 경사 받침(310)의 유리 기판(P) 안착면에 일정한 홀을 형성하거나, 안착면 자체를 그물망 등으로 형성할 수 있다.
이하 도 6을 참조하여 본 발명의 제4 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치를 설명한다. 여기서 도 6은 본 발명의 제4 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치의 챔버를 설명하기 위한 절개 사시도이다. 설명의 편의상 상기 제1 실시예의 도면에 나타낸 각 부재와 동일 기능을 갖는 부재는 동일 부호로 나타내고, 따라서 그 설명은 생략한다. 본 실시예의 포토레지스트 제거 장치는, 이전 실시예의 포토레지스트 제거 장치와 다음을 제외하고는 기본적으로 동일한 구조를 갖는다.
본 발명의 제4 실시예에 따른 포토레지스트 제거 장치(10)는 유리 기판(P)이 안착되는 경사 받침(410)을 이용하여, 유리 기판(P)이 일정한 각도를 유지할 수 있도록 한다. 도 5를 참조하여 설명한 제3 실시예와 같이, 경사 받침(410)을 이용하여 유리 기판에 일정한 각도를 유지한다.
다만, 본 발명의 제4 실시예에 경사 받침(410)은 진행 방향과 같은 방향으로 기울어 진다. 경사 받침(410)이 진행 방향과 같은 방향으로 기울지면, 유리 기판(P)에 처리액이 잔류하는 시간을 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 처리액이 유리 기판(P)에 분사되는 압력을 함께 조절할 수 있다. 이와 같은 작용으로 인해 공정시간이 단축되는 효과가 있다.
경사 받침은 제3 실시예 및 제4 실시예와 같이, 진행 방향과 같은 방향이나 반대 방향으로 기울일 수 있을 뿐만 아니라, 제1 실시예에서 상술한 바와 같이, 좌우측면으로 경사를 유지하도록 할 수 있다. 즉, 경사 받침이 기울어지는 방향은 전후 좌우 뿐만 아니라 어떠한 방향으로도 기울어질 수 있으며, 이와 같은 경사방향 및 경사도는 처리액의 유지시간, 처리액의 회수 위치 등을 고려하여 다양하게 변형이 가능하다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 포토레지스터 제거 장치는 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 유리 기판에 처리액이 효과적으로 분사·유지되며, 사용된 처리액이 효율적으로 회수될 수 있다.
둘째, 회수된 처리액을 재사용 가능하도록 재생할 수 있다.

Claims (18)

  1. 내부에 유리 기판이 위치하는 공간과 상기 유리 기판에 처리액을 분사하는 노즐을 포함하는 챔버;
    상기 챔버를 관통하여 상기 유리 기판을 이동시키며, 소정의 경사각을 가지고 기울어져 이동하는 이동수단;
    상기 유리 기판에 분사된 상기 처리액에 오존을 분사하는 오존 반응기를 포함하는 포토레지스트 제거 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리액에 함유된 오존을 제거하는 탈기 장치를 더 포함하는 포토레지스트 제거 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 탈기 장치는 질소를 분사하는 것인 포토레지스트 제거 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동 수단은 컨베이어인 포토레지스트 제거 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동 수단은 상기 처리액 분사시에 상기 유리 기판의 경사도를 변화시키는 포토레지스트 제거 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동 수단의 경사를 조절하는 액츄에이터를 더 포함하는 포토레지스트 제거 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리액은 포토레지스트를 제거시키기 위한 스트리퍼인 포토레지스트 제거 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 챔버는 내부가 하나 이상의 격벽으로 분리되어 형성되며 상기 노즐을 각각 포함하는 복수의 배스를 포함하는 포토레지스트 제거 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 이동 수단은 상기 각 배스마다 서로 다른 경사도를 갖는 포토레지스트 제거 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 유리 기판은 상기 복수의 배스 단위로 일정 시간 정지하여 상기 처리액이 분사된 후 다시 이동하는 포토레지스트 제거 장치.
  11. 내부에 유리 기판이 위치하는 공간과 상기 유리 기판에 처리액을 분사하는 노즐을 포함하는 챔버;
    상기 챔버를 관통하여 상기 유리 기판을 이동시키는 이동수단;
    상기 이동수단에 안착되며, 상부에는 상기 유리 기판이 안착되고 상기 유리 기판이 기울어지도록 경사를 형성하는 경사 받침;
    상기 유리 기판으로 분사된 상기 처리액에 오존을 분사하는 오존 반응기를 포함하는 포토레지스트 제거 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 처리액에 함유된 오존을 제거하는 탈기 장치를 더 포함하는 포토레지스트 제거 장치.
  13. 제 11항에 있어서,
    상기 탈기 장치는 질소를 분사하는 것인 포토레지스트 제거 장치.
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 이동 수단은 평행으로 이동하는 컨베이어인 포토레지스트 제거 장치.
  15. 제 11항에 있어서,
    상기 경사 받침은 진행 방향과 동일하거나 반대 또는 수직 방향으로 경사를 형성하는 포토레지스트 제거 장치.
  16. 제 11 항에 있어서,
    상기 챔버는 내부가 하나 이상의 격벽으로 분리되어 형성되며, 상기 노즐을 각각 포함하는 복수의 배스를 포함하는 포토레지스트 제거 장치.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 유리 기판은 상기 복수의 배스 단위로 일정 시간 정지하여 상기 처리액이 분사된 후 다시 이동하는 포토레지스트 제거 장치.
  18. 제 16 항에 있어서,
    상기 유리 기판은 상기 복수의 배스를 연속적으로 관통하여 이동하는 포토레지스트 제거 장치.
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