TH53191A - กรรมวิธีในการสะสมตัวของโลหะผสมเงิน-ดีบุก - Google Patents

กรรมวิธีในการสะสมตัวของโลหะผสมเงิน-ดีบุก

Info

Publication number
TH53191A
TH53191A TH101001091A TH0101001091A TH53191A TH 53191 A TH53191 A TH 53191A TH 101001091 A TH101001091 A TH 101001091A TH 0101001091 A TH0101001091 A TH 0101001091A TH 53191 A TH53191 A TH 53191A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
silver
tin
deposition
ions
well
Prior art date
Application number
TH101001091A
Other languages
English (en)
Inventor
สไตเนียส นายออร์ทรุด
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH53191A publication Critical patent/TH53191A/th

Links

Abstract

DC60 (12/06/44) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับกรรมวิธีในการสะสมตัวของโลหะผสมเงิน-ดีบุกจากอิเล็กโทรไลต์ ชนิดกรดที่ปราศจากไซยาไนด์ที่มี ซิลเวอร์ไอออน, ทินไอออน รวมทั้งสารที่ทำให้เกิดสารเชิง ซ้อน เพื่อที่จะให้ได้มาซึ่งกรรมวิธีที่ทำให้โลหะทั้งสอง ชนิดตกตะกอนโดยพร้อมเพรียงกัน เพื่อเกิดเป็นชั้น ผิวที่ยึด ติดกันอย่างดี และมีพื้นผิวที่เรียบ, มีลักษณะด้านจนถึงเงาวาว และง่ายต่อการบัดกรี โดยถึงแม้ ว่าทั้งซิลเวอร์และทินจะมี ค่าศักย์ไฟฟ้าที่แตกต่างกันอย่างมากอยู่ก็ตาม การประดิษฐ์ นี้จึงครอบคลุมไป ถึงการใช้สารประกอบอโรมาติกที่มี หมู่อัลดีไฮด์เป็นส่วนผสมเพิ่มเติมเติมลงในอิเล็กโทรไลต์ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับกรรมวิธีในการสะสมตัวของโลหะผสมเงิน-ดีบุกจากอิเล็กโทรไลต์ ชนิดกรดที่ปราศจากไซยาไนด์ที่มี ซิลเวอร์ไอออน, ทินไอออน รวมทั้งสารที่ทำให้เกิดสารเชิง ซ้อน เพื่อที่จะให้ได้มาซึ่งกรรมวิธีที่ทำให้โลหะทั้งสอง ชนิดตกตะกอนโดยพร้อมเพรียงกัน เพื่อเกิดเป็นชั้น ผิวที่ยึด กันอย่างดี และมีพื้นผิวที่เรียบ, มีลักษณะด้านจนถึงเงาวาว และง่ายต่อการบัดกรี โดยถึงแม้ ว่าทั้งซิลเวอร์และทินจะมี ค่าศักย์ไฟฟ้าที่แตกต่างกันอย่างมากอยู่ก็ตาม การประดิษฐ์ นี้จึงครอบคลุมไป ถึงการใช้สารประกอบอโรมาติกที่มี หมู่อัลคิลไฮด์เป็นส่วนผสมเพิ่มเติมลงในอิเล็กโทรไลต์

Claims (3)

1. กรรมวิธีในการสะสมตัวของโลหะผสมเงิน-ดีบุกจากอิเล็กโทรไลด์ชนิดกรดที่ ปราศจากไซยาไนด์ที่มี ซิลเวอร์ไอออนและทินไอออน รวมทั้งสารที่ทำให้เกิดสารเชิง ซ้อนซึ่งมี ลักษณะเฉพาะคือ การเติมสารประกอบบอโรมาติกที่ มีหมู่อัลดีไฮด์เป็นส่วนผสมเพิ่มเติมลงในอิเล็ก- โทรไลต์
2. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ ใช้สาร ประกอบอโรมาติกที่มีหมู่ กรดที่ดึงอิเล็กตรอน
3. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะของการ ใช้หมู่กรดที่ดึงอิเล็กตรอน อันแท็ก :
TH101001091A 2001-03-22 กรรมวิธีในการสะสมตัวของโลหะผสมเงิน-ดีบุก TH53191A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH53191A true TH53191A (th) 2002-09-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4402132B2 (ja) リフローSnめっき材及びそれを用いた電子部品
WO1997028296A1 (fr) Solutions aqueuses permettant de former des complexes metalliques, bain de metallisation a base d'alliage etain-argent, et processus de production d'un objet metallise faisant appel a ce bain de metallisation
WO2001039250A3 (en) Conductive interconnection
JP3621370B2 (ja) めっき方法による二次電池用電極材料
JP4817352B2 (ja) 鉄、コバルトまたはニッケルを含む三成分錫亜鉛合金、ガルバーニ溶液およびそれらを生成するガルバーニ法
US2196302A (en) Silver copper alloy
JPH06122991A (ja) 錫−亜鉛合金電気めっき浴
TWI259852B (en) Gold plating solution and gold plating method
TH53191A (th) กรรมวิธีในการสะสมตัวของโลหะผสมเงิน-ดีบุก
DE1960047A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung einer Goldlegierung und waessriges Abscheidungsbad zur Ausfuehrung des Verfahrens
WO2003046260A3 (de) Elektrolysebad zum galvanischen abscheiden von silber-zinn-legierungen
TWI301515B (en) Surface treating agent of metal
FR2493349A1 (fr) Procede d'obtention de revetements d'or, resistant a la corrosion, sur un substrat et revetements d'or durci notamment par du cobalt ainsi obtenus
JP2535199B2 (ja) 耐酸化性に優れた希土類永久磁石の製造方法
ES2089460T3 (es) Baño y procedimiento electrolitico de deposito de un revestimiento instantaneo de una aleacion de hierro-cinc con elevado porcentaje en hierro sobre un sustrato galvanizado aleado.
JPS6024197B2 (ja) 電気メツキ用Pb合金製不溶性陽極
JPH0711477A (ja) 貴金属めっき品
CN105050809B (zh) 滑动轴承复合材料
EP4127273A1 (en) Galvanic process for the electrodeposition of a protective layer, and associated bath
JPS62199795A (ja) 電子・電気機器用部品
JPS5836071B2 (ja) 銀メッキ鉄及び鉄合金の製造方法
Tomaszweski et al. Copper Plating Bath Process and Anode Therefor
Morrissey Platinum Plating
CH511288A (fr) Solution électrolytique et utilisation de celle-ci
JP5830795B1 (ja) ニッケルフリーめっき液、めっき皮膜の形成方法及び電子部品の製造方法