TH71858A - กรรมวิธีสำหรับการทำให้สารละลายไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แอคเควียสบริสุทธิ์ - Google Patents

กรรมวิธีสำหรับการทำให้สารละลายไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แอคเควียสบริสุทธิ์

Info

Publication number
TH71858A
TH71858A TH401003857A TH0401003857A TH71858A TH 71858 A TH71858 A TH 71858A TH 401003857 A TH401003857 A TH 401003857A TH 0401003857 A TH0401003857 A TH 0401003857A TH 71858 A TH71858 A TH 71858A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
purification
solution
exposure
hydrogen peroxide
membrane
Prior art date
Application number
TH401003857A
Other languages
English (en)
Other versions
TH75290B (th
Inventor
บอสซ์ เจอร์เกน
โอเวน โรเบิร์ต
เซลล์ ไมเคิล
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH71858A publication Critical patent/TH71858A/th
Publication of TH75290B publication Critical patent/TH75290B/th

Links

Abstract

DC60 (17/12/47) กรรมวิธีสำหรับการทำให้สารละลายแอคเควียสเปอร์ออกซิเจนบริสุทธิ์ซึ่งประกอบรวมด้วย การทรีตเมนต์สารละลายแอคเควียสเปอร์ออกซิเจน ด้วย (a) ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ด้วยเมมเบรน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งขั้นตอน, (b) อาจเลือกที่จะทำ ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ด้วยการแลกเปลี่ยน ไอออนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งขั้นตอน, (c) อาจเลือกที่จะทำ ขั้นตอนการเจือจางอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ขั้นตอน, และ (d) ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์อื่นๆ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งขั้นตอน , ซึ่งขั้นตอนทั้งหมดนี้ สามารถทำตามลำดับใดๆ ก็ได้ สารละลายเเอคเควียสเปอร์ออกซิเจนที่มีระดับ TOC น้อยกว่า 1 มก./กก. สามารถได้โดยกรรมวิธีนี้ สารละลายเหล่านี้ สามารถใช้ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ กรรมวิธีสำหรับการทำให้สารละลายเปอร์ออกซิเจนแอคเควียสบริสุทธิ์ซึ่งประกอบรวมด้วย การทรีตเมนต์สารละลายเปอร์ออกซิเจนแอคเควียสด้วย(a)ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ด้วยเมมเบรน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งขั้นตอน,(b)อาจเลือกให้มีขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ด้วยการแลกเปลี่ยนไอออน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งขั้นตอน,(c)อาจเลือกให้มีขั้นตอนการเจือจางอย่างน้อยที่สุดหนึ่งขั้นตอน,และ (d) ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์อื่นๆ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งขั้นตอน,ซึ่งขั้นตอนทั้งหมดนี้สามารถทำตาม ลำดับใดๆ ก็ได้ สารละลายเปอร์ออกซิเจนแอคเควียสที่มีระดับ TOC น้อยกว่า 1 มก./กก. สามารถ ได้มาโดยกรรมวิธีนี้ สารละลายเหล่านี้ สามารถใช้ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

Claims (2)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : 1. กรรมวิธีสำหรับการทำให้สารละลายไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แอคเควียสบริสุทธิ์ ซึ่ง ประกอบรวมด้วยการทรีตเมนต์สารละลายไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แอคเควียสในลำดับแรกด้วยการ ทำให้บริสุทธิ์ด้วยรีเวอร์สออสโมซิสเมมเบรน และหลังจากนั้นด้วยการทำให้บริสุทธิ์อื่นอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งขั้นตอน ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยการเผยต่อแสงอัลตร้าไวโอเลต (exposure ultravilolet),การเผยต่อโอโซน,การสัมผัสกับเรซินดูดซับอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด,และการรวมกัน แบบใดๆ ของขั้นตอนเหล่านั้น 2. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งสารละลายแอคเควียส เปอร์ออกซิเจน คือ สารละลาย ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ 3. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 2, ที่ซึ่งสารละลายไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ มีความเข้มข้นก่อนที่จะ ผ่านการทรีตเมนต์ คือ 5 ถึง 70 % โดยน้ำหนัก ของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ 4. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ ซึ่งเมมเบรน คือ เมมเบรนชนิดรีเวอร์ส ออสโมซิส 5. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ ซึ่งขั้นตอนอื่นๆ ของการทำให้บริสุทธิ์ ถูก เลือกจากการนำไป ผ่านแสงอัลตร้าไวโอเลต, การนำไปผ่านโอโซน, การนำไปสัมผัส กับ เรซินดูดซับ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, หรือ การรวมกันแบบ ใดๆ ของขั้นตอนเหล่านี้ 6. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง , ที่ ซึ่งการทรีตเมนต์ประกอบรวมด้วย, ใน ลำดับดังต่อไปนี้, (1) ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ด้วยเมมเบรน, (2) ขั้นตอนการทำให้ บริสุทธิ์ที่เลือก จากการผ่าน แสงอัลตร้าไวโอเลต และ/หรือ การผ่านโอโซน,(3) ขั้นตอนการ เจือจาง,(4) อาจเลือกที่ จะสัมผัสกับเรซินดูดซับ, (5) อาจ เลือกที่จะทำขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ด้วยการแลกเปลี่ยน ไอออน. 7. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 6, ที่ซึ่งการทรีตเมนท์อาจ เลือกที่จะมี (6) ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ ด้วยการแลก เปลี่ยนไอออนขั้นตอนที่สองที่อาจจะมี, และ (7) ขั้นตอนการ ทำให้บริสุทธิ์ที่เลือกจากการ ผ่าน แสงอัลตร้าไวโอเลต และ/หรือ การผ่านโอโซน 8. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง, ที่ ซึ่งการทรีตเมนต์ประกอบรวมด้วย, ใน ลำดับดังต่อไปนี้, (1) ขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์ด้วยเมมเบรน, (2) การทรีตเมนต์ที่ เลือกจากการนำไป ผ่านแสงอัลตร้าไวโอ เลต, การผ่านโอโซน, และ/หรือ การนำไปสัมผัสกับเรซินดูดซับ อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด, (3) อาจเลือกที่จะมีการทรีตเ มนต์อื่นๆ อีกหนึ่งวิธี หรือมากกว่า 9. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 8, ที่ซึ่งการทรีตเมนต์ ประกอบรวมด้วย, ในลำดับดังต่อไปนี้, (1) ขั้นตอนการทำให้ บริสุทธิ์ด้วยเมมเบรน, (2) การผ่านแสงอัลตร้าไวโอเลต, และ (3) การสัมผัสกับ เรซิน ดูดซับอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด 1 0. สารละลายบแอคเควียสเปอร์ออกซิเจนที่ได้โดยกรรมวิธีของ ข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 9 ข้อใดข้อหนึ่ง และที่มีปริมาณ คาร์บอนจากสารอินทรีย์โดยรวม (Total Organic Carbon) (TOC) น้อยกว่า 1 มก. ต่อ กก. ของสารละลาย เปอร์ออกซิเจน 1
1. สารละลายแอคเควียสเปอร์ออกซิเจนตามข้อถือสิทธิที่ 10 ที่มี TOC น้อยกว่า 0.1 มก. ต่อ กก. ของสารละลายเปอร์ ออกซิเจน 1
2. การใช้สารละลายแอคเควียสตามข้อถือสิทธิที่ 10 หรือ 11 ในการผลิตส่วนประกอบไมโคร อิเลกโทรนิค และเซมิคอนดักเตอร์
TH401003857A 2004-10-01 กรรมวิธีสำหรับการทำให้สารละลายไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แอคเควียสบริสุทธิ์ TH75290B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH71858A true TH71858A (th) 2005-11-07
TH75290B TH75290B (th) 2020-03-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0634364B1 (en) Pure water manufacturing method
CN100482602C (zh) 从水中脱除有机杂质的方法
JPH0790219B2 (ja) 純水製造装置及び製造方法
WO2016098891A1 (ja) 超純水製造装置及び超純水製造方法
CN103241827A (zh) 一种同时去除溶解性有机物和氨氮的水处理方法
CO6260024A2 (es) Metodo para aumentar la actividad de asparaginasa en una solucion
JP4447212B2 (ja) 超純水の製造方法及び超純水製造装置
JPH0649190B2 (ja) 高純度水の製造装置
CN202829785U (zh) 纳滤与反渗透浓缩液的处理系统
JP3480797B2 (ja) 排水処理方法
KR101070827B1 (ko) 물 처리 방법 및 기구
TH75290B (th) กรรมวิธีสำหรับการทำให้สารละลายไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์แอคเควียสบริสุทธิ์
CN104591370A (zh) 一种过氧化氢与过硫酸盐联合催化臭氧的水处理方法
JP3110034B2 (ja) 有機物と溶存酸素とを同時に除去する方法
JPH05115B2 (th)
JP4826864B2 (ja) 超純水製造装置
JP3992996B2 (ja) 排水処理方法及び装置
JP3259557B2 (ja) 有機物の除去方法
CN111573924B (zh) 一种饮用水消毒装置及方法
JPS5939386A (ja) 水道水中の有機ハロゲン化合物除去方法
JPH09221305A (ja) 高純度過酸化水素水の製造方法
CN212655605U (zh) 一种饮用水消毒装置
JP3528287B2 (ja) 純水の製造方法
JP3899583B2 (ja) 純水製造方法
JPH1147770A (ja) 有機物の除去方法