Изобретение относитс к приборор-троению , в частности к технике магнитной записи. Известны способы увеличени износ стойкости магнитной головки, основан ные на нанесении на их рабочзпо повер ность тонких дополнительных слоев с более выЬокой износостойкостью. Методом катодного распьшени на рабочую поверхность магнитной головк нанос т магнитом гкий сплав алфесил или электролитическим осаждением нанос т износостойкий слой, содержапщй частицы магнетита или феррита Однако рассмотренные способы не позвол ют получить износостойкие покрыти с хорошей адгезией. В процессе эксплуатации износостойкие покрыти отслаиваютс и крошатс , тем самым не обеспечива необходимых механических параметров головки. Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности вл етс спо соб, включающий операцию обработки поверхности магнитной головки в вакууме путем бомбардировки пучком ионов элементов насыщени . Однако при осуществлении известного способа изготовлени магнитной головки ее износостойкость недостаточно высока. Цель изобретени - получение более высокой степени износострйкости магнитной головки при неизменной эдгергии внедренных примесных ионов. Поставленна цель достигаетс тем, что на магнитную головку нанос т слой металла толщиной 0,6-1,0 мкм, после чего осуществл ют внедрение электрически активных примесных ионов с посто нной энергией в диапазоне - 00600 кэВ и дозой 140 2,5-10 см одновременном воздействии на рабочую поверхность магнитной головки пучком ионов неона с энергией 5-10 кэВ и плотностью ионного тока в пучке 15 мА/см . 3 Так как ионы неона постепенно распыл ют вспомогательный слой, внедрение электрически активных примесных ионов проводитс в тело с перемещающейс границей поверхности и суммарный профиль распределени , очерчиваемый вершиной гауссовой кривой распределени , будет характеризоватьс плос кой вершиной, т.е. высокоравномерным распределением внедренных примесей по всей глубине магнитной головки,начина с поверхности. При этом энерги высокоэнергетических примесных ионов в течении всего технологического процесса остаетс посто нной. На фиг. 1 показано нанесение вспомогательного сло металла на рабочую поверхность головки; на фиг. 2 - крива распределени внедренных примесей . На рабочую поверхность А-А магнитной головки 1 нанос т вспомогательный слой 2, например, металла и провод т внедрение высокоэнергетических примесных ионов Б при одновременном распылении низкоэнергетичными ионами В вспомогательного сло 2. По мере посто нного стравливани вспомогательного сло 2 гауссова крива распределени внедренных примесей 3 будет пер двигатьс вглубь магнитной головки,а результирующа крива распределени Использование предлагаемого способа обработки,рабочей поверхности магнитных головок обеспечивает высокую износостойкое ть при неизменной энергни внедр емых электрически активных ионов, что позвол ет значительно повысить их долговечность. 6 примесей 4, очерчиваема вершиной кривой 3, будет характеризоватьс высокомерным распределением по глубине магнитной головки, Так как в случае многократных внедрений при различных энерги х и дозах результирующий профиль распределени внедренных примесей 5 характеризуетс неравномерным распределением примесей по глубине магнитной головки, то исключение предлагаемым способом нелегированных областей 6 способствует значительному повьш1ению износостойкости магнитной головки,не прибега к использованию многократных внедрений. Пример, При реализации способа было проведено увеличение износостойкости рабочих поверхностей магнитных головок при энерги х внедренньгх ионов фосфора 300-400 кэВ и дозах Ф 10 - 2, Перед внедрением на рабочую поверхность магнитной головки был нанесен вспомогательный слой АГ толщиной 0,6 мкм и 0,8 мкм, который во врем легировани распыл лс ионами неона Ne с энергией 5 кэВ и плотностью ионного тока 1,5 мА/см. В таблице приведены значени износостойкости магнитной головки в зависимости от режимов легировани . Формула изобретени Способ обработки рабочей поверхности магнитной головки, основанный на бомбардировке этой поверхности в вакууме пучком ионов, отличающий с тем, что, с целью повьппени износоустойчивости рабочей поверхности магнитной головки, на нее нанос т слой металла толщиной 0,61 ,0 мкм, после чего осуществл ют внедрение электрически активных примесных ионов с посто нной энергией в диапазоне 300-600 кэВ и дозой IlO - 2, см при одновременном воздействии нарабочую поверхность магнитной головки пучком ионов неона с 85 6« энергией 5-10 кэВ и плотностью ионпого тока в пучке 1-5 мА/см , Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.Патент США W 3566045, кл. G И В 5/22, 1971.