TW200419630A - Modular substrate gas panel having manifold connections in a common plane - Google Patents

Description

200419630 玫、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本項發明是係有關一種流體分配系統，而且更特別是 有關一種其中介於元件與流道間之管路是形成在一共用平 面中的流體分配系統。 【先前技術】 流體分配系統已被使用於許多不同的應用範圍，其中 包括有半導體裝置的製造、製藥成份的製造等方面。在許 多上述之應用範圍中，流體分配系統的尺寸大小是會顯著 地〜#到成本。舉例而言，在半導體裝置的製造過程中， 邊流體分配系統或是此系統之特定部位一般是被安置於一 個超潔淨的環境（例如是一潔淨室）中。此外，由於許多 種被使用在半導體製造中的流體是具有毒性、高度反應性 或疋一者兼具，此種流體分配系統則經常需要特別的密 閉和通風裝置。對於此種系統而言，流體分配系統之任何 尺寸減小是有利的。 【發明内容】 依照本項發明之一項實施例，一 ^ 種用於作動流體之分 配的糸統被提供。此系統包含一個 ，# t 具有一基板體的基板， 此基板體本身則是包括有—形成於 罘表面中之一第一基 板通口與一第二基板通口，和包括 υ栝有一沿著第一方向延伸 與用於將第一基板通口連通至第二 暴板通口之第一流體通 200419630 道，以及一個歧管。此歧管具有一個歧管體，該歧管體本 身則是包括有一形成於一第一表面中之第一歧管通口、一 形成於與第一表面保持垂直之第二表面中的第二歧管通口 ，以及一用於將第一歧管通口連通至第二歧管通口的流體 通道。上述之基板更還包括有一個形成於沿著第二方向延 伸之基板體第一表面中的溝槽，此溝槽是被用來定位該歧 管，使得基板體之第一表面與歧管體之第一表面能夠在一 共用平面中對準。 依照本項發明之另外一項實施例，一個基板是被提供 成包含有一基板體、形成於基板體之第一表面中的一第一 通口和-第二通口、一形成於基板體中與沿著第一方向延 伸而將第 個溝槽。 一流體通道，以及一 一表面中，而且是沿 一通口連通至第二通口的第 此溝槽是形成於基板體之第 著-個與第-方向不同的第二方向延伸。此溝槽是被用來 定位-個具有-歧管體的歧管’此歧管體本身則是包括有 成於歧管之第一表面中的第一通口、一形成於歧管體 之第二表面中的第二通口’以及一個用於將歧管之第一通 連通至歧g之第―通口的流體通道，使得基板體之第一 表面與歧管體之第-表面能夠在—共用平面中對準。 依A?、本項發明之又_每> 只&例’其中氣板是被提供成包 含有一第一氣桿、一第4曰4 ^ 乳杯和一弟—歧管。此第一氣桿 具有一個包括若干形成於一妓 、 /、用十面中之第一通口的第一 流道，以及此第二氣猎月士 卜、 ’、一有一個包括若干形成於該共用平 面中之弟一·通口的第-、、☆、爸 机道。弟一歧管具有形成於該共用 200419630 平面中之第一通口和第二通口，其中第一通口是與該第一 氣桿之若干第一通口的一個通口相連通，以及第二通口是 與第二氣桿之若干第二通口的一個通口相連通。 依照本項發明之另一實施例 歧管是被用來接收於一個具有一基板體的基板中，此基板 體本身則是包括有形成於基板體之第一表面中的第一基板 通口和第二基板通口、一沿著第一方向延伸而將第一基板 通口通連通至第二基板通口的第一基板流體通道，以及一 個形成於沿著第二方向延伸之基板體第一表面中的溝槽。 上述之歧管包含有一個歧管體、i少一個形成於歧管體之 第-表面中的第一歧管通口、一形成於與歧管體第一表面 保持垂直之歧管體第二表面中的第二歧管通口，以及一個 形成於歧管體中與沿著第二方向延伸而將至少一第一歧管 通口連通至第二歧管通口的歧管流體通道。此歧管體的尺 了大小是能夠被定位於該溝槽内，使得基板體之第一表面 與歧管體之第-表面能夠在—共用平面十對準。 依照本項發明之另外一項觀點，有 ，供。依照-項實施例，此安裝用組件包含有=被 弟一構件和一第—鎖附件。第 . §1[ θ, 了1千#構件具有—個主體，此主 -本身則疋包括有一個面朝向第 面朝南筮-士人 』〜弟一表面和一個 朝6弟一方向的第二表面，其 一構件主體之;ϋ w第—方向是與位於第 篮之相對表面上的第一方向對要 有一個外側部位，此外側部位本 括此第二表面具 成鄰接該外側部位之周圍的凹槽，以 '括有-個被配置 以及—個沿著第二方向 200419630 而处该外側部位延伸出去 士麯 τ开⑷位。第二構件且古 ， 主體，此主體本身則是包括有― 牛-有-個 表面和一個面朝向第一 ° 方向的第一 别π弟一方向的弟二表面，直 疋與位於第二構件主體之相對表面上的第二方二方向 第二表面具有-個中央部位，以及,一 D對置。此 出去和& # # ., 一固從該令央部位延伸 *孝匕括有-被配置成鄰接外側 / 部位。第二構件的主體更 凹^的外側 伸穿過第二表面之中央部位的穿通孔。上述之：一： 具有-個螺紋柄，此螺紋柄的尺寸 ，附件 主袖〃 中之牙通孔内，而且是被接合至第-構件 主紐之弟一表面的中央部位。 依：另外一項實施例，有一個用於將一流體分配基板 至一具有第一表面和與該第一表面保持平行之第二表 :之平板所需的安裝用组件被提供。此安裝用組件包含有' 第安装用構件及第一安裝用構件和第一鎖附件及第二鎖 附件。此第一安裝用構件是被配置成鄰接平板之第一表面 和具有-㈣㈣通孔。此第一鎖附件具有一個外螺紋柄 ’用以接合位於該第一安裝用構件中之内螺紋穿通孔，而 且牢牢地將基板固定至該第一安裝用構件。此第二安裝用 構件是被配置成鄰接平板之第二表面和亦具有一穿通孔。 此第二鎖附件具有一個外螺紋柄，用以接合位於該第一安 裝用構件中之内螺紋穿通孔，而且牢牢地將第二安裝用構 件固定至S亥第一安裝用構件。上述之安裝用組件更還包含 有用於將基板從平板處加以隔熱和隔振的機構。 200419630 依照本項發明之另外_項觀點，有一個用於將一基板 固疋至一具有一孔洞之安裝用平板的方法被提供，其中此 孔洞是從安裝用平板之第一表面延伸穿過該安裝用平板而 到達该女裝用平板的第：表面。此方法是包含有下列步驟 :將一上側安裝用次組件定位於鄰接孔洞的第一表面上和 經由該孔洞而穿過該上側安裝用次組件的中央部位、將一 下侧安裝用次組件定位於鄰接孔洞的第二表面上，使得該 上側安裂用次組件的中央部位能夠被配置於該下側安裝用 次組件的中央部位内’將下側安裝用次組件鎖附至上側安 裝用次組件’以及將基板鎖附至該上側安裝用次組件。 【實施方式】 本項發明的應用範圍不受限於在下列描述内容或是圖 式中所說明之細部結構和元件配置方式。本項發明是能夠 以其他不同的實施例或是以其他不同的方式來施行。同樣 地’在此所使用的措辭與用語是為了描述之目的，而毋須 :視為是’限制。使用，，包括有”，，，包含有”，或是，，具有，，，，， ::”二”有關”和在此所採用之文字的變化型式均係表示包 3有：後所列出之項目和相同之其他額外項目。 杌夕2 1表不出依照本項發明之一項實施例的流體分配格 選流體™ 总皿 、種或疋右干種不同之處理流體至一共用歧 g 。舉例而言，此、、古_八 士夂4 供 1體刀以板可以被用來有選擇性地提 八 或疋若干種不同處理流體至一共用歧管，其中此共 200419630 用歧官本身則是與一流體系統的其他部位，或是與一流體 處理工具相連通。 雖然在此所描述之本項發明主要是有關於分配半導體 製程應用所需的氣態流體，但是值得讚許之處是本項發明 並未因此而受限，而且是亦可以被使用於其他處理流體（ 例如疋液體或泥漿），或是被使用於氣體、液體或泥漿的 混合物。此外，本項發明不限於是半導體製程的應用範圍 ，因為其亦可而是能夠被使用於化學應用、製藥應用等方 面。因此，雖然隨後所描述之本項發明係參考一個能夠提 供分配半導體製程應用所需之處理氣體的系統，但是值得 讚許之處是本項發明並未因此而受限。 概觀來看，如圖1所示之流體分配格板1〇〇是包括有 若干個氣桿A L’母-個氣桿是被用來接收從一處理氣體

A — L均能夠提供一個沿著第一方向 (從圖1的底部到其頂

口的第一共用歧管是 ^其他氣體。一個包括有若干個通 是被安置於每一個氣桿的流道中， 200419630 用以容許被每一個氣桿所提供之處理氣體或是其他氣體（ 例如是一淨化氣體）能夠流到一第二共用歧管12〇。此第 二共用歧管亦包括有若干個通口，而且是被安置於每一個 氣桿之流道的末端處，用以提供一種或更多種處理氣體或 是其他氣體至一處理工具，或是至一氣體系統的其他部位 。由於在每一個共用歧管中的通口均是於流道中之通口的 共用平面内對準’因此可以得到一個高度降低的氣板。因 為在此種氣板經常被使用之潔淨室環境中的空間有限，此 種高度降低的氣板是有利的。此外，由於其中基板和歧管 是間隔不同高度，用於將每一個流道連通至共用歧管所需 之密封件數目是可以從氣板的數目中減少。另外，相較於 在傳統之設計中是採用六個或是更多個鎖附件，當基板是 被用來將一個或更多個基板的二通口連通至一歧管的一通 T時，用於得到防漏密封作用所需的鎖附件數目能夠被減 少。本項發明之以上這些觀點和其他觀點是可以參考隨附 圖式而在此被詳加描述。 如圖1之所示，氣板1〇〇包括有若干個氣桿A—[，每 —個氣桿均被安裝至一共用底座10〇雖然在圖式中並未說 明特定的安裝用配置方式，氣桿是可以藉由任何已知方法 之作用而從底座上方，或從底座下方被安梦 衣主孩共用底座 0。每一個氣桿A-L均包括有一個被鎖附至該共用底座 W的一個一元件定位基板60和一個二元件定位基板7〇, ^二基板本身則是使用-具有螺紋鎖附件（例如是—六角 累栓）而被固定至該共用底座10。每一個基板6〇、7〇通 200419630 常是由一塊不銹鋼（例如是316不銹鋼）、哈思特鎳人金 ，或是其他適用於所欲輸送之流體的材料所製成。每二、 基板60、70均具有一個形成於該基板内的溝槽μ母^ 在圖9、B 10、圖11、圖12和圖13中可以清楚看到） 用以接收歧管部位20、25、3。、3…0(在圖9中可以 清楚看到）。每-個歧管部位20、25、3〇、35和4〇亦通 常是由一長條塊不銹鋼或其他適宜材料所製成，並且是連 結在一起而組成一共用歧管11〇、12〇。舉例而言，當2管 部位20、25、30、35和40是由不錢鋼所製成時，:歧: 部位是可以採用傳統之方式而對頭焊接在一起，用以組成 該共用歧管11G、12G。在如圖！所說明之實_中，每__ 個氣桿A-L的二元件基板7G會接收—個被用來有選擇性 地提供-淨化氣體（經由導f 85來提供）至個別不同氣桿 之流道中的歧管部位（例如是在氣桿A中之歧管部位託） 。每-個-元件基板60亦會接收一個歧管部位（例如是在 氣桿A中之歧管部位2〇)，如圖i之所示，此歧管部位是 被用來提供-個針對每—個氣桿A_L是共用的共用出口， 而且此共用出口是可以被連結至一處理工具或是被連結至 氣體處理系統之另一部纟9〇。在所說明之實施例中，氣體 處理系統的部位9G是由若干個於美國專利第6,394，13觀 號中所描述之相互連肖公基板與母基板共同組&，此項專 利的全部内容則在此作為參考使用。 在使用巾每一個氣桿A—L是藉由一凸緣而被連 結至-個處理氣體供應來源，此凸緣本身則是藉由一組鎖 12 200419630 弋中未表不出來）而被鎖附至底座 凸緣（圖式中未山十、^ * 10〇一個配合 連結至一個用於趄处七A * 凸緣50和被 道… k供來自處理氣體供應來源之處理氣俨的 導官。在圖8中可以清楚看到，此凸緣；里：體的 連結至處理氣F徂_十、κ , "r枯有一個用於 51，以及包括Γ 該配合凸緣）的頂端通口 冰連社至其4 連結至該凸緣5〇之頂端通口 51和 被連結至基板7 〇夕—X 〜 a 1和 一入口 71的側邊通口 52。處 流經一個位於美叔7Λ 士 處理乳體會 圈⑴，流到個成=Γ道(例如是可《參考 (參考圖!。、圖U : 端表面中的出。72 件（圖式中未表二V、: 闊或是其他流體處理元 不出來）疋被安置於出口 72之上t 亦形成於基板70之頂端表面中的 方和-個 板7〇形成密封。—個金屬塾圈咬是立他==，並和基 (圖式t未#-山+ 類的密封用構件 未表不出來）通常是被用來沿著通口 72、73、查门 在基板7〇之頂端表面中的其他通 同 件。舉例而言，在間，“ η固杈仏防漏进封 在圖1所描述之實施例中，每一 基板之頂端表面中母個形成於 )均包括Κ 成於歧管部位中之通口 未被俨-目被用來接收"環狀G形密封件的埋頭孔（ 12和圖13中Υ疋被表示於圖9、圖10、圖u、圖 5 8〇；3 ,〇7 ^ 另外一方面，例如是在美國專利第 宜配:、/ 0疋可以被使用於在基板與歧管部位中之適 且配置通口，以卜一 上二項專利的全部内容則在此作為參考使 。在所描述之實施例中，雙通口閥是能夠有選擇性地容 13 200419630 許處理氣。 中 基板70… （參考圖，流到一個亦形成於 、鸲表面中的出口 74。基板70 爽桩跄一匈W八u 匕枯有一個被用 、用歧管110的溝槽79。在圖i所 施例中，舉例而言，氣桿A的基板7。會接 亡= 管部位35，此-金仏A 個一疋位歧 μ ^ 疋位歧管部位35本身則是具有二個形成 於樹部位35之頂端表面中的通口 37、39(參考圖^ 持：卜一個形成於該歧管部位35之與頂端表面保 、 ^中的通口 36。形成於歧管部位35 ^白^通口 36是與另外—個歧管部位（例如是如圖α 圖 9所示之歧管立β 、 支e邛位40)相連通，用以連結在— = 管110。位於基板7°中的溝槽79是被用來 面中2:二二彳 面的共用平面中:/出:之板7。之_ T對旱出D 74，以及亦能夠對準—個位於 板7〇之溝槽79另-側邊上的…。如同將於下文中； 加描述之内容’溝槽和歧管部位可以個別包括有用於將形 成在基板70之頂端表面中的通口 74、76對準歧管部位％ 之頂端表面中的通口（例如《37、39)其中 的機構。 巧而 圖式中未表示 76的上方，以 39其中之一通 在所說明之實施例中，一個三通口閥（ 出來）是被安置於在基板7〇中之通口 74、 及在歧管部位35之頂端表面中的通口 37、 14 々上方’並且是藉由若干個鎖附 )而被鎖附至基板7G。料若^ 中未表示出來 板7〇之了μ 鎖附件是被接收於在基 “表面處的内孔中，該頂端表面在基 之 再價79的母一個側邊上舍 括右1 ， 包括有至少-個内孔，而且以是包 偏一内孔為較適宜。僅有四個鎖附件（在溝槽79的每 -個側邊上分別有二個鎖 、、长㈣79的母 έ且忐 、牛）而要被用來連同閥門共同 每=防漏密封件是較為有利，然而在傳統的設計中， 個要二個鎖附件，三個通口則是需要全部六 —一 此11組成一個防漏密封件。被接收於溝槽79之 :二側邊上的鎖附件會連同一個墊圈（圖式中未表示出 二)或是其他密封用構件’共同組成一個介於位在基板中 ^ 74、76和在歧管部位35頂端表面中之通口 37或 39中間的防漏密封件。上述之三通口閥容許由共用歧管 m所輸送之處理氣體或是其他氣體（例如是一淨化氣體 )的其中之一能夠被一 V形溝槽提供’此V形溝槽本身則 是會將在基板70中之人σ 76連結至基板7()中之一出口 ^考圖11 )。在所說明之實施例中，一個質流控制器 (圖式中未表示出來）的人口是與基板70巾之出σ 78相 連通’並且是藉由該質流控制器的出口之作用而能夠將處 理氣體或是其他氣體提供至該-元件定位基板6G的-入口 61。此質流控制器則是被連結於基板70與基板60之間》 如圖12和圖13之所示，一元件定位基板6〇包括有形 成於基板60之頂端表面中的一個入口 61和一個出口 62， 該入口與出口則是被一 V形通道相連結。至少有一個内孔 15 200419630 而且X疋有個内孔為較適宜，是形成於基板60之頂端 表面中，用以月匕夠將質流控制器的出口密封地鎖附至基板 60之入口 61。 基板6G亦包括有—個被用來接收-部份共用歧管12〇 的溝槽69在圖1所說明之實施例中，舉例而言，氣桿a 的基板6〇會接收一個一定位歧管部位20，此-定位歧管 部位2G本身収具有_個形成於該歧管部位2()之頂端表 面中的通口 22(來者m〇、 ^ ° )，以及具有一組形成於與歧管 4位20之頂端表面保持垂直之相對表面中的通口 Η、μ 。形成於歧管部位20之橫向表面中的通口『Μ其中之 一通口是與另外一個歧管部位（例如是如W 1所示之歧管 部位40)流體式相連通，該另外—個歧管部位本身則是夢 由其他歧管部位之作用而與其他氣桿b_l的出口 Μ流體 式相連通，而且通π 2卜23其中之另外_個通口是會與一 個被流體式連通至-處理工具、或氣體系統之

的導管80相連通。 m 9U 位於基板60中的溝槽69是被用來定位該歧管部位20 ，使付形成於頂端表面中的通口 22能夠在基板6〇之頂端 ^面的共用平面中對準基板6Q之出σ 62。如同將於下文 :坪加描违之内容，溝槽69和歧管部位2〇可以個別包括 有用於將形成在基板6〇之頂端表 在歧一之頂端表面中的通口 在所說明之貫施例中，一個二通口閥 _ 出來）是被安置於在基板6〇中之 表不 W的上方，以及在 16 200419630 ，管部位20之頂端表面中的通口 &之上方’並且是藉由 右干個鎖附件（圖式中未表示出來）而被鎖附至基板6〇。 該若^個鎖附件是被接收於在基板6()之頂端表面處的内孔 頁如表面在基板6〇中之溝槽69的每一個側邊上包 括有^少—個内孔，而且較佳是包括有m。被接收 於溝槽69之每一個側邊上的鎖附件會連同一個墊圈（圖式 中未表不出來）或是其他密封用構件，共同組成—個介於 位在基板60中之通口 62和在歧管部位2〇頂端表面中之通 θ 〗的防漏密封件。上述之二通口閥容許處理氣體或 ㈣（例如是—淨化氣體）的其中之一能夠被提供 且疋從該共用歧管到達氣體系統之 另一部位90。 圖9說明若干個可以被用來組成-個依照本項發明實 施例之氣板的歧管部位2〇、25、3〇、3“。 部位 20、25、30、Μ 3 一 b和40的相類似處為每一個歧管部位 =:!—個由長條塊所形成之歧管體，而且每-個歧管 、還匕括有至少—個形成於歧管體之頂端表面中的通口 ，以及包括有至少_〆 .. 固形成於與歧管體頂端表面保持垂直 :::的通…匕外，每一個歧管部位還包括有用於將 ;歧管體頂端表面中之—個或更多個通π料-個或 在二：形成在基板60、70頂端表面中之通口所需的機構。 在所5兒明之實你你丨Φ 、 ，母一個歧管部位均包括有一組形成 喜/體之橫向表面中的溝槽，此溝槽在位於通口之二側 邊處的橫向表面上是相隔一段距離，而且是被用來將位於 17 200419630 歧管體之頂端表面上的通口對進 卡在基板中之一個哎更多個 通口。值得讚許之處是僅有單一 溝才曰疋月b夠被替代使用， 如同其他種類的對準機構， 在已發表之美國專利申 吞月案編唬US 2002/0000256A1 Φ邮％扣 中所說明的對準機構，對於 熟知本項技術之人士而言，此 在此作為參考使用。 、專㈣u的全部内容則 如圖9之所示，歧管部位2〇 匕括有一個形成於歧管體 之頂鳊表面中的單一通口 22,以 势#及括有一對形成於與歧 頂…保持垂直之歧管體相對表面中的通口 2卜23 。一個沿著歧管體之縱軸而形成 表面通口 22連結至形成於樺白；^7流體通道會將頂端 23。 珉於松向表面中的每一個通口 21、 歧管部位25是類似於歧管部位20，該歧管部 立广僅包括有一個形成於歧管體之橫向表面中的單一通口 26。歧管部位25 一般是被用來終止由 部位所組成的共用流體歧管u。、H 、’…接歧官 =部位30與歧管部位2〇的相類似之處為該歧管部 ^包括有—對形成於歧管體之相對橫向表面中的通口 頂：然而，歧管部位3。則是包括有二個形成於歧管體 =表面中的通D 32、34。每一個通口 ML k會與—個沿著歧管體之縱軸而形成 部:體通道相連通。每-個形成於歧管之頂端表面中的: 二、34是會被若干個形成於歧管體之每—個側邊中的對 丰/曰所圍繞。歧管部位3。是可以被用來將第一氣桿和第 18 200419630 著遠 道連通至另外-個歧管部位，於是，接 者連通至共用歧管110、12〇。 声 、個歧S部位35包括有—對形成於歧管體之頂端 ^ 勺、口 37、39，以及包括有一個形成於歧管體之橫 ° :面中的單一通。36。歧管部位35與歧管25的相類似 之處為該歧管部位35是可以被用來終止該共用歧管110、 :、:而例如疋如圖1之所示，該歧管部位35是被用 Λ將二氣桿的-部份流體通道連結至-共用歧管110、120 Λ 歧官部位亦包括有一個三定位歧管部位4〇，此歧管部 本身則疋包括有二個形成於歧管體之頂端表面中的通口 41、42、43 ’以及包括有一組形成於與歧管體頂端表面保 持垂直之相對表面中的通口 47、49。歧管部位4〇的每一 個側邊表面均包括有若干組形成於歧管體之每—個側邊表 面上和被安置成與每一個通口 4卜42、43相鄰接的溝槽， 此溝槽本身則是被用來將歧管部位4〇的通口對準個別不同 基板的通口。 值得讚許之處為雖然有若干不同的歧管部位2〇、25、 30、35和40已在此被加以描述，但是本項發明不限於是 所說明之實施例。舉例而言，具有四個或更多個形成於歧 管體頂端表面上之通口的歧管部位是可以被使用，其中僅 有一個單一通口疋在歧管體之橫向表面中，或是有二個通 口疋形成於歧管體之相對橫向表面中。值得更進一步讚許 之處疋雖然形成於歧管部位之頂端表面中的通口被表示成 19 200419630 是包括有一個埋頭孔，用以接收一環狀C形密封件，但是 其他不同的通口構形亦可以被替代使用，這些不同的通口 構形例如是可以被使用於其中之標準型流體處理元件。此 外，形成於歧管之頂端表面中的全部通口毋須是具有相同 種類之4封件配置方式，其中—種密封件是可以被使用於 ^ 另外種捃封件則是可以被使用於另外一個通 口 ° 叫u V0 t所不，對準凹 槽亦可以被形成於位在基板60和70中之每一個溝槽的一 側邊表面處，此對準凹槽本身則是被用來對準一個在基板 之溝槽69、79中的歧管部位。在使用中，一個歧管部位是 會被插入至該溝槽69、79内，使得在溝槽69、79中和在 歧管部位中的對準凹槽幾乎是能狗對準，接著，一個對準 麵67、77是會從上方插入至每一對對準凹槽，用以精確地 將歧管對準於_ 69、79心上述之對準鎖Μ、？？是可 =由任何適宜的材料所製成，但是以是由無法與被使用之 處：氣體產生反應的材料所製成為較適宜 受到影響。 私内之歧官部位的對準狀況不致於 每-個對準銷67、77的長度能夠使得當該對準 =:=歧管部位中之凹槽内時，該對準銷 表面不心過基板和歧管部位之頂端表自， 而 準銷的頂端表面干涉到# λ δχ對 封件，以及避免…!:1Τ管通口之間的密 ”干涉到從上方鎖附之流體元件。雖然未 20 200419630 表示於圖式中，在溝槽之側邊中的凹料可以延伸至溝槽 69、79的-個底座’使得該對準銷的長度不超過溝槽的深 度，以致於當對準㈣完全插人之後，該對㈣能夠依然 維持在基板的頂端表面以下。

如圖11和圖13之所示’每一個基板6〇、7〇可以包括 有-個形成於溝槽之底座中的小；L 65、75,當一歧管部位 被插入至溝槽内之後’此小^被用來移除該歧管部位。 舉例而言，-個例如是一螺絲起子的堅硬構件可以從下方 插入至基板和被用纟將歧管部位從冑槽中^。另外一方 面，在溝槽之底座中的小孔65、75亦可以具有螺紋，使得 -個具螺紋構件可以逐步地插人至小孔65、75内，用以移 除一歧管部位。

亦如同每—個圖10、目11和圖12之所示，至少一個 在基板60、7G之頂端表面中的通口可以包括有—個形成於 基板頂端表面中之浅漏通口 95。一般而言，一㈣漏通口 95是被提供於每一對與流體元件相連通的通口之間。 在此所描述之實施例中，每一個共用歧管ιι〇、12〇是 興氣體處理系統之另一部位9〇流體式相連通。值得讚呼之 處是本項：明不限於是在此所說明的配置方式。舉例：言 ’共用歧t 11 G可以與—個被直接流體式連結至另外一個 氣體供應來源之凸、緣5G相連通。此外，雖然每—個基板 6〇 :〇被祸述成是具有-個形成於其中之單一溝槽69、79 仁疋夕重溝槽亦可以被提供，使得許多不同的流體能夠 被導入至每—個氣桿A_L’或是另外一方面，被導入至〆 21 200419630 個或更多個Λ > 一個氣桿夕’值得讚許之處是雖然有一種在每 質流控制器的特，用個一通口闕、一個三通口閥和一個 未因此而受/疋配置方式已被描述’但是本項發明則並 又限。於是，依照本項發明所示 二:r台是™於-個單-基板上。= 額外的元件^、皮包用括文有一個或是更多個額外的元件台，此 壓力調節接收一過滤器、—塵力轉換器或-fc,. ^ °或疋一般所提供之其他不同流體處理元件。 ，在每二數的不同元件組合方式已考量被採用，因此 相同。目軋桿中，安裝至每-個基板的流體元件則毋須 理元雖然本項發明已被描述成是主要其中的流體處 他種類=；：埋頭孔型密封件，但是值得讚許之處是其 元件等體處理元件（例如是表面安裝元件、卡"裝 Tu被採用，使得上述之氣板能夠 面：售元件和/或標準型元件。此外，雖然在圖： 配二出用於將基板6。、70安裝至底座i。所需的特定

式，但是值得讚許之處是任何數目的安裝 以被採用。 J 、圖“到圖28說明依照本項發明之另一實施例的流體 为配格板。如同以上圖i到圖13所描述之實施例，圖Η ::圖28所示之實施例容許形成於基板之頂端表面中的通口 一共用平面上，對準形成於—共用歧管之頂端表面 ，疋-共用歧管之部位中的通口。為了達到此項目的， 22 200419630 許多基板包括有一個來# u肜成於该基板之頂端表面中的溝槽， 歧管部位則是被接收 士 叹於e亥溝槽中。然而，並非是採用被安

、士成於屢槽和歧管部位側彡中凹槽的對準鎖（例如是 如圖9㈣13所示之對準銷67和77)，如® 14到圖28 之貝轭例疋知用不同的機構來對準在基板和歧管部位 董中的通口。舉例口而言，如目22之所示，配合對準柱281和 弋準孔洞282疋可以被提供於溝槽的底座與歧管部位的底 座:用卩將在4管部位之頂端表面中的通口對準一個或是 夕個在基板之頂端表面中的通口。如圖之所示，此對準 柱疋可以形成於溝槽之底座，對準孔洞則是形成於歧管部 位之底座中’或者’此對準柱是可以形成於歧管部位之底 座，對準孔洞則是形成於溝槽之底座中。 另外項如圖1到圖13所示之實施例與如圖14到圖 28所不之貫施例的相異處為並非是使用一氣體處理元件之

安I方式’例如是以一閥門或過濾器來固定通口對準於一 共用平面中，如圖14到圖18所示之實施例係採用機械式 鎖附件，來將歧管部位的頂端表面和基板固定於一共用平 面内。如同將於下文中詳加描述之内容，藉由牢牢地將歧 & 4位安裝至基板的溝槽内，其中所產生的流道大致上是 比較不會受到由衝擊或振動所導致之洩漏情形的影響。 另外還有一項如圖1到圖13所示之實施例與如圖14 至J圖28所示之實施例的相異處為在如圖14到圖28所示之 貝％例中，每一個元件基板（連同其他元件）均是以具彈 性之方式而被安裝至一個已被牢牢地連結至格板底座之安 23 200419630 虞用平板。-個洋動安裝件特別是被用來將不同元件連結 至一安裝用平板，容許該元件在三個直角方向上產生有限 ?移’提供一定的拉剪強度，並且是以加熱之方式而從安 t用平板Γ底座處取出元件（藉此容許元件㈣被有效率 ::、、或部，而不需要-開始即加熱或是冷卻該底座 )’以及提供減振作用。a 如圖14到圖28所示之實施例的 以上這些觀點和其他觀點將於下文中詳加描述。 如圖14所示之辦八 4一丨.γ a机體分配格板2〇〇是包括有若干個氣桿 a式中：：Γ桿是被用來接收從一處理氣體供應來源（ 圖式中未表示出來）路难、、，+ 、 w ^ )所傳迗來的處理氣體，而且是被用來 提供處理氣體或其他氣㊃（ θ ^ 統的其他部位或是至一處理口疋―/尹化氣體）至氣體系 提供一個沿著第—方向母—個氣桿Η均能夠 n頂端到其底部）延伸的 還包括有若干個形成於-共用平面中沾、g 不同的流體處理f i q Μ θ 、、口。 力轉換哭严… 是闕門、淨化器、過遽器、Μ ，…、“§周節器、座氣清除器、質流控 圖 表示出幻均是以㈣之方 個個別不同氣桿中的相鄰接通口 位於母 _押名雜々Η 4 且疋、/口者流道而流過 處理乳體或是其他氣體。一 k 用歧管2U0是被安置於若千個。有右干個通口的第-共 ，田 鱗（亦即是氣桿A-F) 、/瓜、 以谷許被每一個氣桿所提供夕老 直他教# Γ你丨4 Η 厅誕仏之處理氣體或是 …體（例如疋一淨化氣體）能 =心共用歧管212。亦包括有若干上：： 母氣桿Η之流道的末端處，用以提供-種或 24 200419630 更多種處理氣體或是其他氣體至一處理工具，或是至一氣 體系統的其他部位（例如是混合用基板41〇 )。一個包括 有若干通口的第三共用歧管2130是被安置成能夠用來接收 從-個或是更多個氣桿H_L所傳來的處理氣體，並且提供 以上這些處理氣體或是處理氣體的組合至一處理工具，或 是至氣體系統的其他部位（例如是混合用基板41 〇 )。如 同以上圖1所描述之實施例，由於在每一個共用歧管中的 通口均是於流道中之通口的共用平面内對準，目此可以得 到一個高度降低的氣板。 如圖14之所不，氣板2〇〇包括有若干個氣桿A_L。 相較於如圖1所示之流體分配格板，每一個氣桿並非是被 直接和牢牢地安裝至一共用底座（例如是圖1之底座10) ’在圖14中的每一個氣桿A-L則是以具彈性之方式而被 安裝至一個採用浮動安裝件的安裝用平板21〇(參考圖26 和圖27而於下文中詳加描述）’該安裝用平板本身則是依 序被安裝至一底座（圖式中未表示出來）《是其他固定構 造。在如圖所描述之實施例中，安裝用平板21()是由能 夠被彎成如圖15和圖16所示之方式的金屬板所製成。如 同將於下文中詳加描述之内容，此安裝用平板的熱質量是 要小於如圖i所示之广…。，使得藉由採用一加熱 一冷部桿插人至延伸穿過組成該氣桿之基板的孔洞5 :如是參考圖15)，一個或是更多個氣桿a—l能夠更加 有，率地被加熱或是冷卻。為了要更進—步地將氣桿 隔熱’該安裝用平21〇可以另外由—為隔熱性 25 200419630 性的堅硬材料（例如是塑膠）所製成。 每-個氣桿A-E均包括有以彈性之方式而被鎖附至該 安裝用平210的一個一元件定位基板26〇和一個二元件 定位基板27G，此二基板本身則是制_具有螺紋鎖附件 (例如是一六角螺栓）而被固定至該安裝用平板21〇。每 個基板260 270通常疋由一塊不錢鋼（例如是不鎮

鋼）、哈思特鎳合金，或是其他適用於所欲輸送之流體的 材料所製成。每-個基板26G、27G均具有—個形成於該基 板内的溝槽269、279 (在圖22和目23中可以清楚看到） ，用以接收歧管部位22〇、225、230、235、240、255和 265 (在圖21和_22中可以清楚看到）。每—個歧管部位 220、225、230、235、240、255 和 265 亦通常是由一長條 塊不銹鋼或其他適宜材料所製成，並且是連結在一起而組

成一共用歧官2110、2120和2130。舉例而言，當歧管部 位220、225、230、235、240、255和265是由不銹鋼所製 成時，該歧管部位是可以採用傳統之方式而抵住焊接在一 起’用以組成該共用歧管211〇、2120和2130。 在如圖14所說明之實施例中，每一個氣桿a—f的二 元件基板270會接收一個被用來有選擇性地提供一淨化氣 體（經由導管285和來自淨化氣體2〇1的基板嵌入物435八 來提供）至個別不同氣桿之流道中的歧管部位（例如是在 氣桿A中之歧官部位220 )。每一個一元件基板260亦會 接收一個歧管部位（例如是在氣桿A中之歧管部位235 ) ，如圖14之所示，此歧管部位是被用來提供一個針對每一 26 200419630 個氣桿A —E是共用的共用出口，而且此共用出口是可以被 連結至一處理工具或是被連結至氣體處理系統之另一部位 。在所說明之實施例中，處理氣體或氣體或是淨化氣體是 經由一個與共用歧管2120相連通之左手基板嵌入物420而 被提供至一混合用入口基板410，接著，經由另外一個嵌 入物435B而到達一混合用出口基板415，最後流到一出口 202。 其他種類的處理氣體是經由在氣桿G—L中之入口 203 而被接收，並且是經由一個一元件定位基板4〇5 (未包括 有一溝槽）而流到另外一個與共用歧管2130相連通的一元 件定位基板260。在氣桿G—L之該一元件定位基板4〇5被 描述成一般是被用來接收毋須混入至淨化氣體中的惰性、 不具毒性和/或無法產生反應之處理氣體。如圖之所示， 來自一個或是更多個氣桿G—L之處理氣體是經由一個右手 基板嵌入物425而被提供至混合用入口基板41〇，接著， 經由另外一個後入物435C而到達混合用出口基板415，最 後流到氣體出口 202。 〜和叫 軋媸八口 203而 被連結至-個處理氣體供應來源’在所說明之實施例中， 上述之氣體入π 203是具有—螺紋搞合件。對於氣桿A—F 而言，處理氣體會流入一個入口 271 (例如是可以來考圖 2^) ’並且是流經-個位於基板27()中之内部流 到達-個形成於基請之頂端表面中的出口奶一個 -通閥或疋其他流體處理元件（圖式中未表示出來）是 27 200419630 被安置於出口 272之上方和-個亦形成於基板27。之頂端 表面中的入口 273之上方’並且連同基板2讪#同組成一 個密封件。—個金屬塾圈或是其他種_㈣㈣件（s 式中未表不出來）通常是被用來沿著通口 m、⑺連同在 基板270之頂端表面中的其他通口之周圍提供一防漏密封 件。在圖1所描述之實施例中’每一個形成於基板27〇之 頂端表面中的通口（連同形成於歧管部位中之通口）均包 括有-個被用來接收-環狀c形密封件的埋頭孔。另外__ 方面，例如是在美國專利第5，議，5Q7冑和美國專利第 6, 142’ 539號中所描述之其他種類的環狀密封件是可以被 使用於在基板與歧管部位中之適宜配置通口。在所描述之 貫轭例中，雙通口閥是能夠有選擇性地容許處理氣體繼續 沿者氣桿A — F流動。 從入口 273開始，處理氣體接著是流經一個形成於基 板270之主體中的v形溝槽（參考圖23)，流到一個亦形 成於基板270之頂端表面中的出口 274。基板27〇包括有 一個被用來接收一部份共用歧管211〇的溝槽279。在圖14 所說明之實施例中，舉例而言，氣桿A的基板270會接收 一個一定位歧管部位220，此一定位歧管220本身則是具 有一個形成於該歧管部位220之頂端表面中的單一通口 222 (參考圖21 )，以及具有一組形成於該歧管部位220 之與頂端表面保持垂直之相對表面中的通口 221、223。形 成於歧管部位220之橫向表面中的該通口 221、223是與導 管285和另外一個歧管部位（例如是如圖14和圖23所示 28 200419630 之歧管部位240 )相連通，用以連結在一起來組成—部份 共用歧管2110。位於基板270中的溝槽279是被用來定2 該歧管部位220,使得形成於該歧管部位22〇之頂端表面 中的通口 222能夠在基板27。之頂端表面的共用平面二對 準出口 274’以及亦能夠對準一個位於基板27〇之溝槽279 另一側邊上的入口 276。 相較於上述之二元件定位基板70，其中例如是閱門或 過濾、器之氣體處理元件或裝置的安裝方式是被用來將通口 固定對準於-共用平面上，該二元件定位基板27g則是使 用-㈣皮配置於溝# 279之二側邊處的鎖附件.2〇5，用以 將歧管部位牢牢地安裝至基板之溝槽279内。每一個鎖附 件205是被接收於-個形成在如圖23所示之溝槽側壁中的 安裝用凹a 29G内。此安裝用凹σ 29〇 —般是往外弯曲的 弧形，其末端是一個内螺孔291，而且還包括有一個架子 或邊緣292。此安裝用凹σ 29〇的邊緣2犯是被用來作為 鎖附件2G5 (其結構是與如圖26所示之鎖附件3ι 5相類似 )之頭部底端邊緣的止動件。每一個歧管部位22〇、2託、 230 240、255和265均包括有一個配合凹口 295 (參考圖 21和圖22)，使得當該鎖附件2〇5被插入之後，鎖附件 2〇5之頭部底端邊緣會施加作用力而將歧管部位緊密地抵 住基板270之溝槽279的底端。一般而言，每一個安裝用 凹口 290是會伸展超過18〇度，在歧管部位中之配合凹口 295則是會伸展不超過18〇度。當以上二凹口對準時，該 凹口 290 295會共同组成—個大致上是完整的圓形。鎖 29 附件205之最頂端部位和邊 π 冰y田 緣292之深度的尺寸大小能夠 使传該鎖附件205之最頂端邻仞又μ 97π 取貝鳊邛位不致於往外突出超過基板 270之頂端表面，而且不致 於干涉到岔封件。一般而言， 一組被安置於溝槽？7Q夕h /丨_ i 對側邊表面上的鎖附件205是 足以施加作用力而將歧管部位 & 1饥冢在地女置於基板270之溝 槽279内。

在所說明之實施例中，—個三通口閥（圖式中未表六 “）通吊疋破安置於在基板270中之通口 274、276的』 方，以及在歧管部位220之頂端表面中的通口 222之上力 ’並且是藉由若干個鎖附件（圖式中未表示出來）而㈣ 附至基板270。該若干個鎖附件是被接收於在基板27〇之 頂端表面處的内孔中，該頂端表面在基板270中之溝補 ⑽的每-個側邊上包括有至少―個内孔，而且以是包^ 有二個内孔為較適宜。被接收於溝槽279之每一個側邊上 的鎖附件會連同一個墊圈（圖式中未表示出來）或是直他 密封用構件，共同組成一個介於位在基板26〇中之通口 274、276和在歧管部位22〇頂端表面中之通口 222中間的 防漏密封件。上述之三通口閥容許由共用歧管2ιι〇所輸送 之處理氣體或是其他氣體（例如是一淨化氣體）的其中之 一能夠被一 V形溝槽提供，此V形溝槽本身則是會將在基 板270中之入口 276連結至基板27〇中之一出口 278 考圖11)。在所說明之實施例中，—個質流控制器（圖式 中未表示出來）的入口是與基板27〇中之出口 278相連通 ，並且是藉由該質流控制器的出口之作用而能夠將處理氣 30 200419630 體或是其他氣體提供至該一元件定位基板26〇的一入口 261 (筝考圖23)。此質流控制器則是被連結於在每一個 氣桿A — E中的基板270與基板260之間。 對於氣桿G—L而言，於氣體入口 2〇3所接收的處理氣 體會流入一個一元件定位基板4〇5之入口 4〇6 (參考圖Μ )，並且是流經一個位於基板405中之内部流體通道而到 達一個形成於基板405之頂端表面中的出口 4〇7。一個雙 通口閥或是其他流體處理元件（圖式中未表示出來）通常 疋被女置於出口 407之上方和一個亦形成於基板4〇5之頂 端表2中的入口 408之上方，並且連同基板4〇5共同叙成 -個密封件。—個金屬塾圈或是其他種類的密封用構件（ 圖式中未表示出來）可以被用來沿著通口 4〇7、4〇8連同在 基板405之頂端表面中的其他通口之周圍提供一個防漏密 封件。每一個形成於基板405之頂端表面中的通口 彻和409均包括有一個被用來接收—環狀c形密封件的 埋碩孔，但是其他種類的環狀密封件亦可以被替代使用。 此雙通口闕是能夠有選擇性地容許處理氣體繼續沿著氣桿 ^流動。上述之一元件定位基板伽是不包括有—個 槽_(:如是溝槽即’而且如同先前所提及之内容，此 ^體牛定位基板亦可以被用來接收毋須產生淨化作用的處 從在基板405中之入口 408 _，處 經一個形成於基板權之主體中6"形溝槽（來^者= ’流到—個亦形成於純傷之頂端表面中的出口柳。 31 200419630 對於每-個氣桿H— L而言，—個質流控制器（圖式中未表 示出來）的入口通常是與在基板405中之出口 4〇9相連通 二並且是藉由質流控制器的一個出口之作用而能夠將處理 軋體供應至一元件定位基板26〇的入口 261 (參考圖 。該質流控制器本身則會將在每一個氣桿G — 和基板26。連結在一起： 中之基板 士圖22和圖23之所示，一元件定位基板26〇包括有 形成於基260之頂端表面中的一個入口 261和一個出口

262,該入口與出π則是被—v形内部通道相連結。至少有 -個内孔，而且以是有二個内孔為較適宜，是形成於基板 260之頂端表面中，用以能夠將質流控制器的出口密封地 鎖附至基板260之入口 261。 基板260亦包括有一個被用來接收一部份共用歧 2120牙2130的溝槽269。在圖μ所說明之實施例中，

例而a，氣桿Α的基板26〇會接收一個二定位歧管部 235,此二定位歧管部位本身則是具有一組形成於該歧管 位235之頂端表面中的通口 237、239 (參考圖21 )，以 具有一個形成於與歧管部位235之頂端表面保持垂直之 面中的通σ 236。形成於歧管部位235之 口 236是盥另冰加丄μ 立 /、另外一個歧管部位（例如是如圖14所示之歧 a )相連通，該另外一個歧管部位本身則是藉由 部位之作用而與其他氣桿C-E的出口 262相連通 二板260中之溝槽269是被用來定位該歧管部位235 使付形成於頂端表面中的通口 237、—其中之一通口（ 32 200419630 如疋通口 237)能夠在基板260之頂端表面的共用平面中 對準基板260之出口 262。 相較於上述之一元件定位基板6〇，其中例如是閥門或 過濾器之氣體處理元件或裝置的安裝方式是被用來將通口 固定對準於一共用平面上，該一元件定位基板260則是使 用組被配置於溝槽269之二側邊處的鎖附件205，用以 將歧管部位牢牢地安裝至基板260之溝槽269内。關於此 點，該一元件定位基板26〇是類似於上述之二元件定位基 板270，其中每一個鎖附件2〇5是被接收於一個形成在如 圖23所示溝槽269之側壁中的安裝用凹口 29〇内。此安裝 用凹口 290的末端是一個内螺孔29卜而且還包括有一個 架子或邊緣292。此安裝用凹口 29〇的邊緣2犯是被用來 作為鎖附件205之頭部底端邊緣的止動件。每一個歧管部 位220 ' 225、230、240、255和265均包括有一個配合凹 口 295(參考圖21和圖22)，使得當該鎖附件2〇5被插入 之後，鎖附件205之頭部底端邊緣會施加作用力而將歧管 部位緊密地抵住基板26〇之溝槽269的底端。鎖附件2〇5 之最頂端部位和邊、緣292之深度的尺寸大小能夠使得該鎖 附件205之最頂端部位不致於往外突出超過基才反⑽之頂 端表面，而且不致於干涉到密封件。㈣該二㈣定位基 板270’ -組被安置於溝槽⑽之相對側邊表面上的鎖附 件205是足以施加作用力而將歧管部位緊密地安置於基板 260之溝槽269内。 在所說明之實施例中 一個二通口閥（圖式中未表示 200419630 出來）是被安置於在基板260中之通口 262的上方，以及 在歧管部位（例如是歧管部位235 )之頂端表面中的通口 · (例如是通口 239 )之上方，並且是藉由若干個鎖附件（ 圖式中未表示出來）而被鎖附至基板260。該若干個鎖附 件是被接收於在基板260之頂端表面處的内孔中，該頂端 表面在基板260中之溝槽269的每一個側邊上包括有至少 一個内孔，而且以是包括有二個内孔為較適宜。被接收於 溝槽269之每一個側邊上的鎖附件會連同一個墊圈（圖式 中未表示出來）或是其他密封用構件，共同組成一個介於 _ 位在基板260中之通口 262和在歧管部位頂端表面中之通 口中間的防漏密封件。上述之二通口閥容許處理氣體或是 其他氣體（例如是一淨化氣體）的其中之一能夠被提供至 共用歧管2120,而且是從該共用歧管流到系統的另一部位 〇 氣桿F和G是具有一些在氣桿A_E和氣桿H—L中所 常用的特定元件，但是其中亦說明其他元件是如何被使用 ’用以產生一種能夠容納許多不同配置方式的流體分配系、· 統。舉例而言，氣桿F包括有一個二元件定位基板27(/、' 一個元件定位T槽基板430,以及一個左手基板欲入物42〇 。二元件定位基板270會於-氣體入口 271處接收來自處 理氣體供應來源的處理氣體，並且是經由一内部流體通道 而將該處理氣體提供至一個形成於基板27〇之頂端表面中 的出口 272。一個雙通口閥或是其他流體處理元件（圖式 中未表示出來）是被安置於出口 272之上方和一個亦形成 34 200419630 於基板270之頂總矣；a 招27“n 的入口 273之上方，並且連同基 板27。八同組成一個密封件。從入口 m開始，處理氣體 :著是流經-個形成於基板27。之主體中*"形溝槽：來 考圖23)，流到—個亦形成於基板27()之頂端表面中的出 口 274。基板27G包括有—個被用來接收—部份共用歧管 ⑴。的溝槽279。在圖14所說明之實施财，舉例而古， 氣桿F的基板270會接收一個二定位歧管部位挪，此二 定位歧管部位本身則是具有一組形成於頂端表面中的通口 23?、239 (參考圖21)，以及具有—個形成於與歧管部位 235之頂端表面保持垂直之表面中的單通〇咖。在基板 270中之溝槽279是被用來定位該歧管部位挪，使得形成 於頂端表面中的通口 237能夠在基板27〇之頂端表面的共 用平面中對準出口 274,以及對準在基板27Q 4溝槽279 之其他側邊處的入口 276。 -個三通口閥（圖式中未表示出來）通常是被安置於 在基板270中之通口 274、276的上方，以及在歧管部位 235之項端表面中的通σ m之上方，並且是藉由若干個 鎖附件（圖式中未表示出來）而被鎖附至基板27〇。被接 收於溝槽279之每一個側邊上的鎖附件會連同一個墊圈（ 圖式中未表示出來）或是其他密封用構件，共同組成一個 介於位在基板中之通口 274、276和在歧管部位235之頂端 表面中之通口 237中間的防漏密封件。上述之三通口閥容 迕處理氣體或是其他氣體（例如是一淨化氣體）的其中之 一能夠被- V形溝槽提供’此V形溝槽本身則是會將在基 35 200419630 板270中之入口 276連結至基板27〇之一出口 278 (參考 圖23)。一個質流控制器（圖式中未表示出來）的入口是 與基板270中之出口 278相連通，並且是藉由該質流控制 器的出口之作用而能夠將處理氣體或是其他氣體提供至該 一元件定位T槽基板430的一入口 431 (參考圖23)。此 質流控制器則是被連結於在氣桿F中之基板270與τ槽基 板430之間。 並非是如在每一個氣桿Α_Ε和氣桿H_L中一般是採 用一個一元件定位基板260，氣桿F係使用一個被用來接鲁 收一左手基板嵌入物420和右手基板嵌入物425的一元件 疋位T槽基板430 (參考圖24)。此T槽基板430包括有 形成於該T槽基板430之頂端表面中的一個入口 431和一 個出口 432及一個溝槽269，該T槽基板430的構造是與 一元件定位基板260的構造相類似。然而，此τ槽基板 430亦包括有一個形成於基板43〇之頂端表面中的額外溝 槽283’用以容許左手基板嵌入物42〇或是右手基板嵌入 物425能夠被接收於該τ槽基板中。 _ 每一個左手基板嵌入物420和右手基板嵌入物425均 包括有一組形成於該基板嵌入物之頂端表面中的通口（422 、423和427、428 )，以上這些通口則是被連結至一個v 形溝槽。母一個左手基板後入物4 2 0和右手基板欲入物 425 (參考圖24 )亦包括有一個形成於與頂端表面保持垂 直之基板嵌入物表面中的通口 421、426。此通口 421、426 疋與該V形溝槽相連通，於是，能夠被連通至每一個通口 36 200419630 422、423和427、428，以及該通口 421、426是可以被用 來連結至一個與共用歧管2120或2130相連通的歧管部位 (例如是如圖14所示之歧管部位240 )。在圖14所說明 之實施例中，一個二通口閥（圖式中未表示出來）可以被 安置於在基板430中之通口 432的上方，以及基板嵌入物 420、425之通口 422、427的上方，用以有選擇性地將來 自一個或更多個氣桿A — F和G — L的一種或是更多種處理 氣體或淨化氣體提供至基板欲入物420、425之通口 423、 428，而且處理氣體是從這些通口 423、428開始，流到混 合用入口基板410。一般而言，一個三通口閥是被安置於 基板欲入物420、425之通口 423和428的上方，用以經由 嵌入物435B和435C而能夠提供處理氣體至該混合用入口 基板41 0或是混合用出口基板415。 圖21和圖22說明若干個歧管部位220、225、230、 235、240、255和265可以被用來組成一個依照本項發明 之實施例的氣板。這些歧管部位220、225、230、、 240 ' 255和265是與以上參考圖9所描述之歧管部位相類 似，其中每一個歧管部位均包括有一個由長條塊不錢鋼或 其他適宜材料所製成之歧管體’以及每一個歧管部位均包 括有至少一個形成於該歧管體之頂端表面中的通口。此外 ，每一個歧管部位均包括有至少一個形成於與被連結至另 一歧管部位之頂端表面保持垂直之表面中的通口。歧管邙

位 220、225、230、235、240、255 和 265 大致上是與以 L 參考圖9戶斤㈣之歧管部位相类員似差異之處將於下文 37 200419630 中詳加描述。 如圖21和圖22之所示，每一個歧管部位22〇、225、 23〇/ 235、240、255和265是包括有至少一個凹口，而且 以疋包括有一組凹口 295為較適宜，這些凹口本身則是形 成於歧管部位的橫向側邊表面上和彼此相隔一段距離。每 一個凹口的形狀是向外彎曲和組成小於半圓形的形狀（亦 即是伸展角度小力180幻。對於每一個形成於歧管體之 頂端表面中的通口來說，該組凹〇 295是形成於歧管體之 每一個側邊表面上，其中該組凹口的每一個凹口以是從通 口算起具有相等的距離為較適宜。由於歧管體為對稱的形 狀（例如是歧管部位22〇、24〇#)，值得讚許之處是更少 、.且的凹口可以被提供，舉例而言，有一組凹口是被安置於 該歧管體的每一個相對側邊表面上。每一個凹口 295的末 端：是一個邊緣296。如圖18和圖20之所示，每一個凹 口疋被製作成用來接收一個鎖附件2〇5，此鎖附件2⑽本 身則是會將該歧管部位牢牢地固定於基板26〇、27〇的溝槽 269 279内。凹口 295的邊緣296是被用來作為鎖附件 2〇5 (其結構是與如圖26所示之鎖附件315相類似）之頭 部底端邊緣的止動件，以及當該鎖詩205被插入之後， 鎖附件205之頭部底端邊緣會施加作用力而將歧管緊密地 抵住基板2 6 0、2 7 0夕、、#祕9 7 η α ^ 之溝杉269、279的底端。鎖附件2〇5 、最頁而ρ位和凹σ 295之深度的尺寸大小能夠使得該鎖 附件2〇5的最頂端部位不致於往外突出超過基板260、270 之頂端表面’而且不致於干涉到密封件。-般而言，一組 38 200419630 被安置於歧管部位之相對側邊表面上和通口之相對側邊上 的鎖附件205是足以施加作用力而將歧管部位緊密地安置 於基板260、270的溝槽269、279内。如同以上所描述之 内容，每一個基板260、270均包括有一個配合安裝用凹口 290，使得當該歧管部位對準溝槽269、279之底座時，凹 口 290、295能夠共同組成一個大致上是完整的圓形。 值得熱知本項技術之人士讚許之處為··以上所描述之 鎖附件205是被用來防止於基板通口、歧管部位通口與流 體處理裝置之間產生洩漏，上述之流體處理裝置本身則是 ，上方而被連結至以上這些通口。藉由施加作用力而將歧 笞P位牛牛地抵住在基板26〇、270中之溝槽269、279的 底部，該歧管部位是被用來界定與個別不同基板26〇、27〇 之對準狀況。當該歧管部位未被牢牢地鎖附於基板26〇、 打〇的溝槽269、279内時，歧管部位很可能會因為在溝槽 2之歧管部位的垂直運動（歧管部位的厚度基本上小於溝 g罙度），而叉到嚴重的撞擊或是振動，進而壓縮到墊圈 、（忒墊圈本身則是一個通常被安置於流體處理裝置與基板 通口、歧管部位通口之間的可變形金屬密封件），接著， —旦上述之撞擊或是振動作用力被移除之後，該墊圈則會 產生洩漏。 曰 另外—項介於歧管部位220、225、23〇、235、24〇、 卢# 265與以上參考圖9所描述之歧管部位之間的相異 ^為：有對準孔洞282 *現在該歧管部位之下側表面4 圖22之所示’每一個歧管部位均可以包括有一個或是更多 39 200419630 個對準孔、洞282,㈣準孔洞本身則是被製作成能夠接合 形成於基板260、270之溝槽269、279之底座中的配合對 準銷28卜此對準銷281是由能夠被壓配至鑽入溝槽269、 279之底座中之適宜小孔内的定位銷所製成。藉由使用在 壓配接合狀況下之定位銷，機械加工的成本是能夠被降低 ，而且所購買到的定位銷具有精確尺寸。 每一個歧官部位以是包括有二個被配置於歧管部位之 底部表面中央處的對準孔，洞282 $較適宜，此歧管部位本 身則是位於形成在該歧管部位之頂端表面中的每一個通口 之一側邊處。在所說明之實施例中，以上這些對準孔洞 282通常是會對準在歧管部位之側邊表面中的凹口 。值 得讚許之處是以對準銷281取代具有形成於該歧管部位之 底部表面中的對準孔洞282被提供，連同該對準孔洞282 被提供於基板260、270之溝槽269、279的底座中。另外 ，亦值得讚許之處是對準銷281和對準孔洞282的形成可 以是無關，其中對準銷281的長度小於對準孔㈤⑽的深 度，使得歧管部位的底部表面能夠被對準溝槽之底座。 雖然一些不同的歧管部位22〇、225、23〇、235、24() 、255和265已在此被加以描述，但是值得讚許之處是本 項發明不限於是所描述之實施例。舉例而f，具有不同數 I成於歧f體頂端表面上之通口的歧管部位是可以被使 用’連同僅有-個位於歧管體之橫向表面中的單一通口， 或是連同二個形成於歧管體之相對橫向表面中的通口。另 外，值得讚許之處是；雖然形成於歧管部位之頂端表面中 200419630 的通口疋被描述成是包括有一個被用來接收一環狀C形密 封件的埋頭孔’但是其他不同的通口配置方式亦可以被替 代使用’使得標準型流體處理元件能夠被一併採用。此外 ’形成於歧營之^了苜ψ -y. t ^ ^ l面中的所有通口毋須具有相同種類 之山封件配置方式，其中_種密封件是可以被使用於一個 ^ 另外種始、封件則是可以被使用於另外一個通口。

如圖23和圖24之所示，在基板260、270、405、41 420 425、430之頂端表面中的通口之其中至少有一你 ^疋可以包括有一個形成於該基板之頂端表面中的洩頌 通口、95。一般而言，一個洩漏通口的是被提供於每一麵 與-流體兀件相連通的通口之間。此外，雖然每一個基相 260 27G被“述成是具有_個形成於其中的單—溝槽π 、279 ’但疋多重溝槽亦可以被替代使用，使得不同種類^ 流體能夠被導入至每一個；g J：曰Α τ , 王母個瑕^干A— L，或是另外一方面，初 導入至一個或更多個氧垣。+ μ ^ U巩彳干此外，值得讚許之處是：雖聚

-項在每一個氣桿A_L中採用一個二通口閥、一個三通。 閥’以及-個質流控制器的特定配置方式已被描述，但邊 本項發明並未因此而受到限舍| 又巧限制。於是，依照本項發明之户 谷’超過-—個以上的元彳丰么介7、，、丄 仵σ亦可以被提供於一個單一基相 上。舉例而言，基板260、270 J从包括有一個或是更多布 被用來接收一過濾器、一壓力鏟 1刀轉換态或一壓力調節器，或 是經常被提供之其他不同流體虛- u Μ聪處理兀件的額外元件台。必丨 外，在每一個氣桿中，被安梦 傲女辰至母一個基板的流體元件幸 須相同，無數的不同元件紐人介7 ' TL忏、、且σ亦可以方便被採用。 41 200419630 依照本項發明之另外一項觀點，並非直接將基板安裝 至一底座上，如圖14到圖28所示之實施例係使用一個浮 動安裝件，用以將基板和其他元件彈性地安裝至安裝用平 板，該安裝用平板本身則是被連結一個底座。此浮動安裝 件容許在三個直角方向上產生有限的位移，使得基板、歧 管部位，以及流體分配系統之其他部位能夠容易被相互連 結’而毋須特別精確地對準在安裝用平板中之孔洞。上述 之浮動安裝件亦可以採用加熱方式而從安裝用平板和底座 處取出元件，於是，容許該元件能夠以傳統之方式而被有 效率地加熱或冷卻。此外，該浮動安裝件亦能夠提供拉剪 強度來使得流體分配系統較不會受到撞擊和振動的影響。 在此所描述之本項發明的觀點主要是參考圖14、圖18、圖 2〇、圖23、圖24、圖25、圖26、圖27和圖28。 如圖23和圖24之所示，每-個不同的基板26〇、27〇 4〇5 410、415和430均可以包括有若干個被用來以彈 性之方式而將基板安裝至該安裝用平板21〇的安裝用小孔 或是安裝用孔洞263。每一個以上這些安裝用小孔⑽則 ^接，_個具螺紋鎖附# 315(例如是一六角螺栓）。每 個女4用小263還具有-個被製作成用來接收鎖附件 315之頭部底端或是下側邊緣的凹陷邊緣Μ。而且隨著鎖 附件被接合至該浮動安裝件期β，此凹陷邊緣316則會 迫使基板朝向安裝用平板21()(參考圖⑻。如圖Μ之所 亥凹邊'緣316的深度使得當鎖附彳315與該浮動安 、3〇0相接合時’鎖附件的最頂端部位能夠低於基板之 42 2UU419630 頁而表面。如圖25之所示，安裝用平板的邊緣是彎曲形狀 y吏得安中有流體分配元件#安裝i丨中的區域 月b夠彳欠與该安裝用平板相連結之底座處被升高。 具螺紋鎖附件315是被接收於一個如圖26和圖27所 勹之浮動安裝件300内。如圖之所示，此浮動安裝件3〇〇 包括有一個上側壓力環351、一個下側壓力環354、上側彈 性構件352、下側彈性構件353,以及一個具螺紋鎖附件 355。此上側壓力環351的形狀通常是圓形，而且具有一個 ;柄身之相對側邊上帶有平坦面的圓柱形柄。位於圓 ^形柄356之二側邊上的平坦面會接合有一配合孔洞299 形成於其中之安裝用平板210的壁面（參考圖28)。一個 ^伸穿過上側壓力環351和圓柱形柄356之中央的内螺紋 T通孔358會接收鎖附件315之具螺紋部位。此上側壓力 衣351亦包括有一個形成於其底部中的環狀凹槽％1，用 、接收個圓環狀上側彈性構件352。此圓環狀上側彈性 構件352通常是由例如是橡膠、m〇n、合成橡膠，或

Buna-N之彈性材料所製成，而^可以是—個傳統式〇形環 〇 上述之下側壓力環的形狀通常亦是圓形，而且還 =括有個位於此下側壓力環354之頂端表面中的環狀凹 此裒狀凹槽3 5 7是被用來接收一個圓環狀下側彈 座構件353。此下側麼力環354 φ包括有一個具螺紋鎖附 件355之外螺紋末端能夠穿過其中的穿通孔362，而且還 包括有-個容許上側壓力環351之圓柱_ 356能夠被接 43 200419630 收於該下側壓力環354内的軸向間隙孔洞36〇。上述之上 側壓力環351和下側壓力環354是可以從金屬塊中被機械 加工製作出來，或是另外一方面，由粉末金屬形成方法所 製成的壓力環亦可以被使用。 在使用中，上側彈性構件352是被定位於在上側壓力 環351與安裝用平板210之間的上側壓力環351之環狀凹 槽361内，而且下側彈性構件353是被定位於在下側壓力 裱354與安裝用平板210之間的下側壓力環354之環狀凹 槽357内。外螺紋鎖附件355是被接收於上側壓力環351 的内螺紋柄356内，並且是會被鎖緊而將上側壓力環與下 側壓力環拉動在一起。由於在圓柱形柄356之相對側邊上 的平坦面會接合位於安裝用平板21〇中之孔洞299的平坦 側壁，當具螺紋鎖附件355被鎖緊時，浮動安裝件3〇〇則 無法產生旋轉。一個基板或是其他元件是被安置於該上側 壓力環351的上方，而且具螺紋鎖附件315則是從上方被 鎖緊。當具螺紋鎖附件355被鎖緊時，在圓柱形柄356中 的平坦面則能夠再一次防止該浮動安裝件產生旋轉。上側 壓力環351之圓柱形柄356和具螺紋鎖附件315、355的尺 寸大小能夠使得當具螺紋鎖附件被完全鎖緊時，該具螺紋 鎖附件315、355的末端彼此之間是無法接觸到。 熟知本項技術之人士所讚許之處是：浮動安裝件3〇〇 能夠提供若干項超過現有安裝技術的優點，其中流體元件 和其他構造是直接被安裝至一底座。舉例而言，上側彈性 構件352、下側彈性構件353是被作動去吸收撞擊與振動 44 ♦而且容許在三個直角方向（亦即是在如圖"所示之平面 Π >1 : -右側和垂直方向）上產生些許位移。於是，相 =件和其他構造是直接被安裝至該安裝用平板， 上女衣用平板中所形成之安裝用孔洞挪的精確度要求則 較低。然而，由於元择其^ θ 、件基板疋使用具螺紋鎖附件而被連結 :該浮動安裝# 300,並且浮動安裝件本身是以具螺紋連 -方式而形成’此種安裝方式大致上是具有拉剪強度。 上側彈性構件352和下側彈性構件353亦被用來從安

裝用平板叫中隔離出_。因此，每—㈣件基板26〇 70 4G5 41G、415和430均可以包括有孔洞聊（參 考圖23和圖24 )，用以為了特定應用之需求而來接收加 熱用元件或是冷卻Η件。由於元件基板是與安裝用平板 和底座相隔離’被施加至該基板上的加熱作用或是冷卻作 用則無法立即被傳導至該安裝用平板和底座，此底座本身 則是一個大型的熱量排放點。 雖然該浮動安裝件已被描述成是連同元件基板26〇、 270 405 410、415和430 —起被使用，但是此浮動安裝 件亦可以連同被連結至該安裝用平板之其他構造一起被使 用。舉例而言，圖14和圖20說明一個支架31〇，此支架 是被用來支撐住一個用於提供處理氣體的導管，並且是被 用來以具彈性之方式而將導管安裝至該安裝用平板21〇。 一個具螺紋鎖附件305(參考圖26)是可以經由一個在支 木310之底座中的孔洞而被插入至該浮動安裝件3 q q内。 般而a ’當需要轴向餘裕度、振動阻尼作用或是隔熱作 45 200419630 用時’ &用一個具螺紋鎖附件而能夠被連結至流體分配系 、統之底座上的任何元件或是構造是可以連同該浮動安裝件 300 —起被使用。 以上内容已描述出本項發明之至少一項實施例的若干 頁觀J值得讚+之處是：熟知本項技術之人士是可以做 不同的變更、修正和改進。舉例而言，在基板7〇、27〇和 405中的入口 71、271和4〇6被描述成是被配置於基板之 月;]方棱向表面中（參考圖10、圖11和圖23 )，但是另外 方面’這些入口 71、271和406亦可以被配置於左側橫 向表面或是右側橫向表面中，用以組成一個流到一處理流 體來源的直角連結方式，而非一種直接的連結方式。以上 的、交更、修正和改進為在此所揭示之内容的一部份，而且 疋在本項發明之精神與範疇内。因此，先前所描述之内容 與圖式僅是作為應用實例。 【圖式簡單說明】 (一）圖式部分 隨附之圖式不是依照比例而晝出。在這些圖式中，於 不同圖式中所說明之每一個相同或是近似相同元件是以類 似的元件符號來表示。為了簡化之目的，在每一個圖式中 並非是每一個元件均會被標示出來。圖式中： 圖1為依照本項發明之一項實施例的流體分配格板之 平面視圖； 圖2為如圖1所示之流體分配格板的側視圖； 46 200419630 圖3為沿著在圖2中直線3 一 3所取之流體分配格板部 份的橫剖面視圖； 圖4為如圖1所示之流體分配格板於逆時針方向旋轉 90度以後的側視圖； 圖5為如圖1所示之流體分配格板於順時針方向旋轉 大約4 5度以後的立體視圖； 圖6為如圖丨所示之流體分配格板於順時針方向旋轉 大約13 5度以後的立體視圖； 圖7為在圖5中所說明之流體分配格板部份的放大立 體視圖， 圖8為在圖6中所說明之流體分配格板部份的放大立 體視圖； 圖9為能夠被用來組成如圖1所示之流體分配格板的 右干不同歧管和基板之立體視圖， 圖1 〇為依照本項發明之一項觀點的二元件定位基板之 放大立體視圖； 圖11為如圖1 〇所示之二元件定位基板的橫剖面視圖 圖12為依照本項發明之另外一項觀點的一元件定位基 板之放大立體視圖； 圖13為如圖12所示之一元件基板的橫剖面視圖； 圖14為依照本項發明之另外一項實施例的流體分配格 板之平面視圖； 圖15為如圖14所示之流體分配格板的側視圖； 47 200419630 圖16為如圖14所示之流體分配格板於逆時針方向旋 轉90度以後的側視圖； 圖17為如圖14所示之流體分配格板於逆時針方向旋 轉大約135度以後的立體視圖； 圖18為在圖17中所說明之流體分配格板部份的放大 立體視圖； 圖19為如圖14所示之流體分配格板於逆時針方向旋 轉大約45度以後的立體視圖； 圖20為在圖19中所說明之流體分配格板部份的放大 立體視圖； 圖21為能夠被用來組成如圖14所示之流體分配格板 的若干不同歧管之放大立體視圖； 圖2 2為能夠被用來組成如圖14所示之流體分配格板 的若干額外歧管和一元件定位基板之放大立體視圖； 圖23為依照本項發明之一項觀點的不同基板之放大立 體視圖； 圖24為能夠被用來組成如圖14所示之流體分配格板 的不同多重元件基板和基板嵌入物之放大立體視圖； 圖2 5為沿著在圖15中直線2 5 — 2 5所取之如圖14所 示的流體分配格板部份之橫剖面側視圖； 圖2 6為依照本項發明之另外一項觀點的浮動安裝用組 件之放大視圖’此浮動安裝用組件能夠被用來將流體分配 格板的不同元件安裝至一安裝用平板； 圖27為如圖26所示之浮動安裝用組件的不同方向立 48 200419630 體視圖；以及 圖28為位於一安裝用平板内之能夠被用來接收如圖 26所示之浮動安裝用組件的孔洞之平面視圖。 (二）主要元件符號說明 10.共用底座 20.歧管部位 21.通口 22·通口 23.通口 25.歧管部位 26.單一通口 30.歧管部位 31.通口 32·通口 33·通口 34·通口 35.歧管部位 36.通口/單一通口 37.通口 39.通口 40.歧管部位 41·通口 42_ 通口 43·通口 47·通口 49.通口 50.凸緣 51.頂端通口 52.側邊通口 60. —元件定位基板 61.入口 62.出口 65.小孔 67.對準銷 69.溝槽 70.二元件定位基板 71.入口 72.出口 73.入口 74·出口 75.小孔 76·入口

49 200419630 77.對準銷 78·出口 79.溝槽 80.溝槽 85.導管 90.氣體處理系統部位 95.泡漏通口 100.流體分配格板/氣板 110.共用歧管 120.共用歧管 200.氣體分配格板/氣板 201.淨化氣體入口 202.淨化氣體出口 203.氣體入口 205.鎖附件 210.安裝用平板 220.歧管部位 221·通口 222.單一通口 223·通口 225.歧管部位 230.歧管部位 235.歧管部位 236.歧管部位 237.通口 239.通口 240.歧管部位 255.歧管部位 260. —元件定位基板 261•入口 262.出口 263.安裝用小孔/安裝用孔洞 265.歧管部位 269.溝槽 270.二元件定位基板 271·入口 272·出口 273·入口 274·出口 276·入口 278·出口 279.溝槽 281.配合對準柱/配合對準銷 282.對準孔洞 283.溝槽 285.導管 50 200419630 290.安裝用凹口 292.架子/邊緣 296.邊緣 300.浮動安裝件 310.支架 316.凹陷邊緣 352.上側彈性構件 354.下側壓力環 356.圓柱形柄 358.内螺紋穿通孔 361.環狀凹槽 405. —元件定位基板 407.出口 409.出口 415.混合用出口基板 421·通口 423.通口 426.通口 428·通口 431·入口 435A.基板欲入物 435C基板嵌入物 2110.第一共用歧管 291.内螺孔 295.配合凹口 299.安裝用孔洞/配合孔洞 305.具螺紋鎖附件 315.鎖附件 351.上側壓力環 353.下側彈性構件 355.具螺紋鎖附件 φ 357.環狀凹槽 360.軸向間隙孔洞 362.穿通孔 406.入口 棚·入口 410.混合用入口基板 420.左手基板欲入物 422.通口 · 425.右手基板嵌入物 427·通口 430.—元件定位T槽基板 432.出口 435B基板散入物 500.孔洞 2120第二共用歧管 51 200419630 2130第三共用歧管 A.氣桿 B.氣桿 α氣桿 D.氣桿 Ε.氣桿 F.氣桿 G.氣桿 H.氣桿 I.氣桿 J.氣桿 L氣桿 L.氣桿

52

Claims (1)

1. 200419630 拾、申請專利範圍： 1.種用於作動流體之分配的系統，其中包含有： 一個具有一基板體的基板，該基板體本身則是包括有 形成於一第一表面中之一第一基板通口與一第二基板通口 ，和包括有一沿著第一方向延伸與用於將第一基板通口流 體式地連通至第二基板通口之第一流體通道；以及

   個具有一歧管體的歧管，該歧管體本身則是包括有 -形成於一第一表面中之第一歧管通口、一形成於與第一 表$保持垂直之第二表面中的第二歧管通口，以及一用於 將弟-歧管通口流體式地連通至第二歧管通口的流體通道 其中石亥基板更還包括有一個形成於沿著第二方向延伸 之基板體第一表面中的溝槽，該溝槽是被用來定位該歧管 ，使得基板體之第-表面與歧管體之第_表面能夠在一共 用平面中對準。 、2.如中請專利範圍第1項所述之系統，其中第-基板 口是被用來接收-個第—流體元件，而且第二基板通口 疋被用來接收個與該第一流體元件相隔一段距離的 流體元件。 3·如申請專利_第2項所述之系統，其中第一基板 :口和第二基板通口是被配置於溝槽的第一側邊上，而且 其中該基板體更還包括右甚不你^ ^ 匕栝有右干個形成於基板體之第一表面 中的安裝用小孔，該若干個安弊 卞個女凌用小孔包括有至少一個被 配置於溝槽之第一側邊上第一 7罘文裝用小孔，以及包括有 53 200419630 至少一個被配置於溝槽之第二侧邊上的第二安裝用小孔， 該若干個安裝用小孔則是被配置用來將第二流體元件與第 二基板通口和第一歧管通口安裝成密封式之配置方式。 4.如申請專利範圍第丨項所述之系統，其中第一基板 通口和第二基板通口是被配置於溝槽的第一側邊上，該基 板體更還包括有： 形成於基板體之第一表面中和被配置於溝槽之第二側 邊上的一個第三基板通口與一個第四基板通口；以及

   一個沿著第一方向延伸與用於將第三基板通口流體式 地連通至第四基板通口的第二流體通道。

   ，如申請專利範圍第4項所述之系統，其中該基板责 更运包括有若干㈣成於基板體之第—表面中的安裝用， 孔，該若干個安裝用小孔包括有至少—個被配置於溝槽^ 第一側邊上的第一安裝用小孔’以及包括有至少一個被g 置於溝槽之第二側邊上的第二安裝用小孔，該若干個安$ 用—小孔則是被配置用來將—個流體元件與第：基板通口 第三基板通口和第一歧管通口安裝成密封式之配置方式。 —6.如申請專利範圍第5項所述之系統，其中該若干4丨 女裝用小孔是不超過四個，該四個安裝用小孔本身則包^ 有二個被配置於溝槽之第一側邊上的安裝用小孔，以及: 個被配置於溝槽之第二側邊上的安裝用小孔。 :广申請專利範圍第5項所述之系統，其中輸“ ，、中_疋包括有用於將第-歧管通口對」 —基板通口及第二基板通口之機構。 54 200419630 8·如申請專利範圍第4項所述夕/ 糸統，其中第—其：^ 通口是被用來接收一個第一流體元 土 3、士田十上 而且弟二基板通口 疋被用來接收一個與該第一流體元一 流體元件。 才目隔-段距離的第二 9·如申請專利範圍第8項所述之έ ^ 、s Ρ 0m + 糸統，其中第三基相 通口疋被用來接收第二流體元件， 且苐四基板通口是相 用來接收一個與該第一流體元件和第― 流體元件相隔一爲 距離的弟三流體元件。

   1。·如申請專利範圍第9項所述之系統，其中該基板谱 更逛包括有若干個形成於基板體之第一表面中的安裝用 =，該若干個安裳用小孔包括有至少—個被配置於溝槽之 第-側邊上的第一安裝用小孔，以及包括有至少一個被酿 置於溝槽之第二側邊上的第二安㈣^、孔，該若干個安菜 用小孔則是被用來將第二流體元件與第二基板通口、第三 基板通口和第一歧管通口安裝成密封式之配置方式。

   11.如申請專利範圍第10項所述之系統，其中該若干 個安裝用小孔是不超過四個，該四個安裝用小孔本身則包 括有二個被配置於溝槽之第一側邊上的安裝用小孔，以及 二個被配置於溝槽之第二側邊上的安裝用小孔。 12·如申請專利範圍第ι〇項所述之系統，其中基板體 更還包括有： 形成於基板體之第一表面中和被配置於溝槽之第一側 邊上的一個第五基板通口； 被配置於溝槽之第一側邊上和形成於基板體之與第一 55 表面：持垂士，第二表面中的一個第六基板通口；以及 地連、甬個&者帛$向延伸與用於將第五基板通口流體式 也連通至第六基板通σ的第三流體通道。 :如申請專利範圍，12項所述之系統，其中第一流 :件包含有-個被流體式地連通至第一基板通口與第五 丞板通口的二通口閥。 1:如申請專利範圍第13項所述之系統，其中第二流 其Γ件包含有一個被流體式地連通至第二基板通口、第三 基板通口與第一歧管通口的三通口閥。 如申請專利範圍第14項所述之系統，其中該第二 向疋與該第一方向保持垂直。 16.如申請專利範圍第i項所述之系統，其中溝槽包括 办：對側壁和—個底座’而且其中溝槽的底座包括有一個 午固疋構件被插人穿過其中之小孔1以從溝槽中移出 歧管。

   且17.如申請專利範圍第16項所述之系統，其中小孔是 ”有螺、文而且β玄小孔是被用來接收一個具螺紋固定構件 ，用以從溝槽中移出歧管。 18.如申請專利範圍第i項所述之系統，其中基板是一 個第一基板，該系統更還包含有： 一個具有-第二基板體的第二基板，該第二基板體本 身則是：括有形成於第二基板體之第一表面中的第一基板 ^ _第一基板通口，以及包括有一個沿著第一方向延伸 而Η第一基板之第一基板通口和第二基板通口流體式地相 56 連通的第一流體通道； 其中第二基板更還包括一 伸之第二基板體之第—表成於沿著第二方向延 位該歧管，使得第二基板體之=冓槽，該溝槽是被用來定 面能夠在共用平面中對準。弟-表面與歧管體之第-表 Μ.如申請專利範圍第 括有一個## ^ + ~ 員所述之糸統，其中歧管包 頁個形成於歧管體之第一表而一 歧管體本身則是與歧管之产體、“中的弟三歧管通口，該 9n S之机體通道流體式地相連通。 美柘Φ申μ專利乾圍帛19項所述之系統，其中在第-基板中的溝槽是沿荖筐-士人 。 ^日疋〜者第—方向而對準在第二基板中的溝槽 公如申請專利範圍第2〇項所述之系統，其中： 二-基板的第一基板通口和第二基板通口是被配置於 隹弟一基板中之溝槽的第一側邊上； "該第一基板體更還包括有若干個形成於第一基板體之 =一表面中的安裝用小孔，該若干個安裝用小孔包括有至 夕一個被配置於在第-基板中之溝槽第—側邊上的第一安 波用小孔’以及包括有至少—個被配置於在第一基板中之 溝槽第二側邊上的第二安裝用小孔，該若干個安裝用小孔 則是被配置用來將第-流體元件與第一基板之第二基板通 口和第一歧管通口安裝成密封式之配置方式； 第二基板的第一基板通口和第二基板通口是被配置於 在第二基板中之溝槽的第一側邊上； 該第二基板體更還包括有若干個形成於第二基板體之 57 200419630 第一表面中的安裝用小孔，該若干個安裝用小孔包括有至 少一個被配置於在第二基板中之溝槽第一側邊上的第一安 裝用小孔，以及包括有至少一個被配置於在第二基板中之 溝槽弟一側邊上的弟二安裝用小孔，該若干個安裝用小孔 則是被配置用來將第二流體元件與第二基板之第二基板通 口和第三歧管通口安裝成密封式之配置方式。 2 2 ·如申请專利範圍第1項所述之系統，其中基板是一 個第一基板和歧管是一個第一歧管，該系統更還包含有： 一個具有一第二基板體的第二基板，該第二基板體本 t 身則是包括有形成於第二基板體之第一表面中的第一基板 通口和第二基板通口，以及包括有一個沿著第一方向延伸 而與第二基板之第一基板通口和第二基板通口流體式地相 連通的第一流體通道； 一個具有一第二歧管體的第二歧管，該歧管體本身則 是包括有一形成於第二歧管體之第一表面中的第一歧管通 口、一形成於與第二歧管體第一表面保持垂直之第二歧管 體第二表面中的第二歧管通口，以及一個與第二歧管之第_ -歧管通:和第二歧管通口流體式地相連通的流體通道； 其中第一基板更還包括有一個形成於沿著第二方向延 伸之第二基㈣之第-表面中的溝槽，該溝槽是被用來定 位.亥第一歧吕j吏知第二基板體之第一表面與第二歧管體 之第一表面能夠在共用平面中對準。 23·如申請專利範筮。。 固弟22項所述之系統，其中第一基 板的第一流體通道是沿英势 ., 疋，口者第一方向而對準第二基板的第一 58 200419630 流體通道。 24.如申請專利範圍第22項所述之系統，其中第一基 板的第基板通口和第二基板通口是被配置於在第一基板 中之溝槽的第一側邊上，該第一基板更還包括有： 形成於帛基板體之第一表自中和被配置於溝槽之第 二側邊上的叫固第三基板通口肖一個第四基板通口；以及 -個沿著第-方向延伸與用於將第一基板之第三基板 通口 體式地連通至第一基板之第四基板通口的第二流體 通道。 -----^丁、、取U ，六 τ 乐一 板的第二基板通口是被用來接收一個第一流體元件，而 第-基板的第四基板通口是被用來接收 元件相隔一段距離的第二流體元件。〃 4 - 申π專利範圍第25項所述之系統，其中第一 板體更還包括有若干個形成於第一基板體之第二表面令

   第厂安裝料孔’該若干㈣—安裝料孔包括有至少 個被配置於在第_美杯φ Μ 、 *中之溝槽弟-側邊上的第一安裝〕 以及包括有至少一個被配置 A ^ ^ ,§if.. L , 1 y在弟一基板中之溝;ί 弟一側邊上的第二安裝用 則是# w f m 4右干個第一安裝用小ί 口虚第-歧4㈣—基板之第二基板通口、第三基板超 二申Λ弟一歧管通口安裝成密封式之配置方式。 27·如申凊專利範圍第 個第一卑往田t 貝所述之系統，其中該若干 1弟女裝用小孔是不超過四個，兮, 則包括古， 固，違四個安裝用小孔本身 、】匕括有二個被配置於溝槽 罘側邊上的安裝用小孔， 59 200419630 以2一8: 皮：置於溝槽之第二側邊上的安裝用小孔。 •如申請專利範圍第26項所述之系統，其中: 基：體更還包括有若干個形成於第一基板體之第 -安裝用丨力1板中之溝槽第二側邊上的第 一女表用小孔，該若干個第二 植辕一冷m 女衣用小孔則是被配置用來 之配置方H及 細基板通口安裝成密封式 第二基板體更還包括右其I& y 土“ 有右干個形成於第二基板體之第 -表面中的第三安裝用小孔孜體之弟 是被配置用來將第一产體一: 弟二女裝用小孔則 术竹弟一机體兀件與第二基板之 安裝成密封式之配置方式。 土 、 一 29·如申請專利範圍第28項所述之系統，其中第一流 體元件包含有一個三通口閥， 有-個質流控制器。 ，、中第二流體元件包含 含^•如申請專利範圍第22項所述之系統，其進-步包 日個有第二基板體的第三基板，該第三基板體本 身則是包括有形成於第三基板 . 似股夂弟一表面中的第一 通口和第二基板通口，以及包括有m VL ^ ^ 而與第三基板之第一基板通口 f 連通的第-流體通道；#弟二基板通口流體式地相 其中第三基板更還包括有—個形成於沿著第二方向延 伸之第二基板體之第一表面中 ^ e 〕溝槽，戎溝槽是被用來定 位該第一歧管，使得第三基板體 用來疋 现版<弟一表面與第一歧管體 60 2UU4iybJU 之第-表面能夠在共用平面中對準。 含有'1’如申請專利範圍第3〇項所述之系統’其進一步包 身個具有一第四基板體的第四基板，該第四基板體本 疋包括有形成於第四基板體之第一表面中的第一基板 、口和第二基板通口， . VL # ^ 而與第四基板之第一其有方向延伸 連通的第一流體通:口和第二基板通口流體式地相 伸之篦中t四基板更還包括有一個形成於沿著第二方向延 四土板體之第一表面中的溝槽，該溝槽 位該第二歧營，蚀p^ 散用求疋 使侍第四基板體之第一表面與第二歧管 之弟一表面能夠在共用平面中對準。 ^體 32.如申請專利範圍帛31項所述之系統 向是與第一方向保持垂直。 、弟—方 33·如申請專利範圍第i項所述之系統，其 是與第一方向保持垂直。 向 34. 如申請專利範圍第丄項所述之系統，其中 督體的至少其中之-個是包括有用於將第一歧管通口曰^ 弟二基板通口之機構。 ^準 35. 如申請專利範圍第！項所述之系統，其中 有一組側壁和一個底座，JL中兮鈿 曰匕括 B 底厓”中5亥組側壁的其中之—個側辟 '包括有至少一個第一凹槽，而且其中歧管包括有至少： 個弟二凹槽，該系統更還包含有·· 乂 至少一個用於對準第一凹槽盥第— 一弟一凹槽的銷，使得第 61 200419630 一歧管通口能夠對準第二基板通口。 36.如申請專利範圍第35項所述之系統，其中當銷被 插入至第-凹槽與第二凹槽内時，至少有一個銷的長度是 不會延伸超過共用平面。 37·如申請專利範圍第丨項所述之系統，其中第一基板 通口和第二基板通口的盆中丨 I、甲之至乂個通口包括有用於偵 測是否得到一防漏密封件之機構·。 38·如申請專利範圍第！項所述之系統，其中溝槽包括 有-對侧壁和一個底座，其中該對組 個側壁是包括有至少-個延伸至底座内和具；一第二 :弟-凹口，而且其中歧管包括有至少一個第二凹口，該 第二凹口的末端處則是一個能夠配合至少一個第一凹口之 第二邊緣，該系統更還包含有·· 至少一個用於接合第一邊緣與第二邊緣的鎖附件。 二·如申請專利範圍第38項所述之系統，其中當鎖附 件與第一邊緣和第二邊緣相接合時’該鎖附件是不會延伸 超過共用平面。 後如申請專利範圍第！項所述之系統，其中歧管體和 溝槽的其中之—個是包括-對具有特定形狀之對準小孔， 而且歧管體和溝槽的其中之另外—個則是包括有—對組對 準柱，該對準㈣形狀是配合該對準小孔，個料同小孔 的深度是大於個別不同對準柱的高度。 41.如申請專利範圍帛4〇項所述之系統，其中該組對 準小孔和該組對準柱被製作與配置成使得當對準小孔接合 62 200419630 對準柱時，第一歧管通口能夠著 — 板通口。 D —方向而對準第二基 42·—種基板’其中包含有： 一個基板體； 形成於基板體之第一表面中的一 二通口； 划弟-通口和一個第 一個形成於基板體中與沿著第一 口流體式地連通至第二通口的第—流體二延伸而將第-通 -個形成於基板體之第—表面中的：槽 者與第一方向不同之第二方向而延 位-個具有-歧管體的歧管，該歧管 曰疋？用末疋 個形成於歧管體之第-表面中的相是包括有一 管體之第二表面中的第二通口二通：、一個形成於歧 〜通口流體式地連通至歧管之第個用於將歧管之第 ^ » 、口的流體通道，使得 土板體之第一表面與歧管體之第一 中對準。 表面此夠在一共用平面 43.如申請專利範圍第42項 苐一、s 斤 貝所述之基板，其中基板的 通口和弟二通口是被配置於溝槽之第一側邊上。 44·如申請專利範圍第43項 體包括右—工_ / 貝所述之基板，其中該基板 干=有右干個形成於基板體之第—表面中的小孔，該若 n、孔包括有至少—個被配置於_之第H的第 的第W及包括有至少-個被配置於溝槽之第二側邊上 將—小孔’至少一個第-小孔和第二小孔是被配置用來 、—個流體元件與基板之第二通口和歧管之第一通口安裝 63 200419630 成密封式之配置方式。 4 5 ·如申請專利蔚图势 圍弟44項所述之基板，其中至少一 個第一小孔和第二小孔 礼疋被配置用來將一個二通口閥與基 板之第二通口和歧f之第—通口安裝成密封式之配置方式。 46·如U利乾圍第43項所述之基板，其中基板更 运包含有： 形成於基板體之第一表面中和被配置於溝槽之第二側 邊上的-個第三通口與一個第四通口；以及 一 一個形成於基板體中與沿著第—方向延伸而用於將第 -通口流體式地連通至第四通口的第二流體通道。 47·如申凊專利範圍第46項所述之基板，其中該基板 …包括有f干個形成於基板體之第_表面中的[小孔， 、干個第小孔包括有至少一個被配置於溝槽之第一側 邊上的第一小孔，以及包括有至少一個被配置於溝槽之第 邊上的第一小孔，該若干個第一小孔是被配置用來將 一個流體元件與基板之繁一s σ — —、s 〆、土板之第一通口、弟二通口和歧管之第一 通口安裝成密封式之配置方式。 — 48.如申請專利範圍第47項所述之基板，其中該若干 個第—小孔是被配置用來將一個三通口閥與基板之第二通 口第二通口和歧管之第一通口安裝成密封式之配置方式 0 49·如申請專利範圍第47項所述之基板，其 還包含有： 側 形成於基板體之第一表面中和被配置於溝槽之第一 64 419630 邊上的一個第五通口； 被配置於溝槽之第一側邊上和形成於基板體之與第一 表面保持垂直之第二表面中的—個第六通口；以及 - 個沿著第一方向延伸與用於將第五通口流體式地連 通至第六通口的第三流體通道。 5〇·如申請專利範圍第49項所述之基板，其中流體元 件疋一個第一流體元件，而且其中該基板體更還包括有若 干個形成於基板之第一表面中和被配置於第一通口及第五 通口周圍的第二小孔，該若干個第二小孔是被配置用來將 _ 第二流體元件與基板之第一通口、第五通口安裝成密封式 之配置方式。 51·如申請專利範圍第5()項所述之基板，其中·· 該若干個第一小孔是被配置用來將一個三通口閥與基 板之第二通口、第三通口和歧管之第一通口安裝成密封式 之配置方式；以及 該若干個第二小孔是被配置用來將一個二通口閥與基 板之第一通口、第五通口安裝成密封之配置方式。 _ 52·如申請專利範圍第50項所述之基板，其中該基板 體更還包括有若干個形成於基板體之第一表面中和被配置 於弟四通口周圍的第三小孔，該若干個第三小孔是被配置 用來將第三流體元件安裝至第四通口。 53·如申請專利範圍第52項所述之基板，其中： 該若干個第一小孔是被配置用來將一個三通口閥與基 板之第二通口、第三通口和歧管之第一通口安裝成密封式 65 200419630 之配置方式； 以若干個第二小孔是被配置用來將一個二通口閥與基 板之第通口、第五通口安裝成密封式之配置方式；以及 "亥若干個第三小孔是被配置用來將質流控制器之入口 側邊和出口側邊的其中之一安裝至第四通口。 54.如申請專利範圍第42項所述之基板，其中溝槽包 括有用於將歧管之第―通口對準基板之第二通π、第三通 口的機構。 55·如申請專利範圍第42項所述之基板，其中第二方 向是與第一方向保持垂直。 56.如申請專利範圍第42項所述之基板，其中溝槽包 有-對側壁和_個底座，而且其中溝槽的底座包括有一 -固定構件插入至其中之小孔，用以從溝槽内移出 其中小孔是 ’用以從溝

   夏57·如申請專利範圍第56項所述之基板， 一有螺紋和被用來接收一個具螺紋之固定構件 槽内移出歧管。 Μ·如申請專利範圍第42項所述 ，有至少一個形成於歧管體之第一表面中的第一凹 口的末端處則是一個邊緣，#中溝槽包括有一對 °〜個底a，而且其中該對側壁中之至少一個側壁是 ，至^ 一個能夠延伸至底座内和具有第一邊緣的第一 ，垓第一側邊本身則是會配合至少一個第一凹口。 59.如申請專利範圍第42項所述之基板，其中溝 66 200419630 有個底座’該底座本身則是包括 至少其中之一 有對準柱和對準小孔的 • 種氣板’其中包含有： 則是包括有^個弟、道的第—氣桿，該第—流道本身 、一，有右干個形成於一共用平面中之第_通口； 則是包個第二流道的第二氣桿，肖第二流道本身 右干個形成於一共用平面中之第二通口；以及 具有形成於共用平面中之第-通口和第二通口的 :’㈣一通口是與第一氣桿之若干個第一通口的 1二：通口流體式地相連通’而且該第二通口是與第 之右干個第二通口的其中之一個通口流體式地相連 61. 如申請專利範圍第6〇項所述之氣板，其進一步包 δ有· 個具有形成於共用平面中之第—通口和第二通口的 弟-歧管，該第二歧管之第一通口是被流體式地連通至第 -乳才 干之若干個第一通口中與第一氣桿之一通口相隔有一 m 固通口’而且該第二歧管之第二通口是被流體 ^ 、通至第一氣桿之若干個第二通口中與第二氣桿之一 通口相隔有一段距離的二個通口。 62. 如申請專利範圍第61 •項所述之氣板，其中第二歧 官是被用來接收一個能夠被有選擇性地提供予第一流道或 第二流道的淨化氣體。 63·如申請專利範圍第6〇項所述之氣板，其中每一個 67 200419630 第一氣桿和第二氣桿均包括一個具有一用於接收第一歧管 之溝槽的第一基板，該溝槽是被用來分別將在共用平面中 之苐一歧管的第一通口和第二通口定位於第一氣桿和第二 氣桿之一個通口。 64·如申請專利範圍第63項所述之氣板，其中每一個 第一氣桿和第二氣桿均包括一個具有一用於接收第一歧管 之溝槽的第二基板，該溝槽是被用來分別將在共用平面中 之第二歧管的第一通口和第二通口定位於第一氣桿和第二 氣桿之二個通口。 65· —種被用來接收於一個具有一基板體之基板中的歧 管’該基板體本身則是包括有形成於基板體之第一表面中 的第一基板通口和第二基板通口，一個第一基板流體通道 ，其沿著第一方向延伸且流體式地連通第一基板通口和第 二基板通口，以及一個形成於沿著第二方向延伸之基板體 第一表面中的溝槽，該歧管包含有： 一個歧管體； 至少一個形成於歧管體之一第一表面中的第一歧管通 口 ； 一個形成於與歧管體之第一表面保持垂直之歧管體第 一表面中的第二歧管通口；以及 -個形成於歧管體中和沿著第二方向延伸而用於將至 少-第-歧管通口流體式地連通至第二歧管通口的歧管流 體通道； 其中歧管體的尺寸大小能夠被安 置於溝槽内 ，使得基 68 200419630 板體之第-表面與歧管體n面能 對準。 用十面中 /6·如申凊專利範圍帛65項所述之歧管， 一 個第一姑營诵σ勹紅士# Τ至少一 的第± 有右干個形成於歧管體之第-表面中 弟—歧管通口 ’每-個該若干個第-歧管通口是盥歧其 &體通道流體式地相連通。 〃支吕 含有6:7.如申凊專利範圍第66項所述之歧管，其進一步包 —個形成於歧管體之第三 歧管舻筮一本衣甶〒的弟一歧官通口，該 平二t:身則是與歧管體之第-表面保持垂直且 通道流體式地相連通。 弟二歧…-與歧管流體 =4請專利範圍帛67項所述之歧管，其中歧管是 人#歧&其中第一歧管的第二歧管通口是被用來接 二歧管的歧管通口 ’而且其中第-歧管的第三歧管通 :疋被用來接合第三歧管的歧管通口，第一歧管、第二歧 官與第三歧管則共同組成_個共用歧管。 69.如申請專利範圍帛68項所述之歧管，苴中歧管體 :至少-個側邊表面是與歧管體之第一表面、第二表面和 弟二表面保持垂直，該歧管體本身則是包括有用於將每一 個若干第一歧管通口對準個別不同基板之個別不同通口的 機構。 70·如申叫專利範圍第防項所述之歧管，其進一步包 含有： 〃 69 200419630 厂個形成於歧管體之第三表面中的第三歧管通口，該 歧官體第三表面本身則是與歧管體之第〆表面保持垂直且 ^ 平行於”亥歧e體之第二表面，第三歧管通口是與歧管流體' 通道流體式地相連通。 71·如申請專利範圍第65項所述之歧管，其中歧管是 -個第-歧管，而且其中第一歧管的第二歧管通口是被用 來接合第二歧管的歧管通口，用以組成一個共用歧管。 72·如申請專利範圍第65項所述之歧管，其中第二歧 官通口疋被用來接合一個與處理流體供應來源流體式地相 _ 連通的凸緣。 73·如申請專利範圍第吒項所述之歧管，其中歧管體 的至少一個側邊表面是與歧管體之第一表面和第二表面保 持垂直，該歧管體本身則是包括有用於將至少一個第一歧 管通口對準第一基板通口和第二基板通口其中之一個的機 構。 74·如申請專利範圍第65項所述之歧管，其中歧管體 的至少-個側邊表面是與歧管體之第一表面和第二表面保· 持垂直，該歧官體本身則是包括有至少一個被用來接收一 銷的凹槽，用以將至少一個第一歧管通口對準第一基板通 口和第二基板通口的其中之一個。 75·如申請專利範圍第65項所述之歧管，其進一步包 含有至少一個形成於歧管體之第三表面中的對準小孔和對 準柱，該歧官體之第三表面本身則是平行於第一表面且與 第二表面保持垂直。 70 200419630 •如申印專利範圍第65項所述之 含有至少一個直士^ 其進一步包 的凹口。 币表面令之邊緣 77· —種安裝用組件，其中包含有·· 一個具有一主體 一個面朝向第-方a 件的主體包括有 弟二表面，續筮弟一方向的 上的第_方向 ㈣主體之相對表面 如Λ 、置，该第二表面具有一個外側1^ _ 側部位本身則县~+ w邛位，該外 m . 、 括有一個被配置成鄰接該外側邻#夕田 圍的凹槽，以；9 1例位之周 去的由沿著第二方向而從該外側部位延柚* 去的中央部位； 』Μ立延伸出 一個具有一主體的第二構件， ~個面朝向第一古A # 的主體包括有 第二表面，該第 1U面朝向第二方向的 上的第一方向針晋_ 乐稱件主體之相對表面 從該中央部位延伸 干央。p位和—個 包括古， 去的外側部位，該外側部位本身則β 配置成鄰接該外側部位之周圍的凹槽，第 構件的主體更還包括有—個能夠從第—弟- 表面之中央部位而貫穿 申牙過第二 丨诅而貝牙主體的穿通孔；以及 一個具有一螺紋柄的第一 小弟鎖附件，該螺紋柄的尺寸大 J疋此夠被接收於位在第_ 了大 b、心人 構件主體中之穿通孔内，而曰 疋被接合至第一構件主體 而且 、昂一表面的中央部位。 78·如申請專利範圍第 本七人* 乐77項所这之安裝用組件，1、隹 一步包含有： τ 具進 71 200419630 斤一個纟尺寸大小能夠使其至少有一部份被裝配至位在 第構件主體之第二表面外側部位中之凹槽内的 構件；以及 ^ "一個其尺寸大小能夠使其至少有-部份被裝配至位在 構件主體之第二表面外側部位中之凹槽内的第二彈性 …79.如巾請專利範圍第78項所述之安裝用組件，盆中 件的主體更還包括有—個在第二表面之中央部財 $、、文孔’而且其中第—鎖附件的螺紋柄是具有外螺纹 之^累丙的尺寸大小是能夠被接收於位在第—構件主體 之弟二表面中央部位中的内螺紋穿通孔内。 第播^申明專利耗圍帛79項所述之安裝用組件，盆中 弟-構件和第二構件的形狀通常是圓形。 '中 第一 I1:申請專利範圍帛8〇項所述之安裝用組件，其中 主體之第二表面中央部位連一 /、 的形狀通常是圓柱形。 ⑽冑㈣平坦側邊 在第8-2構如利範圍第81項所述之安裝_ +主體之第二表面中央部位中的 伸穿過第一禮杜★ + 門系、次孔疋會延 、弟構件之主體，並且是從第一表 主體之第二表面的中央部位。 #過弟-構件 83.如申請專利範圍第78項所述之 第-彈性構件和第 4用組件，其中 84·-種用/; 由一種彈性材料所製成。 平板的方法，兮孔：連個具有-孔洞之安裝用 μ孔洞疋會延伸穿過該安裝用平板，並且是 72 200419630 從安裝用平板之第一表面到達安裝用平板之第二表面，今 項方法包含有下列步驟·· μ 將一上側安裝用次組件定位於鄰接孔洞的第-表面上 且經由該孔洞而穿過該上側安裝用次組件的中央部位； 將-下側安裝用次組件定位於鄰接孔洞的第二表面上 ，使付j上側女裝用次組件的中央部位能夠被配置於該 側女裝用次組件的中央部位内； 將下側女裝用次組件鎖附至上側安裝用次組件；以及 將基板鎖附至該上側安裝用次組件。 85.如申請專利範圍第84項所述之方法，其_ 裝用次組件包含古 加够 女 ，該第-固二Γ個：ΓΓ—個第一彈性構* 有一個包括配置於主體之相對侧邊上 括一、/面和第二表面的主體，其中第二表面具有-個包 —?配置鄰接於外側部位周圍之凹槽的外側部位和具 中央°卩位，組成一個能夠從該外側部位延伸出去之上 =用次組件的中央部位，其中將上側安裝用組件= 得第2括有—個將上侧安裝用組件加以定位之動作，使 定槿杜早14構件的至少有一部位是會被裝配至位於第-固 疋構件與安裝用平板第一表面之間的凹槽内。 裝用X申tr範㈣85項料之方法，其中下侧安 ，該第-π ^有個第—111定構件和—個第二彈性構件 之第_主Α構件具有一個包括配置於主體之相對側邊上 二士面和第二表面的主體，其中第二表面具有—個組 貝女裝用組件之中央部位的中央部位’以及具有—個 73 200419630 二括，置鄰接”一 其中將下側安裝用組件定位的 安裝用組件加以定 丨匕括有-個將下側 -部位是會被裝西… 使得第二彈性構件的至少有 ^ ^ 立於第二固定構件與安裝用平纟笛 表面之間的凹槽内。 文展用千板弟二 87·如申請專利範圍第86項所述之方味. 定構件之第- 、 法，其中第一固 的中央部位包括有一個内螺紋孔，· 固定構件之主“ 〃 體匕括有—個延伸穿過該第二 的中央部位’·以及 以苐一表面穿過第二表面 其中將下側安裝用次組件鎖附 動作包括有下列動作.μ μ 側女裝用次組件的 二固定構件主體二：/貞附件的外螺紋柄穿過在第 件之第’以及進入至位在第一固定構 弟一表面中央部位中的内螺紋孔内。 -固H巾請專利範圍第87項所述之方法，其中位在第 ::牛之第二表面中央部位中的内螺 過弟-固定構件的主體，而到達第一表面；以& 其中將基板鎖附至上側安梦用+ 個將第… 丨女衣用-人組件的動作包括有一 的」 柄穿過基板和進人至内螺紋孔内 的動作。 拾壹、圖式： 如次頁。 74