SU899740A1 - Способ контрол диаметра кристалла - Google Patents

Способ контрол диаметра кристалла Download PDF

Info

Publication number
SU899740A1
SU899740A1 SU782643102A SU2643102A SU899740A1 SU 899740 A1 SU899740 A1 SU 899740A1 SU 782643102 A SU782643102 A SU 782643102A SU 2643102 A SU2643102 A SU 2643102A SU 899740 A1 SU899740 A1 SU 899740A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
crystal
diameter
controlling
melt
weight
Prior art date
Application number
SU782643102A
Other languages
English (en)
Inventor
Ромео Оганесович Шархатунян
Владимир Михайлович Миняйло
Original Assignee
Особое Конструкторское Бюро Проблемной Лаборатории Радиационной Физики Ереванского Государственного Университета
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Особое Конструкторское Бюро Проблемной Лаборатории Радиационной Физики Ереванского Государственного Университета filed Critical Особое Конструкторское Бюро Проблемной Лаборатории Радиационной Физики Ереванского Государственного Университета
Priority to SU782643102A priority Critical patent/SU899740A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU899740A1 publication Critical patent/SU899740A1/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

(54) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ДИАМЕТРА КРИСТАЛЛА
Изобретение относитс  к выращиванию кристаллов из расплава по методу Чохральского и может быть использовано в электронной промышленности при производ стве слитков полупроводниковых монокрист 1ллнческих материалов. Известен способ контрол  диаметра кристалла в процессе его выт гивани  по методу Чохральского, аключепюший непре- рьшное взвешивание убывающего количест ва расплава в тигле и сравнение полученных результатов с данными, рассчитанными из услови  посто нства диаметра растущего кристалла 1. Однако при таком способе контрол  диаметра кристалла дл  повышени  точности измерени  веса расплава компенсируют первоначальный вес расплава и вес тигл  с подставкой, что усложн ет данны способ контрол . Кроме того, недостатком этого способа  вл етс  и то, что из-за испарени  вещества расплава результаты измерени  веса расплава необходимо корректировать Известен также способ контрол  диаметра кристалла в процессе его выт гивани  по методу Чохральского, включающий непрерывное взвешивание кристалла и сравнение полученных результатов с данными , рассчитанными из услови  посто нства диаметра растущего кристалла. Вес кристалла в данном случае пропорционален квадрату его диаметра и непрерывно увеличиваетс  в процессе роста кристалла, причем вес кристалла за врем  процесса увеличиваетс  в несколько дес тков раз 2. Однако при контроле диаметра кристалла данным способом выращивают кристаллы с нестабильностью диаметра около + 0,5 мм. Така  величина нестабильности диаметра  вл етс  значительной дл  HeKOTqpbix типов кристаллов, так как вли ет на их совершенство. Уменьшить, величину нестабильности не позвол ет молг статочна  чувствительность изпостпо|-) способа контрол  диаметра кристалл. Кроме того, п данном nooiArimr ii.
учитывать действие сил поверхностного нат жени  и вес гидростатического столба респлава, что усложн ет контроль.
Цель изобретени  - упрощение и повышеиие чувствительности контрол  диамет- 5 ра кристалла в процессе выт гивани  его из сопла по методу Чохральского. Поставленна  цель достигаетс  тем, что контроль диаметра кристалла, выт ги- ваемого из расплава по методу ЧохральсКОГО путем измерени  параметров процесса , осуществл ют измер   в процессе выращивани  момент сопротивлени  на валу привода и по его изменению суд т об изменении диаметра кристалла. Пример реализации предлагаемого способа изображен на чертеже. Кристалл 1 вращаетс  с посто нной угловой скоростью ti/ и выт гиваетс  с посто нной скоростью V из расплава 2, наход щегос  в цилиндрическом тигле 3. Вращающее усилие на щток 4, на котором закреплен кристалл, передаетс  от двигател  5 через датчик 6 крут щего момента. Датчик б измер ет момент сопротивлени  на валу 7 привода. По показани м этого датчика 6-контролируют диа метр кристалла 1 в процессе выт гива- ни . Увеличение или уменьщение показаний датчика 6 свидетельствует соответственно об увеличении или уменьщении I диаметра кристалла 1. Расчеты показали, что в данном случа контролируема  величина (момент сопротивлени  на валу привода) пропорциональна четвертой степени диаметра растущего кристалла, в то врем  как при испольаовании весового метода контрол  вес кристалла пропорционален второй степени его диаметра.
Таким образом, чувствительность предлагаемого способа контрол  диаметра кристалла выше, чем чувствительность весового способа. Кроме того, момент сопротивлени , действующий на вращающийс  кристалл, в течение процесса роста в случае кристалла посто нного диаметра  вл етс  величиной посто нной (в отличие от веса кристалла), что значительно упрощает контроль. Форм, ула изобретени  Способ контрол  диаметра кристалла, выт гиваемого из расплава по методу Чохральского путем измерени  параметров процесса, отличающийс  тем, что, с Целью упрощени  и повыще- ни  чувствительности, измер ют в процессе выращивани  момент сопротивлени  на валу привода и по его изменению суд т об изменении диаметра кристалла. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе lA.J.Vatenttno, C.D.Brandle Diameter control of Czochratskl cjrowri crystalb.- Journal o CryaUl Growth r 1974, V. 26, №1, p. 1-5. 2. Патент ФРГ № 1245317, кл. 12, с. 2, опублик. 1967 (прототип).

Claims (1)

  1. Формула изобретения
    Способ контроля диаметра кристалла, вытягиваемого из расплава по методу Чохральского путем измерения параметров процесса, отличающийся тем, что, с целью упрощения и повышения чувствительности, измеряют в процессе выращивания момент сопротивления на валу привода и по его изменению судят об изменении диаметра кристалла.
SU782643102A 1978-05-23 1978-05-23 Способ контрол диаметра кристалла SU899740A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782643102A SU899740A1 (ru) 1978-05-23 1978-05-23 Способ контрол диаметра кристалла

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782643102A SU899740A1 (ru) 1978-05-23 1978-05-23 Способ контрол диаметра кристалла

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU899740A1 true SU899740A1 (ru) 1982-01-23

Family

ID=20776390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782643102A SU899740A1 (ru) 1978-05-23 1978-05-23 Способ контрол диаметра кристалла

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU899740A1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0293757A2 (de) * 1987-05-30 1988-12-07 Forschungszentrum Jülich Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Bestimmungsgrösse für den Übergangsbereich zwischen Schmelze und Kristall
WO2000061840A1 (fr) * 1999-04-14 2000-10-19 Oleg Alexeevich Remizov Procédé de production de silicium monocristallin

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0293757A2 (de) * 1987-05-30 1988-12-07 Forschungszentrum Jülich Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Bestimmungsgrösse für den Übergangsbereich zwischen Schmelze und Kristall
WO2000061840A1 (fr) * 1999-04-14 2000-10-19 Oleg Alexeevich Remizov Procédé de production de silicium monocristallin

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6241818B1 (en) Method and system of controlling taper growth in a semiconductor crystal growth process
US4926357A (en) Apparatus for measuring diameter of crystal
EP0432914B1 (en) A method of controlling oxygen concentration in single crystal
US5096677A (en) Single crystal pulling apparatus
JPS63242991A (ja) 結晶径制御方法
CA1318224C (en) System for controlling apparatus for growing tubular crystalline bodies
SU899740A1 (ru) Способ контрол диаметра кристалла
KR20010080084A (ko) 결정을 정확하게 인상하는 방법 및 장치
KR830008552A (ko) 쵸크랄스키 성장 실리콘에서 산소의 농도 와 분포를 조절하는 방법
US5660629A (en) Apparatus for detecting the diameter of a single-crystal silicon
US6030451A (en) Two camera diameter control system with diameter tracking for silicon ingot growth
KR950006052A (ko) 경사 비임 구동용 장치
KR100216360B1 (ko) 성장결정체의 중량측정장치
US4936947A (en) System for controlling apparatus for growing tubular crystalline bodies
US3700412A (en) Crystal pulling apparatus having means for maintaining liquid solid crystal interface at a constant temperature
JP5287591B2 (ja) 単結晶製造装置および単結晶製造方法
US3259467A (en) Apparatus for pulling rod-shaped crystals of semiconductor material from a melt in acrucible
JP3758743B2 (ja) 半導体単結晶製造装置
JPS55130895A (en) Single crystal preparing method and apparatus therefor
EP0781872A2 (en) Apparatus and method for adjusting initial position of melt surface
RU2184803C2 (ru) Способ управления процессом выращивания монокристаллов из расплава и устройство для его осуществления
JP3473313B2 (ja) 結晶直径測定方法
SU863783A1 (ru) Способ управлени скруббером
SU1533371A1 (ru) Способ контрол процесса кристаллизации из расплава
RU97101248A (ru) Способ управления процессом выращивания монокристаллов из расплава и устройство для его осуществления