TH13902B - กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน - Google Patents

กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน

Info

Publication number
TH13902B
TH13902B TH9401002228A TH9401002228A TH13902B TH 13902 B TH13902 B TH 13902B TH 9401002228 A TH9401002228 A TH 9401002228A TH 9401002228 A TH9401002228 A TH 9401002228A TH 13902 B TH13902 B TH 13902B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
fluorine
aromatic
laser beam
ultraviolet
surfactants
Prior art date
Application number
TH9401002228A
Other languages
English (en)
Other versions
TH17903A (th
Inventor
นากาเซ นายโตโมฮิโร
คาวานิชิ นายชูนิชิ
ซูจิโมโต นายชูนิชิ
นิชิอิ นายมาซาโนบู
เอ็นโด นายมาซาโอ
ชิมิซู นายยูอิชิ
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH17903A publication Critical patent/TH17903A/th
Publication of TH13902B publication Critical patent/TH13902B/th

Links

Abstract

การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำ ด้วยฟลูออรีนเรซิน ซึ่งประกอบด้วยการฉายลำแสงเลเซอร์อุลตร้าไวโอเลทลงบนผิวดังกล่าว ในขณะที่มีสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลท และสารลดแรงตึงผิวที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบอยู่ด้วย ตามที่กำหนดไว้ในกระบวนการนี้ คุณสมบัติด้านการยึดเกาะและการเปียกและด้านอื่นที่คล้ายคลึง กันของผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซินอาจได้รับการปรับปรุงให้ดีขึ้นเป็นอย่างมาก

Claims (7)

1. กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน ซึ่ง ประกอบด้วย การฉายลำแสงเลเซอร์อุลตร้าไวโอเลทลงบนผิวดังกล่าว ในขณะที่มีสารดูดแสงอุลตร้า ไวโอเลทและสารลดแรงตึงผิวที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบอยู่ด้วย ที่ซึ่ง สารลดแรงตึงผิวที่มี ฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบ จะมีความเข้มข้นจนกระทั่งยอมให้มีการเคลือบของสารดูดแสงอุลตร้าไว โอเลทอย่างสม่ำเสมอบนผิวของวัสดุหล่อพิมพ์
2. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลท คือ สารดูด แสงอุลตร้าไวโอเลทประเภทสารอาโรแมติค
3. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่งสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลทประเภทสาร อาโรแมติค คือ สารหนึ่งชนิดหรือมากกว่าที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยอาโรแมติคไฮโดร- คาร์บอน, กรดคาร์บอนซิลิคประเภทอาโรแมติค และเกลือของสารเหล่านี้, อาโรแมติคอัลดีฮายด์, อาโรแมติคแอลกอฮอล์, อาโรแมติคอามีน และเกลือของสารเหล่านี้, กรดซัลโฟนิคประเภทอาโร แมติค และเกลือของสารเหล่านี้ และฟีนอล
4. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารลดแรงตึงผิวที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ ประกอบ คือ สารที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบหนึ่งหรือมากกว่าหนึ่งชนิด ที่เลือกได้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วย เปอร์ฟลูออโรอัลคิลฟอสเฟส, เปอร์ฟลูออโรอัลคิลคาร์บอกซิเลท, เกลือเปอร์ฟลูออโร อัลคิลไตรเมทธิลแอมโมเนียม, เปอร์ฟลูออโรอัลคิลบีเทน, เปอร์ฟลูออดรอัลคิลลามีนออกไซด์, และ เปอร์ฟลูออโรอัลคิลเอทธิลลีนออกไซด์แอดดัคท์
5. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งลำแสงเลเซอร์อุลตร้าไวโอเลท คือ ลำแสง เลเซอร์ ArF-เอ็กซ์ไซเมอร์, ลำแสงเลเซอร์ KrF-เอ็กซ์ไซเมอร์ หรือลำแสงเลเซอร์ XeC1-เอ็กซ์ไซ เมอร์
6. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีน- เรซินได้รับการเคลือบด้วยสารละลายของสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลท และสารลดแรงตึงผิว ที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบในน้ำ
7. กระบวนการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีน- เรซินได้รับการเคลือบด้วยสารละลายของสารดูดแสงอุลตร้าไวโอเลท และสารลดแรงตึงผิว ที่มีฟลูออรีนเป็นองค์ประกอบในแอลกอฮอล์ที่มีน้ำหนักโมเลกุลต่ำ
TH9401002228A 1994-10-14 กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน TH13902B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH17903A TH17903A (th) 1996-03-05
TH13902B true TH13902B (th) 2002-11-29

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950011518A (ko) 불소수지로 제조된 성형품 표면의 개질방법
US20130308189A1 (en) Anti-fog coating
US5994430A (en) Antireflective coating compositions for photoresist compositions and use thereof
WO2001000735A1 (fr) Composition resinique hydrosoluble
CN103936295B (zh) 一种抗反射超双疏玻璃表面层及其制备方法
CO4850633A1 (es) Material polimerico revestido .
KR20010020357A (ko) 흡광 중합체
JP6815092B2 (ja) 表面処理剤
JP2017202479A (ja) ポリイミド系樹脂膜洗浄液、ポリイミド系樹脂膜を洗浄する方法、ポリイミド膜を製造する方法、フィルタ、フィルターメディア又はフィルターデバイスを製造する方法、及びリソグラフィー用薬液の製造方法
US3766299A (en) Reaction product of polyalkylene imine and epoxy halo ethylenic substituted difunctional compounds
CN108139673B (zh) 包含金属氧化物的材料、其制备方法及其使用方法
CN109096521B (zh) 一种水滴铺展时间可控的亲水-疏油涂层及其制备方法
TH13902B (th) กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน
TW202010790A (zh) 抗蝕劑墊層組合物和使用所述組合物形成圖案的方法
TH17903A (th) กระบวนการสำหรับดัดแปลงผิวของวัสดุหล่อพิมพ์ที่ทำด้วยฟลูออรีนเรซิน
AU649287B2 (en) Process for rendering contact lenses hydrophilic
EP2233978B1 (en) Composition for formation of anti-reflective film, and pattern formation method using the composition
JPH08227006A (ja) 親水性ミラー及びその製造方法
KR102749491B1 (ko) 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 레지스트 패턴의 형성방법
JP2017062371A (ja) 反射防止膜を有する光学部材及びその反射防止膜の製造方法
JP2005187576A (ja) 親水性ハードコート用組成物、ハードコート用材料及びハードコート膜の形成方法
KR20190080224A (ko) 아조벤젠기를 함유하는 고분자의 국부적인 광유체화 현상을 이용한 초소수성 및 초발유성 표면체의 제조방법
JP4448340B2 (ja) 光学素子の製造方法
JP2983438B2 (ja) フッ素樹脂成形体表面の改質法
CN208207256U (zh) 一种涂层防雾眼镜片