TW200417517A - Manufacturing method to improve oxygen ion conductivity - Google Patents

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Description

200417517 Ο) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明有關製造離子導體一種製造離子導體以改良氧 離子導電性之方法，否則該氧離子導電性會因存在包括矽 或含矽化合物之有害雜質而降低。更明確地說，本發明有 關將一種由鹼土金屬組成之摻雜劑的溶解鹽施用於由經摻 雜的三氧化二鈽、經摻雜的氧化鍩或經摻雜的鎵酸鑭或化 學計量之其先質鹽或氧化物的混合物上，然後分解產生該 離子導體的方法。 【先前技術】
離子導體係由陶瓷材料所形成，其可於高溫下傳導氧 離子’以及具有低導電性。其可用以形成常用於氧產生器 與固態氧化物燃料電池之電解質。此種電解質係用於層狀 結構’其具有夾著該電解質之陽極與陰極。本技術中已習 知此種材料的其他用途，諸如蒸汽電解池等。 在氧產生器情況下，施加電位通過該陽極與陰極時， 含氧進料中的氧會離子化，產生氧離子，其被輸送通過該 @解質。該氧離子自該電解質冒出，並重組形成分子氧。 在固態氧化物燃料電池中，該陽極與陰極連接成電載。使 用渗透的氧作爲氧化劑，燃燒燃料。由於存在該陽極的電 解質之氧離子前進至該電載，然後前進至該陰極，使該含 氧進料中之氧離子化，而釋放出電子。 _產生器、固態氧化物與類似裝置使用具有呈平板或 -4· (2) 200417517
管狀形式之層狀陽極-電解質-陰極結構的元件，其係以習 知技術諸如等靜壓製與帶式鑄塑製造。此等方法中，將氧 離子導電材料（諸如呈粉末形式之經摻雜的氧化銷或摻雜 之二氧化二鈽）與一種有機黏合劑混合，然後模製成所 需形狀或是模製在該陽極層上。該陽極層可爲一種由惰性 結構承載之導電金屬，諸如鈣，或是可以傳導氧離子與電 子二者之混合導體。燒製所形成的生胚體，以燒掉該黏合 劑’以及將該材料燒結成黏附塊。然後，施用於陰極層。
如已知，欲適用於實際裝置（諸如氧產生器或固態氧 化物燃料電池），很重要的是由某種特定材料可獲得之最 大氧離子導電性以及其燒結密度及其強度。如i〇6 solid State Ionics, ’’Properties of L a 〇 . 6 S r 〇. 4 C o 〇. 2 F e 〇. 8 0 3 . δ (L S C F ) Double Layer Cathodes on Gadolinium - Doped CeHum Oxide (CGO) Electrolytes I· Role of Si〇2n，Bae 等人所著，第247-253頁（ 1 99 8)，其中提到呈矽的氧化物 形式之矽普遍存在所有氧化物中。此種矽會對於摻雜釓之 鈽的氧化物（下文稱爲"CGO”）所形成的電解質導電性造成 負面影響。 先前技術中’在固態氧化物燃料電池已確認需要提高 C G Ο電解質之導電性，尤其是低溫下之導電性。c G Ο雖 然具有高度導電性’但是在固態氧化物燃料電池中存在的 高溫還原氣氛下並不強韌。因此，CG0必須用於操作溫 度在500°C至700°C附近之較低溫應用。此外，在較低溫 度下操作該固態氧化物燃料電池，由於所需之溫度需求組 -5- (3) 200417517
件較少，其成本亦會降低。不過，在此等溫度下，CG Ο 的氧離子導電性變得特別重要。因此’此等應用與操作中 需要使 CGO之導電性最大化。在 575 Material Research Society Symposium Proceedings, ’’ Improving Gd-Doped Ceria Electrolytes for Low Temperture Solid Oxide Fuel Cells”，Ralph等人所著，第309-314頁（2000)，以鈣摻雜 該CGO，可以改善具有諸如二氧化矽等雜質之CGO的導 電性。該參考資料中建議’鐯與鐵摻雜劑可能具有相同效 果。該具有雜質之摻雜鈣的CGO係使用非晶相檸檬酸鹽 製備方式所製得。此種製備方法係一種原子混合技術，其 包括以適當化學計量比率混合陽離子鹽與檸檬酸，然後將 所形成混合物溶解於水中，產生水溶液。然後，加熱該溶 液，並熘燒形成氧化物。
在Ralph等人文章中，提到與導電性非常差之雜質氧 化物（諸如Si02)相較，由於形成具有相當良好導電性之第 二相，故其顯現出晶界導電性比標準CGO改善。在Ralph 等人文章中，指出該Si02濃度低於每百萬分之20份數。 在 129 Solid Stale Ionics, MAppraisao of Cei-y Gdy 02-y/2 Electrolytes for ITSOFC Operation at 5 00°C ’’，由Steele所著，第95-110頁（2000)，已注意到使用高 度純化粉末之CG0與經摻雜氧化鉻電解質，其Si02含量 低於每百萬分之50份數，以獲得在低溫操作下之電解質 材料充分導電性。 因此，由前述參考資料可以暸解，諸如呈矽之氧化物 • 6 - (4) (4)200417517 的矽等污染物會降低CGO與經摻雜氧化鍩電解質材料中 的導電性。爲了使用一種由C G 0與其他材料所形成之電 解質，在低溫下操作S0FC，補足該電解質的離子導電材 料之純度必須儘可能愈純愈好，即，包含最少量矽。此 外’可以使用錦慘雜劑慘雜此種純C G 0，進一步提高低 溫導電性。在固態氧化物燃料電池中使用C G Ο與Y S Z的 標準同樣可適用於其他類似裝置，諸如氧產生器。 在US 200 1/0007381 A1中，使用一種包含過渡金屬 摻雜劑之鹽溶液--例如溶解於溶液中的鐵--純化數量 約2莫耳％之CGO粉末。該處理降低燒結溫度，因此可 以製得顆粒大小小之經燒結陶瓷元件，其強度優於未處理 CGO 〇 亦注意到，該電解質粉末愈純，製造該電解質的相關 成本愈局。例如，純度9 9百分比的粉末的成本約爲純度 9 9 · 9百分比的粉末的7 5 %，而純度9 9 · 9百分比的粉末之 成本係純度9 9 · 9 9百分比的粉末之6 0 %。因此，雖然大致 上需要提高具有晶界雜質（諸如矽或含矽化合物）之離子導 體的氧離子導電性，但是此種需求在特別低純度氧離子導 電材料中尤其明顯。若藉由加強氧離子導電性使此等材料 適於使用，其特別優點係成本低廉。 如下文討論，本發明提出一種製造離子導體材料之方 法，該離子導體材料摻雜有鹼土金屬，其可強化先前製造 技術所獲得之氧離子導電性。關於這一點，將於下文討 論，諸如Ralph等人文章中所揭示之此等先前技術無法加 (5) 200417517 強諸如CGO低純度離子導體之導電性。此外，本發明之 額外益處係其亦可加強該離子導電材料之強度。 【發明內容】
本發明提出一種製造離子導體以改良氧離子導電性之 方法’否則該氧離子導電性會因存在包括矽之有害雜質而 降低。根據本發明，將一種摻雜劑之鹽溶解於溶劑中以形 成一種溶液。該摻雜劑係由一種鹼土金屬組成。將該溶液 施用於一種氧離子導電材料上，該氧離子導電材料係由經 摻雜的三氧化二鈽、經摻雜的氧化鉻或經摻雜的鎵酸鑭所 組成’而且具有有害雜質。該氧離子導電材料係粒子大小 小於約1 0 0微米之粉末。所施加的溶液係使摻雜劑對該離 子導體中的總陽離子之莫耳比介於約0 · 00 1與約〇 . 1之 間°此外’混合該溶液與該粒子，使該溶液均勻覆蓋該粒 子。加熱該溶液所施加的氧離子導電材料，以蒸發溶劑， 並使該鹽分解，如此形成該離子導體。 本發明其他實施樣態中，該包含鹼土金屬之溶液係施 用於一種氧離子導電材料之陽離子成份的先質鹽或氧化物 之混合物’其中該先質鹽實質上不溶解於該溶劑中。該氧 離子導電材料係由經摻雜的三氧化二鈽、經摻雜的氧化鉻 或經摻雜的鎵酸鑭所組成，而且其矽含量至少百萬分之 5〇份數。該先質鹽或氧化物係粒子大小小於約10〇微米 之粉末。施用並混合之後，加熱該溶液所施加的先質鹽或 氧化物’以蒸發該溶劑，並使該鹽或氧化物分解，如此形 -8 - (6) 200417517 成該離子導體。 如前述，特定批次離子導體所顯示的低導電性 晶界處之表面雜質所造成的。對於導電性有害的習 之一係二氧化矽。先前技術中，具有低矽含量之經 的C GO提高了該CGO之導電性。如下文所述，本 法製造此等經摻雜材料，其導電性比先前技術原子 術（如非晶相檸檬酸鹽製備法）可獲得之導電性進 強。事實上，此種摻雜作用在矽雜質含量高（諸如 萬分之50份數）之材料情況下沒有效果或效果甚微 很意外的，本發明可以大幅改善此等材料之離子導 雖然不希望受到任何特定操作理論限制，但是 人認爲’不同於先前技術原子混合的方式利用溶液 粒子表面之方法而添加銘或其他鹼土金屬的方式， 步驅使該鈣或其他鹼土金屬朝向晶界移動，因此朝 面移動，而提供更多此種材料與雜質交互作用。如 將討論’本發明所使用之製造方法亦加強該導體的丨 該氧離子導電材料亦可爲摻雜的二氧化鈽，其 成如化學式C e】_ χ Μ χ Ο 2 _ d。此式中，μ係S ηι、G ( La、Pr、Sc或其混合物’ x介於約0.03與〇.5，d 該組成物具有中性電荷。該鹼土金屬之莫耳比可 0.0 0 1與約0 · 0 5。此莫耳比介於約〇 . 〇 〇 5與約〇 · 佳。X介於約0.08與約〇·25爲佳。 該慘雜劑係錦爲佳，而該氧離子導電材料可爲 雜的二氧化鈣者。較佳情況係，X可爲〇. 1，而該 係導體 知雜質 鈣摻雜 發明方 混合技 一步加 高於百 ，然而 電性。 本發明 施用於 會進一 向該表 同下文 強度。 平均組 ]、γ、 之値使 介於約 025更 上述摻 莫耳可 -9 - 200417517 ⑺ 爲 〇·〇1。 該溶液濃度可爲約0 . 〇 5莫耳。 將該溶液添加於該離子導電材料時，較佳情況係該溶 液所施加的離子導電材料可於加熱前形成所需構型，然後 在足以燒結該離子導體的條件下加熱該氧離子導電材料。 同樣地’該溶液添加於陽離子鹽或氧化物混合物情況下， 可於加熱之前使該溶液所施加的混合物形成所需的構型， 然後在足以燒結該離子導體的條件下加熱該混合物。 下文將會明暸，此種構型可爲一層施用於一陽極之 層’或爲受平板或管狀形式之惰性材料所承載的陽極。因 此’在單一步驟中形成該離子導體與電解質層，此係與該 離子導體形成所需最終構型的先前技術相反。 联ί爹雑劑最好爲銘或纟思。 【實施方式】
如下文討論，本發明係用以改善氧離子導電材料諸如 經摻雜的三氧化二鈽（Ce^xMxC^i)、經摻雜的氧化鉻 (2]*].5(1^02.2)與經摻雜的鎵酸鑭（1^1^六?^3]-4>^03.2)之導 電性與強度。 根據本發明，將一種驗土金屬--以錦或緦爲佳，但 是亦可爲鋇或鎂——之鹽溶解於適當溶劑中，諸如水或一 種醇。該鹽可爲硝酸鹽、醋酸鹽 '草酸鹽、硫酸鹽、氯化 物。該鹽係硝酸鹽、醋酸或草酸鹽最佳。 然後，將該鹽溶液施用於氧離子導電材料’其數量足 -10- (8) 200417517 以產生所需之摻雜劑莫耳比。該莫耳比可在介於約0.001 與約〇 · 1範圍內任一數値。或者，可以所需化學計量比將 該鹽溶液施用於陽離子鹽或氧化物鹽混合物。在陽離子鹽 情況下，用以溶解該摻雜劑的溶劑不能亦溶解該陽離子 鹽。例如，若硝酸鈣係溶解於水中之摻雜劑鹽，製造 CGO之適當陽離子鹽係碳酸鈽與碳酸纟l，其不會明顯溶 解於水中。在陽離子氧化物情況下，硝酸鈣溶液可以所需 比例添加於二氧化鈽與氧化釓之混合物中。
該氧離子導電材料與該陽離子鹽必須呈粒子大小不大 於約10 0微米之粉末形式。一般認爲，該粒子愈小，根據 本發明獲得的結果愈佳。然後，以諸如球磨等習用混合技 術充分混合該溶液與粒子，如此使該溶液均勻覆蓋該粒子 表面。
然後，加熱該溶液所施加的氧離子導電材料或是溶液 所施加的陽離子鹽或氧化物，以蒸發該溶劑，然後分解該 ί谷劑的鹽’或者右情況適合，進一*步分解陽離子鹽與氧化 物。關於「加熱」作用’在去除溶劑情況下其可爲周圍加 熱，然後爲進行分解再增加加熱作用。「加熱」可於單一 步驟內完成。所形成的離子導體可以碾磨成粉末，然後形 成該電解質之所需構型。較佳情況係，施用以摻雜劑溶液 的氧離子導電材料或陽離子鹽或其氧化物可以形成所需構 型’例如管狀層或平板狀，然後加熱以蒸發該溶劑、分解 該摻雜劑鹽、該電解質陽離子鹽或該陽離子氧化物。視需 要，可於形成該構型之前，混合一種適當有機黏合劑與該 -11 - 200417517 Ο) 氧離子導電材料或陽離子鹽或氧化物。然後，可以進一步 加熱形成經燒結陶瓷層或將該離子導體形成所需形狀。
根據本發明，特佳之離子導體係摻雜鈣之C G 〇。其 係藉由可於經摻雜的二氧化鈽中添加硝酸鈣形成，該經摻 雜的二氧化鈽具有式Cei_xMx02.d之組成，其中Μ係 Sm、Gd、Υ、：La、Ρι·、Sc之一或多者的混合物（以Sm、 G d或Y最佳），而x介於約〇 · 〇 2與約〇 · 5之間，介於 0·08與0.25間更佳。d之値使該組成物具有中性電荷。 較佳之氧離子導電材料具有化學式CeQ 9mq 1〇2_d之組成（d 之値使該組成物具有中性電荷）。
將1陽離子百分比鈣添加於經摻雜的三氧化二鈽氧離 子導電材料中。添加介於約〇 · 〇 1陽離子百分比與約i 〇陽 離子百分比之鈣係在本發明範圍內。較佳範圍係介於約 0 · 1與約5陽離子百分比，而特佳範圍係介於約〇 · 5陽離 子百分比與約2·5陽離子百分比。前述作用係〇.〇5莫耳 濃度溶液完成爲佳。 如前述’將該溶液添加於該氧離子導電材料之後，藉 由周圍加熱或是添加外部熱蒸發該溶劑。然後，可以進一 步加熱至約65 CTC之溫度，分解該硝酸鈣。 亦如前述，該經溶液處理電解質物質或陽離子鹽或氧 化物在形成所需形狀或構型之後，可以加熱燒結。關於此 點，該加熱條件可爲介於約1250 °C與約1700 °C間之溫 度，在該溫度維持介於約5分鐘與約24小時，視構成的 離子導體厚度與尺寸而定。更佳之加熱條件係介於約 -12- (10) 200417517 1 3501：與約155 0°c，加熱介於約1與約10小時。就應用 於氧產生器內之陶瓷膜片元件的本發明離子導體大部分構 型而言，介於約1400 °C與約1500 °C之加熱條件尤佳。在 所有前述範圍內’所獲得的溫度以及冷卻係以約2。(： /分鐘 之加熱或冷卻率達成。 參考圖1，試驗數個離子導體以說明本發明在矽含量 高--即，介於約百萬分之1〇〇與300份數間--，以及
石夕含量低--低於百萬分之5 0份數--之經摻雜的C G Ο 氧離子導電材料的應用。在所有試驗中，先將約2.5克粉 末壓入一個模中，製得直徑約13 mm，厚度約5 mm之生 胚九粒，製備該試樣。然後，以每分鐘2 °C將該生胚試驗 九粒加熱至1 4 0 0 °C，並保持四小時，然後以每分鐘2 °C冷 卻至室溫，製得經燒結試驗九粒。然後，使用A C阻抗分 光儀試驗該經燒結試驗九粒。以機電試驗裝置，根據 A STM標準C1 161之四點彎曲構型中完成強度試驗。
在根據本發明製備的樣本中，以圖1之摻雜鈣的 CG0(CG05)作爲本發明製備方法實例。製備此特定樣本 時，由美國華盛頓州西雅圖之 Praxair Specialty Chemicals獲得一種摻雜乱之二氧化鋪粉末，其組成爲 Ce〇.9M〇.：i〇2-d(該d値使該組成物具有中性電荷）。該粉末 的矽含量高，其介於約百萬分之100份數與約百萬分之 3 0 0份數之間。 將硝酸鈣溶解於水中，製得濃度爲〇·〇5莫耳的水溶 液。須注意的是，乙醇係另一種適用且較佳之溶劑。將該 -13- (11) 200417517 溶液添加於C G 0粉末中’其數量使銘陽離子含量對於總 陽離子含量（Ce + M + Ca)之莫耳比爲0.01(1陽離子％纟丐）。 然後，使用球磨法混合該CGO粉末與所施用的溶 液，使該溶解的鈣鹽均勻分佈在該經摻雜的二氧化鈽粉末 的懸浮液中。
球磨處理之後，使該水蒸發，留下C G Ο粉末，其具 有一層均勻分佈在CGO粒子表面上之鈣鹽塗層。將會明 白，可以藉由加熱或可能之過濾作用加強去除溶劑。然 後，如上述將經處理粉末裝入該模內，形成試驗九粒。 參考資料 CG01所界定的數據點表示在市售 CGOCCeo^MuO^)上進行之試驗，其具有高度導電性， 因此矽含量低一一低於約百萬分之50份數。
CG02係市售 CGCKCeojMuOh)，因砂含量高，故 其導電性低，該矽含量介於約百萬分之1 00份數與約百萬 分之3 0 0份數間。如同預期，其在該溫度範圍內顯示非常 低之導電性。根據本發明，使用數量爲1陽離子百分比之 硝酸緦摻雜處理CG02時，其變成CG03，係導電性基本 上與CG01相同之材料。 因此，本發明之處理使矽含量高之CGO導電性提高 至矽含量低之CGO可達到水準。出手意料的是，本發明 之處理亦使矽含量高之經摻雜的C G 0的導電性提高到超 過有關原子混合之先前技術可達到水準。關於此點， CG06係導電性低之市售CG0，其矽含量約百萬分之1〇〇 份數’其中藉由原子混合先前技術添加緦——諸如溶解金 -14 - (12) 200417517 屬鹽之溶液的燃燒合成——以製造 (CeojGdo.Oo^wSro.owOix。其導電性接近樣本 CG02。其 係與樣本CG09比較，樣本CG09係添加0.5陽離子百分 比之緦作爲硝酸緦溶液，處理與本發明CG 02相同之樣本 所製備。其於該溫度範圍內之導電性遠大於CG 06。
樣本CG04係根據本發明以添加0.5陽離子百分比鈣 之硝酸鈣溶液處理所製備。其導電性不如添加1陽離子百 分比鈣作爲硝酸鈣溶液的CG 05般高。 樣本 CG07係以一種過渡金屬（換言之，鈷）處理 CG 02所製備，其中鈷的水準係添加2陽離子百分比作爲 硝酸鈷溶液，而CG08係根據本發明，以添加1陽離子百 分比之鈷作爲硝酸鈷溶液，以及添加1陽離子百分比鈣作 爲硝酸鹽溶液處理CG02所製備。很淸楚看出，與單獨使 用較大量過渡金屬摻雜劑相較，存在鹼土金屬會明顯提高 該溫度範圍內之導電性。
圖2顯示根據本發明處理用以形成CGO之陽離子氧 化物，以製造摻雜鹼土金屬之CGO的優點，其中此種陽 離子氧化物包含的矽雜質水準約百萬分之1 00份數。樣本 CG01 1係市售二氧化鈽與氧化釓粉末之燒結混合物，其 形成平均組成爲化學式CGO。其矽含量 高，介於百萬分之約1〇〇與約300份數之間。如同預期， 所形成離子導體在該溫度範圍內具有最低。樣本CG012 係製備CG011所使用之市售二氧化鈽與氧化釓的燒結混 合物，根據本發明添加1陽離子百分比鈣作爲硝酸鈣溶液 •15- (13) 200417517
處理之。如此產生具有化學式爲（CeojGdo.Oo.wCao.cnOh 之平均組成之摻雜鈣的CGO。如圖示說明，該經處理樣 本在該溫度範圍內具有最高導電性。將其與CGO 13比 較，C G 0係製備C G Ο 11所使用之市售二氧化鈽、氧化釓 以及碳酸緦之燒結混合物。該CGO 11樣本在該溫度範圍 內的導電性低於CG012，此係因1百分比緦與經摻雜鈣 CGO具有相似導電性所意外提供，其中 CG0(CG03與 CG05)係根據本發明處理。因此，本發明之處理使該導電 性提高至高於單獨添加過渡金屬所預期的導電性。
在掃描電子顯微鏡中，使用能量分散X射分析法檢 視前述樣本。在精確測量中，除了發現鈣與緦物質與晶界 處之矽的交互作用（預期其會提供本發明之推測操作機制） 之外，發現摻雜劑沒有不均勻分佈。因此，圖 2的 CG 01 1結果與前文討論之Ralph等人所揭示之樣本的原子 混合製備法相似。此外，比較樣本CG05(其使用受污染程 度高於Ralph等人提出的CGO)與該參考資料的圖表表示 示口果’亦發現C G 0 5的導電性略局於R a 1 p h等人的c G 0 導電性。 敛爹考圖3’由CG05明顯看出，與CG01(高導電性 CGO)與CG〇2(低導電性CGO)相較，本發明製造方法會提 局該離子導體的最終失效強度。因此，本發明可說不僅提 高矽含量高之離子導體的導電性，亦具有提高其強度之額 外優點。 雖然已參考較佳實例說明本發明，但是在不違背本發 -16- (14) (14)200417517 明fra神與範圍下，熟悉本技術之人士得以進行各種變化、 添加或省略。 【圖式簡單說明】 雖然本說明書包括明確指出本案申請人所關注的主 題’但是一般認爲參考附圖將更暸解本發明，其中： 圖1係根據本發明一實例所製造之經摻雜的氧化物離 子導體與先前技術所製得離子導體比較的導電性對溫度 圖； 圖2係根據本發明另一實例所製造之經摻雜的氧化物 離子導體與先前技術所製得離子導體比較的導電性對溫度 圖；以及 圖3係本發明經摻雜的氧化物離子導體與先前技術之 離子導體比較的失效可能性對失效強度圖。
-17-

Claims (1)

  1. 200417517 ⑴ 拾、申請專利範圍 1 · 一種製造離子導體以改良氧離子導電性之方法， 否則該氧離子導電性會因存在包括矽之有害雜質而降低， 該方法包括： 將一種摻雜劑的鹽溶解於溶劑中以形成溶液，其中該 摻雜劑係由一種鹼土金屬組成；
    將該溶液施用於一種由經摻雜的三氧化二鈽、經摻雜 的氧化鉻或經摻雜的鎵酸鑭所組成而且具有有害雜質之氧 離子導電材料，該氧離子導電材料係呈粉末狀，其粒子大 小小於約100微米； 所施加的溶液係使摻雜劑對該離子導體中的總陽離子 的莫耳比介於約0.001與約0.1者； 混合該溶液與該粒子，如此使該溶液均勻覆蓋該粒 子；以及
    加熱該溶液所施加的氧離子導電材料，以蒸發該溶 劑，並分解該鹽，如此形成離子導體。 2 · —種製造離子導體以改良氧離子導電性之方法’ 否則該氧離子導電性會因存在包括矽之有害雜質而降低： 將一種摻雜劑的鹽溶解於溶劑中以形成溶液，其中該 慘雜劑係由一種驗土金屬組成， 將該溶液施用於氧離子導電材料之陽離子成份的先質 鹽或氧化物之混合物，其中該先質鹽實質上不溶解於該溶 劑中，而該氧離子導電材料係由經摻雜的三氧化二鈽、經 摻雜的氧化鉻或經摻雜的鎵酸鑭所組成，而且具有有害雜 -18- (2) 200417517 質，該先質鹽或氧化物呈粉末形式，其粒子大小小於約 100微米； 所施加的溶液係使摻雜劑對該離子導體中的總陽離子 的莫耳比介於約0.001與約0.1者； 混合該溶液與該粒子，如此使該溶液均勻覆蓋該粒 子；以及
    加熱該溶液所施加的先質鹽或氧化物，以蒸發該溶 劑，並分解該鹽或氧化物，如此形成離子導體。 3. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其中該氧離 子導電材料係經摻雜的二氧化鈽，其具有化學式 cei_ xMx02_d，其中 Μ 係 Sm、Gd、Y、La、Pr、Sc 或其混合 物，x介於約0.03與0.5，d之値使該組成物具有中性電 荷。 4. 如申請專利範圍第3項之方法，其中該莫耳比介 於約0.0 0 1與約0 · 0 5。
    5 .如申請專利範圍第3項之方法，其中該莫耳比介 於約0.0 0 5與約0.0 2 5。 6. 鉑申請專利範圍第3項之方法，其中X介於約 〇.〇8 與約 0.25。 7. 如申請專利範圍第1或2項之方法，其中： 該摻雜劑係鈣；而 該氧離子導電材料係摻雜具有化學式cei.xMxo2.d2 二氧化铈，其中X介於約0.03與0.5，d之値使該組成物 具有中性電荷。 -19- (3) (3)200417517 8·如申請專利範圍第丨或2項之方法，其中該溶液 濃度約〇.〇5莫耳。 9·如申請專利範圍第1項之方法，其另外包括於加 熱該溶液所施加的氧離子導電材料之前，將該溶液所施加 的氧離子導電材料形成所需的構型，然後在足以燒結該離 子導體的條件下加熱該氧離子導電材料。 10·如申請專利範圍第2項之方法，其另外包括於加 熱該混合物前，將該溶液所施加的混合物形成所需構型， 然後在足以燒結該離子導體的條件加熱該混合物。 -20-
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