TH17903A - กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน - Google Patents
กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซินInfo
- Publication number
- TH17903A TH17903A TH9401002228A TH9401002228A TH17903A TH 17903 A TH17903 A TH 17903A TH 9401002228 A TH9401002228 A TH 9401002228A TH 9401002228 A TH9401002228 A TH 9401002228A TH 17903 A TH17903 A TH 17903A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- fluorine
- aromatic
- laser beam
- ultraviolet
- surfactants
- Prior art date
Links
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims abstract 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims 2
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ICVBNINMOKOHSQ-UHFFFAOYSA-N [C].O[Si](O)(O)O Chemical compound [C].O[Si](O)(O)O ICVBNINMOKOHSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 claims 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 claims 1
- -1 perfluoro salt Chemical class 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940124543 ultraviolet light absorber Drugs 0.000 abstract 1
Abstract
การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำ ด้วยฟลูออรีนเรซิน ซึ่งประกอบด้วยการฉายลำแสงเลเซอร์อุลตร้าไวโอเลทลงบนผิวดังกล่าว ในขณะที่มีสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลท และสารลดแรงตึงผิวที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบอยู่ด้วย ตามที่กำหนดไว้ในกระบวนการนี้ คุณสมบัติด้านการยึดเกาะและการเปียกและด้านอื่นที่คล้ายคลึง กันของผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซินอาจได้รับการปรับปรุงให้ดีขึ้นเป็นอย่างมาก
Claims (7)
1. กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน ซึ่ง ประกอบด้วย การฉายลำแสงเลเซอร์อุลตร้าไวโอเลทลงบนผิวดังกล่าว ในขณะที่มีสารดูดแสงอุลตร้า ไวโอเลทและสารลดแรงตึงผิวที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบอยู่ด้วย ที่ซึ่ง สารลดแรงตึงผิวที่มี ฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบ จะมีความเข้มข้นจนกระทั่งยอมให้มีการเคลือบของสารดูดแสงอุลตร้าไว โอเลทอย่างสม่ำเสมอบนผิวของวัสดุหล่อพิมพ์
2. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลท คือ สารดูด แสงอุลตร้าไวโอเลทประเภทสารอาโรแมติค
3. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่งสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลทประเภทสาร อาโรแมติค คือ สารหนึ่งชนิดหรือมากกว่าที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยอาโรแมติคไฮโดร- คาร์บอน, กรดคาร์บอนซิลิคประเภทอาโรแมติค และเกลือของสารเหล่านี้, อาโรแมติคอัลดีฮายด์, อาโรแมติคแอลกอฮอล์, อาโรแมติคอามีน และเกลือของสารเหล่านี้, กรดซัลโฟนิคประเภทอาโร แมติค และเกลือของสารเหล่านี้ และฟีนอล
4. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ ประกอบ คือ สารที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบหนึ่งหรือมากกว่าหนึ่งชนิด ที่เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย เปอร์ฟลูออโรอัลคิลฟอสเฟส, เปอร์ฟลูออโรอัลคิลคาร์บอกซิเลท, เกลือเปอร์ฟลูออโร อัลคิลไตรเมทธิลแอมโมเนียม, เปอร์ฟลูออโรอัลคิลบีเทน, เปอร์ฟลูออดรอัลคิลลามีนออกไซด์, และ เปอร์ฟลูออโรอัลคิลเอทธิลลีนออกไซด์แอดดัคท์
5. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งลำแสงเลเซอร์อุลตร้าไวโอเลท คือ ลำแสง เลเซอร์ ArF-เอ็กซ์ไซเมอร์, ลำแสงเลเซอร์ KrF-เอ็กซ์ไซเมอร์ หรือลำแสงเลเซอร์ XeC1-เอ็กซ์ไซ เมอร์
6. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีน- เรซินได้รับการเคลือบด้วยสารละลายของสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลท และสารลดแรงตึงผิว ที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบในน้ำ
7. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีน- เรซินได้รับการเคลือบด้วยสารละลายของสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลท และสารลดแรงตึงผิว ที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบในแอลกอฮอล์ที่มีน้ำหนักโมเลกุลต่ำ
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH17903A true TH17903A (th) | 1996-03-05 |
| TH13902B TH13902B (th) | 2002-11-29 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR950011518A (ko) | 불소수지로 제조된 성형품 표면의 개질방법 | |
| KR100567640B1 (ko) | 흡광 중합체 | |
| US20130308189A1 (en) | Anti-fog coating | |
| KR100567639B1 (ko) | 포토레지스트 조성물용 반사 방지 코팅 조성물 및 이의 용도 | |
| WO2001000735A1 (fr) | Composition resinique hydrosoluble | |
| JP5620827B2 (ja) | ナノインプリントモールドの洗浄方法 | |
| CO4850633A1 (es) | Material polimerico revestido . | |
| US7018785B2 (en) | Method for forming pattern and treating agent for use therein | |
| CN101201455A (zh) | 一种相位掩膜板及其应用这种相位掩膜板的成像系统 | |
| JP3320402B2 (ja) | 現像欠陥防止プロセス及び材料 | |
| JP2017202479A (ja) | ポリイミド系樹脂膜洗浄液、ポリイミド系樹脂膜を洗浄する方法、ポリイミド膜を製造する方法、フィルタ、フィルターメディア又はフィルターデバイスを製造する方法、及びリソグラフィー用薬液の製造方法 | |
| CN108139673B (zh) | 包含金属氧化物的材料、其制备方法及其使用方法 | |
| CN109096521B (zh) | 一种水滴铺展时间可控的亲水-疏油涂层及其制备方法 | |
| TH17903A (th) | กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน | |
| TW202010790A (zh) | 抗蝕劑墊層組合物和使用所述組合物形成圖案的方法 | |
| TH13902B (th) | กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน | |
| ATE438118T1 (de) | Photochromische kunststofflinsen für gläser und prozess für ihre herstellung | |
| EP2233978B1 (en) | Composition for formation of anti-reflective film, and pattern formation method using the composition | |
| CA2057798A1 (en) | Process for rendering contact lenses hydrophilic | |
| JPH08227006A (ja) | 親水性ミラー及びその製造方法 | |
| KR102749491B1 (ko) | 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 레지스트 패턴의 형성방법 | |
| JP2017062371A (ja) | 反射防止膜を有する光学部材及びその反射防止膜の製造方法 | |
| KR20190080224A (ko) | 아조벤젠기를 함유하는 고분자의 국부적인 광유체화 현상을 이용한 초소수성 및 초발유성 표면체의 제조방법 | |
| JP2005187576A (ja) | 親水性ハードコート用組成物、ハードコート用材料及びハードコート膜の形成方法 | |
| JP2983438B2 (ja) | フッ素樹脂成形体表面の改質法 |