SU899740A1 - Способ контрол диаметра кристалла - Google Patents
Способ контрол диаметра кристалла Download PDFInfo
- Publication number
- SU899740A1 SU899740A1 SU782643102A SU2643102A SU899740A1 SU 899740 A1 SU899740 A1 SU 899740A1 SU 782643102 A SU782643102 A SU 782643102A SU 2643102 A SU2643102 A SU 2643102A SU 899740 A1 SU899740 A1 SU 899740A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- crystal
- diameter
- controlling
- melt
- weight
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
(54) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ДИАМЕТРА КРИСТАЛЛА
Изобретение относитс к выращиванию кристаллов из расплава по методу Чохральского и может быть использовано в электронной промышленности при производ стве слитков полупроводниковых монокрист 1ллнческих материалов. Известен способ контрол диаметра кристалла в процессе его выт гивани по методу Чохральского, аключепюший непре- рьшное взвешивание убывающего количест ва расплава в тигле и сравнение полученных результатов с данными, рассчитанными из услови посто нства диаметра растущего кристалла 1. Однако при таком способе контрол диаметра кристалла дл повышени точности измерени веса расплава компенсируют первоначальный вес расплава и вес тигл с подставкой, что усложн ет данны способ контрол . Кроме того, недостатком этого способа вл етс и то, что из-за испарени вещества расплава результаты измерени веса расплава необходимо корректировать Известен также способ контрол диаметра кристалла в процессе его выт гивани по методу Чохральского, включающий непрерывное взвешивание кристалла и сравнение полученных результатов с данными , рассчитанными из услови посто нства диаметра растущего кристалла. Вес кристалла в данном случае пропорционален квадрату его диаметра и непрерывно увеличиваетс в процессе роста кристалла, причем вес кристалла за врем процесса увеличиваетс в несколько дес тков раз 2. Однако при контроле диаметра кристалла данным способом выращивают кристаллы с нестабильностью диаметра около + 0,5 мм. Така величина нестабильности диаметра вл етс значительной дл HeKOTqpbix типов кристаллов, так как вли ет на их совершенство. Уменьшить, величину нестабильности не позвол ет молг статочна чувствительность изпостпо|-) способа контрол диаметра кристалл. Кроме того, п данном nooiArimr ii.
учитывать действие сил поверхностного нат жени и вес гидростатического столба респлава, что усложн ет контроль.
Цель изобретени - упрощение и повышеиие чувствительности контрол диамет- 5 ра кристалла в процессе выт гивани его из сопла по методу Чохральского. Поставленна цель достигаетс тем, что контроль диаметра кристалла, выт ги- ваемого из расплава по методу ЧохральсКОГО путем измерени параметров процесса , осуществл ют измер в процессе выращивани момент сопротивлени на валу привода и по его изменению суд т об изменении диаметра кристалла. Пример реализации предлагаемого способа изображен на чертеже. Кристалл 1 вращаетс с посто нной угловой скоростью ti/ и выт гиваетс с посто нной скоростью V из расплава 2, наход щегос в цилиндрическом тигле 3. Вращающее усилие на щток 4, на котором закреплен кристалл, передаетс от двигател 5 через датчик 6 крут щего момента. Датчик б измер ет момент сопротивлени на валу 7 привода. По показани м этого датчика 6-контролируют диа метр кристалла 1 в процессе выт гива- ни . Увеличение или уменьщение показаний датчика 6 свидетельствует соответственно об увеличении или уменьщении I диаметра кристалла 1. Расчеты показали, что в данном случа контролируема величина (момент сопротивлени на валу привода) пропорциональна четвертой степени диаметра растущего кристалла, в то врем как при испольаовании весового метода контрол вес кристалла пропорционален второй степени его диаметра.
Таким образом, чувствительность предлагаемого способа контрол диаметра кристалла выше, чем чувствительность весового способа. Кроме того, момент сопротивлени , действующий на вращающийс кристалл, в течение процесса роста в случае кристалла посто нного диаметра вл етс величиной посто нной (в отличие от веса кристалла), что значительно упрощает контроль. Форм, ула изобретени Способ контрол диаметра кристалла, выт гиваемого из расплава по методу Чохральского путем измерени параметров процесса, отличающийс тем, что, с Целью упрощени и повыще- ни чувствительности, измер ют в процессе выращивани момент сопротивлени на валу привода и по его изменению суд т об изменении диаметра кристалла. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе lA.J.Vatenttno, C.D.Brandle Diameter control of Czochratskl cjrowri crystalb.- Journal o CryaUl Growth r 1974, V. 26, №1, p. 1-5. 2. Патент ФРГ № 1245317, кл. 12, с. 2, опублик. 1967 (прототип).
Claims (1)
- Формула изобретенияСпособ контроля диаметра кристалла, вытягиваемого из расплава по методу Чохральского путем измерения параметров процесса, отличающийся тем, что, с целью упрощения и повышения чувствительности, измеряют в процессе выращивания момент сопротивления на валу привода и по его изменению судят об изменении диаметра кристалла.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782643102A SU899740A1 (ru) | 1978-05-23 | 1978-05-23 | Способ контрол диаметра кристалла |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782643102A SU899740A1 (ru) | 1978-05-23 | 1978-05-23 | Способ контрол диаметра кристалла |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU899740A1 true SU899740A1 (ru) | 1982-01-23 |
Family
ID=20776390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU782643102A SU899740A1 (ru) | 1978-05-23 | 1978-05-23 | Способ контрол диаметра кристалла |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU899740A1 (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0293757A2 (de) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Forschungszentrum Jülich Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Bestimmungsgrösse für den Übergangsbereich zwischen Schmelze und Kristall |
WO2000061840A1 (fr) * | 1999-04-14 | 2000-10-19 | Oleg Alexeevich Remizov | Procédé de production de silicium monocristallin |
-
1978
- 1978-05-23 SU SU782643102A patent/SU899740A1/ru active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0293757A2 (de) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Forschungszentrum Jülich Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Bestimmungsgrösse für den Übergangsbereich zwischen Schmelze und Kristall |
WO2000061840A1 (fr) * | 1999-04-14 | 2000-10-19 | Oleg Alexeevich Remizov | Procédé de production de silicium monocristallin |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6241818B1 (en) | Method and system of controlling taper growth in a semiconductor crystal growth process | |
US4926357A (en) | Apparatus for measuring diameter of crystal | |
EP0432914B1 (en) | A method of controlling oxygen concentration in single crystal | |
US5096677A (en) | Single crystal pulling apparatus | |
JPS63242991A (ja) | 結晶径制御方法 | |
CA1318224C (en) | System for controlling apparatus for growing tubular crystalline bodies | |
SU899740A1 (ru) | Способ контрол диаметра кристалла | |
KR20010080084A (ko) | 결정을 정확하게 인상하는 방법 및 장치 | |
KR830008552A (ko) | 쵸크랄스키 성장 실리콘에서 산소의 농도 와 분포를 조절하는 방법 | |
US5660629A (en) | Apparatus for detecting the diameter of a single-crystal silicon | |
US6030451A (en) | Two camera diameter control system with diameter tracking for silicon ingot growth | |
KR950006052A (ko) | 경사 비임 구동용 장치 | |
KR100216360B1 (ko) | 성장결정체의 중량측정장치 | |
US4936947A (en) | System for controlling apparatus for growing tubular crystalline bodies | |
US3700412A (en) | Crystal pulling apparatus having means for maintaining liquid solid crystal interface at a constant temperature | |
JP5287591B2 (ja) | 単結晶製造装置および単結晶製造方法 | |
US3259467A (en) | Apparatus for pulling rod-shaped crystals of semiconductor material from a melt in acrucible | |
JP3758743B2 (ja) | 半導体単結晶製造装置 | |
JPS55130895A (en) | Single crystal preparing method and apparatus therefor | |
EP0781872A2 (en) | Apparatus and method for adjusting initial position of melt surface | |
RU2184803C2 (ru) | Способ управления процессом выращивания монокристаллов из расплава и устройство для его осуществления | |
JP3473313B2 (ja) | 結晶直径測定方法 | |
SU863783A1 (ru) | Способ управлени скруббером | |
SU1533371A1 (ru) | Способ контрол процесса кристаллизации из расплава | |
RU97101248A (ru) | Способ управления процессом выращивания монокристаллов из расплава и устройство для его осуществления |