SG10201606198VA - Halftone Phase Shift Photomask Blank, Making Method, and Halftone Phase Shift Photomask - Google Patents

Halftone Phase Shift Photomask Blank, Making Method, and Halftone Phase Shift Photomask

Info

Publication number
SG10201606198VA
SG10201606198VA SG10201606198VA SG10201606198VA SG10201606198VA SG 10201606198V A SG10201606198V A SG 10201606198VA SG 10201606198V A SG10201606198V A SG 10201606198VA SG 10201606198V A SG10201606198V A SG 10201606198VA SG 10201606198V A SG10201606198V A SG 10201606198VA
Authority
SG
Singapore
Prior art keywords
phase shift
halftone phase
shift photomask
making method
photomask blank
Prior art date
Application number
SG10201606198VA
Other languages
English (en)
Inventor
Kosaka Takuro
Original Assignee
Shinetsu Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinetsu Chemical Co filed Critical Shinetsu Chemical Co
Publication of SG10201606198VA publication Critical patent/SG10201606198VA/en

Links

SG10201606198VA 2015-08-31 2016-07-27 Halftone Phase Shift Photomask Blank, Making Method, and Halftone Phase Shift Photomask SG10201606198VA (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015170367 2015-08-31
JP2016116794A JP6544300B2 (ja) 2015-08-31 2016-06-13 ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク、その製造方法、及びハーフトーン位相シフト型フォトマスク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SG10201606198VA true SG10201606198VA (en) 2017-03-30

Family

ID=58278454

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SG10201606198VA SG10201606198VA (en) 2015-08-31 2016-07-27 Halftone Phase Shift Photomask Blank, Making Method, and Halftone Phase Shift Photomask

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6544300B2 (ja)
KR (1) KR101920963B1 (ja)
SG (1) SG10201606198VA (ja)
TW (1) TWI654480B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6432636B2 (ja) * 2017-04-03 2018-12-05 凸版印刷株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスク及びフォトマスクの製造方法
JP7073246B2 (ja) * 2018-02-27 2022-05-23 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法
KR102254646B1 (ko) * 2018-07-30 2021-05-21 호야 가부시키가이샤 포토마스크 수정 방법, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크, 및 표시 장치용 디바이스의 제조 방법
CN111624848A (zh) * 2019-02-28 2020-09-04 Hoya株式会社 光掩模坯料、光掩模的制造方法、及显示装置的制造方法
JP7297692B2 (ja) * 2019-02-28 2023-06-26 Hoya株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および表示装置の製造方法
CN111158211B (zh) * 2020-01-02 2023-10-27 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板的制备方法、显示基板的制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5635315A (en) * 1995-06-21 1997-06-03 Hoya Corporation Phase shift mask and phase shift mask blank
JP3696320B2 (ja) * 1996-02-02 2005-09-14 Ｈｏｙａ株式会社 位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクス及びそれらの製造方法
JP3608654B2 (ja) * 2000-09-12 2005-01-12 Ｈｏｙａ株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク
JP3993005B2 (ja) 2002-03-22 2007-10-17 Ｈｏｙａ株式会社 ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法
JP4525893B2 (ja) * 2003-10-24 2010-08-18 信越化学工業株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法
JP2005156700A (ja) * 2003-11-21 2005-06-16 Shin Etsu Chem Co Ltd 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクの製造方法、及びパターン転写方法
JP4348536B2 (ja) 2004-03-31 2009-10-21 信越化学工業株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法
JP2006078953A (ja) 2004-09-13 2006-03-23 Ulvac Seimaku Kk ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造法
JP4413828B2 (ja) * 2004-10-22 2010-02-10 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランクおよびフォトマスクならびにこれらの製造方法
JP2006317665A (ja) * 2005-05-12 2006-11-24 Shin Etsu Chem Co Ltd 位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法
JP6263051B2 (ja) * 2013-03-13 2018-01-17 Hoya株式会社 ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法
JP6502143B2 (ja) * 2015-03-27 2019-04-17 Hoya株式会社 マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101920963B1 (ko) 2018-11-21
TWI654480B (zh) 2019-03-21
KR20170026235A (ko) 2017-03-08
JP6544300B2 (ja) 2019-07-17
TW201723642A (zh) 2017-07-01
JP2017049573A (ja) 2017-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SG10201602447WA (en) Phase Shift Mask Blank, Phase Shift Mask, And Blank Preparing Method
SG10201602443QA (en) Halftone Phase Shift Mask Blank And Halftone Phase Shift Mask
SG10201707730PA (en) Halftone Phase Shift Mask Blank And Halftone Phase Shift Mask
SG10201407188WA (en) Halftone Phase Shift Photomask Blank, Halftone Phase Shift Photomask And Pattern Exposure Method
SG10201700495QA (en) Halftone Phase Shift Photomask Blank And Making Method
SG10201602448YA (en) Halftone Phase Shift Mask Blank, Halftone Phase Shift Mask, And Pattern Exposure Method
SG10201602465XA (en) Method For Preparing Halftone Phase Shift Photomask Blank
SG10201606198VA (en) Halftone Phase Shift Photomask Blank, Making Method, and Halftone Phase Shift Photomask
SG10201607091XA (en) Photomask Blank
SG10201911774WA (en) Mask blank, method for manufacturing phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device
SG10201911778SA (en) Mask blank, phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device
SG10201607089YA (en) Photomask Blank
SG10201607715RA (en) Photomask Blank, Making Method, and Photomask
SG11201705165QA (en) Photomask blank, method for manufacturing photomask, and mask pattern formation method
SG11201708585SA (en) Method for producing pellicle, and method for producing pellicle-attached photomask
SG10201602528SA (en) Method For Preparing Halftone Phase Shift Photomask Blank
EP3666729C0 (en) PROCESS FOR THE PRODUCTION OF NANO-SULFUR
SG10201912445QA (en) Photomask Blank and Method for Preparing Photomask
SG10201708004UA (en) Halftone Phase Shift Photomask Blank, Making Method, And Halftone Phase Shift Photomask
EP3249469A4 (en) Negative photosensitive composition and pattern formation method
PT3155157T (pt) Método para o fabrico de uma meia do tipo designado invisível, e meia feita pelo método
EP3583085C0 (en) METHOD FOR THE PRODUCTION OF HUMIC SUBSTANCES ENCAPSULATED COMPOSITIONS
GB201718888D0 (en) Method
EP3410209A4 (en) METHOD FOR FORMING RESISTANT PATTERN
EP3720940C0 (en) PARTS WASHING PROCESS