SE528431C2 - Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta - Google Patents

Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta

Info

Publication number
SE528431C2
SE528431C2 SE0402692A SE0402692A SE528431C2 SE 528431 C2 SE528431 C2 SE 528431C2 SE 0402692 A SE0402692 A SE 0402692A SE 0402692 A SE0402692 A SE 0402692A SE 528431 C2 SE528431 C2 SE 528431C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
layer
hkl
mbar
thickness
gas mixture
Prior art date
Application number
SE0402692A
Other languages
English (en)
Other versions
SE0402692L (sv
SE0402692D0 (sv
Inventor
Sakari Ruppi
Original Assignee
Seco Tools Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seco Tools Ab filed Critical Seco Tools Ab
Priority to SE0402692A priority Critical patent/SE528431C2/sv
Publication of SE0402692D0 publication Critical patent/SE0402692D0/sv
Priority to EP20050445084 priority patent/EP1655392B1/en
Priority to DE200560006071 priority patent/DE602005006071T2/de
Priority to AT05445084T priority patent/ATE392497T1/de
Priority to US11/264,382 priority patent/US7455900B2/en
Publication of SE0402692L publication Critical patent/SE0402692L/sv
Publication of SE528431C2 publication Critical patent/SE528431C2/sv
Priority to US12/232,227 priority patent/US7695764B2/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
    • C23C16/029—Graded interfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40—Oxides
    • C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16—Oxides
    • C30B29/20—Aluminium oxides
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T407/00—Cutters, for shaping
    • Y10T407/27—Cutters, for shaping comprising tool of specific chemical composition
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Cookers (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

20 25 30 35 en f» en Känd teknik Styrning av ot-AlzOç, polymorfen i industriell skala åstadkoms i början av den 1990 talet med kommersiella produkter baserade på US patent 5,137,774. Senare modifikationer av detta patent har använts till att utfälla ot-Al2O3 med föredragna skikttexturer. I US 5,654,035 visas ett aluminiurnoxid- skikt texturerat i riktningen (012) och i US 5,980,988 i riktningen (110). I US 5,863,640 visas en före- dragen tillväxt antingen längs (012) eller (104) eller (110). US 6,333,103 beskriver en modifierad me- tod att styra kärnbildning och tillväxt av ot-AlzOg, längs (l0(10)) riktningen. US2002/0155325A1 be- skriver en metod att erhålla en kraftig (300) textur i ot-Al2O3 med användning av en texturmodifierande agent, ZrCl4. Processerna diskuterade ovan använder alla höga beläggningstemperaturer av omkring 1000 °C.
US 2004/0028951A1 beskriver en teknik att åstadkomma en uttalad (012) textur. Den kommer- siella framgången av detta slag av produkt demonstrerar betydelsen att förfina CVD processen för ot- Al2O3 mot helt kontrollerade texturer.
Det är väl etablerat att vattengasreaktionen, i frånvaro av H28 eller andra dopmedel, är det kri- tiska hastighetsbestärmnande steget för Al2O3 bildning, och i stor utsträckning, styr den lägsta tempe- ratur vid vilken Al2O3 kan utfallas. Dessutom är det väl etablerat att vattengasreaktionen är mycket känslig för beläggningstrycket. u Omfattande arbeten har utförts att utfalla CVD AI2O3 vid lägre temperaturer. Atskilliga Al2O3-skikt med användning av andra system än AlClg-COg-Hg har undersökts, omfattande AlClg-CO- C02, Alcn-QHSOH, Aicig-Nzo-Hz, A1c13-NH3-co2, Aicia-oz-Hzo, Alcig-oz-Ar, AlXa-COz (där X är Cl, Br, I), AlXg-COz-Hg (där X är Cl, Br, I), AlBrg-NO-Hg-N; och AlBr3-NO-H2-N2. Det understryks att dessa studier har utförts utan dopmedel såsom H28 och inverkan av beläggningstrycket har inte klarlagts.
Det är värt att märka att inget av dessa senare system har varit kommersiellt lyckosamt. Följakt- ligen är det därför höggradigt önskvärt att förelägga en CVD process för utfällning av Al2O3-skikt vid temperaturer under de just nu använda i kommersiell skala.
US 6,572,99l beskriver en metod att utfälla ot-AlzOg vid låg beläggningstemperatur. Detta ar- bete visar klart att det är möjligt att erhålla Al2O3-skikt i medeltemperaturintervallet i AlClg-COz-I-Iz systemet. Men i detta arbete insåg man inte att kärnbildningsytan styr fassammansättningen av AI2O3 och beläggning av ot-Al2O3 är sålunda möjlig vid lägre beläggningstemperaturer. I känd teknik ansågs det omöjligt att utfalla ot-Al203 vid låg temperatur och man trodde att y-AlgOg och K-Al2O3 var de oundvikliga lågtemperaturfaserna.
Syfte med och sammanfattning av uppfinningen Det är ett syfte med föreliggande uppfinning att förelägga ett nytt, förbättrat aluminiurnoxid- skikt där ot-Al2O3-fasen består av kärnbildad ot-AlzOg med en kraftig, helt kontrollerad (116) tillväxt- 10 15 20 25 30 35 (Il PO GC) »ß CN __; 3 textur. Enligt föreliggande uppfinning kan ot-AlgOg med kontrollerad (116) textur erhållas inom ett vitt temperaturintervall från 750 till 1000 °C, som kan anses överraskande.
Aluminiumoxidskiktet med kraftig textur överträffar tidigare kända med slumpvis eller andra mindre utvecklade och otillräckligt kontrollerade texturer. Ytterligare ökad seghet kan fås när belägg- ningen utförs vid lägre temperaturer. Jämfört med kända produkter är ot-AlzOg-skikt enligt föreliggande uppfinning väsentligen fria från omvandlingsspänningar, består av kolumnära, defektfria, ot-AlzOg kom med låg dislokationsdensitet och med förbättrade skäregenskaper.
Beskrivning av figurerna Fig. 1 visar i tvärsnitt en SEM bild, förstoring l000Ox, av ett typiskt aluminiumoxidskikt enligt föreliggande uppfinning utfällt på ett MTCVD-Ti(C,N)-skikt. Aluminiumoxidskiktet är sammansatt av kolumnära kom. Det är tätt utan synlig porositet.
Fig. 2 visar i tvärsnitt en SEM bild av ett typiskt skikt enligt känd teknik (förstoring 6000x) ut- fällt på ett MTCVD-Ti(C,N)-skikt. Aluminiumoxidskiktet är sammansatt av stora nästan likaxliga korn. Porositet är synlig i aluminiumoxidskiktet. Interfasporositet mellan alurniniumoxidskiktet och Ti(C,N)-skiktet syns också.
Detaljerad beskrivning av uppfinningen En metod att utfälla ot-AlzOg med en kraftigt (116) textur i ett temperaturintervall av 750 till l000°C beskrivs. Uppñnningen använder korta pulser av förelöpare följda av renande steg med en inert gas såsom Ar. Efter reningen följer en annan förelöpare som en kort puls. Förutom texturkontroll kan metoden användas för att producera finare komstorlekar genom att öka antalet kärnbildningsplatser.
Det texturkontrollerade ot-AlzOg-skiktet utfällt vid en mediumtemperatur av omkring 800°C visar för- bättrad seghet.
AlgOg-skikt enligt denna uppfinning överglänser känd teknik och är speciellt lämpliga att an- vändas i seghetskrävande rostfritt stål skärande tillämpningar såsom intermittent bearbetning, svarv- ning med kylmedel och speciellt interrnittent svarvning med kylmedel. Det andra användningsområdet är bearbetning av gjutjärn där egghållfastheten av detta slag av aluminiumoxidskikt är överlägsen tidi- gare kända.
Ti(C,N)-skikt används som ett mellanliggande skikt, som kan vara erhållet antingen genom konventionell CVD eller MTCVD, företrädesvis MTCVD. Denna uppfinning gör det möjligt att utfälla ot-Al2O3 vid samma temperatur som används att utfälla det intermediära MTCVD Ti(C,N)~skiktet.
Följaktligen kan uppvärmningsperioden efter MTCVD utelämnas.
För att kärnbilda ot-AlzOg med den specificerade texturen behövs flera steg. Först utfälls på Ti(C,N)-skiktet ett bindeskikt kännetecknat av närvaron av en Al-koncentrationsgradient. Kväve och CH3CN används under utfallning av detta bindeskikt. Aluminiuminnehållet på ytan av detta skikt är betydligt, omkring 30%, högre än i bindeskiktet enligt US 5,l37,774 (känd teknik) och bindeskiktet har tydligt innehåll av kväve. Ytan av detta bindeskikt utsätts för ytterligare behandling. 10 15 20 25 30 35 2 c ÉÅQCJJ' 431 4 Kärnbildning startas med en TiCl4/AlCl;/H2 puls med hög TiCl4 halt (>10%) och med en var- aktighet av 5 minuter. Därefter kommer en Ar-rening (Tid 5 minuter) för att ta bort överskott av Cl- från ytan. Efter detta kommer en oxiderande puls med användning av en C02/H2/N2/Af (Nz = Omkring 15-l7%, Ar=ba1ans) gasblandning. Det oxiderande steget måste vara relativt kort, omkring 0,5-5 mi- nuter, för att säkra (116) kärnbildning. Nyckeln till att erhålla den specificerade tillväxttexturen är kon- trollen av oxidationspotentialen för C02/H2/N2/Ar blandningen genom att justera N2:CO2 förhållandet.
Detta förhållande skall vara 250-400, företrädesvis 300-350.
Användning av kontrollerad syre potential i kombination med korrekt tid och antal pulser möj- liggör korrekt kärnbildningssätt. Typiska pulstider kan vara från 0,5 till 5 minuter beroende på pulsti- den. Den oxiderande pulsen är återigen följd av en Ar rening. Dessa steg bör upprepas flera gånger, fö- reträdesvis 2-5 gånger, i sekvens för att öka mängden ot-Al2O3 kärnor. Alltför låg eller överdriven oxi- dation måste undvikas. Fackmannen kan firma den bästa och optimala kombinationen mellan längd och mängd steg.
Detaljerad beskrivning av kärnbildningsstegen 1. Utfällning av ett bindeskikt 0,1-1 ttm tjockt i en gasblandning av 2-3 % TiCl4, AlCl3 ökande från 0,5 till 5 %, 3-7 % CO, 1-3 % C02, 2-10 % N2 och balans H2 vid omkring 750-1000 °C, företrä- desvis vid 800°C och vid ett tryck av 50-200 mbar. 2. Rening med Ari 5 min. 3. Behandling av bindeskiktet i en gasblandning av 5-15 % TiCla och 2-4 % AlClg, i väte i 2-60 min vid 750-l000°C, företrädesvis vid 800 °C och vid ett tryck av 50-200 mbar. 4. Rening med Ari 5 min. 5. Behandling i en gasblandning av 0,05 till 0,l% C02, företrädesvis 0,05%, 10 till 40% N2, fö- reträdesvis 15,0 - l7,5% N2 vid C02 = 0,05%, 10% H2, balans Ar. 6. Rening med Ar i 5 min. 7. Upprepning av steg 3-6 för att erhålla en optimal oxidisationsnivå. 8. Ufallning av ett aluminiumoxidskikt vid en temperatur av 950-1000°C med önskad tjocklek enligt känd teknik eller av ett aluminiumoxidskikt vid 750-950 med användning av högre beläggnings- tryck (200-500 mbar) tillsammans med högre mängder (0,5-l,5%) av katalyserande förelöpare såsom H28 eller SOX, företrädesvis H2S.
Tillväxten av aluminiumoxidskiktet på kärnbildningsskiktet startas genom introduktion av re- aktantgaserna i följande ordning: CO, AlCl3, C02. Processtemperaturer av 750 till lO00°C kan använ- das eftersom texturen bestäms genom kärnbildningsytan.
Föreliggande uppfinning avser även ett skär bestående av ett substrat åtminstone delvis belagt med en beläggning med en total tjocklek av 10-40 pm, företrädesvis 15-25 um, bestående av ett eller flera refraktära skikt av vilka åtminstone ett skikt är ett alfa-aluminiumoxidskikt. 0c-Al2O3-skiktet ut- fällt enligt denna uppfinning är tätt och företer en mycket låg defektdensitet. Det är sammansatt av ko- 10 15 20 25 30 35 l 5228 431 5 lumnära korn med en kraftigt (116) textur. De kolumnära kornen har ett längd/bredd-förhållande av från 2 till 15, företrädesvis 5-8.
Texturkoefficientema (TC) för a-AlgOg-skikt enligt denna uppfinning bestäms på följande sätt: _1 TCÜIkD r round) in Zrorhknl där [(hkl) = intensitet av (hkl) reflexen Io(hkl) = standard intensitet enligt J CPDS kort no 46-1212 n = antal reflexer använda i beräkningen (hkl) reflexer som används är: (012), (104), (110), (113), (024), (116).
Texturen för aluminiumoxidskiktet definieras på följande sätt: TC(1 16) > 1,8, företrädesvis >2,0 och helst >3,0 och samtidigt TC(0l2), TC(1 13), TC(024) alla< 1,5, företrädesvis <1,0 och helst <0,5. Det bör noteras att intensiteterna av reflexerna (012) och (024) är relaterade. Men för detta tillväxtsätt är TC(104) något högre än de andra bakgrundsreflexerna men skall vara <1,5, företrädesvis <1,0 och helst <0,5 eller åtminstone lyda följande: TC(104) < 0,6x TC(1 16), företrädesvis mindre än 0,3xTC(1 16).
Substratet omfattar ett hårt material såsom hårdmetall, cermets, keramik, snabbstål eller ett su- perhårt material såsom kubisk bomitrid, CBN, eller diamant företrädesvis hårdmetall eller CBN. Med CBN menas häri ett skäwerktygsmaterial innehållande åtminstone 40 vol-% CBN. I en föredragen ut- föringsforrn är substratet en hårdmetall med en bindefasanrikad ytzon.
Beläggningen omfattar ett första skikt närliggande kroppen av CVD Ti(C,N), CVD TiN, CVD T iC, MTCVD Ti(C,N), MTCVD Zr(C,N), MTCVD Ti(B,C,N), CVD HfN eller kombinationer därav företrädesvis av Ti(C,N) med en tjocklek av från 1 till 20 pm, företrädesvis från l till 10 pm och ot- AlzOg-skiktet närliggande det första skiktet med en tjocklek av från omkring 1 till 40 pm, företrädesvis från 1 till 20 pm, helst från l till 10 pm. Företrädesvis finns det ett mellanliggande skikt av TiN mellan substratet och det första skiktet med en tjocklek av <3 pm, företrädesvis 0,5-2 pm.
I en utföringsform är ot-Al203-skiktet det översta skiktet.
I en annan utföringsform finns ett skikt av karbid, nitrid, karbonitrid eller karboxynitrid av en eller flera av Ti, Zr och Hf, med en tjocklek av från omkring 0,5 till 3 pm, företrädesvis 0,5 till 1,5 pm ovanpå ot-AlgOg-skiktet. Alternativt har detta skikt en tjocklek av från omkring l till 20 pm, företrä- desvis 2 till 8 pm.
I ytterligare en utföringsforrn omfattar beläggningen ett skikt av K-AlgOg och/eller y-AlgOg fö- reträdesvis ovanpå ot-AlgOg med en tjocklek av från 0,5 till 10, företrädesvis från 1 till 5 pm.
Exempel 1 (JÉV t? ÖÖ à CN -à 6 Hårdrnetallskär med en sammansättning av 5,9% Co och balans WC med en hårdhet av om- kring 1600 HV belades med ett skikt av MTCVD Ti(C,N). Tjockleken av MTCVDskiktet var omkring 2 um. På detta skikt utfälldes tre olika a-A12O3-skikt bestående av omkring 10 um ot~Al2O3 vardera: Skikt a) innehöll ett (116) texturerat oc-AlzOg-skikt och utfálldes enligt föreliggande uppfinning vid en temperatur av 1000°C. Detaljerade processdata ges i Tabell 1.
Skikt b) utfálldes enligt känd teknik vid en temperatur av 1000°C.
Skikt c) utfälldes enligt föreliggande uppfinning vid 780 °C. Detaljerade processdata ges iTa- bell 2.
Tabell 1. Beläggningsprocess för ett skikt a) med (116) textur vid 1000°C: Steg 1: Bindeskikt Gasblandning TiCl4 = 2,8% CH3CN = 0,5% AICI; = ökande från 0,8 till 5,2% CO = 5,8% C02 = 2,2 % N; = 5% Balans: H2 Tid 40 min Temperatur 1000 °C Tryck 100 mbar Ste 2: Gas Tid T T f f) 21.2 f: 451 7 Steg 3: Puls 1 Gasblandning TiCl4 = 125% AlClg = 2,8 H2 = Balans Tid 5 min.
Temperatur 1000°C Tryck 50 mbar Steg 4: Rening Gas Ar =100% Tid 5 min Temperatur 1000°C Tryck 50 mbar Steg 5: Puls 2 Gasblandning C02 = 0,05% Ng = 16% H2 = 10% Balans: Ar Tid 1 min Temperatur 1000°C Tryck 100 mbar Tid T T k Steg 7: Kärnbildnin ssteg Gasblandning AlClg = 3,2 % HCl = 2,0 % C02 = 1,9 % Balans H2 Tid 60 min Temperatur 1000°C Tryck 210 mbar E52 8 »lå CN ...s Steg 8: Beläggning Ræasbiandning A1c13 = 4,2 % HCl = 1,0 % C02 = 2,l% HZS = 0,2% Balans: H2 Tid 520 min Temperatur 1000°C Tryck 50 mbar Steg 3-6 upprepades tre gånger.
Tabell 2. Beläggningprocess för ett skikt a) med (116) textur vid 780 °C: Steg 1: Bindeskikt Gasblandning TiCl4/H2 = 2,8% CH3CN = 0,7% A1Cl3 = ökande från 0,8 till 5,4% CO = 5,8% C02 = 2,2 % N; = 5% Balans: H2 Tid 40 min Temperatur 780 °C Tryck 100 mbar 5 28 451 9 Steg 3: Puls 1 Gasblandning TiC14 = 12,5% AlCl3 = 2,5 H2 = Balans Tid 5 min.
Temperatur 780°C Tryck 50 mbar Tid T T k Steg 5: Puls 2 Gasblandning CO; = 0,05% N; = 17% H2 = 10% Balans: Ar Tid 2 min Temperatur 780°C Tryck 100 mbar Steg 6: Rening Gas Ar =100% Tid 5 min Temperatur 780°C Tryck 50 mbar Steg 7: Kärnbildnin .ssteg Gasblandning AlClg = 3,2 % HCI = 2,0 % C02 = 1,9 % Balans H2 Tid 60 min Temperatur 780°C Tryck 50 mbar 10 15 20 Steg 8: Beläggning 10 4-31 Gasblandning AlCl3 = 4,1 % HCl = 1,0 % C02 = 2,3% H28 = 0,9% Balans: H2 Tid 600 min Temperatur 780°C Tryck 350 mbar Steg 3-6 upprepades tre gånger.
Exempel 2 Skikt a), b) och c) studerades med användning av röntgendiffraktion. Texturkoefficienterna bestämdes och presenteras i Tabell 3. Som är klart från Tabell 3 är TC(104) något högre än de andra bakgrundsre- flexerna.
Tabell 3 Hkl Uppfinning, Skikt a Känd teknik, Skikt b Uppfinning, Skikt c 012 0,29 0,97 0,74 104 0,59 1,10 0,97 1 10 0,45 0,95 0,20 113 0,37 0,99 0,15 024 0,41 0,96 0,51 116 3,89 1,03 3,43 Exempel 3 Skikt a) och b) studerades med användning av svepeleküonmikroskop. Tvärsnittsbilder av skikten visas i Fi g.1 och 2, respektive. Skillnaderna i mikrostruktur och morfologi är klara.
Exempel 4 Beläggningama a och b från Exempel 1 provades med avseende på eggseghet i längdsvarvning i gjut- järn. 10 15 20 25 431 11 Arbetsstycke: Cylindrisk stång Material: SS0l30 Skärtyp: SNUN Skärhastighet: 400 rn/min Matning: 0,4 rnrn/varv Skärdjup: 2,5 mm Anmärkning: torrsvarvning Skären inspekterades efter 2 och 4 minuters bearbetning. Som är klart från Tabell 4 var eggsegheten av den tidigare kända produkten betydligt förbättrad när skiktet framställdes enligt denna uppfinning.
Tabell 4 Flagning av egglinjen (%) Flagning av egglinjen (%) efter två minuter efter sex minuter Skikt a (Uppfinning) 0 5 Skikt b (Känd teknik) 16 32 Exempel 5 Skiktet framställt enligt denna uppfinning jämfördes med en marknadsledare, betecknad här som Kon- kurrent X. Denna beläggning är sammansatt av MTCVD Ti(C,N) och ot-AlzOg. Röntgendiffraktion an- vändes för att fastställa texturkoefficienter för dessa konkurrentbeläggningar. Två skär från Konkurrent X var slumpvist valda för rönt gendiffraktion. Tabell 5 visar de erhållna TCs för konkurrenten X. Alu- miniumoxidskiktet från Konkurrent X uppvisar en (116) textur och kan jämföras med föreliggande uppfinning, Tabell 3.
Tabell 4 Hkl TC(hk1) 012 0,59 0,57 104 0,92 0,88 1 10 1,7 1 1,90 1 13 0,48 0,42 024 1,12 1,12 1 16 1,02 1,01 De röntgade skären från konkurrent X jämfördes med skär framställda enligt föreliggande uppfinning, Skikt a).
Två skär framställda enligt denna uppfmning jämfördes med de två Konkurrent X skären med avseende på fasförslitningsmotstånd vid plansvarvning av kullagermaterial 10 15 20 25 30 (f: ï.
Cr: 12 Arbetsstycke: Cylindriskt rör (Kullager) Material: 882258 Skär typ: WNMG0804l6 Skärhastighet: 500 m/min Matning: 0,5 mm/varv Skär-djup: 1,0 mm Anmärkning: Torrsvarvning Livlängdskriterium: Fasförslitning >0,3 mm, tre eggar av vardera varianten provades.
Resultat: Livslängd (min) Skikt a 32,2 (uppfinning) Skikt a 29,5 (uppfinning) Konkurrent 1 14,5 (känd teknik) Konkurrent 2 15,5 (känd teknik) Exempel 6 Skikt a), b) och c) utfállda på Co~anríkade substrat provades med avseende på seghet i längdsvarvning med interrnittenta ingrepp.
Arbetsstycke: Cylindrisk spårad stång Material: SS1672 Skär typ: CNMG120408-M3 Skärhastighet: 140 m/min Matning: 0,1, 0,125, 0,16, 0,20, 0,25, 0,315, 0,4, 0,5, 0,63, 0,8 mm/vaw gradvis ökat efter 10 mm ingreppslängd Skärdjup: 2,5 mm Anmärkning: torrsvarvning Livslängdskriterier: Gradvis ökad matning till eggbrott. Tio eggar av vardera varianten provades.
Tabell 6 vid brott mm/varv Skikt a 0 40 0 12 040 Skikt b Skikt c teknik Provresultatet visar (Tabell 6) att skikt enligt denna uppfinning uppvisar klart bättre seghetsbeteende än känd teknik (skikt b). 5228 4-31 13 Exempel 7 Kubisk bornitrid (CBN) skär innehållande omkring 90 % polykristallin CBN (PCBN) belades enligt denna uppfinning vid 780 °C (skikt c)) och enligt känd teknik diskuterad i Exempel 1. Den belagda CBN jämfördes med obelagda CBN -skär vid bearbetning av stål innehållande ferrit. Det är känt att B har en hög affinitet till ferrit och diffusionsförslitning uppstår vid höga skärhastigheter. Som visas i Ta- bell 7 är skiktet enligt denna uppfinning överlägset tidigare kända.
Arbetsstycke: Cylindrisk stång Material: SS0l30 Skärtyp: SNUN Skärhastighet: 800 rn/min Matning: 0,4 mm/varv Skärdjup: 2,5 mm Anmärkning: torrsvarvning Tabell 7 CBN Be enli känd teknik Obe CBN

Claims (9)

10 15 20 25 30 35 5128 431 1 _! Krav
1. Skärverktygsskär bestående av ett substrat av hårdmetall, cermet, keramik, cBN, snabbstål eller diamant åtminstone delvis belagt med en beläggning med en total tjocklek av 10-40 pm, företrädCSViS 15-25 pm, bestående av ett eller flera refraktära skikt av vilka åtminstone ett skikt är ett aluminium- oxidskikt k ä n n e t e c k n a t av att aluminiumoxidskiktet med en tjocklek av från omkring 1 till 40 pm, företrädesvis från 1 till 20 pm, helst från 1 till 10 pm är sammansatt av kolumnära ot-Al2O3 korn med längd/breddförhållande från 2 till 15, företrädesvis 5 till 8, med texturkoefficienter a) TC(116) >1,8 företrädesvis >2 och helst >3, b) TC(012), TC(104), TC(113), TC(024), TC(116) alla koefficienten TC(hkl) definierad som _1gh1<1g 3 1(hkl) -1 TC(hkl) ' Io(hkl) in zioaiknl där 1(hkl) = uppmätt intensitet av (hkl) reflexen Io(hkl) = standardintensitet enligt JCPDS kort no 46-1212 n = antal reflexer använda i beräkningen (hkl) reflexer som används är: (012), (104), (110), (113), (024), (116) varvid ot-Al2O3-skiktet utfälls i temperaturintervallet 750-1000°C enligt följande steg: a - utfällning av ett bindeskikt 0,l-l pm tjockt i en gasblandning av 2-3 % TiCla, AlClg ökande från 0,5 till 5 %, 3-7 % CO, 1-3 % C02, 2-10 % N2 och balans H2 vid omkring 750-1000 °C, företrädesvis vid 800°C och vid ett tryck av 50-200 mbar, b - rening med Ar i 5 min, c - behandling av bindeskiktet i en gasblandning av 5-15 % T iCl4 och 2-4 % AlClg i väte i 2- 60 min, företrädesvis 5 min, vid 750-1000°C, företrädesvis vid 800 °C och vid ett tryck av 50- 200 mbar, d - rening med Ar i 5 min, e - behandling i en gasblandning av 0,05 till 0,1% C02, företrädesvis 0,05%, 10 till 40% N2, företrädesvis 15,0 - 17,5% N2 vid C02 = 0,05%, 10% H2, balans Ar, vid ett N2zCO2- förhållande av 250-400, företrädesvis 300-350 och en tid av 0,5-S minuter, f - rening med Ari 5 min, g - upprepning av steg c-f för att erhålla en optimal oxidisationsnivå samt h - utfállning av ett aluminiumoxidskikt vid en temperatur av 950-1000°C med önskad tjocklek eller av ett aluminiumoxidskikt vid 750-950°C med användning av högre beläggningstryck, 200-500 mbar, tillsammans med högre mängder, 0,5-1,5%, av katalyserande 10 15 20 25 30 35 5228 451 förelöpare såsom H2S eller SOK, företrädesvis H28, varvid tillväxten av aluminiumoxidskiktet startas genom introduktion av reaktantgasema i följande ordning: CO, AlClg, C02.
2. Skär enligt något krav 1 k ä n n e t e c k n at av att substratet omfattar hårdmetall företrädesvis med en bindefasanrikad ytzon, CBN eller sintrad CBN legering.
3. Skär enligt något av föregående krav k ä n n e t e c k n at av att beläggningen omfattar ett första skikt närliggande kroppen av CVD Ti(C,N), CVD TiN, CVD TiC, MTCVD Ti(C,N), MTCVD Zr(C,N), MTCVD Ti(B,C,N), CVD HfN eller kombinationer därav företrädesvis av Ti(C,N) med en tjocklek av från 1 till 20 um, företrädesvis från 1 till 10 um.
4. Skär enligt något av föregående krav k ä n n e t e c k n a t av att ot-Al2O3-skiktet är det yttersta skik- tet.
5. Skär enligt något av föregående krav k ä n n e t e c k n a t av ett skikt av karbid, nitrid, karbonitrid eller karboxynitrid av en eller flera av Ti, Zr och Hf, med en tjocklek av från omkring 0,5 till 12 um, företrädesvis 0,5 till 6 um ovanpå ot-Al2O3-skiktet.
6. Skär enligt något av föregående krav k ä n n e t e c k n at av ett skikt av K-AI2O3 eller 'y-Al2O3 ovanpå ot-Al2O3-skiktet med en tjocklek av från 0,5 till 10, företrädesvis från 1 till 5, um.
7. Skär enligt något av föregående krav k ä n n e t e c k n a t av ett skikt av TiN mellan substrat och det första skiktet med en tjocklek av <3 um, företrädesvis 0,5-2 um.
8. Skär enligt något av föregående krav k ä n n e t e c k n a t av att substratet ornfattar en hårdmetall med en bindefasanrikad ytzon.
9. Sätt att deponera ett oL-A12O3-skikt i temperaturintervallet 750-l000°C vid framställning av ett belagt skärverktygsskär enligt krav 1 k ä n n e t e c k n a t av följande steg: a - uttällning av ett bindeskikt 0,1-l um tjockt i en gasblandning av 2-3 % TiCl4, AlCl3 ökande från 0,5 till 5 %, 3-7 % CO, 1-3 % C02, 2-10 % N2 och balans H2 vid omkring 750-1000 °C, företrädesvis vid 800°C och vid ett tryck av 50-200 mbar, b - rening med Ar i 5 min, c - behandling av bindeskiktet i en gasblandning av 5-15 % TiCl4 och 2-4 % AlClg i väte i 2- 60 min, företrädesvis 5 min, vid 750-l000°C, företrädesvis vid 800 °C och vid ett tryck av 50- 200 mbar, d - rening med Ar i 5 min, e - behandling i en gasblandning av 0,05 till 0,1% C02, företrädesvis 0,05%, 10 till 40% N2, företrädesvis 15,0 - 17,5% N2 vid C02 = 0,05%, 10% H2, balans Ar, vid ett N2zCO2- förhållande av 250-400, företrädesvis 300-350 och en tid av 0,5-5 minuter, f - rening med Ar i 5 min, g - upprepning av steg c-f för att erhålla en optimal oxidisationsnivå samt h - utfällning av ett aluminiumoxidskikt vid en temperatur av 950-l000°C med önskad tjocklek eller av ett aluminiumoxidskikt vid 750-950°C med användning av högre beläggningstryck, 200-500 mbar, tillsammans med högre mängder, 0,5-1,5 %, av katalyserande förelöpare såsom H28 eller SOX, företrädesvis H28, varvid tillväxten av aluminiumoxidskiktet startas genom introduktion av reaktantgaserna i följande ordning: CO, AlClg, C02.
SE0402692A 2004-11-05 2004-11-05 Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta SE528431C2 (sv)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0402692A SE528431C2 (sv) 2004-11-05 2004-11-05 Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta
EP20050445084 EP1655392B1 (en) 2004-11-05 2005-10-26 Alumina layer with enhanced texture
DE200560006071 DE602005006071T2 (de) 2004-11-05 2005-10-26 Aluminiumoxidschicht mit verbesserter Textur
AT05445084T ATE392497T1 (de) 2004-11-05 2005-10-26 Aluminiumoxidschicht mit verbesserter textur
US11/264,382 US7455900B2 (en) 2004-11-05 2005-11-02 Alumina layer with enhanced texture
US12/232,227 US7695764B2 (en) 2004-11-05 2008-09-12 Alumina layer with enhanced texture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0402692A SE528431C2 (sv) 2004-11-05 2004-11-05 Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE0402692D0 SE0402692D0 (sv) 2004-11-05
SE0402692L SE0402692L (sv) 2006-05-06
SE528431C2 true SE528431C2 (sv) 2006-11-14

Family

ID=33488164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE0402692A SE528431C2 (sv) 2004-11-05 2004-11-05 Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta

Country Status (5)

Country Link
US (2) US7455900B2 (sv)
EP (1) EP1655392B1 (sv)
AT (1) ATE392497T1 (sv)
DE (1) DE602005006071T2 (sv)
SE (1) SE528431C2 (sv)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE528432C2 (sv) * 2004-11-05 2006-11-14 Seco Tools Ab Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod för att framställa detta
SE528430C2 (sv) * 2004-11-05 2006-11-14 Seco Tools Ab Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta
EP1905870A3 (en) 2006-09-27 2008-05-14 Seco Tools Ab Alumina layer with enhanced texture
SE532023C2 (sv) 2007-02-01 2009-09-29 Seco Tools Ab Texturhärdat alfa-aluminiumoxidbelagt skär för metallbearbetning
SE531670C2 (sv) 2007-02-01 2009-06-30 Seco Tools Ab Texturerat alfa-aluminiumoxidbelagt skär för metallbearbetning
SE531929C2 (sv) * 2007-07-13 2009-09-08 Seco Tools Ab Belagt hårdmetallskär för svarvning av stål eller rostfritt stål
JP5111600B2 (ja) * 2008-02-27 2013-01-09 京セラ株式会社 表面被覆部材および切削工具
SE532050C2 (sv) 2008-03-07 2009-10-13 Seco Tools Ab Oxidbelagt skärverktygsskär för spånavskiljande bearbetning av stål
SE532047C2 (sv) 2008-03-07 2009-10-13 Seco Tools Ab Oxidbelagt skärverktygsskär för spånavskiljande bearbetning av gjutjärn
SE532048C2 (sv) 2008-03-07 2009-10-13 Seco Tools Ab Oxidbelagt skärverktygsskär för spånavskiljande bearbetning av stål
SE532049C2 (sv) 2008-03-07 2009-10-13 Seco Tools Ab Oxidbelagt skärverktygsskär för spånavskiljande bearbetning av stål
WO2011055813A1 (ja) * 2009-11-06 2011-05-12 株式会社タンガロイ 被覆工具
EP2395126A1 (en) 2010-06-08 2011-12-14 Seco Tools AB Textured alumina layer
EP2446988A1 (en) 2010-10-29 2012-05-02 Seco Tools AB Cutting tool insert with an alpha-alumina layer having a multi-components texture
WO2012079769A1 (en) 2010-12-17 2012-06-21 Seco Tools Ab Coated cubic boron nitride tool for machining applications
US8507082B2 (en) 2011-03-25 2013-08-13 Kennametal Inc. CVD coated polycrystalline c-BN cutting tools
ES2567039T5 (es) * 2011-09-16 2019-07-03 Walter Ag Herramienta de corte revestida con alúmina alfa que contiene azufre
EP2570511B1 (en) * 2011-09-16 2019-03-20 Walter AG Grain boundary engineered alpha-alumina coated cutting tool
KR101801660B1 (ko) * 2013-08-27 2017-11-27 쿄세라 코포레이션 피복 공구
US10174421B2 (en) * 2013-12-17 2019-01-08 Kyocera Corporation Coated tool
EP3099835A1 (en) 2014-01-30 2016-12-07 Sandvik Intellectual Property AB Alumina coated cutting tool
EP2902528B1 (en) 2014-01-30 2016-06-29 Walter Ag Alumina coated cutting tool with zigzag alumina grain boundaries
EP3124144B1 (en) * 2014-03-22 2022-10-05 KYOCERA Corporation Coated cutting tool
JP5898394B1 (ja) * 2014-08-28 2016-04-06 京セラ株式会社 被覆工具
CN106715012B (zh) * 2014-09-24 2018-10-23 京瓷株式会社 被覆工具
US9890084B2 (en) * 2015-10-01 2018-02-13 Kennametal Inc. Hybrid nanocomposite coatings and applications thereof
JP6229911B1 (ja) * 2016-10-19 2017-11-15 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
JP6229912B1 (ja) * 2016-10-21 2017-11-15 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
EP3542935B1 (en) * 2016-11-17 2023-08-09 Tungaloy Corporation Coated cutting tool
JP7137143B2 (ja) * 2017-01-07 2022-09-14 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
EP3607110B1 (en) * 2017-04-07 2023-11-01 Sandvik Intellectual Property AB Coated cutting tool
EP3848485A1 (en) 2020-01-10 2021-07-14 Sakari Ruppi Improved alpha alumina layer deposited with controlled textures
EP3848484A3 (en) 2020-01-10 2021-09-15 Sakari Ruppi Improved alumina layer deposited at low temperature

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8000947U1 (de) 1980-01-16 1981-07-09 Komet Stahlhalter- Und Werkzeugfabrik Robert Breuning Gmbh, 7122 Besigheim In einem halter eines maschinenwerkzeuges, insbesondere drehwerkzeuges, einsetzbarer schneidplattentraeger
US4619866A (en) * 1980-07-28 1986-10-28 Santrade Limited Method of making a coated cemented carbide body and resulting body
US4927301A (en) 1988-12-27 1990-05-22 Gte Valenite Corporation Adjustable boring bar cartridge
EP0408535B1 (en) 1989-07-13 1994-04-06 Seco Tools Ab Multi-oxide coated carbide body and method of producing the same
US5238150A (en) * 1991-02-01 1993-08-24 William Dispenser Corporation Dispenser with compressible piston assembly for expelling product from a collapsible reservoir
EP0556422A1 (en) * 1991-02-11 1993-08-25 Valenite Inc. Improved adjustable boring bar
US5156501A (en) 1991-08-07 1992-10-20 Gte Valenite Corporation Adjustable torsion bar cartridge for face mills
SE501527C2 (sv) 1992-12-18 1995-03-06 Sandvik Ab Sätt och alster vid beläggning av ett skärande verktyg med ett aluminiumoxidskikt
US5320458A (en) 1993-05-24 1994-06-14 Valenite Inc. Cutting tool having a cutter cartridge adjustable around two adjustment axes
SE502174C2 (sv) * 1993-12-23 1995-09-04 Sandvik Ab Sätt och alster vid beläggning av ett skärande verktyg med ett aluminiumoxidskikt
SE502223C2 (sv) * 1994-01-14 1995-09-18 Sandvik Ab Sätt och alster vid beläggning av ett skärande verktyg med ett aluminiumoxidskikt
SE514177C2 (sv) 1995-07-14 2001-01-15 Sandvik Ab Belagt hårdmetallskär för intermittent bearbetning i låglegerat stål
SE514695C2 (sv) * 1995-07-14 2001-04-02 Sandvik Ab Skärverktyg belagt med aluminiumoxid och sätt för dess framställning
EP0784103B1 (en) * 1996-01-10 2003-04-09 Mitsubishi Materials Corporation Method of manufacturing coated cutting tools
JPH1068077A (ja) * 1996-08-26 1998-03-10 Mitsubishi Materials Corp 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具の製造法
US5913643A (en) 1997-04-22 1999-06-22 Kennametal Inc. Adjustable lead angle chamfering toolholder
JP3573256B2 (ja) * 1998-07-27 2004-10-06 住友電気工業株式会社 Ａｌ２Ｏ３被覆ｃＢＮ基焼結体切削工具
JP3678924B2 (ja) 1998-11-05 2005-08-03 日立ツール株式会社 酸化アルミニウム被覆工具
US6238150B1 (en) 1999-10-29 2001-05-29 Mitsubishi Materials Corporation Drilling tool
DE19962056A1 (de) * 1999-12-22 2001-07-12 Walter Ag Schneidwerkzeug mit mehrlagiger, verschleissfester Beschichtung
US6572991B1 (en) 2000-02-04 2003-06-03 Seco Tools Ab Deposition of γ-Al2O3 by means of CVD
SE519339C2 (sv) * 2000-11-22 2003-02-18 Sandvik Ab Skärverktyg belagt med aluminiumoxid och sätt att tillverka detsamma
SE522736C2 (sv) * 2001-02-16 2004-03-02 Sandvik Ab Aluminiumoxidbelagt skärverktyg och metod för att framställa detsamma
SE525581C2 (sv) 2002-05-08 2005-03-15 Seco Tools Ab Skär belagt med aluminiumoxid framställt med CVD
SE528432C2 (sv) 2004-11-05 2006-11-14 Seco Tools Ab Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod för att framställa detta
SE528430C2 (sv) 2004-11-05 2006-11-14 Seco Tools Ab Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta

Also Published As

Publication number Publication date
US20060141271A1 (en) 2006-06-29
EP1655392A1 (en) 2006-05-10
EP1655392B1 (en) 2008-04-16
DE602005006071D1 (de) 2008-05-29
SE0402692L (sv) 2006-05-06
US20090061091A1 (en) 2009-03-05
US7455900B2 (en) 2008-11-25
SE0402692D0 (sv) 2004-11-05
US7695764B2 (en) 2010-04-13
ATE392497T1 (de) 2008-05-15
DE602005006071T2 (de) 2009-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE528431C2 (sv) Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta
SE528430C2 (sv) Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod att framställa detta
SE528432C2 (sv) Med aluminiumoxid belagt skärverktygsskär samt metod för att framställa detta
US6713172B2 (en) Oxide coated cutting tool
US7993742B2 (en) Alumina layer with enhanced texture
US7163735B2 (en) Enhanced alumina layer produced by CVD
US5674564A (en) Alumina-coated sintered body
EP0753602B1 (en) Oxide coated cutting tool
EP1905870A2 (en) Alumina layer with enhanced texture
SE531670C2 (sv) Texturerat alfa-aluminiumoxidbelagt skär för metallbearbetning
KR20100135641A (ko) 절삭공구 또는 내마모성 공구용 표면 피복 박막
JP2003039212A (ja) 被覆された切削工具
EP1477581A1 (en) Enhanced alumina layer produced by CVD
EP3848484A2 (en) Improved alumina layer deposited at low temperature
WO2020158427A1 (ja) 切削工具及びその製造方法
WO2020158425A1 (ja) 切削工具及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed