TH92086A - องค์ประกอบเนกาทีฟโฟโตรีซิสท์ - Google Patents

Abstract

DC60 (25/06/50) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับสารผสมเนกาทีฟโฟโตรีซิสท์ ซึ่งประกอบรวมด้วย, a) โพลิเมอร์ ชนิดละลายในด่างอย่างน้อยหนึ่งชนิด, ซึ่งโพลิเมอร์นี้ประกอบรวมด้วยอย่างน้อยหนึ่งหน่วยที่มี โครงสร้าง 1, (สูตรเคมี) (1) ซึ่ง, R' ถูกเลือกมาอย่างเป็นอิสระจากไฮโดรเจน, (C1-C4)แอลคิล, คลอรีน, โบรมีน และ m เป็น จำนวนเต็มจาก 1 ถึง 4; b) อย่างน้อยหนึ่งโมโนเมอร์ที่มีโครงสร้าง 1; (สูตรเคมี) (4) ซึ่ง, W เป็นหมู่เชื่อมต่อชนิดมัลติวาเลนท์, R1 ถึง R6 ถูกเลือกมาอย่างเป็นอิสระจากไฮโดรเจน, ไฮดรอกซิล, (C1-C20)แอลคิล และคลอรีน, X1 และ X2 โดยที่เป็นอิสระคือออกซิเจนหรือ N-R7, ซึ่ง R7 เป็นไฮโดรเจนหรือ (C1-C20)แอลคิล, และ n เป็นจำนวนเต็มที่เท่ากับหรือมากกว่า 1, และ c) โฟโตอินิชิเอเตอร์อย่างน้อยหนึ่งชนิด การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้องกับกรรมวิธีสำหรับทำให้เกิดภาพ แก่สารผสมเนกาทีฟโฟโตรีซิสท์นี้ด้วยเช่นกัน การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับสารผสมเนกาทีฟโฟโตรีซิสท์ ซึ่งประกอบรวมด้วย, a) โพลิเมอร์ ชนิดละลายในด่างอย่างน้อยหนึ่งชนิด, ซึ่งโพลิเมอร์นี้ประกอบรวมด้วยอย่างน้อยหนึ่งหน่วยที่มี โครงสร้าง 1, (สูตรเคมี) (1) ซึ่ง, R' ถูกเลือกมาอย่างเป็นอิสระจากไฮโดรเจน, (C1-C4)แอลคิล, คลอรีน, โบรมีน และ m เป็น จำนวนเต็มจาก 1 ถึง 4; b) อย่างน้อยหนึ่งโมโนเมอร์ที่มีโครงสร้าง 1; (สูตรเคมี) (4) ซึ่ง, W เป็นหมู่เชื่อมต่อชนิดมัลติวาเลนท์, R1 ถึง R6 ถูกเลือกมาอย่างเป็นอิสระจากไฮโดรเจน, ไฮดรอกซิล, (C1-C20)แอลคิล และคลอรีน, X1 และ X2 โดยที่เป็นอิสระคือออกซิเจนหรือ N-R7, ซึ่ง R7 เป็นไฮโดรเจนหรือ (C1-C20)แอลคิล, และ n เป็นจำนวนเต็มที่เท่ากับหรือมากกว่า 1, และ c) โฟโตอินิชิเอเตอร์อย่างน้อยหนึ่งชนิด การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้องกับกรรมวิธีสำหรัรบทำให้เกิดภาพ แก่สารผสมเนกาทีฟโฟโตรีซิสท์นี้ด้วยเช่นกัน

Claims (2)

------14/09/2561------(OCR) หน้า 3 ของจำนวน 5 หน้า 12.สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งสามารถเกิดเป็นฟิล์มที่มีความหนาอยู่ในช่วง 2 ไมครอน ถึง 200 ไมครอน 13.กรรมวิธีสำหรับทำให้เกิดภาพแก่เนกาทีฟโฟโต1ซิสท์ ซึ่งประกอบรวมด้วยขันตอนของ, a)การทำให้เกิดเป็นชันของสารเคลือบโฟโตรีซิสท์จากสารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 บนซับสเตรต; b)การเปิดรับแสงแบบทำให้เกิดภาพแก่โฟโตรีชิสท์ด้วยอุปกรณ์เปิดรับแสง; และ, d) การทำให้สารเคลือบเกิดเป็นภาพด้วยสารละลายที่ทำให้เกิดภาพ 14.กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 13, ซึ่งชั้นเคลือบโฟโตรีชิสทํนมความหนาของฟิล์ม อยู่ในช่วง 2 ไมครอน ถึง 200 ไมครอน 15. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่งรังสสำหรับการเปิดรับแสงแบบทำให้เกิดภาพ มีความขาวคลื่นจาก 200 นาโนเมตร ถึง 450 นาโนเมตร 16.กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 13, ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วย1ขั้นตอน1ของการกำจัด ชันเคลือบโฟโตรีชิสท์ออกจากซับสเตรต 17.กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 16, ซึ่งขันตอนการกำจัดนีประกอบรวมด้วยการให้ความร้อน แก่ชันเคลือบโฟโตรีชิสท์หลังจากขันตอนการทำให้เกิดภาพ, และแยกเอาชันเคลือบโฟโตรี1ซิสท์นี ออกจากซับสเตรตในสารละลายด่างชนิดแอคเควียส 18.กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 13, ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยการเปิดรับแสงแก่ ชันเคลือบโฟโตรีซิสท์หลังจากขันตอนการทำให้เกิดภาพ 19.กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 13, ซึ่งสารละลายที่ทำให้เกิดภาพนีประกอบรวมด้วย สารละลายชนิดแอคเควียสที่ประกอบรวมด้วยสารประกอบ อย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมาจาก เตตระเมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, โซเดียมไฮดรอกไซด์ และโปแตสเชียมไฮดรอกไซด์ 20.สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งหมู่ที่แตกออกได้ด้วยกรดของโมโนเมอร์ประกอบ รวมด้วยเทอร์เชียรีคาร์บอนอะตอม ที่ติดอยู่กับ X, และ/หรือ x2 21.สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยตัวทำให้เกิดกรดด้วย ความร้อน และ/หรือ ตัวทำให้เกิดโฟโตแอชิด 22.สารผสมเนกาทีฟโฟโตรีชิสท์ซึ่งประกอบรวมด้วย: a) โพลิเมอร์ชนิดละลายในด่างอย่างน้อยหนึ่งชนิด, ซึ่งโพลิเมอร์นีประกอบรวมด้วยอย่าง น้อยหนึ่งหน่วยที่มีโครงสร้าง 1, ------------ 1. สารผสมเนกาทีฟโฟโตรีซิสท์ ซึ่งประกอบรวมด้วย; a) โพลิเมอร์ชนิดละลายในด่างอย่างน้อยหนึ่งชนิด, ซึ่งโพลิเมอร์นี้ประกอบรวมด้วย อย่างน้อยหนึ่งหน่วยที่มีโครงสร้าง 1, (สูตรเคมี) (1) ซึ่ง, R' ถูกเลือกมาอย่างเป็นอิสระจากไฮโดรเจน, (C1-C4)แอลคิล, คลอรีน, โบรมีน และ m เป็นจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 4; b) อย่างน้อยหนึ่งโมโนเมอร์ที่มีโครงสร้าง 4; (สูตรเคมี) (4) ซึ่ง, W เป็นหมู่เชื่อมต่อชนิดมัลติวาเลนท์, R1 ถึง R6 ถูกเลือกมาอย่างเป็นอิสระจากไฮโดรเจน, ไฮดรอกซิล, (C1-C20)แอลคิล และคลอรีน, X1 และ X2 โดยที่เป็นอิสระคือ ออกซิเจน และ n เป็นจำนวน เต็มที่เท่ากับหรือมากกว่า 1, และ c) โฟโตอินิชิเอเตอร์อย่างน้อยหนึ่งชนิด และซึ่งเพิ่มเติมที่โมโนเมอร์ที่มีโครงสร้าง 4 ประกอบรวมด้วยหมู่ที่แตกออกได้ด้วยกรด และ โพลิเมอร์ชนิดละลายในต่างที่ประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยหมู่ที่แตกออกได้ด้วยกรด 2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งโพลิเมอร์ชนิดละลายในด่างนี้ประกอบรวมเพิ่มเติมด้วย หมู่กรดที่แตกออกได้, และ/หรือโมโนเมอร์ที่มีโครงสร้าง 4 ซึ่งประกอบรวมด้วยหมู่กรดที่แตกออกได้ 3. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งหน่วยที่มีโครงสร้าง 1 นี้ได้มาจากโมโนเมอร์ที่เลือก มาจาก 3-ไฮดรอกซิสไตรีน, 4-ไฮดรอกซิสไตรีน, 3-เมธิล-4-ไฮดอกซิสไตรีน,3,5-ไดเมธิล-4- ไฮดรอกซิสไตรีน, และ 3,5-ไดโบรโม-4-ไฮดรอกซิสไตรีน 4. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งโพลิเมอร์ชนิดละลายในด่างนี้ประกอบรวมเพิ่มเติมด้วย หน่วยโมโนเมอร์เพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งหน่วย 5. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 4, ซึ่งหน่วยโมโนเมอร์เพิ่มเติมนี้ได้มาจากโมโนเมอร์ ที่เลือกมาจากเมธิล(เมธ)อะคริเลต, n-บิวทิล(เมธาคริเลต), ฟีนิล(เมธาคริเลต), เบนซิล(เมธาคริเลต), สไตรีน, ไฮดรอกซิสไตรีนที่มีหมู่กรดที่แตกออกได้ล เอธิลีนิกโคโมโนเมอร์ ที่มีหมู่กรดที่แตกออกได้, และอนุพันธ์นอร์บอร์นีนที่มีหมู่กรดที่แตกออกได้ 6. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 2, ซึ่งหมู่กรดที่แตกออกได้นี้ถูกเลือกมาจาก C(O)-O-C, C-O-C และ C-O-Si 7. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งหมู่เชื่อมต่อชนิดมัลติวาเลนท์, W, ถูกเลือกมาจาก โพลิเมอร์อย่างน้อยหนึ่งชนิด, (C1-C20)แอลคิลีน และ (C2-C3)แอลคอกซิเลตเตด(C1-C20)แอลคิลีน 8. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งในโครงสร้าง 4, n อยู่ในช่วงจาก 1 ถึง 7 9. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งสารประกอบที่มีโครงสร้าง 4 นี้คือ ได(เมธ)อะคริเลตโมโนเมอร์ 10. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งโมโนเมอร์นี้ถูกเลือกมาจากสารอย่างน้อยหนึ่งชนิด ของเอธิลีนไกลคอลได(เมธ)อะคริเลต, ไดเอธิลีนไกลคอลได(เมธ)อะคริเลต, บิวเทนไดออลได(เมธาคริเลต), 2,5-ไดเมธิล-2,5-เฮกเซนไดออลได(เมธาคริเลต), 2,5-ไดเมธิล-2,5- เฮกซ-3-อายน์-ไดออลได(เมธาคริเลต), กลิเซอรีนไตร(เมธาคริเลต), เพนตะเอริธรอลเตตระ(เมธาคริเลต), เพนตะเอริธริทอลเพนตะ(เมธาคริเลต), และ เพนตะเอริธริทอลเฮกซา(เมธาคริเลต) 11. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งโฟโตอินิชิเอเตอร์นี้คือสารอย่างน้อยหนึ่งชนิดของ

1-ไฮดรอกซิไซโคลเฮกซิลฟีนิลคีโตน, 2,

2-ไดเมธอกซิ-1,2-ไดฟีนิลอีธาน-1-โอน, บิส(2,4,6-ไตรเมธิลเบนโซอิล)ฟีนิลฟอสฟีนออกไซด์, 1-[4-(2-ไฮดรอกซิเอธอกซิ)ฟีนิล]-2- ไฮดรอกซิ-2-เมธิล-1-โพรเพน-1-โอน, 2-เบนซิล-2-ไดเมธิลอะมิโน-1-(4-มอร์โฟลิโนฟีนิล) บิวทาโนน, 2-เมธิล-1-[4-(เมธิลไธโอ)ฟีนิล]-2-มอร์โฟลิโนโพรพาน-1-โอน, และ 2-ไฮดรอกซิ-2- เมธิล-1-ฟีนิลโพรพาน-1-โอน 12. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยตัวทำให้เกิดกรด ด้วยความร้อน และ/หรือตัวทำให้เกิดโฟโตแอซิด 13. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยเซคันดารี่โพลิเมอร์ 14. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 13, ซึ่งเซคันดารี่โพลิเมอร์นี้ถูกเลือกมาจากโพลิเมอร์ หรือโคโพลิเมอร์ที่มี(เมธ)อะคริลิกแอซิด ชนิดไม่ถูกแทนที่หรือถูกแทนที่, โพลิเมอร์หรือโคโพลิเมอร์ ที่มี(เมธ)อะคริเลตชนิดไม่ถูกแทนที่หรือถูกแทนที่, โพลิเมอร์ หรือโคโพลิเมอร์ที่มีไวนิลเอสเทอร์ ชนิดไม่ถูกแทนที่หรือถูกแทนที่, โพลิเมอร์ หรือโคโพลิเมอร์ที่มีไวนิลอะโรมาติกชนิดไม่ถูกแทนที่ หรือถูกแทนที่, (เมธ)อะคริลิกแอซิด-สไตรีน โคโพลิเมอร์ และโนโวแล็คโพลิเมอร์ 15. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1, ซึ่งสารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 นี้เกิดเป็นฟิล์มที่มี ความหนาอยู่ในช่วงประมาณ 2 ไมครอน ถึงประมาณ 200 ไมครอน 16. กรรมวิธีสำหรับทำให้เกิดภาพแก่เนกาทีฟโฟโตรีซิสท์ ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ, a) การทำให้เกิดเป็นชั้นของสารเคลือบโฟโตรีซิสท์จากสารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 บนซับสเตรต; b) การเปิดรับแสงแบบทำให้เกิดภาพแก่โฟโตรีซิสท์ด้วยอุปกรณ์เปิดรับแสง; และ, d) การทำให้สารเคลือบเกิดเป็นภาพด้วยสารละลายที่ทำให้เกิดภาพ 17. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 16, ซึ่งชั้นเคลือบโฟโตรีซิสท์นี้มีความหนาของฟิล์ม อยู่ในช่วงประมาณ 2 ไมครอน ถึงประมาณ 200 ไมครอน 18. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 16 ซึ่งรังสีสำหรับการเปิดรับแสงแบบทำให้เกิดภาพ มีความยาวคลื่นมากกว่า 200 นาโนเมตร 19. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 16, ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยขั้นตอนของการกำจัด ชั้นเคลือบโฟโตรีซิสท์ออกจากซับสเตรต 20. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 19, ซึ่งขั้นตอนการกำจัดนี้ประกอบรวมด้วยการให้ความร้อน แก่โฟโตรีซิสท์ฟิล์มหลังจากขั้นตอนการทำให้เกิดภาพ, และแยกเอาโฟโตรีซิสท์ฟิล์มนี้ออกจาก ซับสเตรตในสารละลายด่างชนิดแอคเควียส 21. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 16, ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยการเปิดรับแสงแก่ โฟโตรีซิสท์ฟิล์มนี้