TH76171B

TH76171B - การรีไซเคิลของซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่

Info

Publication number: TH76171B
Application number: TH701006389A
Authority: TH
Inventors: อุเอะดะ ชุเฮอิ; ชิบะโนะ ยุกิโอะ
Original assignee: นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์; นางวรนุช เปเรร่า; นายธเนศ เปเรร่า; นายธเนศ เปเรร่า นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์ นางวรนุช เปเรร่า
Filing date: 2007-12-13
Publication date: 2020-05-20

Abstract

DC60 (12/03/51) ซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่ถูกใช้แล้ว ที่มีฟิล์มที่เป็นรูปแบบที่ป้องกันแสง จะ ถูกนำมารีไซเคิลได้โดย (i) การเอาฟิล์มที่ป้องกันแสงออกจากซับสเตรตที่ใช้แล้ว เพื่อให้ได้โฟโต มาส์กที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว (ii) การปรับผิวใหม่ของสต็อกของซับสเตรตที่เป็น แก้ว โดยการพ่นทราย (iii) การขัดให้เรียบมันใหม่ของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้วที่ถูกปรับผิว ใหม่ เพื่อให้ใด้สต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้วที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ (iv) การทาฟิล์มที่ป้องกันแสงลงบน สต็อกของซับสเตรตที่แก้วที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ เพื่อให้ได้โฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ที่กลายเป็น แบลงก์ และ (V) การดำเนินกระบวนการของฟิล์มที่ป้องกันแสงของแบลงก์ ภายในรูปแบบที่สอด คล้องกับการให้ถูกแสงที่ต้องการของแก้วต้นแบบ ที่ก่อให้เกิดซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้าง ขึ้นใหม่ ซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่ถูกใช้แล้ว ที่มีฟิล์มที่เป็นรูปแบบที่ป้องกันแสง จะ ถูกนำมารีไซเคิลได้โดย (i) การเอาฟิล์มที่ป้องกันแสงออกจากซับสเตรตที่ใช้แล้ว เพื่อให้ได้โฟโต มาส์กที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว (ii) การปรับผิวใหม่ของสต็อกของซับสเตรตที่เป็น แก้ว โดยการพ่นทราย (iii) การขัดให้เรียบมันใหม่ของสต็อกของขับสเตรตที่เป็นแก้วที่ถูกปรับผิว ใหม่ เพื่อให้ใด้สต็อกของขับสเตรตที่เป็นแก้วที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ (iv) การทาฟิล์มที่ป้องกันแสงลงบน สต็อกของซับสเตรตที่แก้วที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ เพื่อให้ได้โฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ที่กลายเป็น แบลงก์ และ (V) การดำเนินกรบวนการของฟิล์มที่ป้องกันแสงของแบลงก์ ภายในรูปแบบที่สอด คล้องกับการให้ถูกแสงที่ต้องการของแก้วต้นแบบ ที่ก่อให้เกิดซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้าง ขึ้นใหม่

Claims

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :แก้ไข 20/05/2563 ข้อถือสิทธิไม่มี ----------------------------------------------------------------------------------------------------

1. วิธีของการรีไซเคิลซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ ที่ประกอบด้วย ขั้นตอนของ: (i) การเอาฟิล์มที่เป็นแบบที่ป้องกันแสงออกจากซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่ ใช้แล้ว เพื่อให้ได้โฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว เพื่อนำมาส ร้างใหม่ได้ (ii) การปรับผิวใหม่ของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว โดยการใช้เครื่องมือที่ใช้ในกระบวน การของการพ่นทราย (iii) การขัดให้เรียบมันของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่ถูกปรับผิวใหม่เพื่อให้ได้สต็อก ของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ (iv) การทาฟิล์มที่ป้องกันแสงลงบนสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ เพื่อ ให้ได้ โฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ที่กลายเป็นแบลงก์ และ (v) การดำเนินกระบวนการของฟิล์มที่ป้องกันแสงของแบลงก์ภายในรูปแบบที่สอดคล้อง การการให้ถูกแสงที่ต้องการของแก้วต้นแบบ ที่ก่อให้เกิดซับสเตรตของโฟโตมาส์ก ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่

2. วิธีของข้อถือสิทธิ 1 ในที่ซึ่ง สต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่ เป็นผลมาจากขั้นตอน (i) จะมีความยาวของเส้นทแยงมุม อย่างน้อยที่สุดเป็น 500 มม. และความหนาอย่างน้อยที่สุดเป็น 3 มม.

3. วิธีของข้อถือสิทธิ 2 ในที่ซึ่ง ซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ จะถูกนำมาใช้ในกระบวนการของการทำให้แก้ว ต้นแบบถูกแสง ที่รวมทั้งการต่อซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ที่มีด้านตรงข้ามกัน อุปกรณ์ของการให้ถูกแสง ผ่านซับพอร์ของขอบด้านตรงกันข้าม การจัดให้ติดกัน แก้วต้นแบบ ของซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ที่จัดให้เป็นซับสเตรตด้านที่จัดเรียงเป็นแถวหรือ ด้านที่เป็นตัวกรองสี ในแผ่นผลึกเหลวของ TET และการฉายยแสงจากอุปกรณ์ของการให้ถูกแสง ไป ยังแก้วต้นแบบผ่านซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ขั้นตอน (ii) ของการปรับผิวใหม่ดังกล่าว โดยการพ่นทรายจะประกอบด้วยขั้นตอนของการ ดำเนินกระบวนการของโฟโตมาส์กที่มีขนาดใหญ่ที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว ที่มีพื้น ผิวด้านหน้าและหลังและความยาวของเส้นทแยงมุม อย่างน้อยที่สุดเป็น 500 มม. และความหนา อย่างน้อยที่สุดเป็น 3 มม. โดยการเอาออกไปจากนั้น (1) การกำจัดปริมาณที่ทำให้พื้นผิวแบนของ วัสดุที่ขึ้นอยู่กับข้อมูลความสูงของความแบนและการขนานกันของพื้นผิวด้านหน้าและหลังของ สต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้วขนาดใหญ่ในการวางแนวตั้ง รวมกับการกำจัดปริมาณของวัสดุที่ดัด แปลงแก้ไขความบิดเบี้ยว, ผ่านการพ่นทราย การกำจัดปริมาณที่ดัดแปลงแก้ไขความบิวเบี้ยว จะทำการคำนวนได้จาก (2) การเบี่ยง เบนของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้วโดยน้ำหนักของตัวมันเองในการวางตามแนวนอน, ที่คำนวณ ได้จากความหนาและขนาดของสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว และตำเเหน่งของซัพพอร์เมื่อซับส เตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขั้นใหม่ ถูกซัพพอร์ตตามแนวนอน (3) ความบิดเบี้ยวของ ซับส เตรตของโฟโตมาส์ก ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ซึ่งก่อให้เกิดขึ้นได้โดยชัพพอร์ตของซับสเตรตของโฟโต มาส์ก เมื่อซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ถูกทำให้ต่อกับอุปกรณ์ของการใช้ถูกแสง, และ (4) การทำให้ผิดรูปทรงที่มีความถูกต้องแม่นยำของลูกยางสำหรับการซัพพอร์ตแก้วต้นแบบ เพื่อทำให้ถูกแสงได้ ซับสเตรตของแก้วที่มีขนาดใหญ่ที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ที่เป็นผลมาจากสต็อกของซับสเตรตที่ เป็นแก้ว จะมีรูปร่างงอคล้ายคันศรดังกล่าว ในภาพตัดขวาง ซึ่งพื้นผิวจะตรงกันข้ามกับแก้วต้นแบบ คือ เว้าเมื่อยึดไว้ในแนวตั้ง และลดการเปลี่ยนแปลงความชิดกันของช่องว่าง ระหว่างแก้วต้นแบบ และซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ซึ่งถูกยึดตามแนวนอน เมื่อขอบด้านตรงกันข้ามของ ซับสเตรตของโฟโตมาส์กที่ถูกสร้างขึ้นใหม่ ถูกซัพพอร์ตได้ในอุปกรณ์ของการให้ถูกแสง

4. วิธีของข้อถือสิทธิ 1,2 หรือ 3 ในที่ซึ่ง ปริมาณของวัสดุที่กำจัดออกไปในขั้นตอน (ii) และ (iii) แต่ละขั้นตอน จะเป็นอย่างน้อยที่สุด 20 (สูตร) จากพื้นผิวด้านหน้าและด้านหลังของโฟโต มาส์กที่มีขนาดใหญ่ ที่กลายเป็นสต็อกของซับสเตรตที่เป็นแก้ว เพื่อให้ถูกสร้างขึ้นใหม่ได้

5. วิธีของข้อถือสิทธิ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ในที่ซึ่ง ขั้นตอนของการขัดให้เรียบมันใหม่ (iii) จะรวมถึงการขัดให้เรียบมันครั้งแรก และการขัดให้เรียบมันครั้งที่ 2

6. วิธีของข้อถือสิทธิ 5 ในที่ซึ่ง ขั้นตอนของการขัดให้เรียบมันครั้งแรก จะใช้สเลอรี่ที่ใช้ใน การขัดให้เรียบมัน ที่มีซีเรียมออกไซด์

7. วิธีของข้อถือสิทธิ 5 หรือ 6 ในที่ซึ่ง ขั้นตอนของการขัดให้เรียบมันครั้งที่ 2 จะใช้สเลอรี่ ที่ใช้ในการขัดให้เรียบมันที่มีซีเรี่ยมออกไซค์หรือสเลอรี่ที่มีชิลิกาที่เป็นคอลลอยด์

8. วิธีของข้อถือสิทธิ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ในที่ซึ่ง ซับสเตรตของโฟโตมาส์ก ที่ถูกสร้างขึ้น ใหม่ จะมีความแบบของพื้นผิวที่สอดคล้องกันกับความแบนของพื้นผิว/ความยาวของเส้นทแยงมุม สูงถึง 4.8x10-5 ในการวางตามแนวนอน