200827160 - 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於-種多層隔熱膜貼片,特別是指―種適 合貼合在例如:玻璃、鏡片等等基材的表面,並用來阻隔 光熱源之多層隔熱膜貼片。 【先前技術】 、 在以往的技藝中,具有適當厚度之聚酯(ρ〇_咐,簡 稱PET)傳膜經常被當作隔熱膜貼片來使用,此種單層pm
* ^ ^ m m ^ ^ ^ t ^ 5¾ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ M 了使PET薄膜具有較佳的抗紅外線及抗紫外線能力,省時 業者會在PET薄膜的表面覆蓋一層含有例如:鎳、銀、鋁 in等至屬之薄層’或者增加一層含有機染料的染色薄層 。前述金屬或染色薄層的設計,雖然可以增加貼片抗紅外 線及抗紫外線的功效,但是金屬薄層有時會阻礙通訊器材 之訊號接收,造成周遭環境收訊品質的不佳,而染色薄層 的设什’則會因為染料受到陽光照射逐漸褪色的影響,而 產生隔熱效果降低的缺失,顯然以往以聚酯薄膜作為基底 之隔熱膜貼片在使用時存在有諸多不盡理想之處。 【發明内容】 本發明之目的係在提供一種在兼顧透光率的同時,具 。 有較佳隔熱、抗紅外線、抗紫外線、耐磨等功效之多層隔 「 熱膜貼片。 本卷明夕層pm熱膜貼片係可貼附在例如··玻璃、鏡片 等等基材的气面,包含:_具有兩間隔表面之基層單元、 200827160 “ 一片結合在基層單疋的其中一個表面上的抗紅外線層、一 片結合在該基層單7L之另一表面上的抗紫外線層,以及一 個選擇地結合在該抗紅外線層及抗紫外線層中的其中之一 上並逆離基材的抗刮耐磨声 本發明之基層單元係使用申請人所申請之日本特開平 Λ 9-300540號發明案所揭示之彩虹反射膜為基底,為了使該 '彩虹反射膜適合作為隔熱膜貼片,該基層單元包括數片第 一基膜’以及間隔地教在兩兩相鄰第一基膜間的數片第二 • 基膜,為了兼具較隹的遂光率及^ 基膜的層數總和為2〇〜2〇〇層,較佳為7〇〜2〇〇層,且每一 基膜之厚度皆在可見光波長範圍内,亦即,該等基膜之厚 度為 3800〜8000Α。 又本發明第一基賤佔基層單元總重量的30〜50重量%, 其係為丙稀嫌系(acryi)樹脂製成,具體例如:曱基丙烯酸酯 (methyl acrylate)、乙基丙稀酸酯(ethyi acryiate)、丁基丙浠 .. ' ·. ... 酸醋(butyl acrylate)、甲基丙烯酸甲醋(methyl· methacrylate) _ 、乙基丙烯酸曱酯(ethyl methacrylate)、丁基丙烯酸甲酉旨 - ... . ' . (butyl methacrylate)等等較低分子量之丙稀酸系單體的聚合 物,或者以該尊單體為主成份,並與其他可共聚合單體混 合而成的聚合物。
本發明之第二基膜佔基層單元總重量的50〜70重量%, 係由聚對苯二甲酸丁醇酯(polybutylene terephthalate,以下 … 簡稱A成份)、聚對苯二甲酸丁二醇酯彈性體(以下簡稱B
成份),以及線狀低密度聚乙烯(polyethylene,以下簡稱C 200827160 -** … 成份)等聚合物混合而成。在本發明中,A成份可由1,4 丁 二傳(l,4-butanedi〇l)與對苯二甲酸(terephthalic acid),或者 縮聚 與對苯二甲酸二甲酯(dimethyl terephthalate)之觸媒性 反應所得之聚合物,即B成份只要是聚對苯二甲酸丁二醇 酉曰且具有彈性之聚合物,即可達到本發明的目的。此外 ,本發明之B成份亦可採用聚對苯二甲酸丁二醇酯與聚乙 二醇之聚合物,較佳是嵌段共聚物,本發明之c成份可為 市售的線狀低密度聚合物,上述聚乙稀之比重為0·85〜0·93 ,熔融指數(melt index,簡稱MI)為1〜5〇。 本發明第二基膜中該A成份的使用量為8〇〜95重量% ,較佳為85〜93重量%,而B成份之使用量為 ,較佳為5〜10重量%,(:成份之使用量為〇.5〜5重量%,較 佺為1·0〜4重董%,前述成分依特定比例熔融混合後,即可 製成本發明所需之第二基膜。 製造時分別將形成第一基膜及第二基膜的材料加入兩 口押出機以形成各別的樹脂溶融物,然後以滾麇鑄造法 讓即將形成薄膜之樹脂流動體往一單集流管平膜片模具流 動,上述樹脂流動體會受到模具的作甩而被擴張,最終被 薄化成模具出口的厚度,而各袓隔堆疊的第一及第二基膜 的厚度,可以藉由一進給埠模組的調整來改變,在製造時 t W f ^ ^ f ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 兩層基膜的厚度相對較厚。 又本發明為了得到具有較佳阻隔紅外線及紫外線能力 的基層,該第m折射率與合成之第:基膜的折射率 200827160 相差G.G3〜G.17 ’較佳是介於Q G6〜G 17。為了達到以上的目 的,本發明第一基膜可使用折射率較低(例如n=1.49)之聚甲 土丙烯酉夂甲g日(P〇ly邮邮metha㈣批,簡稱腹Μ),而 第-基膜可使用85〜93重量%且黏度為! 〇paa之聚對苯二 f ^ T (polybutylene terephthalate ^ PBT) ^ 5~1〇 t * %^ PBT A ^ ^ ^ ,a A 1^4 i * %^ ^^^0.92. 2 , 1^1.66) 疊^層,其中,第一基膜之單層厚度為〇.〇7碑j ^ ^ ^ ΜΛ Α 〇.15μιη 〇 # ,b # # , ψ 以製得具有㈣抗紅外似❹外心 ^ ^ ^ ^ ^ ^ M # ^ f ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 取的伯表面上’上述抗紅外線層是採用例如聚碳酸醋等 聚合物黏結劑為基質,並加入」 舌曰7立 *、,广!·υ重置%可吸收紅外線 y米、、及塗斜,適合於本發明之奈米級塗料乃例如:粉體 \ ^n ^ 100^^50nm v± 會影響貼片對於陽光中紅外線的阻 、,田 V 踝的阻隔效果,並造成外觀顏 疋0 本發明抗制磨層亦以塗佈的方式覆蓋在抗紅外線層 找化合物為基質,並加入Ο重量%例如六魏鑭 200827160 ' 之抗刮耐磨劑’塗佈後以加溫烘烤的方式使其固化,固化 後該抗刮耐磨層之厚度介於。本發明之抗紫外線層 除了具有阻隔紫外線的功能外,亦兼具有接著性高、高对 加熱性、对濕性等特性,以便使製成之隔熱膜貼片能夠有 效地直接黏貼在破璃或者鏡片等基材上,但本發明在設計 … 上,並不以抗紫外線層本身具有黏性為必要。上述抚紫外 線層亦以塗佈的方式,將含有紫外線吸收劑之丙烯酸系黏 著劑覆蓋於基層單元的一個表面上,其中該紫外線吸收劑 ♦ 乃例如苯并三唑,其使甩量以0·3〜0.7重量%為較佳,塗佈 的厚度為1〜5μιη。 【實施方式】 有關本發明之前述及其他技術内容、特點與功效,在 以下配合參考圖式之較佳實施例的詳細說明中,將可清楚 > ^龍 【實施例1】 參閱圖1 ’本貫施例之多層隔熱膜貼片丨係可貼覆在一 • 10 抗紅外線層12、一抗刮耐磨層13,以及一抗紫外線層μ, 其中該基層單元11係由多數間隔之第一基膜lu,以及多 數介於相鄰第一基膜111間的第二基膜」丨2交互堆疊而成, 八 上述第一及第二基膜111、丨丨2之膜數總合為1〇〇層,整體 而a ’該基層單元11具有一個鄰近抗紅外線層12的第一表 面113,以及一個鄰近抗紫外線層14的第二表面114,且前 述基膜111、112中形成該第一或第二表面113、114的最外 200827160 ' . . 二 層厚度大於位在中間者,而該抗紫外線層14可直接貼附在 基材10上,該抗刮耐磨層13則是固定在抗紅外線層12的 一表面上,並遠離基材1〇 〇 為了製造如圖1所示之隔熱膜貼片1,本實施例的製法 包含:製備基層單元11、成型抗紅外線層12、成型抗刮耐 … 磨層13,以及成型抗紫外線層14等四個步驟,其中: 製備基層單元11 :採用聚甲基丙稀酸曱酯(簡稱PMma 樹脂)_、黏度為IPa.a的聚對苯二甲酸丁二醇酯,以及密度 Φ 0.92、熔融流動指數2之聚乙二醇(為美國杜邦公司製
Hytrel 7246)為原料,即在本發明中採用pMMa樹脂來製作 第一基膜111,而以^^丁樹脂撕光合纖製商品名為乃尺⑽⑽ 之聚對苯二甲酸丁二醇霜)、c〇PBT樹脂(聚對笨二甲酸丁二 醇酯與聚乙二醇共聚物),以及聚乙烯來調配形成第二基膜 112 ’此調配後的樹脂中含有9〇重量%之ρΒτ樹脂、7重量 %之coPBT樹脂,以及3重量%之密度為〇·92、熔融指數為 2之線狀低密度聚乙烯(簡稱lldpe),且第一及第二基膜 • 111、112之浙射率差 溫度分別為130°G及75C的乾燥機中,當原料溼度違到 °Ctd後,再分別送到兩台不同押出量及工作溫度的押出機 ,其中用來押出第二基膜112(即由pBT、c〇pBT及认加它 • 混合而成之樹脂)之押出機的工作溫度為240°C,押出量為 , 60 kg/hr,而用來押送第一基膜111(i ^ ^ 235^,# 47 kg/hr 〇 M 4 機押出的熔融樹脂將傳送到一個層進給塊系統,經此系統 10 200827160 一 之控制將樹脂分成100層,之後經由單集流管平膜片模具 押至到一溫度為30〜40°C的高溫定型滾輪,再經由常溫定型 滾輪組來精確控制膜片厚度及寬度,之後將具有均勻厚度 之膜片傳送到一工作温度120°C的雙軸延伸機,藉該雙軸延 伸機的拉引,將膜片的縱向(TDO)拉伸至2.5〜4·5倍,而橫 … 向(MDO)拉伸至2·5〜4倍,即可製得總膜厚25μπι之基層單 元11。
成型抗紅外線層12 :將0.5重量%且粒徑loo〜i5〇nm 之氧化錫銻加入聚碳酸酯中混合。之後以塗佈機將該混合 物以50米/分鐘的速度塗佈在基層單元11之第一表面113 . ..... - · · . 上,經由烘烤溫度65之機台的烘烤固化後,即可在基層 單元11上形成膜厚5μιη的抗紅外線層12。 成型抗刮耐磨層13 :將0·2重量%之六硼化鑭加入聚酯 化合物中混合,之後同樣以塗佈機將該混合物以5〇米/分鐘 的速度塗佈在抗紅外線層12之表面上,經由烘烤溫度 60〜701之機台的烘烤固化後,即可在抗紅外線層12表妒 形成膜厚1〜2μπι的抗刮耐磨層13。 成型抗紫外線層14 :利用滾輪式塗佈機將含有〇.5重 量%之苯并三唑之聚丙晞酸樹脂塗佈在基層單元η之第二 表面114上,塗佈速度㈣50米/分鐘,烘烤溫度約為60 C ’即獨成抗料線層14,同“成本發顧熱膜貼片 1的製造’為了便於使用’製造後可於抗紫外線層14底面 貼附一層離型紙。 進行抗紅外線能力 本發明實施例1之膜片在製造後 200827160 - .... - * _ : 、抗紫外線能力、抗衝擊能力以及可見光透光率等物性實 驗,實驗結果載於表1。其中抗紅外線能力及抗紫外線能力 係以雙光束UV/VIS/NIR分光光譜儀(jasco v-57〇)檢測,而 抗衝擊能力係依ANSI Z97.1測試標準測試。 【實施例2】 本發明實施例2之各成份的組成比例及加工條件大致 與實施例1相同,不同之處在於:基層單元n的層數增加
到200層,由於層數的增加,談基層單元丨丨之總厚度增加 到35pm。製造後同樣進行抗紅外線能力、抗紫外線能力、 抗衝擊能力以及可見光透光率等各項實驗,實驗結果亦載 於表1。 【實施例3】 本發明實施例3之各成份組成比例及加工條件亦與實 施例丨相同,不同之處在於:基層單元u的層數減少至 碎紅外線能力、抗紫外線能力、抗衝擊能力以及可見光透 光率等各項實驗,實驗結果亦載於表丨。 【實施例4】 本仙實施例4之各成份組成比例及加1條件亦』 的使用置增加到〇·7重量%。製造後同樣進行抗紅外線 、抗紫外線能力、抗衝擊能力以及可見光透❹ 驗’實驗結果亦載於表1。 、 【實施例5】 12 200827160 A &月““列5之各成份組成比例及加工條件亦盥實 鉍例1相同,不同之處在於· 4 思〇 士 一、 的栋闲曰 ·抗紅外線層12中之氧化錫銻 的,用1增加到1.G重量%。^ 驗,貫驗結果亦載於表! ^ ^ ^ 貝 【實施例0】 本务明貫施例ό之各成份組成比例及加工條件亦與實
^ ^ ^ ^ ^ ^ 0.3 t * % 〇 t ^ ^ ^ # ^ # ^ ^ ^ ^ ^ 、抗紫外線能力、抗衝擊能办以及可見光透先率等各項廢 驗,實驗結果亦載於表】。 、貝 【實施例7】 本1明貝施例7之各成份組成比例及加工條亦盘 的使^量增加到0.7重量%。製造後同樣進行抗紅外線能力 、抗紫外線能力、抗衝擊能力以及可見光透光率等各項實 驗,實驗結果亦载於表 J。 : ^ ^ ^ ^ ' 【實施例8】 本發明實施例8之各成份的組成比例及加工條件大致 與貫施例1相同:,不同之處在於:第二基膜112組成中 PBT樹脂含量減少至87重量%,coPBT樹脂含量增加至1〇 重里/(> ’並且’與第一基膜111折射率相差0.03。製造後同 奴進行柷紅外線能力、抗紫外線能力、抗衝擊能力以及可 見光透光率等各項實驗,實驗結果亦載於表1。 13 200827160 •【實施例9】 本^明八施例9之各成份的組成比例及加工條件大致 ”貝施例1相同,不同之處在於··第二基膜組成中 92 tt%, c〇pBT 5 羞。並且,與第一基膜111折射率相差0· 1。製造後同 - 樣進行抗紅外線能力、抗紫外線能力、抗衝擊能力以及可 — 見光透光率等各項實驗’實驗結果亦載於表1。 【比較例1】 參閱表2,本發明比敕封i之各成份組成比例及加工條 1 大致與實施例^^ ^ 數減少至10,基層單元u之整體厚度減少到15_。製造 後同樣進行抗紅外線能力、抗紫外線能力、抗衝擊能力以 及可見光透光率等各項實驗,實驗結果截於表2。由表2的 貫驗結果得知,當基層單元11的層數不足時,製得之隔熱 膜貼片1的抗紅外線能力、抗紫外線能力及抗衝擊能力明 顯降低。 •【比較例2】 .' - ' . . . . . . 本發明比較例2之各成份組成比例及加工條件大致與 實施例1相同,不同之處在於:基層單元n的層數增加到 400層’基廣單元u之整體厚度增加到別叫。由表2的實 驗結果得知,當基層單元n的層數大於4〇〇層時,該隔熱 膜貼片1的可見光透光率明顯不足,不適合運用在隔熱的 場合中。 【比較例3】 14 200827160 本么明比較例3之各成份組成比例及加工條件大致與 1 ^ ^ ^ ^ ^12 t 銻的使用量fH㈣G.3重量%。由表2的實驗結果得知,春 〇>5 t*%Bf , 外線能力明顧不佳 ι ^ ^ ^ ^ ' 【比較例4】 本發明比較例4之各成份組成比例及加工條件大致盘 ; 12 銻的使為1.1重量%。由表2的實驗結果得知,當氧化 ^ # ^ ^ ^ t * ^ m Rl ^ ^ € 光率不隹,不適合運甩在隔熱的場合中。 【比較例5、6】 - . ' .,.圓. -.- ' . ..·;' 比較例5疋抓用單層且膜厚為2〇障之聚醋薄膜(簡稱 0-ΡΕΤ ’為南亞錄製造,商品名為⑽4)為隔熱膜,而 6 11 7C 11。。之層數為1GG ’總厚度為2G㈣。由表2的實驗結果得 知,單純聚酿薄膜與同厚度之基層單元作比較,盆可見光 t , ^ ο-pet 月匕力及抗衝擊月b力比由兩種不同素材製成之基層單元差。 【比較例7】 與比較例5類似,但聚酿薄膜的臈厚增加到25_,同 ° ^ ^ 2 ^ ^ g§ ^ m ± ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ t ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ t 15 200827160 、抗紫外線能力及抗衝擊能力 -得的隔熱膜之抗紅外線能力 仍然較實施例1差。 【比較例8】 本卷月比較例8之各成份組成比例及加工條件亦與〒 施例1栢同’不同之處在於:抗紅外線層14中之笨并^唾 的^用量減少到(U重量%。製造後同樣進行抗紅外線能力 ϋ外線能力、抗衝擊能力以及可見光透光率等各項實 紅外線能力上較差。 【比較例9】 本發明比較例9之各成份組成比例及加工條件亦舆實 例1祖同不同之處在於?抗紅外線層〗4中之笨并主唑 ^ ^ t if 0.9 f * % 〇 t it ^ 1¾ # it #^ ^ ^ 、抗紫外線能力、抗衝擊能力以及可見光透光率等各項實 驗,實驗結果亦載於表2,由表2得知,當苯并三唑之使甩 量高於0.7重量%時,隔熱膜貼片之可見光透光專較差。 【比較例10】 本發明比較例10之各成份的組成比例及加工條件大致 與:r施例1相同,不同之處在於:第二基膜112組成中 ρΒτ樹脂的含量增加至95重量%,c〇pBT樹脂的含量減少 至2重量%,並且第二基膜112及第一基膜m之折射率相 差〇·1。製造後同樣進行抗紅外線能力、抗紫外線能力、抗 衝擊能力以及可見光透光率等各項實驗,實驗結果亦载於 表2,由表2得知,當浙射率差大於〇17時,隔熱膜貼片 16 200827160 ι· ,之可見光透光率較差。 由以上說明可知,本發明隔熱膜貼片1中使用由 20〜200層基膜所組成的基層單元u,並在基層單元丨丨的兩 個表面113、114上結合該抗紅外線層12、抗紫外線層13、 抗刮耐磨層14等設計,不僅未見於習知隔熱膜,該項設計 … 更可在兼顧可見光透光率的前提下,連到隔熱效果佳、提 • 呵抗紅外線、抗紫外線及抗刮耐磨等功效,故本發明確實 具有產業上利用價值。 惟以上所述者,僅為本發明之較佳實施例而已,當不 能以此限定本發明實施灰範圍,即大凡依本發明申請專利 範圍及發明說明内容所作之簡單的等故變化與修飾,皆仍 屬本發明專利涵蓋之範圍内。 【圖式簡單說明】 固1疋本1¾明多層隔熱膜貼片之一較佳實施例的側視 放大圖。 • · ... . , · . ' . . _ - . . 表1:本發明各實施例之組成及各項物性試驗。 表2 ·本發明各比較例之組成及各項物性試驗。 17 200827160 /·
\ 驗編號 實施例 項 目 1 2 3 4 5 6 7 8 9 各 基 層數 100 200 20 100 100 100 100 100 100 組 層 總厚度(pm) 25 35 18 25 25 25 25 20 20 成 單 第二細(wt%) 65 65 65 65 65 65 65 65 65 之 元 第二基 PBT 90 90 90 90 90 90 90 87 92 成 膜組成 CoPBT 7 7 7 7 7 7 7 10 5 份 (wt%) LLDPE 3 3 3 3 3 3 3 3 3 第一基膜(wt%) 35 35 35 35 35 35 35 35 35 折射率差 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.06 0.03 0.1 抗刮耐磨層中六石朋 化鍚 1含量(重量%) 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 抗紫外線層中苯并 三0坐含量(重量。/0) 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.3 0.7 0.5 0.5 物 抗紅外線能力(%) 62〜70 70-80 60-62 72〜75 74-80 62〜70 62〜70 4(M3 58-62 性 抗紫外線能力(〇/〇) 62〜70 70^80 60-62 62-70 62〜70 55-60 68〜75 4(M3 58-62 測 抗衝擊能力(吸/石旁) 55-60 60-70 50-52 55^0 55-60 55-60 55-60 50-55 50-55 言式 可見光透光率(%) 55-60 47〜55 65^70 52〜56 48 〜50 62-66 52〜56 72〜75 55-58 註1 : COPBT為?6丁與聚乙二醇共聚物。 註2 : LLDPE :線狀低密度聚乙烯。 18 200827160 、 表2 芝驗編號 V 比較例 項 目 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 各 組 成 之 成 份 基 層 單 元 層數 10 400 100 100 20μιη (註3) 100 25μπι (註3) 100 100 100 總厚度(μηι) 15 50 25 25 20 25 25 20 第二基膜 (重量%) 65 65 65 65 65 65 65 65 (註4) 第一基膜 (重量%) 35 35 35 35 35 35 35 35 抗i 錫! 抗ί 化! k外線層中氧化 弟含量(童量 0.5 0.5 0.3 1.1 0.5 0.5 0.5 0.5 列耐磨層中六石朋 闌含量(重量%) 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0, 0.2 0.2 抗紫外線層中苯并 1唑含量(重量%) 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.1 0.9 0.5 物 性 測 抗紅外線能力(%) 40^50 85^90 50-55 77〜80 20-30 4S-55 45^50 62〜70 62〜70 65-68 ^力(%) 40-50 85^0 62〜70 62〜70 20-30 45-55 45-50 45-55 '72〜79 65Η58 &衝擊能力(叹/镑) 3(M0 75-80 55-60 55-60 35-40 50-55 4(Μ5 55-60 55-60 50-55 可見光透光率(%) j 80-85 35-40 62^6 4(M3 65-70 65-70 55-60 65-70 48〜50 48 〜50 註3 :南亞塑膠製造,商品名為Ch284之單層聚醋薄膜。 註4 :第二基膜中含有95重量%之pbt榭脂、2重量%之 coPBT樹脂,以及3重量%之低密度?畏乙烯樹月旨,第 一及第二基膜之折射率差為0.2。 19 200827160 【主要元件符號說明】 1 隔熱膜貼片 113 10 透光基材 114 11 基層單元 12 111 第一基膜 13 112 第二基膜 14 第一表面 第二表面 抗紅外線層 抗刮耐磨層 抗紫外線層