TW200406466A - Compositions comprising at least one oxonol dye and at least one metal complex - Google Patents

Description

200406466 玖、發明說明 “月况月應敘明.發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明） 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種包含至少一奥斯若（oxonol)染料及 至少一式（M)或（1-2)之金屬錯合物的組成物；關於包含該 5 、、且成物之5己錄媒體·，及關於使用該組成物來製造光學記錄 媒體、濾、色片及印刷墨水。使用式⑴之金屬錯合物可驚人 地產生在固態有比較弱的聚集趨向之奥斯若染料，所以甚 至可在固恶時仍然具有有利的窄吸收曲線，結果為可獲得 在想要的光譜範圍内具有高反射性、高敏感度及好的錄放 10 特徵之記錄媒體。 本發明之範圍為利用一次寫入儲存媒介來儲存訊息的 光學儲存，該訊息標記（訊息凹坑）可藉由呈色劑在寫入及 未寫入的位置處不同之光學性質而辨別。此技藝通常稱為 15 （例如，”CD-R’，或，，DVD-R，，）。 可在波長770至830奈米處寫入的光碟已從"光學資料 儲存（Optical Data St〇rage)1989”，工藝整理系列（Technical

Digest Series)，Vol· 145^989)中熟知。它們以減低的讀 出性質來讀取。根據橙皮標準書（〇range B〇〇k standard)， 2〇該媒介在記錄波長處必需具有65%或更高的基本反射性。 至於記錄媒體，於此可使用例如花胯染料（JP-58/125246) 、酞腈類（EP-A-676 751、EP-A-712 904)、偶氮染料（us_ A-5 441 844)、複鹽類（US_A_4 496)、偶氮金屬錯合物 類（US-A-5 272 047、US-A-5 294 471、EP-A-649 133、EP- 6 υυ4〇6466 玖、發明說明 A 649 88G)或其混合物（Ερ·Α_649 884)或奥斯若染料（仍_8_ 5 6 225 G24、EP_A-G 833 314、US-A-4 968 593)。除 了該些 染料外’該記錄層可包含—些安㈣，諸如例如單電鍵氧 抑制劑類、螢光抑制劑類及自由基捕捉劑類。 因此，JP 60-0044390 A係關於一種包含一基板及一記 錄媒體的光學記錄媒體，該記錄層包含_花腈染料（或一 《本、r ..

2

Rd Rd (I，)， (ΙΓ)

RJ

、307

(nr)或 10 其中R、⑼、R3〇lR304每個可為氫原子或一單價基 ，或R。。1與R3 02對、r3〇2與r3G3對和r3<^r3G4對可彼此連 以形成-6員環；R奶及R⑽每個可為氯原子或一經取代 未經取代的烷基或芳基；R3^6可為氫原子、羥基或一經: 代或未經取代㈣基或芳基；—為—經取代或未經取 15的垸基或芳基；Z，為形成5或6員環時所需之非金屬原子 團；及M，為一過渡金屬原子。 JP 09-164767 A進-步描述出—種包含_記錄層的; 錄材料，該記錄層包含-酜胯化合物及一下式之安定劑： 200406466 玖、發明說明

其中Af為經讀酸基取代之苯基或萘環；及μ”為一過渡 金屬原子。 【發明内容3 5 本發明之目標為獲得一種記錄層具有高儲存容量和其 它重要的性質之光學記錄媒體。對該記錄媒體來說，應該 可以在600至700奈米（較佳為630至690奈米）範圍内或在少 於450奈米的相同波長處高速寫入及讀取，且儘可能只有 少許誤差。 10 %在已驚人地發現下列優點可藉由將奥斯若染料與特 定的金屬錯合物結合而獲得： -染料解聚’此可產生一理相的 心的吸收曲線，而此非為 獨自使用從EP-A-833 3M熟知的染料時之情況； 改善光穩定性，及 -改善此、、且成物在極性溶劑中的溶解度。 此外，本發明係關於一種 種包含至少一種奥斯若染料及 至少一種（也就是說從1至5，較 馮1至3)下式之金屬錯合 物的組成物： 15 200406466 玖、發明說明

R6 (1-2), 其中Me為次族7、g、9 11)之過渡金屬； 10、11或12(較佳為9、10或 每们可彼此各自獨立地為—碳環或雜環或環系 5統，其可未經取代或經_個或多個r^r6基團取代； R及R可為幽素原子(諸如氟、氯或溴)、胺基、烷基 月女基烧基胺基、硝基、氮基、經基、未經取代或經取 代的烧基、未經取代或經取代的經烧基、未經取代或經取 代的烧氧基、經4或{岔斷一次或多次之未經取代或經 10取代的烷基、g盘基、苯基、酯基（諸如膦酸、磷酸或竣酸 酯基）、《胺基、硫酿胺基、敍基、㈣、石黃酸、鱗酸 或磷酸基團或其鹽類； R1及R4每個可彼此各自獨立地為氫原子或未經取代或 經取代的烧基、芳基或芳烷基； 15 R、Κ 、^及1^每個可彼此各自獨立地為氫原子、 氰基、未經取代或經取代的烷基、烷氧基、芳基或芳烷基 玖、發明說明 、醋基、羰醯胺基、硫醯胺基、三烷基銨基、竣酸、g萨 、膦酸或磷酸基或其鹽類；或 R2與R3—起或R2’與R3’一起形成一雙鍵、環烷環或雜 環；或 R2、R2、R3及R·3 —起形成一芳香族碳環或雜環； R與R2 —起及/或R·3與R·5 —起每對可彼此各自獨立地 形成一羰基或硫羰基； R7、R7’、R8及R8’每個可彼此各自獨立地為氫原子或 未經取代或經取代的烷基、芳基或芳烷基；或 R7與R7 —起及/或R8與R8’一起每對可彼此各自獨立地 形成一羰基或硫羰基； 關於一種包含一基板及至少一個記錄層的光學記錄媒 體其中5亥5己錄層包含上述提及的組成物；及關於使用上 述提及的組成物來製造光學記錄媒體、濾色片（濾光器）及 印刷墨水。 使用式（I)之金屬錯合物與奥斯若染料組合可驚人地產 生在固態下有比較弱的聚集傾向之奥斯若染料，所以甚至 在固態下仍然具有有利的窄吸收曲線，結果可獲得在想要 的光譜範圍内具有高反射性、高敏感度及好的錄放特徵之 記錄媒體。 所使用的金屬錯合物通常具有下式 10 200406466 玖、發明說明

R

R2, R3·r>^r3 r4 N、 〇 〇

R6 (μι)或

R6 (卜2)， 其中 Me 為次族7、8、9、1〇、^ΐ2(ΜΜ 11)的過渡金屬； 10或 D1及D2每個可彼此各自 一 曰领儿地马妷％或雜環或環系 統，其可未經取代或經一個或多個R5&R6基團取代； R5及R6可為由素原子(諸如a、氣或漠)、胺基、烷基 10 胺基、二烷基胺基、硝基、氰基、絲、未經取代或經取 代的烧基、未經取代或經取代的㈣基、未經取代或經取 代的烷氧基、經-〇_或_s_岔斷一次或多次之未經取代或經 取代的烷基、醯基、苯基、酯基(諸如膦酸、磷酸或羧酸 酯基）、羰醯胺基、硫醯胺基、銨基、羧酸、磺酸、膦酸 或碟酸基團或其鹽類； R1及R4每個可彼此各自獨立地為氫原子或未經取代或 經取代的烷基、芳基或芳烷基； 15 r2、r2’、R3及R3’每個可彼此各自獨立地為氫原子、 氰基、未經取代或經取代的烧基、烧氧基、芳基或芳烧基 11 200406466 玖、發明說明 、酯基、羰醯胺基、硫醯胺基、三烷基銨基團、羧酸、磺 酸、膦酸或磷酸基團或其鹽類；或 R2與V—起或R與R3 —起形成一雙鍵、環烷環或雜 環；或 5 r2、r2、r3及可一起形成芳香族碳環或雜環； R2與R2 —起及/或R3與R3’一起每對可彼此各自獨立地 形成羰基或硫羰基； R7、R7、R8及R8’每個可彼此各自獨立地為氫原子或 未經取代或經取代的烷基、芳基或芳烷基；或 ίο R7與R7 一起及/或R8與R8 一起每對可彼此各自獨立地 形成羰基或硫羰基。 可與羧酸、磺酸、膦酸或磷酸基團形成鹽的陽離子實 例有金屬陽離子，諸如鈉、鉀、鋰、鈣、鐵及銅離子；金 屬錯合物陽離子；或銨陽離子。 15 根據本發明，烷基經了解為直鏈或分枝的<^_24烷基， 較佳為未經取代或經取代的Cw烷基，諸如例如甲基、乙 基、正丙基、異丙基、正丁基、二級丁基、異丁基、三級 丁基、環丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2，2-二甲基丙 基、己基、庚基、2,4,4-三曱基戊基、2-乙基己基或辛基 2〇 、乙氧基羰基乙基、氰基乙基、二乙基胺基乙基、氯乙基 、乙&&氧基乙基及三氣甲基。 根據本發明’烷氧基經了解為直鏈或分枝的^以烷氧 基’也就是說0-C!-24烧基，較佳為〇_Cl·8烧基，諸如例如 甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、二級 12 玖、發明說明 丁氧基、異丁氧基、三級丁氧基、正戊氧基、2-戊氧基、 3'戊氧基、2,2-二甲基丙氧基、正己氧基、正庚氧基、正 辛减、1，1，3,3-四甲基丁氧基或乙基己氧基。 5 據本I明，馱基或烧基羰基經了解為Ci-24烧基羰基 較佳為未經取代或經取代的CN8烷基羰基，諸如例如乙 醯基、丙醯基、丁酿基或氯乙醯基。 根據本發明’芳香族碳環或芳基經了解為C6_24芳基， 車又佳為未經取代或經取代的匕^芳基，諸如例如苯基、 甲基苯基、4-甲氧基苯基、萘基、聯苯基、2_蔡基、菲基 10 、蒽基或聯三苯基。 根據本發明，芳烷基經了解為C7_24芳烷基，較佳為未 故取代或經取代的C7-12芳烷基，諸如例如苄基、2-苄基_2-丙基、β-本乙基、9·荞基、α，α•二甲基千基、ω_苯基-丁基 、苯基·辛基、ω·苯基-十二烷基或3-甲基-5-(1，，1，，3，，3，-15 四甲基-丁基）-苄基。 根據本發明，經-0-或-S-岔斷一次或多次的烧基經了 解為直鏈或分枝的c2-c24烷基，較佳為經-0-或-S-岔斷一 -人或多次的C2-C8烧基，例如由-0-及/或-S-岔斷一、 二或三次所產生的結構單元，諸如例如_(ch2)2och3 20 、-(ch2ch2o)2ch2ch3、-ch2-〇-ch3、-CH2CH2-0- CH2CH3 ^ -CH2CH2CH2-〇.CH(CH3)2 ' -[CH2CH20]yi-CH3( 其中 yi二 1-3)、-ch2-ch(ch3)-〇-ch2-ch2ch3 及-ch2- ch(ch3)-〇-ch2-ch3。 根據本發明，表示法’’酯基’’包括羧酸酯類_c(〇)〇r1()1、 13 200406466 玖、發明說明 膦酸酯類-P(〇)〇R1G2〇RlG3及填酸 g旨類_〇p(〇)〇r1〇2〇r1()3，其 中R1G1可為未經取代或經取代的烷基、芳基或芳烷基或可為 經-0-或-S-岔斷一次或多次之未經取代或經羥基取代的烧基 ;R1G2及RW·3可為氫原子、未經取代或經取代的烷基、芳基或 5 芳烷基或可為經或-s-岔斷一次或多次之未經取代或經羥 基取代的烷基，諸如例如_C(0)OCH2CH2OCH2CH2OCH(CH3)2 及-c(o)och2ch2och2ch2oh。 表示法’’硫醯胺基，，指為-SO2NR102R103基團，其中R102 及R1G3如上述所定義。 10 胺基、烷基胺基或二烷基胺基經了解為-NR1G4R1G5基 團’其中R104及R105每個可彼此各自獨立地為氫原子、 C!—24烧基、C^24烷基羰基或經鹵素取代的Cl 24烷基羰基、 C〗-24烧氧基羰基、c：6_24芳基、c7 24芳烷基或〇6 24芳基-或 烧基-幾基；或r1G4及r1G5可一起形成5至7員雜環。 15實例有胺基、甲基胺基、乙基胺基、二甲基胺基、二乙基 胺基、苯基胺基、曱氧基羰基胺基、乙醯胺基、乙基羰基 胺基、環己基羰基胺基、苯甲醯基胺基或氯乙醯基胺基、 嗎福琳基、N-六氫吼唆基或N-吼洛唆基。

Cl-24烷氧基羰基經了解為直鏈或分枝的¢:(0)0-(:^24烷 20 基，較佳為CCCOO-Cw烷基，諸如例如甲氧基-、乙氧基_ 、正丙氧基-、異丙氧基-、正丁氧基_、二級丁氧基-、異 丁氡基-或三級丁氧基-羰基。C6_24芳基-或C7_24芳烷基-羰 基的實例各別有苯基羰基及苄基羰基。 根據本發明，”銨基”經了解為_NR106R1()7R1()8基團，其 14 200406466 玫、發明說明 中 R106、r107 108 1 4虱原子或未經取代或經取代的烷基 、芳基或芳烷基。 (芳香族）雜環（或環系統）之實例有含有3至12個碳原子 的雜環類，例如2_噻吩*、2-呋喃基、b比哇基…比咬 基、2』塞唾基、2今坐基、2令坐基、異心基、三唾基 或任何其它由未經取代或經！至6個乙基、甲基、亞乙基及 /或亞甲基取代基取代之噻吩、呋喃、咄唑、噻唑、哼唑 、咪唑、異噻唑、噻 唾、三唾、咄啶或苯環組成的環系 統0 1〇 飽和雜環的實例有含有4至6個碳原子而具有一個或二 個延自於氮、^及硫的雜原子之雜環烧類，㈣口四氫口夫喃 四氫辰南、丨，4·二哼烷、噻嗦、哌啶、γ-丁内酯、5·胺 基戊fee内fc胺或Ρ比U各院。 石厌裱或環系統之實例有含有5至12個碳原子的環烷基 颏（例如環戊烷、環己烷或環庚烷）、或具有6至Μ個碳原子 的芳香環（諸如苯基或萘基）。 在上文的式屮1)及屮2)中提供之基團的定義可應用至 整個發明，除非另有其他詳細指明。

Me較佳為次族9、10或11的過渡金屬，特別是Cu、鎳 20 或鈷。 R及R較佳為氫原子或Cm烧基，特別是甲基或乙基。 R R 、R及較佳為氫原子、未經取代或經碟酸 酯基（例如（PH0)(H0)P(0)0_)取代的Ci·24烷基、磷酸基或 磷酸酯基、或未經取代或經磺酸基取代的苯基；或尺2與尺3 15 200406466 砍、發明說明 一起或R2與R3 一起較佳地形成 雙鍵或一

環烷環或雜環 ♦也一起形成一種下列的芳香族雜環 、及R3’較隹

—N、 — * Me A ——N、 /N— Me (為 了清楚的理由加入N及 5 Me ;所形成的環以粗體強調）。 R R R及R較佳為氫原子或未經取代或經取代 的Cw烧基、苯基或卡基；錢7與r7_起及/或^與#〆 起形成一幾基或硫羰基。 較佳的D1及D2基團具有下列結構： n51

R51、R5、r54=h ; r52=CH3、〇Η、。1办 〇、Br、C1 、2,4,4-三甲基戊基-i-氧基甲基或so3h ; r51、r52、r54=H ; R53=CH3、OH、C4H9O、C8H170、 15 Cl#250、3,5,5-三甲基己氧基、2-辛基十二烷氧基、Rx〇- [CH2CH2-〇-]x(其中Rx為甲基及X為1，或Rx為乙基及x為2， 16 200406466 玖、發明說明 或Rx為丁基及X為2，或Rx為甲基及X為3)、 (ch3ch2o)2p(=o)o>^h2nc(=o)ch2o-; R51、R52、R53=H、R54=〇CH3、CH3 或 OH ; R5丨、R54=H及R52=S03H、R53=CH3 ; 5 R51、R53=H及 R52、R54二cn、CH3、OH 或 Br ; R51、R53=H及R52=t-Bu、R54=CH3 ; R51、R53二H及R52=a、R54=s〇3h ; R51、R5^H及R52=Br、R54=S03H ; R51、R53二H及 R52=a、R54=〇CH3 ;或 10 R51、R、H及 R52=s〇3H、R54=OCH3 或 CH3 ; R61、R62 、：R6'及R64的較佳意義相同；

其中 R55=H、R56=H、C02H、C02CH3 或 c(二0)NHPh ; R =Br、R =c〇2H ;或R55 = s〇3H、R56=H。 έ物為K與R。一起或R2與R3 一起 或R2與R3之實例可為氰基。此式 所提供的進一步較佳物為R2與R3—起 形成一雙鍵·，及R2’與R3’或R2輿R3之膏彻7 (I)之化B物可經著色且對折射率產生貢獻。因此，本發明 亦關於在訊息的光學儲存中使用式（M)之金屬錯合物，其 中Me D及D、R &R6、RjR4如上文所定義、 20形成一雙鍵及R2’與R3,為氰基。 该金屬錯合物較佳為下式之化合物 17 200406466 玖、發明說明

(卜3}或 (1-4) 其中Me為Cu、Ni、Co或Zn，特別是Cu ; R51、R52、R”、R54、R61、R62、R63及R64可為氫原子 、鹵素原子（諸如氟、氯或溴）、胺基、烷基胺基、二烧基 5 胺基、頌基、氰基、經基、烧基、經烧基、垸氧基、 經-0-或-S-岔斷一次或多次的烧基、醯基、苯基、g旨基（諸 如鱗酸、碟酸或魏酸g旨基）、Μ酿胺基、硫酿胺基、-_或 三烧基錢、魏酸或磺酸或填酸基團或其鹽類；或 R51與R52—起及/或R61與R62—起形成未經取代或經取 10 代的苯環； R1及R4每個可彼此各自獨立地為氫原子或未經取代或 經取代的烷基、芳基或芳烷基； R2、R2’、R3及Κ可為氫原子、氰基或仏^烷基；或化2 與R·3—起及/或R2與R3—起形成一雙鍵、一包含5至7個碳 15原子之未經取代或經取代的環烷基環（特別是環己烧環）， 18 200406466 玖、發明說明 或包含5至7個峻原子之未經取代或經取代的芳香環（特別 是苯環）； R7、R7、R8及R8每個可彼此各自獨立地為氫原子或 未經取代或經取代的Cm烷基、苯基或千基；或 R7與R7 —起及/或…與反8 一起每個可彼此各自獨立地 形成一獄基或硫魏基。 該金屬錯合物特別為下式之化合物

R53 R! (卜5)或

其中 Me為 Cu、Ni 或 Co ; R51、R52、R53、R54、R6i、R62、 R及R可為氫原子、氯原子、溴原子、經基、未經取代或經 一或二烧基銨取代的Cw烧基、未經取代或經二或三烧基銨取 代的^^6烧氧基、經或岔斷一次或多次之未經取代或經 二或三烷基銨取代的CN8烷基、酯基（諸如羧酸酯-C(0：)OR1〇1、 膦酸酯-P(〇)〇R1020R103 或磷酸酯-〇p(〇)〇R102〇Rl03，其中Rl〇1 15 可為未經取代或經取代的CM2烷基、C^2芳基或c712芳烧基） 19 2〇〇4〇6466 玖、發明說明 、或經-〇-或-s-岔斷一次或多次之未經取代或經羥基取代 的Α·12烷基，諸如例如-C(0)OCH2CH2〇ch2CH2〇ch(CH3)2 或-c(o)och2ch2och2ch2oh ; r1G2及可為氫原子、未經 取代或經取代的^-丨2烷基、CV〗2芳基或芳烷基或 5經-0 -或-s -岔斷一次或多次之為未經取代或經羥基取代的 CM2烷基（諸如例如，_c(〇)OCH2CH2〇CH2CH2〇cHeH^ 或-c(〇)〇CH2CH2〇CH2CH2〇h)、_胺基、硫酿胺基或二或 三絲銨；R1及R4每個可彼此各自獨立地為氫原子或絲；r2 ^及^可為氫原十氰基或〜院基：伙…對和 10 R與以3對一起形成一雙鍵或環己烷環；R51、R52、r53、r54、 R — R、R AR的至少—個基團可為二或三燒基録或經二 或三烷基銨取代； 15 R7、R7’、R8及R8’每個可彼此各自獨立地為氫原子或 未經取代或經取代的Cl_8烷基、苯基或千基；或 …R7與R7-以/伙與#_起每對可彼此各自獨立地 形成-碳基或硫幾基’所以它們可作為根據本發明之 若染料的陽離子。 、 此離子對的實例可為下列指出的組成物M_U : 20 200406466 玫、發明說明

其中鉍基不作為根據本發明的奥斯若染料之陽離子， 陰離子之實例則有無機或有機陰離子，諸如羧酸鹽類、磺 酸鹽類、酚鹽類、膦酸鹽類、Ci·、Br~、r&cl〇4-。 5 所提供的式（1-5)及（1_6)之化合物的特別較佳物有： 其中 Me 可為 Cu、Ni 或 Co ; R5i、r52、r53、r54、r61、 10

及R “可為氫原子、氯或漠原子、胺基、Ci4 基胺基、二（Cw烷基）胺基、氰基、羥基、烷基、未 經取代或經三（Cw烷基）銨基取代的Ciw烷氧基、Rll〇i [CH2CH2_0-]xl基團（其中&11()為Ci·4烷基及χι為數字1 至4)、羧酸酯基、磷酸酯基、羰醯胺基、硫醯胺基、三 (c!_4烷基）銨基、羧酸或磺酸或磷酸基團或其鹽類丨或r5】 與R52 -起及/或R61與R62 一起形成未經取代或經取代的 苯環；R1及R4每個可彼此各自獨立地為氫原子或C"烷 基；R2與R。可為氫原子或Ch烷基或可一起形成一雙鍵 或環己烷環，特別是式（1-5)之化合物，其中該些取代2如 在下列表1中之定義： 21 15 200406466 玫、發明說明 -)^聆 ' 丨涂«糸鉍(^荈菇.)^聆 ' 丨啟«奔丨难溶.)Rr^'^^^丨啟浚^舛錁..^»^,—*^、^ R--聆 Rs\’4^^>t_^;5lno)OCH2CH2‘OCH2CHoH。':' 〇 ω U1 ω ίο 03 ω cn ω ro 00 ω ΓΟ 03 〇 N) CD 丨實例 M-23 ] Μ-22 1 Μ-21 I M-20 Μ-19Ί M-18 I M-17 I Μ-16 Μ-15 I M-14 I t M-13 ] I M-12 I | M-11 I | M-10 I 丨 Μ-9 I 2 ά> | Μ-7 | I M-6 | cn <k <ώ ΓΟ 2 <10 1 ^L |化合物 工 X 工 X 工 X 工 工 工 〇 工 X 工 工 工 工 X X X 工 X 工 工 工 < ω 工 工 工 〇φ <Ω 工 工 工. 工 X 工 工 工 工 工 工 工 工 X 工 NJ 工 X 9 φ 3- 6 X 〇 ΤΙ 〇 Ρ ΪΟ Z 2 ΓΟ 工 工 X 工 工 工 〇 B a. 6 <? 〇 P F 〇 P 工 9 C? 〇 Ρ ? 〇 〇 〇 〇 κ 工 工 X OCH2CH2- -N_(CH3)3Y-_ +N(CH3)3V* +N(CH3)3V* 工 03 U] 工 工 X 工 工 工 P CD X子 (〇 工 工 〇 工 X 工 工 X I och3 I 〇 (? X 工 X 工 X X 工 工 工 X 工 工 工 工 〇 I 工 X 工 工 工 工 工 工 工 工 X 工 工 ·< ω 工 工 工 P (D X? u> 工 X X X 工 工 工 I X X 工 J- 工 工 工 % 工 工 O-tert-CijHg j 工 〇 "0 〇 9 工 cn 2 S 工 工 工 工 X X 9 (D 7X 6 ? 〇 b 9 g P 〇 9 ? 〇 〇 〇 ρ 工 工 工 OCH2CH2- +N(CH3)3Y* +N(CH3)3Y* +n(ch3)3y· +N(CH3)3Y- % 〇} 工 工 工 工 工 工 Οφ X? to X 工 〇 X X 工 X 工 〇 〇 ω- 〇 ? 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 X 工 工 P C? 工 工 工 工 工 X 工 工 X 工 〇 工 工 X 工 工 工 工 工 X 工 X 9 X 工 工 工 工 工 工 X X 工 工 3D to ω 工 工 二 二 Ci 工 工 X 工 工 工 X 工 工 工 工 X to ω 工 工 二 二 二 X X X 工 工 工 工 工 工 工 - X 〇 ο ζ o z 工 工 工 X 工 工 工 工 工 X X X 工 工 工 工 工 工 工 工 ο ζ u> o z 工 工 工 工 工 X 工 工 工 工 工 X 工 X X 工 工 工 工 〇 =¾ ζ ζ z 〇 C 〇 ?· 〇 〇 C p 〇 C 〇 C 〇 C 〇 C 〇 匚 〇 C 〇 C 〇 C ρ 〇 ρ 〇 C 1 22 200406466 玖、發明說明

(普理敏(Primene)81R®的理想化表示法) (羅姆&海斯(Rohm & Haas)公司，C12 μ 胺異搆物之;$全物） 上文描述的式⑴之金屬錯合物可根據（或類似於）在 ΕΡ-Α-200843 、 ΕΡ-Α-162811 、 ΕΡ-Α-362139及ΕΡ-Α-436470 中所描述的方法來製備。 5 根據本發明，奥斯若染料經了解為下列一般式之化合 物：

及

其中X1為=0、=NR9或=C(CN)2，R9為一取代基；X2 為-0、-NR9或-C(CN)2，R9為一取代基；E及G在每個實例 10 中為形成具有共軛雙鍵的鏈時所需之原子基團；X及y為〇 或1 ; Mk+為有機或無機陽離子；k為1至10的整數；及m為 0、1、2、3或4，其意謂著除了真實的奥斯若染料（X1、 X2=0)外，亦包括奥斯若染料（X1及/或X2#〇)的衍生物。 23 200406466 玫、發明說明 更特別地，該奥斯若染料為下式之化合物： 以 丨M- B1 八X”X2 人 B2

Jk (IM)或

Mk+ ("•2)， 1 '、中A、A、Β及Β2在每個實例中皆為_取代基. 及z在母個貝例中皆為形成碳環或雜環所需的原子基 E及G在每個實例中皆為形成具有共㈣鍵的鏈所^ : 10 子基團，· Χΐ為=〇、=NR9或，CN)2 ’ R9為一取代基.^ 為-〇、-败i_c(cn)2，a —取代基；^—可經^切 甲川，或一由聚甲川基團所完成的基團，其可由3、5或: 個甲川連接㈣成—具有共㈣鍵之可經取代的鏈；化 為有機或無機陽離子，式㈣或（1_2)之金屬錯合物亦可為 °亥陽離子，只要其攜帶一個或多個正電荷；X及y為〇或j ; 及k為整數1至1()，所提供的式（π_2)之奥斯若染料較佳物 超過式（II-1)的那些。 由A、A、B1及B2基團所表示的取代基實例有·· 未經取代或經取代之直鏈或分枝的Ci24烷基，較佳為 Ci-8烷基’諸如例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁 24 200406466 玖、發明說明 基、二級丁基、異丁基、三級丁基、環丁基、正戊基、2_ 戊基、3-戊基、2，2-二甲基丙基、己基、庚基、2,4,4-三甲 基戊基、2-乙基己基或辛基、乙氧基羰基乙基、氰基乙基 、二乙基胺基乙基、氯乙基、乙酿氧基乙基及三氟曱基； 5 10 未經取代或經取代之直鏈或分枝的c224烯基，較佳為 C2·8稀基，諸如例如乙稀基、烯丙基、2-丙婦-2_基、2-丁 婦-1-基、3-丁烯-1-基、1，3-丁二烯-2-基、2-戊烯-1-基、3-戊烯-2-基、2-甲基-1-丁烯-3-基、2-甲基-3-丁烯-2-基、3-甲基-2-丁烯-1-基、1，4-戊二烯-3-基、或任何己烯基、辛 烯基、壬烯基、癸烯基、十二碳烯基、十四碳烯基、十六 碳烯基、十八碳烯基、二十碳烯基、二十一碳烯基、二十 二碳烯基、二十四碳烯基、己二烯基、辛二烯基、壬二烯 基、癸二烯基、十二碳二烯基、十四碳二烯基、十六碳二 烯基、十八碳二烯基或二十碳二烯基之異構物； 15 直鏈或分枝的C!_24烷氧基，也就是說〇-Ci_24烷基，諸 例如曱氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基 二級丁氧基、異丁氧基、三級丁氧基、正戊氧基、孓戊 氧基、3-戊氧基、2,2-二甲基丙氧基 正己氧基、正庚氧 基、正辛氧基、1，1，3,3-四甲基丁氧基或2_乙基己氧基 20 直鏈或分枝的Cl.24烧疏基，也就是說Μα烧基， 減硫基的實例為在〇1.24垸氧基中所指出的實例，其中喊 鍵的氧原子由硫原子置換； C0_24芳氧基，也就是說〇-c6_24芳基， 或4-甲氧基苯基； 諸如例如苯氧基 25 2〇〇4〇6466 玖、發明說明 C6·24芳硫基，也就是說S-C6_24芳基，諸如例如苯硫基 或4-甲氧基苯硫基； 未經取代或經取代之直鏈或分枝的C2_24炔基，較佳為 C2-8炔基，諸如例如乙炔基、1-丙快-3-基、丁炔_4-基、 1·戊炔-5-基、2-甲基-3-丁炔-2-基、1，4-戊二炔_3_基、1，3_ 戊一炔-5-基、1-己炔-6-基、順-3-甲基-2-戊烯-4-炔-1-基、 反-3-甲基-2-戊烯-4-炔-1-基、1，3-己二炔-5·基、卜辛炔-8- 基、1-壬炔_9_基、1-癸炔-ίο-基或1-二十四碳炔_24_基； 未經取代或經取代之C2_ls醯基，較佳為c2 8醯基，諸 10 如例如乙醯基、丙醯基、丁醯基或氯乙醯基； 可經取代的C〗—24烧基礙基，較佳為C1-8烧基楓基或c6_ 24芳基礙基，較佳為C6_8芳基颯基，諸如例如對-甲苯續酉藍 基；

Cm環烷基，諸如例如環丙基、環丙基-甲基、環丁 15 基、環戊基、環己基、環己基-甲基、三甲基環己基、岩 柏基、降冰片基、稻基、降蒈基、蒈基、蓋基、降蒎基、 蔽基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、5α-留基或5ξ-孕基； ◦6-24芳基，較佳為C6_10芳基，諸如例如苯基、4-甲基 笨基、4-曱氧基苯基、萘基、聯苯基、2-第基、菲基、葱 20 基或聯三笨基； 可經取代的C7—24芳烷基，較佳為C7]2芳烷基，諸如例 如苄基、2-苄基-2-丙基、β-苯乙基、9-苐基、α，α-二甲基 卡基、ω-苯基_丁基、ω-苯基-辛基、ω_苯基-十二烧基或 甲基4-(1，，1，，3，，3，-四甲基-丁基）-苄基； 26 200406466 玫、發明說明 直鏈或分枝的Cu4烷氧基羰基，也就是說¢(0)0-(^-24 烷基，較佳為CCCOO-Cw烷基，諸如例如曱氧基_、乙氧 基-、正丙氧基_、異丙氧基_、正丁氧基_、二級丁氧基-、 異丁氧基-或三級丁氧基-羰基； 5 Cm芳氧基羰基，也就是說C(0)0-C7_24芳基，較佳為 CCCOO-C^2芳基，諸如例如苯氧基羰基、4_甲基苯氧基羰 基或4-甲氧基苯氧基羰基； 可未經取代或經取代的C2_u醯氧基，較佳為c2_8醯氧 基，諸如例如乙酸基、乙基羰基氧基、環己基羰基氧基、 10苯甲醯氧基或氯乙醯氧基； 可未經取代或經取代的^^胺甲醯基，較佳為Cw胺 甲醯基，諸如例如胺甲醯基、甲基胺罕醯基、乙基胺甲醯 基、正丁基胺甲醯基、三級丁基胺甲醯基、二甲基胺甲醯 氧基、嗎福琳甲胺酿基或吼嘻σ定胺甲酿基； 15 可未經取代或經取代的乂^·〗8胺甲醯氧基，較佳為c2_8 月女甲醯氧基’諸如例如甲基胺甲醯氧基或二乙基胺甲醯氧 基； 可未I取代或經取代之具有〇至18(較佳為〇至8)個碳原 子的胺石黃酿基’諸如例如胺石黃酿基、甲基胺石黃酿基或苯基 20 胺續醯基； 具有3至12個碳原子的雜環，例如2_噻吩基、2_呋喃邊 、1-吼唾基、2-吼σ定基、2“塞0坐基、2十坐基、味唑遵 、異喧唾基、三 σ坐、σ号哇、咪唾 唑基及任何其它由噻吩、呋喃、吡唑、噻 異噻唑、噻二唑、三唑、吡啶或未經取 27 200406466 玖、發明說明 代或經1至6個乙基、甲基、伸乙基及/或亞甲基取代基取 代的苯環所組成之環系統； 鹵素原子’諸如氟、氯或溴； 羥基、硝基、氰基或羧基、或胺基_nr1〇6r1()7(其中 5 R1G6及R1G7每個可彼此各自獨立地為氮原子、Gw烧基、 G-24烷基羰基、Cl_24烷氧基羰基、C6_24芳基、芳烷基 、C6·24芳基羰基、C：6·24芳氧基羰基、Cm芳硫基羰基）， 諸如例如胺基、甲基胺基、乙基胺基、二甲基胺基、二乙 基胺基、苯基胺基、甲氧基幾基胺基、乙酸胺基、乙基幾 10基胺基、環己基幾基胺基、苯甲酿基胺基或氯乙酿基胺基 •’或R1G6及R1G7—起形成5至7員雜環，諸如嗎福啉基、N_ 六氫吼σ定基或N ·吼σ各σ定基。 當基團為未經取代或經取代時，該取代基的實例有上 述提及之由A1、A2、Β1及Β2基團表示的那些取代基。X、 15 二Ο、=NR9 或二 C(CN)2，較佳為=〇 ;及乂2為_〇、-舰9 或-C(CN)2，較佳為_〇，取代基R9的實例有提供於上述之 A1、A^B1及B2中的實例。基團=]1_通常可由下式表示： R30 R32 R& 036

其中 R30、R31、r32、R33、R34、R35及R36每個可彼此 各自獨立地為氫原子、函素原子（諸如氣、氯或漠）、未經 取代或經取代的〇〗_8烷基（例如Cls全氟烷基，諸如三氟甲 基）、未經取代或經取代的C6_1G芳基（諸如苯基）、未經取代 28 20 200406466

玖、發明說明 或經取代的c7,芳烷基(諸如节基或對-甲氧基爷基) 有2至10個碳原子之雜環、X 未經取代或經取代的Cl_4烷氧基 (諸如甲氧基）、環烷轰 衣k礼基（諸如環己氧基）、胺基_ NR106R107(R106 及 R107 如上一 丄又所疋義）、烷基羰基氧基（諸如 5 或具 乙酸基）、烧琉基（諸如甲访宜 土）、芳石荒基（諸如苯石荒基）、氰 基或确基；或 二個 R30、R31、R32、r33 R34、R35及R36取代基（其位 )一起形成未經取代或經取代而具有 诸如可未經取代或經一個或夕個 10 於彼此相關的1，3 -位置 5或6個碳原子的碳環 C"絲及/或烧氧基取代之環己稀基或環戍婦基；p q及r為〇或1。 L較佳地選自於下列基團：

29 200406466 玖、發明說明 其中P及q每個可彼此各自獨立地為0或1、γ為氮原子 、未經取代或經取代的Cl_4烷基（諸如甲基或三氟甲基）、 未經取代或經取代的C7_!2芳烧基（諸如节基或對-甲氧基节 基）、未經取代或經取代的芳基（諸如苯基、間-氣苯基 5 或萘基）、未經取代或經取代的Cw烷氧基（諸如甲氧基）、 C5-7環燒氧基（諸如環己氧基）、二取代的胺基_nr1〇6r1〇7 (R1G6及Rm如上文所定義（除了氫原子外），諸如二甲基、 一苯基或甲基苯基、嗎福啉基、咪唑□基或乙氧基羰基 /、氫吡σ疋基）、烷基羰基氧基（諸如乙酸基）、烷硫基（諸如 10甲硫基）、芳硫基（諸如苯硫基）、氰基、硝基或鹵素原子（ 、氣或漠原子）。所提供的Υ之特別較佳物有氫原子 氣原子或對-甲基苯基，及L為L-2或L-4基團。 碳環或雜環的實例如下：

30 200406466 玖、發明說明

Ra

Ra、 N- 〇 〇Rb n

(A-10), N-Ra 0 (A-12),

Ra、

O 0

Ra 〇-

Ra、

O /-so2 Λ

Rb

(A-13),RU〇 (A-14), Ra

Rb

^—NRb -NRc

/—S (A-15), (A-16),

Rb (A-17),

O (A-18),

Ra、 0 N-

Ra、N s

^NRb

Ra、

λ—NRb S Ra、 0 N

(A-19),

RbN "i〇 ^—NRc (A-21),

Rb

〇 (A-20), O

Ra、

O N

(A-23), 〇 (A-24), (A-22),

RbN

O 〇

:N (A，25), (A-27)，

Ra、 *〇 N

Ra、 〇 N- (A-26), Ra

S (A-28),

S (A-29), (A-30), 31 200406466 玖、發明說明

Ra、 »s N

RbN

Ra、 Rb^ 、〇Λ (A-33), (A-31)，

〇

Ra O Ra Rb

-N (A-43),

Ra N- S=< S—^ 〇 〇 〇 (A-44),

Rb N^O I Ra

Ra II

(A-47), 其中Ra、Rb及Rc每個可彼此各自獨立地如上文定義 的A1、A2、B1及B2基圑。 在式II-2中包含Y1、（E)x及X1、及Z1、（G)y&X2的環可 32 200406466 玖、發明說明 相同或不同。例如，當合成起始自二種不同經取代的基團 (A_9)及(A，時’原則上可形成三種化合物，換句話說呈 有二個㈣基團或：導9，)基團的化合物及具有（Μ)與 (A-9’）二基團的化合物。該種類的混合物亦可使用作為根 據本發明之奥斯若染料。表示法”至少一種奥斯若染料"可 包含任何數量的奥斯若染料’但是通常意指著⑴，較佳 為1、2或3種奥斯若染料。 在上文提及的（A-im(A_47)基團中，所提供的較佳物 ίο 15 為，、（八^八介^⑴及…句基團^別的較佳 物為（A-9)。 尸，為有機或無機陽離子。由Mk+表示的陽離子實例有 謂離子、金屬陽離子（諸如納、钾、鐘、舞、鐵及銅離 子）、金屬錯合物陽離子、銨陽離子（包括陽離子染料及吼 _離子)、銕、鲜、鱗、石西及錤離子。根據本發明， 該陽離子通常選自於可經—陽離子基團取代的式叫）、⑴ 2)、（1-3)、（1-4)、（1_5)及（1_6)之銨陽離子、陽離子染料及 金屬錯合物。 原則上，可使用任何陽離子染料。對DVD來說，在 550至620奈米範圍具有最大吸收的陽離子染料較佳；而對 2〇 DVR來說’在少於45〇奈米處具有最大吸收的陽離子染料 較佳。此陽離子染料的實例有曱川染料，特別是花腈染料 ’諸如零-、單-、二_、三·及五-甲川花睛染料及較高的聯 乙烯物花腈染料（例如，參見Ullmanns Enzykl〇padie如犷

Technischen Chemie，第 4版（1978)，16冊，ρ·65〇_656 ·第 33 200406466 玖、發明說明 5版，A16冊，509-517)、三芳基-及二芳基-甲烷染料，諸 如二苯基-及三苯基-甲烷染料及咕噸染料（例如，參見 Ullmanns EnzyklopSdie der Technischen Chemie，第 4 版 (1978) ’ 23 冊，P.387-388、389-405 及 408-415 ;第 5 版， 5 A27 冊，ρ· 186-188、189-204 及 209-218)及吖畊染料，諸如 吩唯、哼啡及噻畊染料{例如，參見Ullmanns

Enzyklopadie der Technischen Chemie，第 5 版（1985)，A3 冊，P.216-223，224-229及229-235}。 根據本發明，所提供的聚甲川染料較佳物為下式 10 中 r73R74其中

R71 〆+ R76 R76 (V)描述在 W098/28737

Al及八2每個可彼此各自獨立地為C(CH3)2、〇、S、Se 或未經取代或經ci_C5烧基-或千基-取代的CH=CH ; Q 為 CR85、CR85 cr86 = cr87 或 cr85_cr86 = cr87_cr88 = 15 CR89 ； R及R72每個可彼此各自獨立地為未經取代或經鹵素 爹工基Cl·12烷氧基或氰基取代一次或多次之c1-12烷基或 q-u烯基；或未經取代或經尺77基團或經二個R77及KM基團 取代之C6-12芳基或。7_12芳烷基； R 、尺74、尺75及反76每個可彼此各自獨立地為氫、鹵 素硝基、氰基、羥基、胺基、NHR79、nr79r8g、⑶皿 、CONHR79、c〇nr79r8〇、s〇^_Ci2 烧基⑽2丽2、 34 20 200406466 玖、發明說明 S02NHR79、S02NR79R80、COOH、COOR81、NHc〇r82、 NR81COR82、NHCOOR82、NR81COOR82、或未經取代或和、 單-或多-鹵-、-經基•或-氰基-取代的Ci-12烧基、u燒石斧 基或Ci_12烧氧基；或 5 R73與R74對一起及/或R75與R76對一起為未經取代或經 R8·"基團或經二個R8·3及R84基團取代之1，4-丁 -i，3-伸二稀美 ，所以與共同的苯基一起形成萘基； R85、R86、R87、R88及R89每個可彼此各自獨立地為氫 、鹵素、CNi2烷氧基、未經取代或經單·或多-鹵—、*經基_ 10或-氰基-取代的Cl_12烷基、芳基、Cy-Ci2芳烷基或 nr79r80 ;或 R85與R87對一起、1186與汉88對一起或r87與r89對一起為 未經取代或經R83基團或經二個及R84基團取代之伸乙基 、亞乙基、伸丙基、亞丙基、鄰_伸苯基、α，孓亞苄基或 15 1，8-亞萘基； R77及R78每個可彼此各自獨立地為氫、鹵素、硝基、 氰基、經基、胺基、NHR79、NRH c〇NH2、⑶nhr79 、CONR R、S〇2C】i2 烷基、s〇师2、s〇2Nhr79、 S〇2NR79R8Q、C00H、C〇〇R81、NHCOR82、nr8丨c〇r82、 20 NHCOOR82 ^ NR81C〇〇r82-V' i λ- ^ , 〇〇R或未經取代或經鹵素、羥基或氰 基取代:次或多次之Cm2烷基、Cm2烷硫基或Ci- !2烷氧基； 及R每個可彼此各自獨立地為未經取代或經函素 匕基或<^_12絲基取代—次或多:欠之Cm録或〔212烯 土或未I取代或經Rl基團或二個R83及R84基團取代之 35 2〇〇4〇6466 玖、發明說明 C6-C〗2方基或C7-C12芳烧基；或 5 與共同N__㈣未經取代或經基取代 1至4次之料L㈣、㈣或嗎料；或未經取代或經 …基團或二個心-基團取代之十坐、吩十井或吩你 心82每個可彼此各自獨立地為未經取代編素 、經基或氧基取代-次❹次的Cii2絲或^稀 基；或未經*代或經r83基團或二個r83及R84基團取代的 C6-12*C7-C12#烷基； R83及R “每個可彼此各自獨立地為^、硝基、氮基 10 、經基、Nff、C0NH2、c〇NHr90、c〇nr9〇r9i、 S〇2Cm2院基、sc^nW1、C00H、⑶⑽92、nh(：qr93 、随C00R93、NR92COR93、NR92c〇〇R93或未經取代或經 齒素取代一次或多次Cm2烷基或c丨丨2烷氧基； 1 R、R91每個可彼此各自獨立地為氫、C6]2芳基、 15芳縣、或未經取代或經鹵素、經基扣七燒氧基取代一 一人或多次之Cl-12烧基或Cn2稀基；或 R9。及R91可與共’一起為未經取代或經c"烷基取代 1至4次的吡咯烷、哌啶、哌啡或嗎福啉；或咔唑、吩噚畊 或吩噻畊；及 R92及R93每個可彼此各自獨立地為未經取代或經齒素 、經基或h成氧基取代—次或多次之c“2芳基、^芳 烷基、或C^2烷基或c^2烯基。所提供的化合物CY_1_CY_ 24之較佳物則描述在w〇98/28737之實例A1至A24中。 陽離子為花腈染料的較佳組成物實例有描述在實例25 36 200406466 玖、發明說明 及26中的組成物D_50及D-51 :

原則上，那些經一個或多個陽離子基團（特別是銨基 團）取代的式（1-1)或（1-2)之金屬錯合物可合適作為陽離子 5 Mk+ 〇

Mk+亦可為式+NR"R12R13R14之銨陽離子，其中Rll、 R 、R及R 4可為氫原子、未經取代或經取代之直鏈或分 枝的C i _36烧基’較佳為c μ 6烧基，諸如例如甲基、乙基、 正丙基、異丙基、正丁基、二級丁基、異丁基、三級丁基 10 、環丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2，2-二甲基丙基、 己基、庚基、2,4,4-三甲基戊基、2-乙基己基或辛基、乙 氧基羰基乙基、氰基乙基、二乙基胺基乙基、氯乙基、乙 酉盘氧基乙基及三氟甲基； 未#二取代或經取代之直鍵或分枝的C2·36婦基，較佳為 15 C2-16烯基，諸如例如乙烯基、烯丙基、2-丙烯-2-基、2-丁 37 200406466 玖、發明說明 烯-1-基、3-丁烯-1-基、1，3-丁二婦-2-基、2-戊烯小基、3· 戊烯-2-基、2-甲基-1-丁烯-3-基、2-甲基丁烯_2_基、3_ 甲基-2-丁鄉-1-基、1，4-戊一細-3-基、或任何己稀基、辛 烯基、壬烯基、癸烯基、十二碳烯基、十四碳烯基、十六 5 碳烯基、十八碳烯基、二十碳烯基、二十一碳稀基、二十 二碳稀基、二十四碳稀基、己二婦基、辛二婦基、壬二稀 基、癸二烯基、十二碳二烯基、十四碳二烯基、十六碳二 稀基、十八破二烯基或二十碳二烯基之異構物； 未經取代或經取代之〇2_36@篮基’較佳為c216酿基，諸 10 如例如乙醢基、丙酿基、丁醯基或氯乙醯基； 可經取代之C^24烷基颯基，較佳為^^烷基颯基或 c^24芳基颯基，較佳為C6_8芳基颯基，諸如例如對_曱苯礙 基； 可經取代的Cm環烧基，諸如例如環丙基、環丙基_ 15甲基、環丁基、環戊基、環己基、環己基-曱基、三甲基_ 晨己基、石柏基、降冰片基、為基、降藝基、藝基、蓋其 降蒎基、蒎基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、5α-留基或 孕基； 可經取代之C0·24芳基，較佳為芳基，諸如例如 2 0 貧— 土、4-甲基苯基、4_甲氧基苯基、萘基、聯苯基、第基 、菲基、蒽基或聯三苯基； 可經取代之Cm芳烷基，較佳為Cm芳烷基，諸如例 汝苄基、2-苄基_2-丙基、β·苯乙基、9_第基、α，α_二甲基 卡基、如苯基·丁基、ω_苯基-辛基、ω-苯基-十二烷基或3· 38 200406466 玖、發明說明 直鏈或分枝的C!_24烷氧基羰基，也就是說C(〇)〇-Ci24 烧基較佳為〔（C^O-C〗—8烧基，諸如例如曱氧基-、乙氧 基-正丙氧基_、異丙氧基_、正丁氧基_、二級丁氧基_、 5異丁氧基-或三級丁氧基-羰基；或 具有3至12個碳原子的雜環，例如2_噻吩基、2_呋喃基 1比丄基、2 - 口比σ疋基、2 - σ塞唾基、2 - σ号σ坐基、2 - 口米嗤基 異塞唑基 '二唑基或任何其它由嗔吩、吱喃、咄唑、噻 坐5唑、咪唑、異噻唑、噻二唑、三唑、咄啶或未經取 10代或經1至6個乙基、甲基、伸乙基及/或亞甲基取代基取 代的苯環所組成之環系統。 一級、二級、三級及四級銨陽離子亦合適。 該四價氮亦可為5或員環的一個成員。那些系統亦 可包含其它雜原+，諸士口例如S、Ν及0。H统的實例有 15 何生自丨，5·—吖雙環[4.3.0]壬_5_烯吖雙環 [5.4.0]十一-7-烯（DBU)之銨陽離子。 亦口適的有含有1至10(特別是2至4)個銨陽離子的聚銨 鹽，在此實例中，卜、+、^丄 上速彳田述的”單”化合物之取代基可存在 於氮處，且該四價氮亦可為5或6員環的一個成員（例如， 2〇參見在下文中所提供的式叫至外8)。 以實例說明之，太τ ^US-Bl-6 225 024中提到的化合物 B1至B180為四級銨陽離子的實例。 下列提供錢陽離子的較佳物： 39 玖、發明說明

(v卜1)， (VI-2), 10 15 中R R及R每個可彼此各自獨立地為氫原子 未、、二取代或經例如1至3個Cm烷基取代之C3_24環烷基（諸 如％己基或3,3,5-三甲基環己基或松香胺£))、或直鏈或分 枝的α·24烷基；Rii、Rn、R13&R14可為氫原子、未經取 代或經取代之直鏈或分枝的Cu6烷基，較佳為〔1_16烷基； 在R11、R12、R13及Rl4基團中的碳原子總數範圍為4至36， 較it為8至22，此因為其空間遮蔽而可提供為銨陽離子的 特別較佳物，其可衍生自2,6-二-三級丁基π比啶鑽或具有高 分枝的烷基鏈之一級脂肪胺（其中該胺氮已鍵結至三級碳 原子），諸如晋理敏8 1-R®(羅姆&海斯公司，具有丨2至14個 碳原子的胺異構物之混合物）或普理敏JM_T⑧（羅姆&海斯 a司，具有16至22個碳原子的胺異構物之混合物）或乙基 二異丙基胺（漢尼格氏（HUnig，s)鹼）；或可為直鏈或分枝的 羥基-Cw6烷基（特別是羥基-C!—8烷基）、C624芳基（特別是 C6-ig芳基）或Cm4芳烷基（特別是C7_u芳烷基）；或二個Rii 、R12、Rb及R14基團可與它們鍵結的氮原子一起形成5或6 員雜環，諸如N-咄咯啶基、N-六氫咄啶基或嗎福啉基；或

(VI·3)，較佳為

N—R丨 (VW)或

66 (VI-5), 20 其中R及R母個可彼=各自獨立地為一取代基；R65 200406466 玖、發明說明 及R66每個可彼此各自獨立地為經取代或未經取代的烷基 、經取代或未經取__、經取代縣經取代的炔基、 經取代或未經取代的芳烷基、經取代或未經取代的芳基或 經取代或未經取代的雜環基；R67與R68對、R67與R65對、 R68與R66對和R6、r66對可連接以形成一環；而…每個可 彼此各自獨立地為。或…的整數，其限制條件為當…之 值為2或更大日才，R67及R68基團可相同或不同（us_bi_6 2乃 〇24)，或下式

2 (VI-6)其中R69為未經取 10代或經例如氰基、鹵素原子或Cl_4烷氧基取代之直鏈或分 枝的c1·8烷基，特別是甲基、乙基、丙基、丁基或三級丁 基；

HCJ (VI-7)或 (VI-8) R201 p201 q2〇3 丨 | R ^N-X^n-R203 P}202 j^202 其中r201、r202及R203每個可彼此各自獨立地為氫原子 、未經取代或經取代之直鏈或分枝的〇!_36烷基（較佳為 c^6燒基）、未經取代或經一個或多個Ci_4烷基及/或Ci 4燒 41 200406466 玖、發明說明 氧基取代之㈣々36烧基（特別為輕基〜垸基）u 燒基咖是c,7環烧基）、c6.24芳基（特別K61。芳基）、或 C7-24芳烷基（特別是c：7-!2芳烷基）；或二個R2〇i、R2。2及汉城 基團可與它們鍵結的氮原子-起形成5•或雜環；⑼可 為氫原子、c,.4烧基或Cl.4炫氧基；u々v為⑴的整數，且 U及V的總和為3、4或5 ;及 X為二價連結基團，例如未經取代或經一個或多個 C!_4烷基及/或Cw烷氧基取代之Cl_8伸烷基，或一基團 ^204

10 其中r2G如上文所定義；Ar可為未經取代或經一個或 多個c"烷基及/或cw烷氧基取代之C6_ig烷基；Cy可為未 經取代或經一個或多個01_4及/或Cm烷氧基取代之c57環烧 基；及t為0至4的整數。 式VI-7之二銨化合物可特別地從下列胺類得到：1，2_ 15 二胺基乙炫、1,2 - —胺基-1-甲基乙烧、1,2-二胺基-1，2·二 甲基乙烧、1，2 - —胺基-1，1-二甲基乙烧、1,2 -二胺基丙烧 、：l，3-二胺基丙烷、1,3-二胺基-2-羥基丙烷、N-甲基-1,2-二胺基乙炫、1，4- 一 環己烧、1，2-二胺基-1，1-二甲基乙 烷、2,3-二胺基丁烷、1，4-二胺基丁烷、N-羥乙基-1 2-二 42 200406466 玖、發明說明 胺基乙烷、1-乙基-1，3-二胺基丙烷、2,2-二甲基-1，3-二胺 基丙烷、1,5-二胺基戊烷、2-甲基-1，5-二胺基戊烷、2,3-二 胺基-2,3-二甲基丁烷、N-2-胺基乙基福嗎啉、1,6-二胺基 己烷、l，6-二胺基-2,2,4-三甲基己烷、N，N-三羥基乙基-5 1，2-二胺基乙烷、N，N-二甲基-1，2-二胺基乙烷、4,9-二。f-

1，12-二胺基十二烷、1，2-二胺基環己烷、l，3-二胺基-4-甲 基環己烷、1，2-二胺基環己烷、1-胺基-2-胺基甲基-2-甲 基_4,4_二甲基環己烷、1，3-二胺基甲基環己烷、N-2-胺基 乙基井、1，1-二（4-胺基環己基）甲烧、1，1_二（‘胺基苯基 10 )甲烧、Ν，Ν’-二異丙基-對-苯二胺、Ν，Ν，-二-二級丁基-對-

苯二胺、Ν，Ν’-雙（1，4-二甲基-戊基-對·笨二胺、ν，ν，-雙（1-乙基-3 -甲基-戊基）-對-苯二胺、Ν，Ν’-雙（ι_曱基-庚基）-對-苯二胺、Ν，Ν’-二環己基-對-苯二胺、ν,ν，-二苯基-對-苯二 胺、Ν，Ν’-二（2-奈基）-對-苯二胺、Ν-異丙基苯基-對-苯 15二胺、N-U，3·二甲基-丁基）-Ν’ -苯基-對-苯二胺、ν-(1-曱 基-庚基）-Ν’-苯基-對-苯二胺、Ν-環己基，苯基_對_苯二 胺及Ν，Ν’-二甲基-Ν，Ν’-二-二級丁基_對-笨二胺。 所提供的特別較佳物有下列化合物： 43 200406466 玖、發明說明

(K-9). (K-7;松香胺D) \ (K·8),及 合適的奥斯若染料有下式之奥斯若染料

Μ k+ (11-4) 5 其描述在EP-A-0 833 3 14中； 44 玖、發明說明 其中 ΑΆΒΆΕΉΆχ'χ'， 1、^、3^如上文所定義；及^42、^、14及^ 為可具有一取代基的甲川。應注意的是，比較至在ΕΡ-Α-奶314中描述的奥斯若染料，其中一為—包含正電荷的 5鏘離子而並無氫原子鍵結（四級錢離子）之鐵離子（參見Ep_ A-833 3 14之比較例5’其中顯示出使用三級銨陽離子並不 產生適當的調節因素或光堅牢度性質）；根據本發明於此 通常可使用有機或無機陽離子作為，，也就是說，例如 亦可使用、、及、一級或二級銨陽離子。所提供的式（H_4) 10之奥斯若染料較佳物即超過式（II_3)的那些。 所提供的進一步較佳物為下式之奥斯若染料：

R

Ra fv

Rb (1/k〉Mk+。 f^b 川 A、 其中Ra可為CC^C"烷基、氰基、CF3、CCCONHC"烧 基' C(0)NH苯基、苯基、OH、CK4烷基、Cw烷氧基、 15 NHC^COC^ 烷基、NHC(O)苯基、C(0)NHCi_4 烷基、 C(0)NH苯基、NHC^COOCw烷基、NHC(0)0苯基或NH2 ; 45 200406466 玖、發明說明

NHAc

Rb可為Η、Cw烷基、苯基、羥烷基、ε(0)ΝΗ<^·4烧 基、C(0)NH苯基、鄰-甲基苯基、苄基或2,4,6-三氯苯基；及 Y可為Η、CN4烷基、苯基、苄基、C(0)NH2或鹵素（諸 如氯或溴），

其中Ra可為η、苯基或Cw烷基；

Rb可為Η、c1-4烷基、苯基、羥基_Cl 4烷基、鄰-甲基 苯基或苄基及 ίο Y可為H、Ci-4烷基、苯基、苄基、C(0)NH2或鹵素（諸 如氯或溴）； X、k及Mk+如上文所定義。 亦合適的有下式之奥斯若染料

〇

：23 24 46 200406466 玖、發明說明 其描述在US抓6 225 024中，其中r21r22 r、 r24每個可彼此各自獨立地為氫原子、絲代或未經取代 ㈣基、經取代或未經取代的芳基、經取代或未經取代的 芳烷基或經取代或未經取代的雜環基；、L22及每個 可彼此各自獨立地為可具有—取代基之曱川；m為整數母0個 ^或^有機或無機陽離子：及让為整數^較 佳為1至4’其限制條件為當^或]時，L、L23基團可 相同或不同。 所提供的特別較佳物有下式之化合物 ίο

〇 I 〇23 ^R24 (11-9) ο/〜^ W上肌机签I袼如二氟甲基）、Cl 8稀 、C"烷氧基-Cl4烷基、羥基_c“烷基、r1G4r1g5n_Ci 4 ^ 士(R1。4及R-如上文所定義)、C6，芳基(諸如苯基)、二 #、元基（諸如苄基）、或具有2至1〇個碳原子的雜環；或 r2、r22—起及/或R23與R24—起形絲經取代或經 代的碳環，較佳為具有3至1〇個碳原子（諸如環丙基、環 衣戊基、裱己基、2-曱基環己基、環庚基或環辛基） 2或未、、、二取代或經取代的雜環，較佳為具有2至1 〇個碳原二、 ^ R疋基、°克基或菲一盼基），該環可未經取代或經 個或多個(^_4烷基及/或Cl_4烷氧基取代； 47 玖、發明說明 R、^〜^〜'妒及心每個可彼此各自 獨立地為氫原子、齒素原子(諸如氯或溴)、c遍、q 10芳 全既烧基（諸如三氟甲基）、c“。芳基（諸如苯基）、C7 垸基（諸如爷基）、或具有2至_碳原子的雜環，·或 二個 R3〇、r3i、r32、r33、r34、r、r36_(m 於彼此相關的位置）_起形成未經取代或經取代而具有 5或6個石厌原子的碳環（諸如環己婦基或環戍稀基），其可未 經取代或經—個或多個Ci-说基及/或C"烧氧基取代； 10 P、q及r為0或1 ;及W為有機或無機陽離子；k為整 數1至10，較佳為1至4。 應該注意的是，根據US_B1_6 225 〇24，該描述在劭_ A-833 3 14中的奥斯若染料（與描述在us_bi_622 5〇24中的 六斯右木料比較），當其使用在DVD記錄媒體時，因為其 低反射性及低調節程度，故並不會產生適當的記錄及讀取 U性質；且因為在長間照射的情況下會隨著減低的讀取結果 而啦生誤差，故就光堅牢度而言其不符合需求。 下列一般式的奥斯若染料：

n (IMO) 其中 Rj〇、、R33、R34、r35 及 r36、p、9及『、 20 MlC 如上述所定義，及R41及R41’每個可彼此各自獨立地 為氫原子、未經取代或經取代的口七烷基、c5_7環烷基、 48 200406466 玖、發明說明 C6·〗2方基、Cm芳烧基或雜j晨其^ . R42及R42’每個可彼此各自婼士 l 乂 谷自獨立地為氫原子、氰基、 C(〇)〇R46、C(0)NR46R47 或 c(〇) 47 I )R基團、未經取代或經取 代的Cbu烷基、C5_7環燒基、Γ ^ 方基、C7_12芳烷基或雜 環基；R48及R47可為未經取件七,一〜， 取代或經取代的Cl_12烷基、c5: 裒院基c6_12芳基C7_12芳燒基或雜環基；或r46及r47可 與它們鍵結的氮原子一起形成5或6員環，及 每個可彼此各自獨立地為氫原子、叛酸基或 烧基較佳。 ίο 所提供的特別較佳物為下列一t式之奥斯料

R42'ο 其中Mk+為銨陽離子（諸如K-1、K-2、K_3、K_4、M_；L 、M-2、M-3或M-4)，k為整數1至4，特別是丨或2 ; R41及R41’每個可彼此各自獨立地為氩原子、Ci 4烷基( 15諸如甲基或乙基）、或全氟-Cl·4烷基（諸如三氟甲基）、羥 基-Cw烷基、或經-0-岔斷一次或多次的Ci_8烷基（諸如 CH2CH2CH2-0-CH(CH3)2)、C6_1()芳基（諸如苯基）、或 c7 芳烷基（諸如苄基）； R42及R42每個可彼此各自獨立地為氫原子、氰基或羰 20 醯胺基； R4"及R43每個可彼此各自獨立地為氫原子、羧酸基或 49 玖、發明說明 其鹽類或烧基； 、R1R44’㈣可彼此各自獨立地^原子、c,4燒基 '基或Cm芳烧基；或 R44及R44’可一起形成5員或6員 戊稀基環;及 —基或環 R45可城原子、鹵素原子（特別是氯原子）、未經取代 或經c,.4烷基或c"烷氧基_取代的c⑷芳基(諸如苯基或 對·甲基苯基）、或Cm芳烷基（諸如苄基）。 再者，下列一般式的奥斯若染料較佳 r\ ^45

其中W、Μ，及^每個可彼此各自獨立地為氫原 ，、Cb8烧基（特別是〜烧基）、座基-C"烧基、C1_8婦基( 諸如-ch2-ch=ch2)、未經取代或紅14院基_或〜烧氧基_ 取代的C“2芳基(諸如苯基）、紅712芳烧基(諸如千基）； 15 R44w每個可彼此各自獨立地為氫原子、cl-4烷基 、C6-12芳基或(：7_12芳烷基；或 R44及R44’可一起形成5員或6員環，諸如環己婦基或環 戊細基環；及 R45可為氫原子、鹵素原子（特別是氯原子）、未經取代 2〇或經Cw烷基-或^_4烷氧基-取代的C6_u芳基（諸如苯基或 對-甲基苯基）、或Cm芳烷基（諸如苄基）； 50 200406466 玖、發明說明 X、k及Mk+如上文所定義。 所提供的特別較佳物有下列化合物及組成物： R43 R43

化合物 R41 R42 R43 (l/k)Mk+ 實例 D-1 CH2CH2CH2-0-CH(CH3)2 CN ch3 K-l 1 D-2 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 CN ch3 K-2 2 D-3 Η CN ch3 K-l 3 D-4 ch3 CN ch3 K-l 4 D-5 ch3 CN ch3 K-2 5 D-6 c2h5 CN ch3 K-l 6 D-7 c2h5 CN ch3 K-2 7 D-8 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 CN ch3 M-l 8 D-9 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 CN ch3 M-2 9 D-10 CH2CH2CH2-0-CH(CH3)2 CN ch3 M-3 10 D-11 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 CN ch3 M-4 11 D-12 苯基 CN ch3 K-2 12 D-13 c2H5 C(0)NH2 ch3 K-2 13 D-14 CH2CH2CHrO-CH(CH3)2 CN ch3 K-3 14 D-15 CH2CH2CHrO-CH(CH3)2 CN ch3 K-2 15 D-16 CH2CH2CHrO-CH(CH3)2 CN ch3 K-l 16 D-17 CH2CH2CHrO-CH(CH3)2 CN ch3 K-4 17 D-48 H CN ch3 K-3 48 D-49 c2h5 CN ch3 K-3 49 D-52 C2H5 H ch3 K-2 52 D-53 H H CO〇- K-2 53 D-54 c2h5 C(0)NH2 ch3 K-2 54 51 200406466 玫、發明說明

化合物 R41 R41' (l/k)Mk+ 實例 D-20 ch3 c2H5 K-2 18 D-7 c2h5 c2h5 K-2 18 D-5 ch3 ch3 K-2 18 D-21 苯基 c2h5 K-2 19 D-7 c2H5 c2h5 K-2 19 D-12 苯基 苯基 K-2 19 D-22 苯基 CH2CH2CHrO-CH(CH3)2 K-2 20 D-15 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 K-2 20 D-12 苯基 苯基 K-2 20 D-23 c2H5 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 K-2 21 D -15 ch2ch2ch2-o-ch(ch3)2 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 K-2 21 D-7 c2h5 c2h5 K-2 21

52 200406466 玖、發明說明

化合物 Ra Ra Rb Rb， (l/k)Mk+ λ max £ D-54 Ph Ph Ph Ph K-8 597.2 175936 D-55 ch3 ch3 ch3 ch3 K-8 594.4 62550 D-56 ch3 ch3 ch3 ch3 K-3 594.7 148970 D-57 tBu tBu c2h5 c2h5 K-9 - - D-58 ch3 ch3 ch3 ch3 K-9 - - D-59 tBu tBu c2h5 c2h5 K-8 597.2 95732 D-60 H H Ph Ph K-8 602.9 148327 D-61 1) 1) tBu tBu K-8 - - D-62 l) i) l) i) K-8 - - D-63 Ph Ph Ph Ph K-9 597.1 - D-64 i) l) H H K-8 593.4 - D-65 Ph Ph H H K-9 594.4 133022 D-66 Ph Ph H H K-2 594.2 142542 D-67 i) 1) 0 l) K-9 - - D-68 Ph n-Bu n-Bu Ph K-8 - - D-69 Ph n-Bu n-Bu Ph K-9 - - υ -ch2-ch=ch2 上述描述的奥斯若染料可根據（或類似於）在DE-A-2 012 050、DE-A-2 835 074、US-A-3 681 345、US-A-4 968 5 593、US-A-6 225 024 及 ΕΡ-Α-0 833 314 中所描述的方法製 備。 53 200406466 玫、發明說明 / 口己錄層亦彳包含（代替單一的式（H)化合物）此些化合 物”例如2 3、4或5種根據本發明之奥斯若染料的混合 物。使用混合物（例如異構物或同系物的混合物，但是亦 可為不同、、σ構的混合物）經常會產生溶解度增加及，或聚集 頂向減低右適當的話，離子對化合物之混合物可具有不 同陰球子、不同陽離子或不同陰離子與不同陽離子二者。 ίο 15 根據本裔明所使用的奥斯若染料（與式⑴之金屬錯合 物組合）具有窄的吸收帶，其最大位於540至640奈米的範 圍處或在低於450奈米處。使用式⑴之金屬錯合物可驚人 地產生在固態下具有比較弱的聚集傾向之奥斯若染料，所 以甚至在固態下仍然具有有利的窄吸收曲線。 根據本發明所使用的組成物（為固態薄膜形式），當其 使用在光學儲存媒介時，於吸收帶的較長波長側具有高折 射率，其在600至700奈米範圍的波峰值可達2〇至3〇及在 390至430奈米的範圍可多於19，所以可獲得在想要的光譜 靶圍内具有高反射性、高敏感度及好的錄放特徵之媒介。 作為塗佈層之載體的基板有利地為半透明或 ，較佳為透明（Τ29〇%)。該載體之厚度通常從〇〇1至1〇毫 米，較佳為0.1至5亳米。 該記錄層較佳位於該透明基板與反射層之間。記錄層 的厚度從10至1000奈米，較佳為30至3〇〇奈米，特別是⑼ 至120奈米。該記錄層在最大吸收處的吸收率通常從〇 1至 °該層的厚度可依在非寫入狀態及在寫入狀態時各別 的折射率而非常特別地選擇，如此其讀取波長可在非寫入 54 20 200406466 玖、發明說明 狀態獲得相長性干擾，但是在寫入狀態時會獲得破壞性干 擾，或反之亦然。 該反射層（其厚度可從10至150奈米）較佳地具有高反射 性（R245°/°，特別是Ry〇%)而與低穿透度（TS10%)結合。 5在進一步具體實施例中，例如在具有數層記錄層的媒介中 ，該反射層可同樣地為半透明，亦即可具有比較高的穿透 度（例如T250%)及低的反射性（例如R$5%)。 最上層（例如反射層或記錄層）可依層結構而定，有利 地提供-額外的厚度通常從至麵微米之保護層，較 10佳為(U至50微米及特別是〇.5至15微米。若必要時，此保 護層亦可提供作為將施加於此的第二基板層之黏著促進劑 ’該第二基板層之厚度較佳為毫米且由與支持基板 相同的材料組成。 15 20 整體記錄媒體的反射性較佳至少為15%，特別是至少 為4〇%(例如對DVD-R來說為45%)。 根據本發明之記錄層的主要特徵為在該雷射二極體的 波長範圍内具有非常高的起始反射性(該反射性可經改性 而具有特別高的敏感度)、高折射率、在固態下窄的吸收 帶、在不同脈衝週期下好的書⑽npt)寬度㈣性、好的 光穩定性、及在《化溶劑（特別是醇類）中有好的溶解度 。使用根據本發明之組成物可有利地產生具有高折射率之 均相、非晶相及低散射的記錄層，且其吸收邊緣其至在固 相下亦特«人地㈣。進—步優點為在日光及低能量密 度之雷射糾下具高的光穩以，同時，在高能量密度之 55 2〇〇4〇6466 玖、發明說明 雷射輕射下具有高敏感度、均句的書寫寬度、高反差且亦 有好的熱穩定性及儲存穩定性。 在相當高的記錄速度時，所獲得的結果驚人地比先前 熟知的記錄媒體還好。可更精確地定出標記的輪廓（相對 5於周圍媒介）且不發生熱誘導變形。標記長度的誤差比例 (BLER或PI Sim8)及統計變化（失穩）在正常及相當高的記錄 速度二者下亦低，所以可在大的速度範圍下達成無誤差之 記錄及錄放。這些優點可在全部的6〇〇至7〇〇奈米（較佳為 630至690奈米）之範圍内獲得，但是在640.奈米下特別 1〇明顯，更特別是在650至670奈米，非常特別為在^㈣奈 米。 15 20 聚氯乙烯、聚偏二氟乙烯、聚醯亞胺類 合適的基材有例如玻璃、礦物、陶究及熱固性或熱塑 性塑膠。較佳的載體有玻璃及同或共聚合塑膠。合適的塑 膠有例如熱塑性聚碳酸醋類、聚醯胺類、聚醋類、聚丙烯 酸醋類及聚甲基丙烯酸醋類、聚胺甲酸乙醋類、聚烯烴類 熱固性聚酯類 及環氣樹脂類。該基板可為純的形式或亦可包含常用的添 加劑’例如UV吸收劑或染料，如例如在jp〇4/i6則中的 =議作為記錄層的光安定劑。在後者實例中，可優良地將 染料加人至支持基板以使最A吸收向藍位移（相對於染料 «己錄層）至少1 〇奈米，較佳為至少2 〇奈米。 該基板有利地至少在600至700奈 米範圍的部分上為透 明的’所以其可穿透至少9〇0/〇之寫 。該基板較佳地在塗層邊具有一螺 入或讀出波長的入射光 旋導引溝紋，其溝紋深 56 坎、發明說明 度攸50至500奈米、溝紋寬度從0.2至0.8微米及在二圈間之 (門隔攸0.4至1.6微米，特別是溝紋深度從1 〇〇至奈 米、溝紋寬度為〇·3奈米及在二圈間之間隔從〇·6至〇.8微米 因此’根據本發明之組成物特別有利地合適使用於具有 現在常用的凹坑寬度〇·4微米及軌道間隔0.74微米之;0^^〇媒 介中。 μ 為了進一步增加穩定性，若必要時亦可加入熟知且常 用里的安定劑，諸如例如描述在JP 04/025 493中作為光安 疋劑的二硫醇鎳（nickle dithiolate)。 1〇 该記錄層包含一式（Η)之化合物或量足以實質上有利 地影響折射率之此些化合物的混合物。此量通常至少為3〇 重里❽/C，較佳為至少60重量％，特別為至少80重量％。 合適的式（1)之金屬錯合物化合物濃度通常從丨至…⑻ 重里％，較佳為3〇至6〇重量％，以式（π)之奥斯若化合物 15 準。 X "己錄媒體可包含常用的添加劑（例如薄膜形成劑）， 及進一步常用的組分，諸如例如其它發色團（例如具有最 大吸收在300至1000奈米的那些）、UV吸收劑類及/或其它 安定d 4抑制制類⑽如例如，榮光抑制劑類）、炫點抑 20制劑類及分解加速劑類。 、田口亥口己錄層包含進一步發色團時，此些發色團原則上 可為任何能在記錄期間由雷射輕射分解或改質之染料，或 匕們可對田射幸5射呈惰性。當該進一步發色團可由雷射輕 射刀解或改貝時，此可藉由吸收雷射輕射而直接發生或可 57 200406466 玖、發明說明 藉由分解根據本發明之式⑴或（„)的化合物^間接誘發。 當使用具有盡可能保有奥斯若染料的那些光學性質之 進一步發色團時，此較佳為在最長的波長吸收側範圍之情 况。該進-步發色團及奥斯若染料的較佳波長反轉點個別 5為最大20奈米，特別是最大為…奈米。在此情況中，該進 步發色團及奥斯#染料纟雷射輕射彳面應該具有類似的 性質，所以可使用該進一步發色團作為熟知的記錄試劑， 其作用可由式（I)或（II)之化合物協同地提高。 當使用光學性質儘可能與式⑴或（11)之那些化合物不 10同的進一步發色團或呈色安定劑時，它們可有利地具有向 藍或向紅位移之最大吸收（相對於式⑴或（11)之染料）。在此 情況中，該最大吸收較佳地分別為至少50奈米，特別為至 少100奈米。其實例有對式⑴或（„)之染料藍位移的UV1 收劑類，或對式⑴或（II)之染料紅位移且具有最大吸收位 15於例如NIR或1R範圍之呈色安定劑類。亦可加入用於彩色 編碼鑑別、色彩蒙版修正（c〇l〇u卜masking)(，，鑽石染料 (diamond dyes)”）或提高記錄層外觀美觀目的之其它染料。 在那些情況中，該進一步發色團或呈色安定劑類應較佳地 具有對光及雷射輻射儘可能惰性的性質。 20 當發色團或呈色安定劑類使用在其它目的時，其量較 佳地應該如此低，使其在600至7〇〇奈米範圍處貢獻至記錄 層的總吸收至多為20%，較佳地至多為1〇0/〇。在此實例中 ，額外染料或安定劑的量有利地至多為5〇重量％，較佳為 至多10重量％，以該記錄層為準。 58 200406466 玖、發明說明 可使用在記錄層的進一步發色團除了奥斯若化合物外 尚有例如花腈類及花腈金屬錯合物鹽類（US-A-5 958 650) 、苯乙烯基化合物類（US-A-6 103 33 1)、偶氮染料及偶氮 金屬錯合物類（JP-A-1 1/028865)、酞腈類（EP-A-232 427、 5 EP-A-337 209、EP-A-373 643、EP-A-463 550、EP-A-492 508、EP-A-509 423、EP-A-51 1 590、EP-A-513 370 > EP-A-514 799、EP-A-518 213、EP-A-519 419、EP-A-519 423 、EP-A-575 816、EP-A-600 427、EP-A-676 751、EP-A-712 904、WO-98/14520、WO-00/09522、CH-693/01)、卟 10 啉類及吖卟啉類（EP-A-822 546、US-A-5 998 093)、二吡 咯亞甲基染料及其金屬螯合化合物類（EP-A-822 544、EP-A-903 733)、咕噸染料及其金屬錯合物鹽類（US-A- 5 85 1621)或二次酸（quadratic acid)化合物類（EP-A-568877) ，亦可為哼阱類、二噚哜類、二吖苯乙烯類、甲臜類、蒽 15 醌類或吩噻啡類。 除了式I之金屬錯合物外，可使用進一步的安定劑類 或螢光抑制劑類，例如含氮或硫的烯醇化物類、酚鹽類、 雙酚鹽類、硫醇鹽類、雙硫醇鹽類之金屬錯合物類、或偶 氮、偶氮甲鹼或甲臜染料，例如®厄加藍波爾多（Irgalan 20 Bordeaux)EL(Ciba Spezialitatenchemie AG)或類似的化合 物類、位阻盼類及其衍生物類（其中亦合適作為陰離子X )( 例如⑧西巴費斯特（Cibafast)AO(Ciba Spezialitatenchemie AG))、羥基苯基-三唑類、-三畊類或其它UV吸收劑類（例 如⑧西巴費斯特W或⑧西巴費斯特P(Ciba Spezialitatenchemie 59 200406466 玖、發明說明 AG))或位阻胺類（TEMPO或HALS，亦以石肖基氧類或NOR-HALS形式，其亦合適作為陰離子χ-)。 此些許多結構已例如從US-A-5 219 707、JP-A-06/199045、JP-A-07/76169 或 JP-A-07/262604 中熟知，其中 5 某些亦與光學記錄媒體有關。 根據本發明之記錄媒體，除了包含式⑴或（π)之化合 物外，可額外地包含鹽類，例如氯化銨、氯化十五烷基銨 、氯化鈉、硫酸納、甲基石黃酸鈉或甲基硫酸鈉、可來自例 如於所使用的組分之離子。其它鹽類（若存在）的較佳存在 10量最高為20重量％，以記錄層的總重量為準。 合適於反射層的反射材料特別包括金屬（其可提供使 用來記錄及錄放之雷射輻射有好的反射），例如元素週期 表的主族III、IV及V及次族金屬。A]l、Ιη、Sn、Pb、Sb、

Bi、CU、Ag、AU、Zn、Cd、Hg、Sc、Y、La、Ti、Zr、 15 Hf、V、Nb、Ta、Cr、M〇、w、以、c〇、犯、Ru、灿、 Pd、〇s、Ir、Pt、Ce ' Pr、Nd、pm、Sm、Eu、㈤、几、

Dy、Ho' Er、Tm、YmLu、及其合金類特別合適。所提 供的反射層之特別較佳物有鋁、銀、銅、黃金或其合金， 此由於其高反射性且容易製造Q -〇 合適於保護層的材料主要包括塑膠，其以薄層直接或 經由黏著層輔助而塗佈至該載體或至該最上層。可優良地 選擇具有好的例如寫人表面性質（其可進_步改f)之機械 及熱穩定塑膠。該塑膠可為熱固性塑膠或熱塑性塑膠。所 提供的較佳物為可輻射硬化（例如藉由uv輻射）之保護層， 60 200406466 玖、發明說明 其特別簡單且可經濟的製造。廣泛多種可輻射硬化的材料 已熟知。可輻射硬化的單體及寡聚物之實例有雙醇、三醇 及四醇的丙烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類、芳香族四竣酸類 的聚醯亞胺類及在至少二個鄰位置中具有至胺基的Ci 5烷基之芳香族二胺類、及含有二烷基馬來醯亞胺基（例如 二甲基馬來醯亞胺基）的寡聚物。 根據本發明之記錄媒體可具有其它層，例如干擾層。 亦可以建構具有數層（例如二層）記錄層的記錄媒體。該結 構及此材料之使用已由熟知此技藝者所熟知。所提供的干 擾層#乂仏物為將其文排在記錄層與反射層之間及/或在記 錄層與基板之間，且其由介電材料（例如如描述在Ep_A_ 353 393中之Τι02 ' Si3N4 ' ZnS或矽酮樹脂）組成。 根據本發明之記錄媒體可利用本身熟知的方法製造， 此可依所使用的材料及其功能而使用不同的塗佈方法。 15 纟適的塗佈方法有例如浸潰法、傾注法、刷塗法、葉 ^塗佈法、旋轉塗佈法和在高真空下進行的氣相沉積法。 田例如使用傾注法時，通常會使用在有機溶劑中的溶液。 合適的塗佈方法及溶劑則例如描述在£?_八_4〇1 791中。 該記錄層較佳地利用旋轉塗佈法來塗佈該染料溶液， 20已言正明可符合要求的溶劑特別有醇類，諸如例如甲氧基 乙醇、正丙醇、異丙醇、異丁醇、正丁醇、戊醇或％甲基_ =丁醇及其混合物。亦可使用驗類（二丁基⑷、嗣類（Μ· ^ 土庚酮％甲基己酮）或飽和或不飽和的烴類（甲 笨、二甲苯），例如以混合物形式（例如二丁基峻Μ-二甲 61 200406466 玖、發明說明 基-4-庚_)或混合的組分。 因此，本發明亦關於一種製造光學記錄媒體的方法， 其中將式（I)之化合物在非齒化有機溶劑中的溶液塗佈至具 有凹洞的基板。該塗佈較佳利料轉㈣法來進行。〃 X盃屬反射層的塗佈則較佳地利錢鑛、在真空中的 氣相沉積或利用化學氣相沉積法（CVD)來達成。減鑛技術 對塗佈金屬反射層來說特別佳，此由於其對載體的高度附 著力。此技術已熟知且描述在專門文獻中(例如JL•伏森 ίο 15 20 (V〇SSen)及w•肯恩（K⑽），”薄膜製程（™„ Fllm Processes)，，，大學出版社叫⑽）。 根據本發明之記錄媒體的結構主要由讀出方法決定； 所熟知的作用原理包括測量穿透率（或較佳為反射率）之改 變，但是亦熟知測量螢光而代替穿透率或反射率。 當記錄媒體以反射率改變為基礎來操作時，該記錄媒 體可為例如如下的結構：透明載體/記錄層（選擇性經多層 化V反射層及保護層（不必需透明）(若方便的話）；或載體（ 不必需透明V反射層/記錄層及透明保護層（若方便的話）。 在1 一貫例中，該光從載體邊入射，然而在後者實例中輕 射攸έ己錄層邊入身十式作仅i 射或仗保濩層邊（若合適的話）。在二情況 中’光t測器位於與光源的相同邊。首先提到的記錄媒體 」冓^對DVD-R較佳，後者提到的結構（反向結構）在藍 紫色範圍的記錄系統中特別想要（峨；Ep_A_822 546及 EP-A-1 103 962) 〇 當該記錄媒體以穿透率改變的原理操作時，則可例如 62 200406466 玖、發明說明 考慮下列結構：透明載體/記錄層（選擇性經多層化）及透明 保護層（若方便的話）。用來記錄及用來讀出的光可從載體 邊或從記錄層邊或若合適的話從保護層邊入射，於此實例 中，光偵測器總是為位於相反邊。 5 合適的雷射有波長為60〇_7〇〇奈米的那些，例如商業 上可購得具有波長602、612、633、635、647、650、67〇 或680奈米的雷射，特別是用於藍紫色範圍而具有波長從 380至420奈米（特別是4〇5士5奈米）之半導體雷射，諸如具 有波長特別約635、650或658奈米的GaAsA1、InGaAlp或 10 GaAs雷射二極體。該記錄通常可藉由將雷射調整至與標記 的長度相符且將輻射聚焦到記錄層上而實現點對點。 根據本發明之方法可允許以大的信賴度與穩定性儲存 訊息’其可由非常好的機械及熱穩定性、由高光穩定性及 由陡山肖的凹坑界限區域而辨別。特別的優點包括高反差、 15低失穩及驚人的高訊號/雜訊比率，所以可達成並無讀出 的問題。 汛息之讀出可根據本身熟知的方法來進行，其可藉由 標示出所使用的雷射輻射在吸收或反射上的改變，例如描 述在"CD-播放機 &R_DAT錄音機（CD piayer und r dat 2〇 Recorder)^(Claus Biaesch-Wiepke . V〇gel Buchveriag ^ Wiirzburgl992)。 根據本务明之包含訊息的媒介特別為一種型式 的光子Λ心材料。其可使用例如作為一可播放的(數 U象光碟）、作為電腦用的儲存材料或作為鑑別及安全 63 玖、發明說明 卡片或可用來製造繞射光學元件（例如全息圖）。 因此，本發明亦關於一種訊息的光學記錄、儲存及錄 放之方法，其中使用根據本發明之記錄媒體。該記錄及錄 放可有利地在_至·奈米的波長範圍或少於450奈米下 進行。 、再者’根據本發明之組成物可合適用來製造具有優良 土佈性貝而可用於不同用途（諸如凹版/橡膠版印刷、薄片 平凸印刷法及薄片金屬印刷）之印刷墨水，及可用來製造 具有有利的窄吸收曲線之濾、色片。因此，本發明亦關:一 10種包含根據本發明之組成物（其中奥斯若特別佳，其中^+ 為氫陽離子）的印刷墨水或濾、色片（濾光器）。本發明特別關 於一種包含一載體層及一濾光層的濾光器，其中該濾光層 包含一根據本發明之組成物。該濾光器它們本身可例如使 用在電子光學系統諸如TV螢光幕、液晶顯示器、電荷耦 15合器、電漿顯示器或場致發光顯示器及其類似物中。 遠;慮光層包含1至75重量％(較佳為5至50重量％，最佳 為25至40重量％)分散在高分子量有機材料中的根據本發明 之組成物，以濾光層的總重量為準。該載體層較佳地實質 上無色（T295%，在整個從400至700奈米的可看見光範圍 20 内）。進一步詳細關於濾色片的製造及使用來製造濾色片 的局分子量材料則描述在例如有機呈色劑的高科技應用 (High-Technology Applications of Organic Colorants)，彼 得葛瑞構雷（Peter Gregory)，普蘭能版社（Plenum Press)， 紐約及倫敦 1991，P.15 至 25、W001/04215 及 W002/10288 64 200406466 玖、發明說明 中。在560至620奈米具有最大吸收範圍的濾光器例如合 作為電聚顯示器用之非常窄帶的遽光器（參見例如砂口 124 144)。 ίο 15 本發明之印刷墨水明智地包含濃度從〇〇1至4〇重旦。/ 的本發明之組成物，較佳為丨至25重量％，特別的較佳里^ 為5至10重量%(以印刷墨水的整體重量為準)，且其可例如 使用於凹版印刷、橡膠版印刷、蜎版印刷、平凸印刷；或 連續或逐滴噴墨印刷在紙、板子、金屬、木頭、皮革、塑 膠或紡織品上；或根據一般常識構想而使用在其它特別的 應用上’例如在出版、包裝或貨運、在後勤、在廣告、在 安全印刷中’或在辦公室部門之原子筆、鼓製粗頭筆、纖 維製筆頭筆 '印臺、墨水帶或噴墨式印表機墨水匣。 【實施方式3 下列實例將闡明本發明。除非另有指出，百分比及份 的描述各別為重量百分比及重量份。除非另 曰印’人max 及ε在DMF(二甲基甲醯胺）中測量。 在下文實例中，普理敏81R®的銨鹽（羅姆&海斯公司 ，C!2·!4胺異構物之混合物）以理想化的形式顯示： Η Η Η 20 實例1 : 在120份的咄啶中，將100份的Ν_(3-異丙氧基_丙基）_3_ 氰基-4-甲基-6·羥基-2-吼啶酮與33份的l，l，3,3-四甲氧基·丙 烷在110°C下於惰性氣體中攪拌2小時。在冷卻至室溫後， 65 200406466 玖、發明說明 沉澱出反應產物，且利用抽濾法分離該固體材料並以25份 的吼啶及200份的水連續清洗。將下列指出式之標的化合 物在90°C的真空中（120毫巴）乾燥（產率：63%)。將53份的 粗產物在300份的甲醇中於7(rc下攪拌1〇分鐘。在冷卻後 ，利用抽濾法分離出殘餘物，以丨00份的甲醇清洗且在9〇 °C的真空中乾燥（產率：66%)。

Xmax=603 奈米（ε : 148489)在DMF 中 :57份在貫例丨中所獲得的產物在室溫下攪拌於份 10 甲醇中，且加入11份的普理敏81R⑧（羅姆&海斯公司，A⑽ 胺異構物之混合物）。該溶液以活性碳處理且濃縮該遽出 夜歹久餘物在90 C下乾燥。可獲得下列指出式之藍色產物 (產率：56%)。

Xmax=603.5奈米(ε : 199536)在DMF中 66 15 200406466 玫、發明說明 可使用類似於描述在實例1及2中的方法來獲得於下歹|J 指出的D-3至D-17化合物：

42 4R ο 實例 化合物 R41 R42 R43 (l/k)Mk+ ax ε 3 D-3 H CN ch3 K-l 603.5 198600 4 D-4 ch3 CN ch3 K-l 601.5 116500 5 D-5 ch3 CN ch3 K-2 601.8 200300 6 D-6 c2h5 CN ch3 K-l 602.6 187500 7 D-7 c2h5 CN ch3 K-2 603 194300 8 D-8 1) CN ch3 M-l 9 D-9 l) CN ch3 M-2 10 D-10 l) CN ch3 M-3 11 D-11 l) CN ch3 M-4 12 D-122) 苯基 CN ch3 K-2 605.2 138200 13 D-13 c2h5 C(0)NH2 ch3 K-2 589 14 D-142) l) CN ch3 K-3 602.9 176000 15 D-15 i) CN ch3 K-2 603.5 199500 16 D-16 i) CN ch3 K-l 17 D-17 l) CN ch3 K-4 48 D-482) H CN ch3 K-3 603.3 214200 49 D-492) c2h5 CN ch3 K-3 602.7 217600 52 D-523) c2h5 H ch3 K-2 53 D-533) H H CO〇- K-2 54 D-543) c2h5 C(0)NH2 ch3 K-2 1)CH2CH2CH2-0-CH(CH3)2 5 2)這些化合物可根據(或類似於)描述在實例12中的方法而獲得。 3)這些化合物可根據(或類似於)描述在實例53中的方法而獲得。 實例12 將22.62克（0.1莫耳）的N-苯基-3-氰基-4-甲基-6-羥基-2- 67 玖、發明說明 比疋酮與8.21克（〇·〇5莫耳）的四甲氧基丙院、9.27克（〇.〇5莫 耳）的普理敏81R⑧一起在2〇〇毫升的正丁醇中煮沸迴流18小 4。熱過濾該懸浮液，然後冷卻。在抽濾下過濾出沉澱的 監色產物，以乙醇清洗且在8〇。〇的真空（12〇亳巴）中乾燥。 下列指出的D-20至D-3 1化合物可使用類似於描述在實 例1、2及12中的方法而獲得，但使用二種不同起始材料的 比率為50 : 50之混合物代替單一的n-(3-異丙氧基-丙基 氰基-4-甲基-6-羥基-2-吼啶酮起始材料：

N 10 實例 化合物 R4丨 R4丨. (l/k)M^ 18 D-20 ch3 c2H5 〜 18 D-7 C2H5 c2H5 18 D-5 ch3 ch3 K-2° ' 19 D-21 苯基 c2h5 K-22)^^ 19 D-7 C2H5 C2H5 K-22)~^^ 19 D-12 苯基 苯基 K-22) ^^ 20 D-22 苯基 CH2CH2CH2-〇-CH(CH3)2 K-23^~^ 20 D-15 CH2CH2CHrO-CH(CH3)2 CH2CH2CH2.〇-CH(CH3)2 K-23) 20 D-12 苯基 苯基 K-23) ' 21 D-23 c2H5 CH2CH2CHracH(CH3)2 21 D-15 ch2ch2ch2-〇-ch(ch3)2 CH2CH2CH2-〇-CH(CH3)2 K-24) 21 D-7 c2h5 c2h5 K-24) ^' 1)在實存 18中所獲得的D20 : D7 : D5混合物之 iax為601.9奈米。 2) 在艺例19中所獲得的D21 : D7 : D12混合物之u為603.3奈米— 3) 在艺例20中所獲得的D22 : DM : D12混合物之\心為6〇3.9奈米 4) 在實例21中所獲得的D23 : D15 : D7混合物之為602.8奈米。 68 15 200406466 玫、發明說明 實例22 :

,chq >〇 D-40(X_=492 6 奈米 :151500)

D_41〇max=6l〇奈米（乙腈》 實例24 :

r

D-42(Xma产610奈米（乙腈）） 實例25 : 將246毫克在下列指出的奥斯若染料之咄啶鏘鹽卜〇· 16)於室溫下溶解在40¾升的丙g同中。將256毫克在下列指 出的化晴染料之過氣酉欠鹽〉谷解在2 5毫升的丙嗣中，且逐滴 加入至該奥斯若染料溶液。在室溫下攪拌該溶液半小時， 過濾且利用蒸發濃縮。將殘餘物混於18毫升的二氯曱烷中 69 10 2UU4UD400 玖、發明說明 ^ 15毫升的水清洗三次且利用蒸發濃縮。可獲得46“ ^克在下列指出的離子對。

5 ： ： 毫克在下列私出的奥斯若染料之咄啶鏘鹽（=D_ 1咐、3CMGCT溶解在25毫升的乙醇中。將58毫克在下列 指出的花腈染料之蛾化物鹽溶解在2〇毫升的乙醇中，且逐 滴加入至該奥斯若染料溶液。在室溫下攪拌該溶液半小時 1〇，過濾及藉由蒸發而濃縮。將殘餘物混於4毫升的去離子 杈中以超曰波處理半小時，過濾及乾燥。可獲得丨〇2. j I克在下列指出的離子對。

例 27 : 將100毫克在實例25中所獲得的D-50於室溫下溶解在 25φ升的甲醇中。將30.6毫克的M-5在45至501下溶解在 70 200406466 玖、發明說明 升的甲醇中’且將其力σ入至Ddo的溶液。在室溫下擾 拌該溶液半小時，過濾及藉由蒸發而濃縮。將殘餘物混於 4毫升去離子水中’以超音波處理半小時，過濾及乾燥。 可獲得丨30.1亳克的D-50與Μ-5之混合物。 5 f 例 28 將3份在20份乙醇中的乙二胺溶液加入至12份在1〇〇份 乙醇中的水揚醛溶液，且加熱所得的混合物直到獲得一溶 液。加入9份在水中的醋酸銅，可獲得一灰色沉澱物。冷 卻該混合物且過濾，可獲得下式之微綠固體；

實例53_

將15.4克（0.1莫耳）的檸啡酸與816克（〇 〇5莫耳）的四甲 氧基丙烷及1 5毫升的氫氯酸（濃）一起懸浮在丨〇 〇亳升的2 _乙 氧基乙醇中，且煮沸迴流17小時。在冷卻後，以抽濾過濾 15出沉澱物，以甲醇清洗且在80°C的真空（120毫巴）中乾燥。 可獍得7.37克的藍色產物，其可使用普理敏81R⑧轉換成D_53。 在下列表2中所指出的錯合物可使用類似於描述在實 例28中的方法而獲得。

71 200406466 玖、發明說明 7361 农穴 62 \^;«许裨唞荈；5lno)OCH2CHo-OH2CHoH。 ' 〇 ω 〇> σί έ ^rnX ω 05 ώ C0 ϋΐ ω C0 ω ΓΟ C0 ω 〇 ΓΟ CD Η 窆 ΓΟ CO S rb ro rb ΓΟ ο 1 mmmL· CO 1 1 σ> ψ t 2 1 2 1 〇 CO C30 2 ά CJI <k ro = rr 4fi^· X 工 工 工 X 工 X 工 X 〇 <? 工 X 工 X 工 工 工 工 工 X X Λ 工 工 < CD ，9, X Ζ 工 ο r 工 工 3： X 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 IS3 工 工 〇 ro 3. ό ? 工 Ο -ϋ Ο ο to' cri^ 2 ? 工 工 工 工 工 工 9 φ a. 6 A ? 〇 9 X b 9 F 〇 9 ? 〇 9 ? 〇 〇 〇 ρ f〇i κ X 工 工 5 〇 〇工 ?〇 ΣΤ工 X CO uT^ < 工 ϋ> -< 工 U3 CJ X X 工 工 I 工 〇φ X? <D X X 〇 X X X X X 〇 〇 〇 工 工 工 工 工 工 工 工 工 X 工 X Ί： X 〇 ? X X X X X I X X X X 工 工 X 工 -< (Λ 工 工 工 〇CD X? <〇 工 工 工 X 工 X X X 工 X X 工 工 工 工 Γ0 工 工 〇 έ 3. ό ? 工 〇 Ό 〇 9 Z ? X X 工 工 J1 I ρ Φ 3. 6 ? 〇 P ? 〇 9 B 〇 P ? 〇 〇 ? 〇 ρ 气 s 工 I X 5 〇 〇工 is X C0 〇Γ^ < I ω ¢3^ -< X 〇> ¢3^ < Ί) S CJJ 工 X X 工 I 工 Οφ X? CD 工 工 〇 工 X 工 工 工 〇 〇 〇 X 工 X X 工 \ 工 X 工 工 工 工 工 X 工 X X P 孑 工 X X 工 I 工 工 工 X X 〇 ? 3D X 工 工 I 工 工 工 工 工 I 工 P 工 工 工 工 工 X X 工 工 工 X W Μ 工 工 二 二 二 工 工 工 工 工 工 工 X 工 工 W 工 工 tc U Μ 工 工 w - - 工 I X 工 工 工 工 工 I 工 工 〇 〇 Z ω Ο 2 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 X 〇 Z U Ο ζ 工 工 工 工 工 X 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 工 〇 =¾ Z 2 2 〇 ρ ζ 〇 ρ 〇 〇 C 〇 〇 C ρ ρ 〇 匚 ρ ρ ρ ρ ρ 〇 C Φ 72 200406466 玖、發明說明

將2.80克的N，N-二苯基巴比士酸及143克1[5-(笨基月彳 基）-2,4-亞戊二烯]苯胺的單鹽酸鹽溶解在4〇毫升的丙_ _ ，且在冰浴中冷卻至5。〇。然後，加入3毫升的三乙胺且另 拌該混合物3小時。利用蒸發濃縮該紫色溶液，以二乙! _及水清洗該絲物，並在4代下錢。可獲得314克4 下列指出的離子對D-54。 10 可使用類似於描述在實例54中的方法獲得在下列指^ 的化合物D-55至D-70 :

a' R ο D-70(Xmax=552奈米) 73 200406466 玖、發明說明

,)-ch2-ch=ch 應用實例1 將1.5重量％根據實例2賴-5及〇奴等莫耳混合物溶 f在卜丙醇中’且將該溶液過濾、過孔洞尺寸0.2奈米的鐵弗 5月l(Tefl〇n)過濾器，且利用旋轉塗佈法在_〇轉紛鐘下將 其塗佈至厚度0.6毫米、直徑12〇毫米之有溝紋的聚碳酸酯 碟片（溝紋深度17〇奈米、溝紋寬度35〇奈米、軌跡間隔〇·74 试米）的表面上。過量的溶液可藉由增加旋轉速度而旋轉 卓在/合刈瘵發後，該染料以均勻、非晶相的固體層形式 1〇存留。在70°c之循環空氣烘箱中乾燥後（10分鐘），該固體 層在623奈米處之吸收度為〇5〇。然後，在真空塗佈設備( 旋轉機（Twister)TM，巴惹斯安阿克斯（Balzers Unaxis))中， 74 200406466 玖、發明說明 利用原子化法對該記錄層塗佈7〇奈米厚的銀層。然後，利 用旋轉塗佈法於此塗佈6微米厚之uv_可硬化的光聚合物 (650-020，DSM)保護層。該記錄載體在㈣奈米處之反射 性為48%。 5 使用商業試驗裝置（dvdt-r™，專家磁學（Expert

Magnetics))，使用波長658奈米的雷射二極體在速度公 尺/秒及雷射功率9.5讀下將標記寫人該活性層。然後使用 相同的試驗裝置測量動態參數’此可獲得好的測量值： DTC 失穩=9.0〇/〇 ; R14H=47% ; 114/14H=〇 6。 10 應用實例2 將0.2重量％根據實例7之化合物〇_7溶解在一增塑劑、 一實例28的化合物M-5之等莫耳加入物（一個例子有加入， 一個例子沒有）中，然後在160。(：下將其摻入pVc薄膜。使 用商業u v/vi s分光光度計（卡雷（Carey))測量二種薄膜的吸 15收光瑨。在包含聚集形式（沒有加入）的過光器實例中，於 580奈米處測量到的半值寬度為65奈米及，在解聚形式的 實例中於613奈米處為24.5奈米。 應用實例3 在100毫升的玻璃容器中，將83·3克的錯陶瓷小珠、 20 2.8克Μ-5與D-2的等莫耳混合物、〇·28克的梭斯柏斯

(Solsperse)®5000、4.10克的迪斯柏畢克（Disperbyk)(g)161 (分 散劑/B YK化學(‘BYK Chemie) ··具有色素親和基團的高分 子量嵌段共聚物在1 ·· 6之醋酸正丁酯/醋酸1 _甲氧基_2•丙 酯中的30%溶液）及14.62克的醋酸丙二醇單甲基醚g旨（MpA 75 200406466 玖、發明說明 ’ CAS Reg· N2108-65-6)，在23下與迪斯柏美特 (Dispermat)以lOOOrpm攪拌1〇分鐘及以3〇〇〇rpm攪拌18〇分 知。接著在室溫下加入4.01克的丙烯酸聚合物黏著劑（35% 在MPA中的溶液），並以3〇〇〇rpm連續攪拌3〇分鐘。在分離 出小珠後，該分散液以等量的MPA稀釋。將此分散液在塗 料力疋轉塗佈裝置上塗佈至玻璃基板（康寧型式（c〇rning Type)1737-F)，且在i〇〇〇rpm下旋轉3〇秒。在加熱板上，於 100C下對該塗佈物進行乾燥2分鐘且在2〇(rCT5分鐘。所 產生的冗紫色/監色薄膜塗佈物之厚度為〇.4微米。

將0.01莫耳的奥斯若D-71溶解在5〇毫升的三氟醋酸 (TFA)中。亦將〇·〇ι莫耳的]溶解在TFA中。在充分攪拌 下混合此二溶液。過濾出所獲得的暗紫色沉澱物，以水清 15 洗直到呈中性，乾燥及篩選。 在100¾升的玻璃容器中，將83·3克的銼陶瓷小珠、 2.8克的上述產物（D-71/M-5)、0.28克的梭斯柏斯®5000、 4.10克的迪斯柏畢克^61(分散劑/]8¥1<：化學：具有色素親 和基團的高分子量嵌段共聚物在1 : 6之醋酸正丁酯/醋酸^ 76 200406466 玖、發明說明 甲氧基-2 -丙ί旨中的30%溶液）及14.62克的醋酸丙二醇單甲 基醚酯（MPA，CAS Reg. ΝΜ08-65-6)，在23°C下與迪斯柏 美特以lOOOrpm攪拌10分鐘及以3000rpm攪;拌18〇分鐘。接 著在室溫下加入4.01克的丙嫦酸聚合物黏著劑（35%在mpa 5中的溶液），且在3〇〇〇rpm下連續攪拌30分鐘。在分離出小 珠後，該分散液以等量的MPA稀釋。將此分散液在塗料旋 轉塗佈裝置上塗佈至玻璃基板（康寧型式1737_F)，並在 lOOOrpm下旋轉30秒。在加熱板上，於丨下對該塗佈物 進行乾爍2分鐘且在2〇〇°C下5分鐘。可獲得〇·4微米厚的塗 10佈物。可獲得亮紫色/藍色薄膜。 若使用〇·8·2·0克的愛普森隆（epsilon)CuPc(亞特蘭提藍 (Atlantic Blue))及 〇.8_2.〇克的產物（D_71/M_5)代替 2 8 克的 產物（D-71/M-5)，則可獲得亮藍色薄膜。含有愈多的奥斯 若，顏色會變得愈紫。 15 若使用奥斯若D_72或D-73代替奥斯若D-71亦可獲得類 似的結果。 【圖式簡單說明】 無 【圖式之主要元件代表符號表】 益 77

Claims (1)

1. 200406466 拾、申請專利範圍 一種組成物，其包含至少 少一種下式之金屬錯合物 一種奥斯若（oxonol)染料及至

   R6 5 其中Me為次族7、8、9、10、11或12(較佳為9、i =)之過渡金屬及D2每個可彼此各自獨立地為, 裱或雜環或環系統’其可未經取代或經-個或多個R 及R6基團取代； 10 R5及R6可為.素原子(諸如氟、氯或溴)、胺基、烷 基胺基、二烷基胺基、硝基、氰基、羥基、未經取代 或經取代的烷基、未經取代或經取代的羥烷基、未經 取代或經取代的烷氧基、經或-S-岔斷一次或多次之 未經取代或經取代的烧基、Si基、苯基、酯基（諸如膦 酸、磷酸或羧酸酯基）、羰醯胺基、硫醯胺基、錢基、 叛酸、礦酸、膦酸或碟酸基團或其鹽類； R1及R4每個可彼此各自獨立地為氫原子或未經取 代或經取代的烧基、务基或务烧基； 78 15 200406466 拾、申請專利範圍 R2、R2’、R3及R3'每個可彼此各自獨立地為氫原子 、氰基、未經取代或經取代的烷基、烷氧基、芳基或 芳烧基、酯基、羰醯胺基、硫醯胺基、三烷基銨基、 幾酸、續酸、膦酸或碌酸基團或其鹽類；或 R與R° —起或R2與R j —起形成一雙鍵、環烷基環 或雜環；或 R2、R2、Rj及IT可一起形成芳香族碳環或雜環； 一起每對可彼此各自獨立 R2 與 R3—起及 / 或 r2>R3’一 地形成一羰基或硫羰基； R/ R R、R、R8及R8’每個可彼此各自獨立地為氫原子 或未經取代或經取代㈣基、芳基或芳絲；或 R7與Rr—起及/或…與…，一 氣原子 地形成一羰基或硫羰基。 如申請專利範圍第1項之組成物， 下式之染料 起每對可彼此各自獨立 其中該奥斯若染料為

   個貫例中皆為— A成^環或雜 一取代基 環所需的 79 200406466 拾、申請專利箪包圍 原子基團；E及G在每個實例中皆為一形成具有共軛雙 鍵鏈所需的原子基團；X1為=〇、=NR9或=C(CN)2，R9 為一取代基；X2為·〇、_NR9或·€γΝ)2，R9為一取代基 ;L為一可經取代的曱川基團，或一由聚甲川基團所完 5 成的基團（可由3、5或7個甲川連接）以形成一具有共軛 雙鍵且可經取代的鏈；Mk+可為一有機或無機陽離子， 而式（M)或（1-2)的金屬錯合物亦可為一陽離子，只要 其攜帶一個或多個正電荷；為0或1 ; 為整數i 至10 〇 ίο 3·如申請專利範圍第1或2項之組成物，其中Mk+為一種銨 陽離子或一種陽離子染料。 4·如申請專利範圍第3項之組成物，其中該陽離子染料之 最大吸收範圍從550至620奈米及/或少於45〇奈米。 5.如申請專利範圍第1至3項中任何一項之組成物，其中 15 奥斯右染料具有下列一般式 %

   42· 4R ο 或

   Ra, ο 2) (IM 80 200406466 拾、申請專利範圍 其中Mk為一種銨陽離子；k為整數1至4，特別是j 或2，· Ra、Rb、Ra，及每個可彼此各自獨立地為氯原子 、Cw烷基（特別*Ci_4烷基）、羥基/η烷基、Gy烯基 (諸如-CHrCH^CH2)、未經取代或經CM烷基_或^_4烷 氧基-取代的c6.12芳基（諸如苯基）、^C7 i2芳燒基（諸如 苄基）； R41及R41’每個可彼此各自獨立地為氫原子、c"烷 基（諸如甲基或乙基）、或全氟-Cw烷基（諸如三氟甲基） 、羥基-Cm烷基、或經_〇_岔斷一次或多次的Gy烷基（ 諸如CHA^CiVO-c^cH3)2)、q 1〇芳基（諸如苯基）、 或Cm芳烷基（諸如苄基）； R42及R42’每個可彼此各自獨立地為氫原子、氰基 或羰醯胺基； R及R每個可彼此各自獨立地為氫原子、羧酸 基或其鹽類或Ch烷基； R44及R44·每個可彼此各自獨立地為氮原子、烧 基C1·〗2务基或C7-12芳烧基；或 R44及R44·可一起形成5員或6員環，諸如環己婦基 或環戊烯基環；及 R45可為氫原子、！I素原子（特暇氯原子）、未經 取代或經C^4烷基-或Cl_4烷氧基_取代的芳基（諸如 本基或對-甲基_苯基）、或^丨2芳烷基（諸如苄基）。 81 1 ·如申請專利範圍第5項之組成物，其中Mk+可選自於下 列陽離子： 13 200406466 拾、申請專利範圍 R ,Ν、 11 r1〇+ R (VM), R 12 R •N—R R14 5 10 (VI-2)， 其中R1G、R1G’及R1(r每個可彼此各自獨立地為氫原 子、未經取代或經例如1至3個Cm烷基取代的c3_24環烧 基（諸如環己基或3，3,5-三曱基環己基或松香胺d)、或 直鏈或分枝的C!-24烷基；R"、R12、R13及R14可為氫原 子、未經取代或經取代之直鏈或分枝的^〜烷基（較佳 為CN16烧基）、直鏈或分枝的羥基-C^36烧基（特別是經 基-Cuis烷基）、C0·24芳基（特別是CV丨0芳基）或(^24芳烧 基（特別是C7_12芳烷基）；或二個R"、Rl2、R13及r14基 團可與它們鍵結的氮原子一起形成5或6員雜環，諸如 N-吡咯啶基、N-六氫咄啶基或嗎福琳基；或 R 65 D rT^N+-r66 (VI·3)，較佳為 (R67) (r6\

   (VW)或

   (VI-5), 其中R67及R68每個可彼此各自獨立地為一取代基； R及R每個可彼此各自獨立地為經取代或未經取代的 垸基、經取代或未經取代的烯基、經取代或未經取代 的炔基、經取代或未經取代的芳烧基、經取代或未經 取代的芳基或經取代或未經取代的雜環基團；r67與r68 、R67與R65、R、R“及r65與r66對可連接以形成一環 82 15 200406466 拾、申請專利範圍 •’及s和t每個可彼此各自獨立地為〇或整數1至4，其限 制條件為當S及t的值為2或更多時，基團R67及R68 <相 同或不同；或式

   5 其中R69可為直鏈或分枝的Cm烷基（特別是甲基、 乙基、丙基、丁基或三級丁基），其可未經取代或經例 如氰基、鹵素原子或Ci_4烷氧基取代； R204 R 201 ,201 FT R20^— N—X—N—R203 R201 — N R202 (VI·?)或 HCJ I R R201 V 204 (νΐ·8) 其中R201 10 R202 及r2G3每個可彼此各自獨立地為氫 1子、未經取代或經取代之直鏈或分枝叫3成基（較 佳為Cw烷基）、未經取代或經一個或多個烷基及/ 或Ci·4烷氧基取代之羥基_Ci_36烷基（特別是羥基烷 基）、C3.24環烧基（特別是c5 7環烧基）、C6 24芳基（特別 是匕⑼芳基）、或C7_24芳烷基（特別是c^2芳烷基）；或 二個R2。1、11加及r203基團可與它們 5 土’ U&V可為整數1至3，且u&v的總和可為3、4或5 83 15 200406466 拾、申請專利範圍 ;及 X為二價連結基團，諸如未經取代或經一個或多個 cN4烷基及/或CN4烷氧基取代的CN8伸烷基、或一基團 ^204

   其中R2(M如上文所定義；Ar為未經取代或經一個或 多個CN4烷基及/或Cw烷氧基取代的C6_1()芳基；Cy為未 經取代或經一個或多個CN4烷基及/或CN4烷氧基取代的 〇5_7環烷基；及t為整數0至4 ; 或下式之金屬錯合物 〇 w 〇3，0

   R' 62 ㈣或 R· 62 (1-6) 84 10 200406466 拾、申請專利範圍 其中Me為Cu、Ni或Co ; 原子、氯原子、溴原子、羥基、未經取代或經二或三 燒基銨基團取代的CNS烧基、未經取代或經二或三烷基 銨基團取代的C^6烧氧基、經-〇_或-8-岔斷一次或多次 之未經取代或經二或三烧基銨基團取代的c丨8烧基、酯 基（諸如膦酸、磷酸及羧酸酯基）、羰醯胺基、硫酿胺基 或二或三烷基銨基團； 10 R1及R4每個可彼此各自獨立地為氫原子或^ 8烧基· R2、R2’、R3及R3_可為氫原子、氰基或Ci8烷基； 或R2與R2_、R3與R3’對一起形成一環己烷環；r51、r52 K—、κ/ 三烷基銨基團或經二或三烷基銨基團取代； 15 R7、R7、R8及R8每個可彼此各自獨立地為氳原子 或未經取代或經取代的Cm烷基、苯基或苄基；或 R與R —起及/或R與R8 一起每對可彼此各自獨立 地形成一羰基或硫羰基。 一種光學記錄媒體，其包含一基板及至少一層記錄層 20 ，其中該記錄層包含一如申請專利範圍第丨至6項中任 何一項之組成物。 8· —種如申請專利範圍第〗至6項中任何一項之組成物的 用途，其可用來製造光學記錄媒體、濾色片（濾光器）及 印刷墨水。 9. 種製造光學記錄媒體之方法，其將如申請專利範圍 85 200406466 拾、申請專利範圍 第^至6項中任何—項之組成物於非函化溶劑中的溶液 主佈至一具有凹洞的基板。 K). -種如申請專利範圍第2項之式阳）或⑴ 染料’其中Mk+為-種陽離子染料。 11. 士申明專利範圍第9項之方 1 /、〒忒有機〉谷劑為醇。 I2· —種如申請專利範圚筮 圍弟10項之奥斯若染料的用途，1 可使用在光學訊息儲存上。 八 13:種式㈣之金屬錯合物的用途，其可使用在光學訊 心儲存，其中Me、D1盘2 ίο 15 專利範圍第！項中所定義去、„與R4係如申請 與R3.為氰基。 m3形成-雙鍵；及β ，種濾光為其包含_栽體層及一濾光層者，直中 :層包含如申請專利範圍第1綱中任何—項的組： 15. 一種印刷墨水’其包含如中請專利範圍第⑴項中任 何一項的組成物。 86 200406466 陸、（一）、本案指定代表圖爲：第_圖 (二）、本代表圖之元件代表符號簡單說明： 柒、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化 學式：

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