TH98891A - การรีไซเคิลของซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ - Google Patents

การรีไซเคิลของซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่

Info

Publication number
TH98891A
TH98891A TH701006389A TH0701006389A TH98891A TH 98891 A TH98891 A TH 98891A TH 701006389 A TH701006389 A TH 701006389A TH 0701006389 A TH0701006389 A TH 0701006389A TH 98891 A TH98891 A TH 98891A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
substrate
stock
photomask
glass
glass substrate
Prior art date
Application number
TH701006389A
Other languages
English (en)
Other versions
TH76171B (th
Inventor
อุเอะดะ ชุเฮอิ
ชิบะโนะ ยุกิโอะ
Original Assignee
ชิน เอทสุ เคมิคัล โค
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางวรนุช เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by ชิน เอทสุ เคมิคัล โค, นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางวรนุช เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า filed Critical ชิน เอทสุ เคมิคัล โค
Publication of TH98891A publication Critical patent/TH98891A/th
Publication of TH76171B publication Critical patent/TH76171B/th

Links

Abstract

DC60 (12/03/51) ซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่ถูกใช้แล้ว ที่มีฟิล์มที่เป็นรูปแบบที่ป้องกันแสง จะ ถูกนำมารีไซเคิลได้โดย (i) การเอาฟิล์มที่ป้องกันแสงออกจากซับสเตรตที่ใช้แล้ว เพื่อให้ได้โฟโต มาส์กที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว (ii) การปรับผิวใหม่ของสต็อกของซับสเตรตที่เป็น แก้ว โดยการพ่นทราย (iii) การขัดให้เรียบมันใหม่ของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้วที่ถูกปรับผิว ใหม่ เพื่อให้ใด้สต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้วที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ (iv) การทาฟิล์มที่ป้องกันแสงลงบน สต็อกของซับสเตรตที่แก้วที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ เพื่อให้ได้โฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ที่กลายเป็น แบลงก์ และ (V) การดำเนินกระบวนการของฟิล์มที่ป้องกันแสงของแบลงก์ ภายในรูปแบบที่สอด คล้องกับการให้ถูกแสงที่ต้องการของแก้วต้นแบบ ที่ก่อให้เกิดซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้าง ขึ้นใหม่ ซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่ถูกใช้แล้ว ที่มีฟิล์มที่เป็นรูปแบบที่ป้องกันแสง จะ ถูกนำมารีไซเคิลได้โดย (i) การเอาฟิล์มที่ป้องกันแสงออกจากซับสเตรตที่ใช้แล้ว เพื่อให้ได้โฟโต มาส์กที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว (ii) การปรับผิวใหม่ของสต็อกของซับสเตรตที่เป็น แก้ว โดยการพ่นทราย (iii) การขัดให้เรียบมันใหม่ของสต็อกของขับสเตรตที่เป็นแก้วที่ถูกปรับผิว ใหม่ เพื่อให้ใด้สต็อกของขับสเตรตที่เป็นแก้วที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ (iv) การทาฟิล์มที่ป้องกันแสงลงบน สต็อกของซับสเตรตที่แก้วที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ เพื่อให้ได้โฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ที่กลายเป็น แบลงก์ และ (V) การดำเนินกรบวนการของฟิล์มที่ป้องกันแสงของแบลงก์ ภายในรูปแบบที่สอด คล้องกับการให้ถูกแสงที่ต้องการของแก้วต้นแบบ ที่ก่อให้เกิดซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้าง ขึ้นใหม่

Claims (8)

แก้ไข 20/05/2563 ข้อถือสิทธิไม่มี ----------------------------------------------------------------------------------------------------
1. วิธีของการรีไซเคิลซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ ที่ประกอบด้วย ขั้นตอนของ: (i) การเอาฟิล์มที่เป็นแบบที่ป้องกันแสงออกจากซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่ ใช้แล้ว เพื่อให้ได้โฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว เพื่อนำมาส ร้างใหม่ได้ (ii) การปรับผิวใหม่ของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว โดยการใช้เครื่องมือที่ใช้ในกระบวน การของการพ่นทราย (iii) การขัดให้เรียบมันของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่ถูกปรับผิวใหม่เพื่อให้ได้สต็อก ของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ (iv) การทาฟิล์มที่ป้องกันแสงลงบนสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ เพื่อ ให้ได้ โฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ที่กลายเป็นแบลงก์ และ (v) การดำเนินกระบวนการของฟิล์มที่ป้องกันแสงของแบลงก์ภายในรูปแบบที่สอดคล้อง การการให้ถูกแสงที่ต้องการของแก้วต้นแบบ ที่ก่อให้เกิดซับสเตรตของโฟโตมาส์ก ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่
2. วิธีของข้อถือสิทธิ 1 ในที่ซึ่ง สต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่ เป็นผลมาจากขั้นตอน (i) จะมีความยาวของเส้นทแยงมุม อย่างน้อยที่สุดเป็น 500 มม. และความหนาอย่างน้อยที่สุดเป็น 3 มม.
3. วิธีของข้อถือสิทธิ 2 ในที่ซึ่ง ซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ จะถูกนำมาใช้ในกระบวนการของการทำให้แก้ว ต้นแบบถูกแสง ที่รวมทั้งการต่อซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ที่มีด้านตรงข้ามกัน อุปกรณ์ของการให้ถูกแสง ผ่านซับพอร์ของขอบด้านตรงกันข้าม การจัดให้ติดกัน แก้วต้นแบบ ของซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ที่จัดให้เป็นซับสเตรตด้านที่จัดเรียงเป็นแถวหรือ ด้านที่เป็นตัวกรองสี ในแผ่นผลึกเหลวของ TET และการฉายยแสงจากอุปกรณ์ของการให้ถูกแสง ไป ยังแก้วต้นแบบผ่านซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ขั้นตอน (ii) ของการปรับผิวใหม่ดังกล่าว โดยการพ่นทรายจะประกอบด้วยขั้นตอนของการ ดำเนินกระบวนการของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่มีพื้น ผิวด้านหน้าและหลังและความยาวของเส้นทแยงมุม อย่างน้อยที่สุดเป็น 500 มม. และความหนา อย่างน้อยที่สุดเป็น 3 มม. โดยการเอาออกไปจากนั้น (1) การกำจัดปริมาณที่ทำให้พื้นผิวแบนของ วัสดุที่ขึ้นอยู่กับข้อมูลความสูงของความแบนและการขนานกันของพื้นผิวด้านหน้าและหลังของ สต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้วขนาดใหญ่ในการวางแนวตั้ง รวมกับการกำจัดปริมาณของวัสดุที่ดัด แปลงแก้ไขความบิดเบี้ยว, ผ่านการพ่นทราย การกำจัดปริมาณที่ดัดแปลงแก้ไขความบิวเบี้ยว จะทำการคำนวนได้จาก (2) การเบี่ยง เบนของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้วโดยน้ำหนักของตัวมันเองในการวางตามแนวนอน, ที่คำนวณ ได้จากความหนาและขนาดของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว และตำเเหน่งของซัพพอร์เมื่อซับส เตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขั้นใหม่ ถูกซัพพอร์ตตามแนวนอน (3) ความบิดเบี้ยวของ ซับส เตรตของโฟโตมาส์ก ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ซึ่งก่อให้เกิดขึ้นได้โดยชัพพอร์ตของซับสเตรตของโฟโต มาส์ก เมื่อซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ถูกทำให้ต่อกับอุปกรณ์ของการใช้ถูกแสง, และ (4) การทำให้ผิดรูปทรงที่มีความถูกต้องแม่นยำของลูกยางสำหรับการซัพพอร์ตแก้วต้นแบบ เพื่อทำให้ถูกแสงได้ ซับสเตรตของแก้วที่มีขนาดใหญ่ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ที่เป็นผลมาจากสต็อกของซับสเตรตที่ เป็นแก้ว จะมีรูปร่างงอคล้ายคันศรดังกล่าว ในภาพตัดขวาง ซึ่งพื้นผิวจะตรงกันข้ามกับแก้วต้นแบบ คือ เว้าเมื่อยึดไว้ในแนวตั้ง และลดการเปลี่ยนแปลงความชิดกันของช่องว่าง ระหว่างแก้วต้นแบบ และซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ซึ่งถูกยึดตามแนวนอน เมื่อขอบด้านตรงกันข้ามของ ซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ถูกซัพพอร์ตได้ในอุปกรณ์ของการให้ถูกแสง
4. วิธีของข้อถือสิทธิ 1,2 หรือ 3 ในที่ซึ่ง ปริมาณของวัสดุที่กำจัดออกไปในขั้นตอน (ii) และ (iii) แต่ละขั้นตอน จะเป็นอย่างน้อยที่สุด 20 (สูตร) จากพื้นผิวด้านหน้าและด้านหลังของโฟโต มาส์กที่มีขนาดใหญ่ ที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว เพื่อให้ถูกสร้างขึ้นใหม่ได้
5. วิธีของข้อถือสิทธิ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ในที่ซึ่ง ขั้นตอนของการขัดให้เรียบมันใหม่ (iii) จะรวมถึงการขัดให้เรียบมันครั้งแรก และการขัดให้เรียบมันครั้งที่ 2
6. วิธีของข้อถือสิทธิ 5 ในที่ซึ่ง ขั้นตอนของการขัดให้เรียบมันครั้งแรก จะใช้สเลอรี่ที่ใช้ใน การขัดให้เรียบมัน ที่มีซีเรียมออกไซด์
7. วิธีของข้อถือสิทธิ 5 หรือ 6 ในที่ซึ่ง ขั้นตอนของการขัดให้เรียบมันครั้งที่ 2 จะใช้สเลอรี่ ที่ใช้ในการขัดให้เรียบมันที่มีซีเรี่ยมออกไซค์หรือสเลอรี่ที่มีชิลิกาที่เป็นคอลลอยด์
8. วิธีของข้อถือสิทธิ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ในที่ซึ่ง ซับสเตรตของโฟโตมาส์ก ที่ถูกสร้างขึ้น ใหม่ จะมีความแบบของพื้นผิวที่สอดคล้องกันกับความแบนของพื้นผิว/ความยาวของเส้นทแยงมุม สูงถึง 4.8x10-5 ในการวางตามแนวนอน
TH701006389A 2007-12-13 การรีไซเคิลของซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ TH76171B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH98891A true TH98891A (th) 2009-11-04
TH76171B TH76171B (th) 2020-05-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2007146764A (ru) Повторное использование крупноразмерной подложки фотошаблона
CN101681092B (zh) 光罩用基板、光罩用基板的成形构件、光罩用基板的制造方法、光罩、及使用光罩的曝光方法
TWI532601B (zh) 在3d玻璃物件上網版印刷之方法
KR100787350B1 (ko) 대형 합성 석영 유리 기판의 제조 방법
TW201609275A (zh) 使用光學透明樹脂的顯示模組製造方法
KR20010062562A (ko) 펠리클을 이용하는 리소그래피에 있어서의 로광방법,로광장치, 리소그래피용 페리클 및 그 페리클막의 휨완화방법
CN101006021B (zh) 大型玻璃基板及其制造方法、以及母玻璃曝光方法
TWI506355B (zh) 光罩基板、光罩基板之製造方法、光罩基底、光罩、圖案轉印方法、液晶顯示裝置之製造方法及近接空隙評估方法
CN203422554U (zh) 一种光掩模板贴膜装置
JP4267333B2 (ja) 大型合成石英ガラス基板の製造方法
TH76171B (th) การรีไซเคิลของซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่
KR100865978B1 (ko) 광 배향 방법
JP4340893B2 (ja) 大型基板の製造方法
JP2007057638A (ja) 面取り大型基板及びその製造方法
JP2013097236A (ja) 露光装置とそれを用いるカラーフィルタの製造方法
RU2340037C2 (ru) Стеклянная подложка большого размера для фотошаблона и способ изготовления, считываемая компьютером среда записи и способ экспонирования материнского стекла
CN107272327B (zh) 表膜
US8062812B2 (en) Image mask and image mask assembly
TWI431413B (zh) 微影用防塵薄膜組件
KR100941762B1 (ko) 펠리클프레임 가공방법
JP2005262432A (ja) 大型基板の製造方法
KR20120100371A (ko) 글라스윈도우 제조방법 및 이에 의해 제조된 글라스윈도우
CN103744268A (zh) 一种高精度光栅尺母板光刻装置
KR20120121334A (ko) 기판의 재활용 방법
CN109491200A (zh) 一种掩膜版、制造方法及设备