SU886044A1 - Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки - Google Patents

Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки Download PDF

Info

Publication number
SU886044A1
SU886044A1 SU802893480A SU2893480A SU886044A1 SU 886044 A1 SU886044 A1 SU 886044A1 SU 802893480 A SU802893480 A SU 802893480A SU 2893480 A SU2893480 A SU 2893480A SU 886044 A1 SU886044 A1 SU 886044A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
working surface
surface treatment
treatment method
head surface
magnetic
Prior art date
Application number
SU802893480A
Other languages
English (en)
Inventor
Кестутис-Ионас Ионо Билюс
Гинтаутас Альфонсович Зубаускас
Людвикас Ионович Пранявичюс
Валерий Иванович Пустовит
Сигитас Ионо Тамулевичюс
Original Assignee
Каунасский Политехнический Институт Им. А.Снечкуса
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Каунасский Политехнический Институт Им. А.Снечкуса filed Critical Каунасский Политехнический Институт Им. А.Снечкуса
Priority to SU802893480A priority Critical patent/SU886044A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU886044A1 publication Critical patent/SU886044A1/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

I
Изобретение относитс  к приборостро енюо, в частности к технике магнитной записи, и может быть использовано в технологии изготовлени  магнитных головок .
Известны способы обработки рабочей поверхности магнитных головок, основанные на нанесении на нее тонких до. попнитепьньк слоев с более высокой износостойкостью . Например, методом катодаого распылени  на рабочую поверхность магнитной головки нанос т магнитом51гкий сплав алфесилГ13 или электролитическим осаждением нанос т ианЬсостойкий слой, содержащий ,частицы магнетика или феррита 2 Однако вышеуказанные способы обработки рабочей поверхности недостаточно эффективны. В процессе эксплуатации нанесенные на магнитную головку покрыти  отслаиваютс  и крошатс , тем самым не обеспечива  их необходимых механических параметров.
Известны также способы обработки рабочей поверхности магнитных головок вкгаочающие обработку этой поверхности в вакууме путем бомбардировки пучком ионов элементов насыщени  Сз
Одншсо известный способ обработки рабочей поверхности износостойкость увеличивает недостаточно. Это главным образом, св зано с тем, что при больших
10 дозах ионного внедрени  (практически уже при ф 5. 10 сьГ про вл етс  эффект распьшенй  внедр емыми ионами. В св зи с этим  влением нельз  достичь сколь угодно больших концентраций внедв5 ренных примесей , так как устанавливает с  стационарный насыщенный режим, ттри котором количество внедренных примес -, ньвс атомов становитс  равным количеству распыленньсс с обрабатьюаемой поверх20 ности атомов. С другой стороны, процесс распылени  рабочей поверхности недопуо-. ТИМ с технологической точки зрени , так как уменьшает ее толщину.
Цель изобретени  - получение более высокой степени износостойкости; маг. нитной головки.
Поставленна  цель достигаетс  тем, что способ обработки рабочей поверхности магнитнсЛ головки включает бомбардировку этой поверхности в вакууме пучком электрически а тивньк гтримесньос firceioB, причем внедрение электрическв активных примесных иовов провод т дозами о-Ю до 5-1О см с энергией в диапазсже от 50 до 40О кэВ при однс эеменном осаждении на рабочую по- . верхность распьотенного пермалло  со (жоростью, равной скфости расаь пени  , внедр емых примесных ис ов.
Таким образоМ| осаждение тс кого. сло  пермалло  со скс остью осажденсс , равной скорости распылени  рабочей поверхности магнитесЛ головки вне/ф емьь м  1фимесными ионами, компенсируют процесс распылени  и позвол ет достиг нуть сколь угодно большие Концентрмхии внесенных Примесных атомов, тем самым получать износостойкие ,соединени  на рабочих поверхност х магнитньОс гот
ЛОВ(Ж.
На чертеже представлено устройство, реализующее предлагаемый способ.
Устройство содержит рабочую поверхность 1 магнитной головки пермаллоевуго мишень 2 и дополнительный ионный источник 3. Направление электрически активных примесных ионов фосфора на чер- теже показано стрелками А, направление распыленного пермалло  2 - стрелками Б, направление пучка ионов, распыл ю - щего пермаллоевую мишень - стрелками В.
Пример. Обрабатьшаемую магнит ную го оису помещают в приекетую камеру установки ионного легировани . На поверхность головки внедр ют ионы фосфо .ра Чр с энергией 50-40О кэВ и дозах этих ионов | 5-id® см Из донолнительного ионного источника 3 направл ют на пермаллоевую мвЕ1ень поток
ишов не ада Он энергией 3 кэВ и плотностью ионного тока 2 мкА/см -, которые у дар  сь об нее, распыл ют ее Во врем  легировани  комгюнсаци  распылени  рабочей Поверхности магаитной
головки проводитс  путем осаждени  на ее рабочую поверхность пермалло .
Рассе ние от рабочей поверхности магнитной головки до оермаллоевой мишени устанавливают рашсьсм 4 см, а до дополнительного аоннс о источника 2,5 см, причем допогавте ьный ионный источник устанавливают иод углом 65 по отношени о нормали к поверхности распыл емого пермалло .
Износостойкость магнитных головок в зависимости от режимов легировани  представлена в таблице.
50
50
50
50
i50
200
20О
500
200
2ОО
400
4ОО
4ОО
4ОО
400
,4.
3-3
lOxa 10 3,8
3.6 .107, 4,4 4,1 Ч
- 5,0 4,75 . 5,8
5.54 ,1
3.74 ,8
4. 5,2 4,95 ,75 5,4 (8 6,3 5,9 5 -10
5UO 4,25 3,9 5,1
4.85 -10 5,8 5,4 -t
.« в,2 6,0 ,8 6,6 6,4 5-10
Использование предлагаемого способ/ обеспечивает по сравнению с известными при сравнимых дозах внедрени  значительно большую износостойкость рабочей поверхности магнитных головок, что позвол ет значительно повысить их долговечность.

Claims (2)

1.Патент США № 3566О45, кл. Q 11 В 5/22, 1971.
2.Патент США № 3737483,
кл. Q 11 В 5/4О, С 23 С 3/О2, 1973. tS3. Авторское свидетельство СССР
№ 668371, кл, С 22 F 3/00, 1978. (прототип).
SU802893480A 1980-03-11 1980-03-11 Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки SU886044A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU802893480A SU886044A1 (ru) 1980-03-11 1980-03-11 Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU802893480A SU886044A1 (ru) 1980-03-11 1980-03-11 Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU886044A1 true SU886044A1 (ru) 1981-11-30

Family

ID=20882459

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU802893480A SU886044A1 (ru) 1980-03-11 1980-03-11 Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU886044A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0633714A1 (en) * 1993-07-05 1995-01-11 Ebara Corporation Processing apparatus using fast atom beam

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0633714A1 (en) * 1993-07-05 1995-01-11 Ebara Corporation Processing apparatus using fast atom beam

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960002632B1 (ko) 재료의 플라즈마 증진 마그네트론 스퍼터 전착 장치 및 방법
US4544468A (en) Method of and apparatus for coating shaped parts by cathodic atomization
GB1483966A (en) Vapourized-metal cluster ion source and ionized-cluster beam deposition
EP0747927A3 (en) Apparatus for obtaining dose uniformity in plasma doping (PLAD) ion implantation processing
DE19939040B4 (de) Magnetronsputtergerät
DE10100746A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Bilden von Filmen
Rohde et al. Effects of an unbalanced magnetron in a unique dual-cathode, high rate reactive sputtering system
SU886044A1 (ru) Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки
GB2342361A (en) Planar unbalanced magnetron sputtering cathode
DE3738845A1 (de) Zerstaeubungskatode nach dem magnetronprinzip
US3869368A (en) Methods of sputter deposition of materials
Leysen et al. The interaction of caesium with clean ZnO surfaces
SU858086A1 (ru) Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки
JPS5920465A (ja) 超硬質工具及びその製造方法
EP0167383A3 (en) Apparatus for and a method of modifying the properties of a material
US5536381A (en) Sputtering device
JPH0726197B2 (ja) 薄膜形成方法及びその装置
EP0955667A1 (de) Target für eine Kathodenzerstäubungsvorrichtung zur Herstellung dünner Schichten
Golan et al. Ring etching zones on magnetron sputtering targets
JPS57128437A (en) Manufacture of lanthanum-boride thermionic emission electrode
SU1683184A1 (ru) Способ напылени высокоориентированной пьезоэлектрической пленки окиси цинка
Conrad et al. Recent Developments in Plasma Source Ion Implantation
RU2075539C1 (ru) Устройство для ионно-плазменного распыления материалов в вакууме
JPS6465262A (en) Three-electrode sputtering gun
JPS5679438A (en) Working device for charged particle beam