SK283880B6 - Spôsob a zariadenie na elektrolytické povliekanie povrchu valca na kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu - Google Patents

Abstract

Je opísaný spôsob elektrolytického povliekania povrchu valca na kontinuálne liatie tenkých kovových pásov medzi dva valce alebo na jeden valec vrstvou kovu. Lejacia plocha valca je aspoň čiastočne ponorená do roztoku elektrolytu obsahujúceho soľ kovu, ktorý má byť nanášaný tak, že smeruje proti aspoň jednej anóde, pričom uvedená plocha je umiestnená ako katóda. Medzi lejacou plochou a elektrolytickým roztokom je vytvorený relatívny pohyb. Podstata spôsobu spočíva v tom, že medzi anódu alebo anódy a hrany lejacej plochy sú vložené izolačné masky, ktoré zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na uvedených hranách a v ich blízkosti. Zariadenie na elektrolytické povliekanie lejacej plochy (3) valca na kontinuálne liatie tenkého kovového pásu, ktoré zahrnuje nádrž (1) obsahujúcu elektrolyt (2) obsahujúci soľ kovu, ktorý má byť nanášaný, prostriedky (5, 6) na aspoň čiastočné ponorenie lejacej plochy (3) do tejto nádrže (1) a na vytvorenie relatívneho pohybu medzi lejacou plochou a elektrolytom, aspoň jednu anódu (4, 4') umiestnenú v nádrži (1) proti lejacej ploche (3) a prostriedky na vytvorenie katódového potenciálu na lejacej ploche. Podstata zariadenia spočíva v tom, že zahrnuje masky (7, 7') vyrobené z izolačného materiálu, ktoré sú vložené medzi hrany (12) lejacej plochy (3) a anódu alebo anódy (4, 4'). Tieto masky (7, 7') zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na hranách (12) lejacej plochy (3).ŕ

Description

Vynález sa týka oblasti kontinuálneho liatia kovov. Predovšetkým sa však týka úpravy vonkajšieho povrchu valca alebo valcov, ktoré tvoria pohybujúcu sa stenu alebo steny formy na kontinuálne liatie tenkého pásu vyrábaného z kovu, ako je oceľ.

Doterajší stav techniky

Formy zariadení na dvojvalcové kontinuálne liatie oceľových pásov s hrúbkou niekoľkých milimetrov priamo z roztaveného kovu zahŕňajú lejací priestor vymedzený valcovými plochami dvoch valcov, ktoré sa otáčajú v opačných smeroch okolo svojich osí, a ktoré sú udržiavané v horizontálnej polohe a ďalej dvoma bočnými stenami vyrobenými zo žiaruvzdorného materiálu, ktoré sú dotláčané na čelá valcov. Tieto valce majú priemer, ktorý môže dosahovať 1500 mm a šírku, ktorá je pri súčasných experimentálnych zariadeniach 600 až 800 mm. Aby sa vyhovelo požiadavkám na produktivitu priemyselného zariadenia, bude šírka valcov výhľadovo dosahovať 1300 až 1500 mm. Tieto valce sú obvykle tvorené oceľovým jadrom, ktoré je obklopené pripevneným medeným puzdrom alebo puzdrom zo zliatiny medi. Toto puzdro je chladené vodou, ktorá cirkuluje medzi jadrom a puzdrom alebo vnútri puzdra.

Rovnako ako je tomu pri lejacich plochách foriem na bežné kontinuálne liatie blokov, ingotov alebo brám. býva povrch puzdra, ktorý prichádza do styku s roztaveným kovom, pokrytý vrstvou kovu, obvykle niklu, ktorej hrúbka sa všeobecne pohybuje v rozmedzí I až 2 mm. Táto vrstva niklu umožňuje nastaviť koeficient prestupu tepla puzdra na optimálnu hodnotu (ktorá je menšia než keby kov prichádzal priamo do kontaktu s meďou) tak. že roztavený kov tuhne pri presných metalurgických podmienkach. Príliš rýchle tuhnutie kovu by totiž spôsobilo povrchové defekty finálneho výrobku. Toto nastavenie sa vykonáva zmenami hrúbky a štruktúry' vrstvy niklu. Na druhej strane nikel tiež vytvára na medi ochrannú vrstvu, ktorá zabraňuje jej nadmernému tepelnému a mechanickému zaťažovaniu. Táto vrstva niklu sa počas používania valca opotrebováva a musí byť periodicky obnovovaná. Obnova sa vykonáva tak, že sa čiastočne alebo úplne odstráni zostávajúca vrstva a následne sa nanesie vrstva nová. Takáto obnova je obvykle lacnejšia než úplná výmena opotrebovaného medeného puzdra.

Nanášanie niklu sa výhodne vykonáva elektrolyticky nasledujúcim spôsobom. Nové puzdro (puzdro, z ktorého bol nikel buď úplne, alebo čiastočne odstránený), ktoré má ako celok tvar dutého valca, vyrobeného z medi alebo zo zliatiny medi, ako je zliatina meď - (1 %) chróm -(0,1 %) zirkónium, je uložené na upínací tŕň pomocou prostriedkov, ktorými môže byť ľahko prepravované z jedného pracovného miesta dielne na galvanické pokovovanie niklom a na odstraňovanie niklu na iné pracovné miesto. Po vykonaní rôznych prípravných spracovaní povrchu (leštenie, odmastnenie. morenie v kyseline atď.), vykonávaných s cieľom zlepšiť priľnavosť niklu na meď, jc puzdro dopravené na miesto galvanického pokovovania niklom. Toto pracovné miesto je tvorené nádržou obsahujúcou galvanický niklový roztok, nad ktorú je možné umiestniť upínací tŕň v horizontálnej polohe a uviesť ho do rotácie okolo jeho osi. Spodná časť puzdra je potom ponorená do nádrže a otáčanie zostavy upínacieho tŕňa a puzdra, príkladne rýchlosťou približne 10 ot/min., zaistí vykonanie spracovania celého puzdra. Počas galvanického nanášania niklu tvorí puzdro katódu, anóda potom môže byť tvorená jedným alebo viacerými titánovými anódovými košmi ponorenými do nádrže, ktoré sú uzavreté tenkou membránou smerujúcou k povrchu puzdra, a ktoré obsahujú niklové guľôčky. Ak je žiaduce pokryť tiež hlavnú časť koncov puzdra (ktoré sa pri liatí otierajú o bočné steny zo žiaruvzdorného materiálu a sú preto náchylné na opotrebovanie) niklom, sú ďalšie anódové koše usporiadané tak, aby smerovali k týmto koncom puzdra. Použité môžu byť tiež iné typy anód (rozpustné alebo nerozpustné).

Ako variant je možné vytvoriť také usporiadanie, kde puzdro zostáva nepohyblivé a elektrolyt sa potom pohybuje okolo neho. Dôležité však je vytvorenie relatívneho pohybu medzi puzdrom a elektrolytom, ktorý zaistí plynulé obnovenie ich kontaktnej plochy.

Počas procesu liatia je niklový povlak vystavený veľmi silnému namáhaniu, a to tak mechanickému, ako aj tepelnému. Často už po niekoľkých lejacich cykloch je v niklovom povlaku v blízkosti okrajov valcov pozorovaný vznik trhlín. Tieto trhliny sa vyskytujú v oblastiach niekoľkých centimetrov šírky od hrán puzdra. Trhliny môžu spôsobovať vznik defektov na povrchu liateho výrobku, lebo spôsobujú nerovnomerné chladenie tohto liateho výrobku. Okrem toho trhliny vytvárajú slabé miesta, od ktorých môže začínať veľmi rýchla degradácia celého niklového povlaku. Dochádzať môže tiež k postupu trhlín až pod niklový povlak, ktorý by spôsobil poškodenie celého puzdra. Tieto trhliny teda vyžadujú okamžité a predčasné ukončenie používania valca a úplné obnovenie niklového povlaku na puzdre. Nakoľko je táto činnosť časovo náročná (niekoľko dní), bude priemyselne využiteľný spôsob dvojvalcového kontinuálneho liatia ocele nutne vyžadovať, aby bolo na použitie pripravené množstvo puzdier, čím by sa zaistil pravidelný chod lejacieho zariadenia. Nakoľko je puzdro veľmi nákladnou súčasťou, a to v dôsledku použitého materiálu a jeho ťažkej obrobiteľnosti, dochádzalo by ku značnému zvýšeniu prevádzkových nákladov lejacieho zariadenia.

Cieľom tohto vynálezu je teda zdokonaliť chovanie kovového povlaku puzdra so zreteľom na jeho odolnosť proti termomcchanickcmu namáhaniu tak, aby bol čo možno najviac spomalený vznik, alebo aby bolo úplne zabránené vzniku trhlín v okrajových oblastiach puzdra a predĺžil sa tak priemerný čas používania puzdra medzi dvoma obnovami jeho povlaku.

Podstata vynálezu

Vynálezom bol vytvorený spôsob elektrolytického povliekania lejacej plochy valca na dvojvalcové alebo jednovalcové kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu, pri ktorom je lejacia plocha aspoň čiastočne ponorená do elektrolytického roztoku obsahujúceho soľ kovu, ktorý má byť nanášaný tak, že smeruje proti aspoň jednej anóde. Plocha je umiestnená ako katóda a medzi uvedenou lejacou plochou a uvedeným elektrolytickým roztokom je vytvorený relatívny pohyb. Podstata tohto spôsobu spočíva v tom, žc medzi uvedenú anódu alebo anódy a hrany uvedenej lejacej plochy sú vložené izolačné masky, ktoré zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na uvedených hranách lejacej plochy a v ich blízkosti.

Vynálezom je ďalej vytvorené zariadenie na elektrolytické povliekanic Icjaccj plochy valca na dvojvalcové alebo jednovalcové kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu. Zariadenie zahrnuje nádrž, ktorá obsahuje elektrolyt obsahujúci soľ kovu, ktorý má byť nanášaný.

prostriedky na aspoň čiastočné ponorenie uvedenej lejacej plochy do uvedenej nádrže a na vyvolanie relatívneho pohybu medzi uvedenou lejacou plochou a uvedeným elektrolytom, aspoň jednu anódu, usporiadanú v nádrži tak, že smeruje k uvedenej lejacej ploche, a prostriedky na vytvorenie katódového potenciálu na uvedenej lejacej ploche. Podstata tohto zariadenia spočíva v tom, že ďalej zahrnuje masky vyrobené z izolačného materiálu, ktoré sú vložené medzi hrany uvedenej lejacej plochy a uvedenú anódu alebo anódy. Tieto masky zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na uvedených hranách lejacej plochy.

Výhodné ďalej je, keď uvedené masky majú všeobecne tvar kruhového oblúka, ktorého stred krivosti je rovnaký ako stred krivosti hrany lejacej plochy oproti ktorej ležia a keď majú dve rovnobežné strany, každú umiestnenú v predĺžení uvedenej hrany v rovnakej vzdialenosti od tejto hrany a spojené rohovým výrezom, ktorého strany sú vzájomne kolmé.

Ako bude z ďalšieho zrejmé, vynález spočíva vo vykonávaní galvanického nanášania kovového povlaku v prítomnosti izolačných masiek usporiadaných v blízkosti okrajov puzdra. Tieto izolačné masky, ktorých výhodné vyhotovenie bude opísané, sú vytvorené na účely dosiahnutia rovnomernej distribúcie elektrických siločiar v okrajových oblastiach puzdra. Pri tomto usporiadaní má potom povlak v týchto oblastiach rovnomernú hrúbku, ktorá sa zhoduje s požadovanou nominálnou hrúbkou.

Vynálezcovia zistili, že existuje vzťah medzi rýchlosťou, ktorou vznikajú trhliny v niklovom povlaku v okrajových častiach puzdra a rovnomernosťou hrúbky tohto povlaku v týchto okrajových oblastiach, predovšetkým na čiare hrany puzdra. Ak nebolo použité špeciálne skonštruované zariadenie brániace tomuto javu, bola v tesnej blízkosti hrán puzdra a na čiare samotných hrán zistená nadmerná hrúbka niklovcho povlaku. Napríklad, ak v hlavnej časti povrchu puzdra bola nominálna hrúbka povlaku 2 mm, bola na hrane puzdra zistená hrúbka niekedy aj väčšia než 7 mm. Táto nadmerná hrúbka niklovej vrstvy vzniká v dôsledku koncentrácie elektrických siločiar v bezprostrednej blízkosti hrán puzdra. Aj keď k týmto koncentráciám dochádza iba vo veľmi obmedzenej časti puzdra, sú dostatočné na to, aby spôsobovali rýchly vznik uvedených trhlín. Je to tým, že umožňujú vznik vodíka, ktorý môže vytvárať plynné vtrúseniny vo vytvorenej vrstve niklu. Tieto koncentrácie elektrických siločiar okrem toho vytvárajú kryštalickú štruktúru niklového povlaku. Na hrane a na ostatných častiach puzdra teda nie je rovnaká tvrdosť a štruktúra nanesenej vrstvy.

Jedným prostriedkom na zníženie tejto nadmernej hrúbky povlaku je vybavenie hrany puzdra rádiusom, majúcim niekoľko milimetrov, miesto toho, aby bola vytvorená ostrá hrana. V skutočnosti však tento rádius nemôže byť väčší než 1 až 2 mm, lebo inak by dochádzalo k nadmernému nebezpečenstvu infiltrácie roztaveného kovu medzi konce valcov a bočné steny lejacieho priestoru vyrobené zo žiaruvzdorného materiálu.

Ďalším známym prostriedkom je vychyľovanie elektrických siločiar pomocou prostriedkov a zariadení nazývaných „odberače prúdu“. Sú nimi kovové vodiče, ktorými prechádza elektrický prúd, a ktoré sú usporiadané rovnobežne s hranami puzdra a v ich blízkosti. Tieto zariadenia vychyľujú smerom k sebe niektoré elektrické siločiary, ktoré by sa v prípade ich neprítomnosti koncentrovali na hranách puzdra a v ich blízkosti. Toto riešenie používané samostatne však neprináša uspokojivé výsledky. Okrem toho polohy a prevádzkové parametre týchto „odberačov prúdu“ musia byť starostlivo stanovené, lebo inak, okrem toho, že v mieste hrany puzdra zostane nadmerne hrubá vrstva, môže niekedy dôjsť k tomu, že naopak vrstva niklu v týchto miestach bude tenšia nezje normálna hrúbka, čo je známkou toho, že elektrické siločiary boli z príslušných oblastí nadmerne vychýlené. Ako elektrolytické pokovovanie pokračuje, dochádza okrem toho k tomu, že sa na týchto „odberačoch prúdu“ ukladá nikel, a to v nezanedbateľnom množstve. Je teda nevyhnutné získať tento nikel späť. Elektrický prúd spotrebovaný na jeho uloženie potom predstavuje čistú stratu. Ale okrem toho všetkého, ukladanie niklu na „odberačoch prúdu“ spôsobuje, že dochádza k zmenám rozmerov týchto zariadení, a to navyše veľmi nepravidelným spôsobom. Účinnosť týchto „odberačov prúdu“ sa preto počas procesu vytvárania povlaku veľmi silne mení, a je teda veľmi ťažké ich ovládať. V skutočnosti, pri požadovanej hrúbke povlaku 2 mm, bola v najlepšom prípade zistená na hranách puzdra hrúbka vrstvy 2,5 mm, ale tá jc ešte stále príliš veľká na úspešné vyriešenie uvedeného problému vzniku trhlín. Pri samostatnom použití týchto „odberačov prúdu“ teda nie je možné pri vytváraní povlaku na valcoch na kontinuálne liatie kovov dosiahnuť na tento účel uspokojivú rovnomernosť niklovej vrstvy.

Vynálezcovia zistili, že najvhodnejším spôsobom, ako dosiahnuť veľmi rovnomerné ukladanie niklu na hranách puzdra a v ich bezprostrednej blízkosti, je umiestniť v malej vzdialenosti od hrán puzdra izolačné masky. Ďalej bolo zistené, že za týchto podmienok môže byť predčasný vznik trhlín v povlaku v okrajových oblastiach puzdra eliminovaný.

Prehľad obrázkov na výkresoch

Vynález bude podrobnejšie objasnený v nasledujúcom opise, ktorý odkazuje na pripojené výkresy, kde:

obr. 1 zobrazuje schematicky v reze miestom I-I zariadenie na povliekanie puzdra valca na dvojvalcové kontinuálne liatie, vytvorené na uskutočnenie spôsobu podľa tohto vynálezu;

obr. 2 zobrazuje v reze miestom II-II rovnaké zariadenie a znázorňuje výhodné usporiadanie izolačných masiek podľa tohto vynálezu.

Príklady uskutočnenia vynálezu

Zariadenie podľa tohto vynálezu je zobrazené na obr. 1. Rovina rezu leží v nádrži 1, obsahujúcej elektrolyt 2, v tomto prípade galvanický roztok, ktorého hlavnou zložkou je soľ niklu, ale pred lejacou plochou, tvorenou medeným puzdrom 3 umiestneným ako katóda a pred dvoma anódami 4, 4', usporiadanými na dne nádrže 1. Puzdro 3, ktoré má valcovitý vonkajší tvar a vonkajší priemer 1500 mm, je nasadené na upínacom tŕni S, ktorého hriadeľ 6 sa počas galvanického pokovovania otáča pomocou prostriedkov, ktoré nie sú na výkrese zobrazené. Aspoň spodná časť puzdra 3 je ponorená v roztoku elektrolytu. V zobrazenom príkladnom vyhotovení sú anódami 4, 4' rozpustné anódy tvorené zakrivenými titánovými anódovými košmi naplnenými niklovými granulami. Ale toto usporiadanie predstavuje iba jedno príkladné uskutočnenie. Použiť by bolo možné iný počet anód a aj inú konfiguráciu (príkladne je možné použiť nerozpustné anódy). Anódy 4, 4' majú za rovinou rezu šírku väčšiu, než je šírka puzdra 3. Čelne proti okrajom puzdra 3 sú usporiadané masky 7, 7' (iba masku 7 je na obr. 1 vidieť), vyrobené z izolačného materiálu, ako je polymér. Ich funkciou je zabraňovať tomu, aby elektrické siločiary, vychádzajúce z anód 4, 4', dosiahli okrajové oblasti puzdra a hrán puzdra 3 priamo a zabraňovať tak vzniku nadmerne silného niklového povlaku v týchto miestach. Poloha týchto izolačných masiek 7, 7' môže byť vzhľadom na puzdro nastavovaná polohovacími prostriedkami, znázornenými na výkrese symbolicky pohyblivými tyčami 8.

Presné usporiadanie týchto izolačných masiek 7, 7' je zobrazené na obr. 2. V tu zobrazenom príklade majú tvar podlhovastých telies s približne štvorcovým alebo obdĺžnikovým prierezom a majú všeobecne tvar kruhového oblúku, ktorého stred krivosti je rovnaký ako stred krivosti hrán puzdra 3, proti ktorému ležia. Horná hrana izolačných masiek 7, 7', ležiaca pri činnosti zariadenia najbližšie k hrane puzdra 3, je vybavená výrezom 9, 9' v tvare rohu, ktorého dve strany 10, 10' sú na sebe kolmé a majú približne rovnakú dĺžku, príkladne okolo 5 mm. Izolačné masky 7, 7' sú pomocou tyčí 8 usporiadané takým spôsobom, že vonkajšie hrany 11, 11' výrezov 9, 9' sú umiestnené približne v rovnakej vzdialenosti d od hrany 12 puzdra 3, proti ktorej smerujú. Vzdialenosť d je v počiatočnej fáze, kedy je žiaduce vytvoriť vrstvu niklu s hrúbkou 2 až 3 mm, okolo 5 mm. Ďalšie strany 13, 13' každej izolačnej masky 7, 7', ktoré sú kolmé na puzdro 3, musia pri tomto príkladnom uskutočnení vynálezu mať minimálnu dĺžku 50 mm. Je to práve toto usporiadanie, kedy masky 7, 7' môžu vychyľovať elektrické siločiary natoľko dostatočne, aby sa optimalizovala rovnomernosť ich rozdelenia v oblastiach hrán puzdra 3.

Voliteľne možno izolačné masky 7, 7' usporiadať tiež tak, že sa môžu postupne, so zväčšujúcou sa hrúbkou niklového povlaku, pohybovať smerom od puzdra 3. Tento pohyb možno uskutočniť buď v postupných krokoch, alebo kontinuálne. Je tak možné zaistiť, aby medzi maskou a povlakom vždy zostával dostatočný priestor, a umožnilo sa zväčšovanie nanášanej vrstvy niklu.

V závislosti od presnosti usporiadania anód 4, 4' a izolačných masiek 7, 7' bude povliekanie koncov puzdra 1 prebiehať rovnomerne vo väčšej alebo menšej časti ich povrchu. Na zväčšenie tejto povliekanej časti je možné, rovnako ako pri známom stave techniky, do nádrže 1 vložiť vertikálne anódy 21, 2ľ, 21, ako sú anódové koše naplnené niklovými granulami podobné anódovým košom 4, 4', ktoré budú smerovať ku koncom puzdra 3.

Je zrejmé, že sa izolačné masky môžu svojou konštrukciou od masiek 7, 7', ktoré boli práve opísané ako príkladné, líšiť, ale vždy musia byť schopné zaistiť dosiahnutie požadovanej rovnomernosti hrúbky kovového povlaku. Predovšetkým, miesto podlhovastých telies so štvorcovým alebo iným prierezom, môžu byť masky tvorené doskou alebo zostavou dosiek, pričom plocha tejto dosky alebo zostavy dosiek, ktorá je natočená proti puzdru, má výhodne rovnaké usporiadame, ako podlhovasté telesá pri opísanom príkladnom uskutočnení. Inými slovami, táto plocha musí výhodne zahrnovať dve rovnobežné hrany, každú umiestnenú v predĺžení hrany puzdra v rovnakých vzdialenostiach d od tejto hrany puzdra, spojené rohovým výrezom, ktorého strany sú vzájomne kolmé.

Vynález nevylučuje, na podporu a ďalšie doladenie činnosti izolačných masiek, možnosť vytvorenia stálych alebo dočasne používaných „odberačov prúdu“, ktoré môžu tvoriť súčasť masiek, alebo môžu byť od nich nezávislé.

Je samozrejmé, že vynález môže byť použitý na pokovovanie puzdra inými kovmi ako niklom. Tiež valce takto pokované môžu byť použité nielen v zariadení na dvojvalcové kontinuálne liatie tenkých kovových pásov (vyrábaných z ocele alebo iného materiálu), ale tiež v zariadení na kontinuálne liatie tenkých pásov, pri ktorom do kontaktu s povrchom kovového kúpeľa prichádza jediný valec (jedno valcové liatie). Okrem toho vynález môže byť použitý aj v prípade povliekania lejacej plochy nedeleného valca, pri ktorom puzdro a jadro tvorí jeden a ten istý diel. Ľahké je tiež preniesť vynález na prípad, kedy by puzdro alebo nedelený valec bol v galvanickom kúpeli úplne ponorený. Nakoniec, ako už bolo uvedené, je možné relatívny pohyb medzi puzdrom a elektrolytom dosiahnuť tiež tak, že puzdro zostane nepohyblivé a elektrolyt sa bude pohybovať okolo neho. Toto usporiadanie sa dá využiť predovšetkým pri prípadoch, keď je puzdro úplne ponorené v elektrolytc. Pohyby elektrolytu sú polom vytvárané dýzami vhodne umiestnenými tak, že elektrolyt cirkuluje okolo puzdra medzi anódou alebo anódami.

Claims (11)

1. Spôsob na elektrolytické povliekanie lejacej plochy valca na dvojvalcové alebo jednovalcové kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu, pri ktorom je uvedená lejačia plocha aspoň čiastočne ponorená do elektrolytického roztoku obsahujúceho soľ kovu, ktorý má byť nanášaný tak, že smeruje proti aspoň jednej anóde, pričom uvedená plocha je umiestnená ako katóda a medzi uvedenou lejacou plochou a uvedeným elektrolytickým roztokom je vytvorený relatívny pohyb, vyznačujúci sa t ý m , že medzi uvedenú anódu alebo anódy, a hrany uvedenej lejacej plochy sú vložené izolačné masky, ktoré zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na uvedených hranách a v ich blízkosti.

2. Spôsob podľa nároku 1,vyznačujúci sa t ý m , že uvedené masky sú s rastúcou hrúbkou kovovej vrstvy postupne vzďaľované od uvedených hrán.

3. Zariadenie na elektrolytické povliekanie lejacej plochy (3) valca vrstvou kovu, zahrnujúce nádrž (1) s elektrolytom (2), obsahujúcim soľ kovu, ktorý má byť nanášaný, prostriedky (5, 6) na aspoň čiastočné ponorenie lejacej plochy (3) do nádrže (1) a na vyvolanie relatívneho pohybu medzi lejacou plochou (3) a elektrolytom (2), aspoň jednu anódu (4, 4') usporiadanú v nádrži (I) tak, že smeruje k lejacej ploche (3). prostriedky na vytvorenie katódového potenciálu na lejacej ploche (3), a masky (7, 7') z izolačného materiálu, ktoré sú vložené medzi hrany (12) lejacej plochy (3) a anódu alebo anódy (4, 4’), vyznačujúce sa tým, že masky (7. 7') majú všeobecne tvar kruhového oblúka, ktorého stred krivosti je rovnaký ako stred krivosti hrany (12) lejacej plochy (3) proti ktorej ležia, a majú dve rovnobežné strany (13. 13'). každú umiestnenú v predĺžení hrany (12) v rovnakej vzdialenosti (d) od tejto hrany (12) a spojené rohovým výrezom (9, 9'), ktorého strany (10, 10') sú vzájomne kolmé na získanie povlaku na povrchu dvojice valcov alebo samostatného valca na kontinuálne liatie tenkých kovových pásov.

4. Zariadenie podľa nároku 3, vyznačujúce sa t ý m , žc uvedené masky (7. 7') sú tvorené podlhovastými telesami.

5. Zariadenie podľa nároku 3, vyznačujúce sa t ý m , že uvedené masky (7, 7') sú tvorené doskami alebo zostavami dosiek.

6. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 5. v y značujúce sa tým. že zahrnuje prostriedky (8) na postupné odsúvanie uvedených masiek (7. 7') od uvedených hrán (12) v závislosti od rastu hrúbky nanášanej vrstvy.

7. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 6, vyzná č u j ú c e sa t ý m , žc ďalej zahrnuje anódy (21, 2 ľ), ktoré sú usporiadané tak, že smerujú proti koncom uvedenej lejacej plochy (3).

8. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 7, v y z n a í u j ú c e sa tým, že ďalej zahrnuje „odberače prúdu“.

9. Zariadenie podľa nároku 8, vyznačujúce sa t ý m , že uvedené „odberače prúdu“ sú včlenené do uvedených masiek (7, 7').

10. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 9, v y značujúce sa tým, že uvedenými prostriedkami na vytvorenie relatívneho pohybu medzi uvedenou lejacou plochou (3) a uvedeným elektrolytom (2) sú prostriedky na otáčanie uvedenej lejacej plochy (3).

11. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 9, v y značujúce sa tým, že uvedenými prostriedkami na vytvorenie relatívneho pohybu medzi uvedenou lejacou plochou (3) a uvedeným elektrolytom (2) sú prostriedky na cirkuláciu uvedeného elektrolytu (2) okolo uvedenej lejacej plochy (3).