SU884498A1 - Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик - Google Patents

Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик

Info

Publication number
SU884498A1
SU884498A1 SU3215251/25A SU3215251A SU884498A1 SU 884498 A1 SU884498 A1 SU 884498A1 SU 3215251/25 A SU3215251/25 A SU 3215251/25A SU 3215251 A SU3215251 A SU 3215251A SU 884498 A1 SU884498 A1 SU 884498A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
irradiation
carried out
energy
kev
dielectric
Prior art date
Application number
SU3215251/25A
Other languages
English (en)
Inventor
Н.Н. Герасименко
Н.П. Кибалина
Н.Б. Придачин
Original Assignee
Институт Физики Полупроводников Со Ан Ссср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Физики Полупроводников Со Ан Ссср filed Critical Институт Физики Полупроводников Со Ан Ссср
Priority to SU3215251/25A priority Critical patent/SU884498A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU884498A1 publication Critical patent/SU884498A1/ru

Links

Landscapes

  • Formation Of Insulating Films (AREA)

Abstract

1. Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик, включающий операцию импульсного облучения подложки с нанесенной на нее диэлектрической пленкой, отличающийся тем, что, с целью предотвращения повреждений структур, облучение проводят излучением, равномерно поглощающимся и в пленке, и в подложке.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят электронами с энергией 5 - 10000 кэВ.3. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят протонами с энергией 10 - 2500 кэВ.4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что облучение проводят ионами с энергией 15 - 1000 кэВ.5. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение проводят фотонами с энергией E в диапазоне E< E < 10E, где E- ширина запрещенной зоны диэлектрика.
SU3215251/25A 1980-12-12 1980-12-12 Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик SU884498A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3215251/25A SU884498A1 (ru) 1980-12-12 1980-12-12 Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3215251/25A SU884498A1 (ru) 1980-12-12 1980-12-12 Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU884498A1 true SU884498A1 (ru) 1999-11-10

Family

ID=60525340

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU3215251/25A SU884498A1 (ru) 1980-12-12 1980-12-12 Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU884498A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
GB1449751A (en) Annealing to control gate sensitivity of thyristors
JPS5567132A (en) Method for manufacturing semiconductor device
FR2445021A1 (fr) Procede de fabrication de dispositifs semi-conducteurs reduisant leur temps de commutation par une irradiation par neutrons
US4394180A (en) Method of forming high resistivity regions in GaAs by deuteron implantation
SU884498A1 (ru) Способ отжига структур полупроводник-диэлектрик
JPS53102677A (en) Ion beam radiating unit
Oraby et al. Laser annealing of ohmic contacts on GaAs
JPS57104218A (en) Fabrication of semiconductor device
JPS56112729A (en) Exposure of electron beam
JPS53109475A (en) Manufacture for semiconductor device
SU432797A1 (ru) Способ генерации дырочных центров окраски в диэлектрике
Dvurechensky et al. The mechanisms of impurity redistribution on laser-annealing of ion-implanted semiconductors
Krynicki Annealing of ion implanted layers by laser beam
JPS57111020A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS5661179A (en) Preparation of semiconductor radiation detector
SU646706A1 (ru) Способ обработки полупроводниковых детекторов
JPS5357974A (en) Electron beam exposure method
JPS57112013A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS57180173A (en) Mis transistor and manufacture thereof
JPS5481085A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS57143825A (en) Formation of electrode
GB2014363A (en) Improvements in or relating to semiconductor devices
JPS53145583A (en) Semiconductor device and production of the same
JPS57198625A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS54118771A (en) Manufacture of semiconductor device