JPS5920465A - 超硬質工具及びその製造方法 - Google Patents

超硬質工具及びその製造方法

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JPS5920465A
JPS5920465A JP12919982A JP12919982A JPS5920465A JP S5920465 A JPS5920465 A JP S5920465A JP 12919982 A JP12919982 A JP 12919982A JP 12919982 A JP12919982 A JP 12919982A JP S5920465 A JPS5920465 A JP S5920465A
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JP
Japan
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ions
thin film
target
tool
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP12919982A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Yamagishi
山岸 嘉雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adamant Co Ltd
Original Assignee
Adamant Kogyo Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5920465A publication Critical patent/JPS5920465A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/48Ion implantation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は1バイト・ドリルなどの切削工具に関してのも
のであり為その切削性の改善を提供するものである。
従来金属切削工具の硬度を増す為に焼入れ1浸炭)イオ
ン窒化法などの平方がとられているが1最近はイオン注
入法が応用されている。イオン注入法によると種々のイ
オンを定量性よく表面に注入する事によって最も目的に
合致した表面の性質を作り出せる。又)金属の表面処理
には金属薄膜を形成させる方法として真空蒸着1スパッ
タリング−CVD、イオンブレーティングなどの先行技
術はあるが、いづれもきれいな基板金属平面上に薄膜を
重ねるという形成方法である為に密着が悪く)そのまま
切削工具などに応用するわけにはいかない。本発明は真
空蒸着で薄膜を成長させ為それと同時に別に設けたイオ
ン源よりイオン注入を行なって工具と薄膜の原子を混在
させ為境界層の区別がつきにくくなる状態を作り出す形
成方法をと91切削工具の刃先表面に高硬度なる金属化
合物層を作って長寿命ならしめる事を特徴とする。
図面により製造方法を説明する。第1図は系全体図であ
り1イオン源(イ)において生成されたイオンが質量分
析系(ロ)に導入され1その後加速されて所定の運動エ
イ、ルギ−と質量をもったイオンにした後ターゲット(
ト)の大きさ又は1スキヤン幡に合わせた径のビームス
ポットになるように集束系で調整されλ偏向してターゲ
ットに照射する。一方それと同時に蒸着源(へ)からは
膜成形物質を蒸着される。
この方法によればイオン量と膜成長速度を制御すれば混
在層の変化をコントロールし1そのうえイオンの種類蒸
着物質を選択して硬度を制御できる。又へイオンと蒸着
物質がターゲット近傍で同雰囲気に有り)反応蒸着と同
様に化合物が簡単に作れ1しかも高い運動エネルギーを
持つイオンに照射される為にターゲットへの付着強度も
大であり1薄膜原子やイオンが工具成形物質中に注入さ
れて混在層を形成する。
誘電体材料へ薄膜メタライズする方法としては湿式無電
解メッキ1スパツタリングなどがあり1イオン注入だけ
ではチャージング(誘電体がイオンと同電価に帯電して
照射されるイオンを反発する現象)を起こして利用でき
なかったがA本発明にある方法を用いると金属薄膜も第
1図は本発明による装置の図であり)図中(イ〕 ・・
・・・イオン源 (ロ)・・・・・質量分析系 (ハ)・・・・・加速系 (ニ)・・・・・集束系 (ホ)・・・・・偏向系 (へ)・・・・・蒸着源 (ト)・・・・・ターゲット (切削工具)を示す。
第工圀

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、刃先に真空蒸着で薄膜を成長させている間に別に設
    けたイオン源より同時にイオンビームを照射してイオン
    注入を行なう事により刃先成形物質の原子と薄膜原子の
    混在層を形成させる切削工具表面処即方法。 2、請求範囲1の方法を用い刃先表面に工具成形物質と
    異なる注入層が形成されである事を特徴とする切削工具
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